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JP5160996B2 - Substrate floating device - Google Patents

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JP5160996B2
JP5160996B2 JP2008202433A JP2008202433A JP5160996B2 JP 5160996 B2 JP5160996 B2 JP 5160996B2 JP 2008202433 A JP2008202433 A JP 2008202433A JP 2008202433 A JP2008202433 A JP 2008202433A JP 5160996 B2 JP5160996 B2 JP 5160996B2
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Description

本発明は、液晶ディスプレイ(LCD)その他のフラットパネルディスプレイ(FPD)等の基板をエアにより浮上させる基板浮上装置に関する。   The present invention relates to a substrate levitating apparatus for levitating a substrate such as a liquid crystal display (LCD) or other flat panel display (FPD) by air.

従来、フォトリソグラフィ工程によりガラス基板(マザーガラス)にレジストパターニングを行って液晶パネルを製造工程やこのガラス基板を検査する検査工程において、エアによりマザーガラス基板を浮上させ、この非接触状態のマザーガラス基板を検査或いは搬送する手法が採られている(例えば、特許文献1参照)。   Conventionally, a mother glass substrate is floated by air in a non-contact state mother glass in a liquid crystal panel manufacturing process or an inspection process for inspecting the glass substrate by performing resist patterning on a glass substrate (mother glass) by a photolithography process. A technique for inspecting or transporting a substrate is employed (for example, see Patent Document 1).

マザーガラス基板をエアにより浮上させる場合、基板検査装置や基板搬送装置のガラス基板を載置するステージ上面やガラス基板を搬送する搬送面にエア吐出孔が形成された浮上プレートを複数並べて配列し、これら浮上プレートのエア吐出孔からエアを吐出させることでガラス基板を浮上させている。   When the mother glass substrate is levitated by air, a plurality of levitation plates in which air discharge holes are formed are arranged side by side on the upper surface of the stage on which the glass substrate of the substrate inspection apparatus or the substrate conveying apparatus is placed and the conveying surface for conveying the glass substrate, The glass substrate is floated by discharging air from the air discharge holes of these floating plates.

浮上プレートに吐出用のエアを供給する場合には、エア供給源から供給されるエアを一時貯留するバッファタンクから、エア配管を介して各浮上プレートにエアを供給する手法がとられている。
特開2005−62819号公報
When supplying air for discharge to the levitation plate, a method of supplying air to each levitation plate via an air pipe from a buffer tank that temporarily stores air supplied from an air supply source is employed.
JP 2005-62819 A

ところで、エア配管の長さが浮上プレート毎に異なると、エア配管における圧力損失に差が生じることで浮上プレート毎のエア吐出量に差が生じ、ひいては、浮上時の基板を水平に保つことができなくなる。   By the way, if the length of the air pipe is different for each levitation plate, the difference in pressure loss in the air pipe will cause a difference in the air discharge amount for each levitation plate. As a result, the substrate at the time of levitation can be kept horizontal. become unable.

この点、エア配管を全て同じ長さにすることでエア配管におけるエアの圧力損失を一定にすることができる。この場合、バッファタンクから一番離れた浮上プレートまでの距離が基準となり、バファタンクに一番近い浮上プレートのエア配管は、一番離れた浮上プレートに比べてガラス基板の搬送路の幅分にだけ長くなる。一辺が3000mmの大型ガラス基板を搬送するために、例えば幅200mmの浮上プレートを搬送幅方向に並べた搬送ステージでは、両サイドに配置された浮上プレートに接続されるエア配管の間で約3000mmの差がでる。すなわち、一番離れた浮上プレートから順番に200mmずつエア配管にたるみがでるため、たるみがでた他のエア配管を引き回さなければならず、配管作業が複雑化するという問題が生じる。たるみがでたエア配管をバファタンク側で丸めた場合には、この丸めた部分でエアの流れに抵抗が生じるために各エア配管に流れるエアの圧力がことなり、各浮上プレートの浮上圧が一定にできなくなるという問題が新たに生ずることになる。更には、全てのエア配管の長さを、バッファタンクから浮上プレートまでの距離が最も大きいエア配管の長さに合わせなければならないため、圧力損失が大きくなって、浮上プレートに供給するエアの圧力を高める必要も生じる。   In this respect, the air pressure loss in the air piping can be made constant by making all the air piping the same length. In this case, the distance from the buffer tank to the furthest floating plate is the standard, and the air piping of the floating plate closest to the buffer tank is only the width of the glass substrate transport path compared to the furthest floating plate. become longer. In order to transport a large glass substrate having a side of 3000 mm, for example, in a transport stage in which floating plates with a width of 200 mm are arranged in the transport width direction, the air pipe connected to the floating plates arranged on both sides has a thickness of about 3000 mm. There is a difference. That is, since the air pipes sag 200 mm in order from the farthest levitating plate, other air pipes with sagging must be routed, resulting in a problem of complicated piping work. When air piping with sagging is rounded on the buffer tank side, resistance to the air flow occurs at this rounded portion, so the air pressure flowing through each air piping differs, and the floating pressure of each floating plate is constant. A new problem will arise. In addition, the length of all air piping must be matched to the length of the air piping with the longest distance from the buffer tank to the levitation plate, which increases the pressure loss and the air pressure supplied to the levitation plate. There is also a need to increase.

本発明の課題は、上記従来の実情に鑑み、簡素な構成で一定圧力のエアを浮上プレートに供給する基板浮上装置を提供することである。   In view of the above-described conventional situation, an object of the present invention is to provide a substrate floating apparatus that supplies air at a constant pressure to a floating plate with a simple configuration.

上記課題を解決するために、本発明の基板浮上装置は、基板浮上用のエアを吐出する複数の浮上プレートと、これら複数の浮上プレートに供給するエアを一時的に貯留するバッファタンクと、このバッファタンクから上記複数の浮上プレートのそれぞれにエアを供給する複数のエア配管と、を備える基板浮上装置において、上記バッファタンクは、上記複数の浮上プレートが配置される領域の下方且つ近傍に配置されると共に、上記浮上プレートの配列方向に延び、上記複数のエア配管は、上記バッファタンクから上記浮上プレートまでの長さが互いに実質同一である構成とする。   In order to solve the above problems, a substrate levitation apparatus of the present invention includes a plurality of levitation plates that discharge air for levitation of a substrate, a buffer tank that temporarily stores air to be supplied to the plurality of levitation plates, And a plurality of air pipes for supplying air from the buffer tank to each of the plurality of floating plates. The buffer tank is disposed below and in the vicinity of a region where the plurality of floating plates are disposed. In addition, the plurality of air pipes extend in the arrangement direction of the floating plates, and the length from the buffer tank to the floating plate is substantially the same.

本発明によれば、エア配管を短くすることができると共に、エア配管の配置形状に起因するエアの圧力損失差の発生を防ぐことができ、したがって、簡素な構成で圧力一定のエアを浮上プレートに供給することができる。   According to the present invention, the air piping can be shortened, and the occurrence of a difference in air pressure loss due to the arrangement shape of the air piping can be prevented. Can be supplied to.

以下、本発明の一実施の形態に係る基板浮上装置について、図面を参照しながら説明する。
図1は、本発明の一実施の形態に係る基板浮上装置10を備える基板検査装置1を示す斜視図である。なお、同図では、基板検査装置1の基板搬送方向(矢印D1)の前後に配置される基板搬送装置と、浮上プレート11上を浮上した基板の片側側端部を保持して搬送するスライダとについては図示を省略している。
Hereinafter, a substrate floating apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a perspective view showing a substrate inspection apparatus 1 including a substrate floating apparatus 10 according to an embodiment of the present invention. In the figure, a substrate transfer device disposed before and after the substrate transfer direction (arrow D1) of the substrate inspection apparatus 1, a slider for holding and transferring one end of the substrate floating on the floating plate 11, and The illustration is omitted for.

図2は基板浮上装置10を上方から見た斜視図であり、図3は基板浮上装置10を下方から見た斜視図である。なお、図2では、基板浮上装置10の浮上プレート11については図示を省略している。   FIG. 2 is a perspective view of the substrate floating apparatus 10 as viewed from above, and FIG. 3 is a perspective view of the substrate floating apparatus 10 as viewed from below. In FIG. 2, the illustration of the floating plate 11 of the substrate floating apparatus 10 is omitted.

図1に示す基板検査装置1は、ガントリ固定方式のミクロ検査装置であり、図2及び図3に示す基板浮上装置10、顕微鏡(検査ユニット)2、ガントリ3、ベース部4、除振部5、架設フレーム6等から構成される。   A substrate inspection apparatus 1 shown in FIG. 1 is a gantry-fixed micro inspection apparatus, and includes a substrate floating apparatus 10, a microscope (inspection unit) 2, a gantry 3, a base unit 4, and a vibration isolation unit 5 shown in FIGS. 2 and 3. The construction frame 6 and the like.

ガントリ3は、門型形状を呈し、基板浮上装置10上に搬送される基板を跨ぐようにベース部4上に固定される。顕微鏡2は、ガントリ3の側面に設けられたリニアモータ機構3aの作動により、基板搬送方向(矢印D1)に直交する水平1軸方向(矢印D2)に移動可能となっている。   The gantry 3 has a gate shape, and is fixed on the base portion 4 so as to straddle the substrate conveyed onto the substrate floating device 10. The microscope 2 can be moved in a horizontal uniaxial direction (arrow D2) orthogonal to the substrate transport direction (arrow D1) by the operation of the linear motor mechanism 3a provided on the side surface of the gantry 3.

ガントリ3がベース部4に固定されるため、顕微鏡2は、図示しないスライダにより基板搬送方向(矢印D1)に搬送される基板を、リニアモータ機構3aの作動により1軸方向(矢印D2)に移動しながら観察することで、基板の全面を観察することが可能となっている。なお、顕微鏡2の下方には、この顕微鏡2と対向するように顕微鏡2の動作に同期して移動する透過照明用光源が配設されている。   Since the gantry 3 is fixed to the base portion 4, the microscope 2 moves the substrate conveyed in the substrate conveyance direction (arrow D1) by a slider (not shown) in one axial direction (arrow D2) by the operation of the linear motor mechanism 3a. By observing it, it is possible to observe the entire surface of the substrate. A transmission illumination light source that moves in synchronization with the operation of the microscope 2 is disposed below the microscope 2 so as to face the microscope 2.

後述する浮上プレート11のうち、顕微鏡2による基板の検査対象領域(顕微鏡2が移動方向D2に移動することで検査可能な領域)を挟むように位置する2列分の浮上プレート11´は、他の位置に配置された浮上プレート11よりも短辺方向である顕微鏡移動方向(矢印D2)に密接して配置され、基板を精密浮上させることが可能となっている。   Among the floating plates 11 to be described later, two rows of floating plates 11 ′ positioned so as to sandwich a region to be inspected by the microscope 2 (a region that can be inspected by moving the microscope 2 in the movement direction D2) It is arranged closer to the moving direction of the microscope (arrow D2), which is the shorter side direction than the flying plate 11 arranged at the position, so that the substrate can be precisely levitated.

ベース部4の下部には、外部からの振動を吸収する複数の除振部5が配置されている。また、ベース部4上には、複数の架設フレーム6が基板搬送方向(矢印D1)に延びるように架設され、架設フレーム6上に、図2及び図3に示す基板浮上ステージ10が4つ設置されている。   A plurality of vibration isolation units 5 that absorb vibrations from the outside are disposed below the base unit 4. Further, a plurality of installation frames 6 are installed on the base 4 so as to extend in the substrate transport direction (arrow D1), and four substrate floating stages 10 shown in FIGS. 2 and 3 are installed on the installation frame 6. Has been.

基板浮上装置10は、浮上プレート11(図3のみに図示)、プレート支持フレーム12、バッファタンク12a、エア配管13,14、フレームベース部15、高さ調整部16等から構成される。   The substrate levitation apparatus 10 includes a levitation plate 11 (shown only in FIG. 3), a plate support frame 12, a buffer tank 12a, air pipes 13 and 14, a frame base portion 15, a height adjustment portion 16, and the like.

浮上プレート11は、矩形タイル状を呈し、上面に形成されたエア吐出孔から基板浮上用のエアを吐出する。また、浮上プレート11は、基板搬送方向(矢印D1)及び顕微鏡移動方向(矢印D2)にマトリクス状に配列され、長手方向が基板搬送方向(矢印D1)と平行となっている。   The floating plate 11 has a rectangular tile shape, and discharges air for floating the substrate from an air discharge hole formed on the upper surface. The levitation plates 11 are arranged in a matrix in the substrate transport direction (arrow D1) and the microscope movement direction (arrow D2), and the longitudinal direction is parallel to the substrate transport direction (arrow D1).

浮上プレート11の下部には、角パイプを積層してなり、浮上プレート11を下方から支持するプレート支持フレーム12が、顕微鏡移動方向(矢印D2)に延びるように複数配置されている。   A plurality of plate support frames 12 that are formed by stacking square pipes and that support the floating plate 11 from below are arranged below the floating plate 11 so as to extend in the microscope movement direction (arrow D2).

プレート支持フレーム12は、フレームベース部15上に固定されている。このフレームベース部15は、その4つ角において、高さ調整部16を介して上述の架設フレーム6上に固定されている。   The plate support frame 12 is fixed on the frame base portion 15. The frame base portion 15 is fixed on the above-described installation frame 6 via the height adjusting portion 16 at the four corners.

バッファタンク12aは、浮上プレート11が配置される領域の下方で且つ浮上プレート11の近傍として、本実施の形態では、プレート支持フレーム12の内部の中空部分(積層された角パイプのうちの1本の中空部分)の両端開口部を板状のシール材12bで封止することで形成されており、図示しないエア供給源からエア配管14を介して供給されるエアを一時的に貯留する。   In the present embodiment, the buffer tank 12a is located below the area where the floating plate 11 is disposed and in the vicinity of the floating plate 11, and in this embodiment, a hollow portion (one of the stacked square pipes) is provided. Are formed by sealing the openings at both ends of the hollow portion) with a plate-shaped sealing material 12b, and temporarily stores air supplied from an air supply source (not shown) through the air pipe.

また、バッファタンク12aは、浮上プレート11の配列方向(矢印D1,D2)の一方であるプレート支持フレーム12の長手方向(即ち、顕微鏡移動方向D2)に延びている。   Further, the buffer tank 12a extends in the longitudinal direction (that is, the microscope moving direction D2) of the plate support frame 12, which is one of the arrangement directions (arrows D1, D2) of the floating plates 11.

バッファタンク12aが浮上プレート11の配列方向の一方である顕微鏡移動方向(矢印D2)に延びるため、バッファタンク12aから各浮上プレート11までの距離が互いに同一となり、バッファタンク12aから各浮上プレート11にエアを供給する複数のエア配管13の長さ(矢印L)も互いに同一で、同じ形状となっている。   Since the buffer tank 12a extends in the microscope movement direction (arrow D2), which is one of the arrangement directions of the floating plates 11, the distance from the buffer tank 12a to each floating plate 11 is the same. The lengths (arrows L) of the plurality of air pipes 13 that supply air are also the same and have the same shape.

エア配管13は、バッファタンク12a(プレート支持フレーム13)の側面に設けられた配管継手13aからプレート支持フレーム12の側面に沿って上方に延び、プレート支持フレーム12の上端で湾曲して浮上プレート11の底面に沿って水平に延び、浮上プレート11の底面に設けられた配管継手13bに接続されている。   The air pipe 13 extends upward from a pipe joint 13 a provided on the side surface of the buffer tank 12 a (plate support frame 13) along the side surface of the plate support frame 12, curves at the upper end of the plate support frame 12, and floats on the floating plate 11. It extends horizontally along the bottom surface of the plate and is connected to a pipe joint 13 b provided on the bottom surface of the floating plate 11.

以上説明した本実施の形態では、バッファタンク12aは、複数の浮上プレート11が配置される領域の下方且つ近傍に配置されると共に、浮上プレート11の配列方向の1つである顕微鏡移動方向(矢印D2)に延び、バッファタンク12aと浮上プレート11とを接続する複数のエア配管13は、バッファタンク12aから浮上プレート11までの長さLが互いに実質同一である。   In the present embodiment described above, the buffer tank 12a is disposed below and in the vicinity of the region where the plurality of floating plates 11 are disposed, and the microscope moving direction (arrow) that is one of the arrangement directions of the floating plates 11 is indicated. The plurality of air pipes 13 extending to D2) and connecting the buffer tank 12a and the floating plate 11 have substantially the same length L from the buffer tank 12a to the floating plate 11.

そのため、エア配管13を短くすることができると共に、エア配管13の長さ(矢印L)の違いに起因するエアの圧力損失差の発生を防ぐことができる。よって、本実施の形態によれば、簡素な構成で圧力一定のエアを浮上プレート11に供給することができる。   Therefore, the air pipe 13 can be shortened, and the occurrence of the air pressure loss difference due to the difference in the length of the air pipe 13 (arrow L) can be prevented. Therefore, according to the present embodiment, air having a constant pressure can be supplied to the floating plate 11 with a simple configuration.

また、本実施の形態では、バッファタンク12aは、プレート支持フレーム12の内部に形成される。そのため、バッファタンク12aの設置スペースを省略することができ、したがって、簡素な構成で圧力一定のエアを浮上プレート11に供給することができる。   In the present embodiment, the buffer tank 12 a is formed inside the plate support frame 12. Therefore, the installation space of the buffer tank 12a can be omitted, and therefore air with a constant pressure can be supplied to the levitation plate 11 with a simple configuration.

また、本実施の形態では、バッファタンク12aと浮上プレート11とを接続するエア配管13は、バッファタンク12aからプレート支持フレーム12に沿って上方に延びると共に、このプレート支持フレーム12の上端で湾曲して浮上プレート11の底面に沿って水平に延びて、浮上プレート11の底面の配管継手13bに接続される。したがって、より簡素な構成とすることができる。   In the present embodiment, the air pipe 13 connecting the buffer tank 12a and the floating plate 11 extends upward from the buffer tank 12a along the plate support frame 12, and is curved at the upper end of the plate support frame 12. It extends horizontally along the bottom surface of the floating plate 11 and is connected to the pipe joint 13 b on the bottom surface of the floating plate 11. Therefore, a simpler configuration can be obtained.

なお、本実施の形態では、バッファタンク12aをプレート支持フレーム12の内部に形成したが、プレート支持フレーム12,12間の領域に配置してもよい。その場合、一方のプレート支持フレーム12に沿うようにバッファタンクを配置することで、より簡素な構成とすることができる。   In the present embodiment, the buffer tank 12a is formed inside the plate support frame 12. However, the buffer tank 12a may be arranged in a region between the plate support frames 12 and 12. In that case, it can be set as a simpler structure by arrange | positioning a buffer tank so that one plate support frame 12 may be followed.

また、本実施の形態では、ガントリ3がベース部4に固定されるガントリ固定方式の基板検査装置1に基板浮上装置10を配置する例について説明したが、ガントリ3がベース部4に沿って移動するガントリ移動方式の基板検査装置に基板浮上装置10を配置してもよい。   In the present embodiment, the example in which the substrate floating device 10 is disposed in the gantry fixing type substrate inspection apparatus 1 in which the gantry 3 is fixed to the base portion 4 has been described. However, the gantry 3 moves along the base portion 4. The substrate levitation apparatus 10 may be arranged in a gantry movement type substrate inspection apparatus.

また、基板検査装置1の基板搬送方向(矢印D1)の前後に配置される基板搬送装置や基板受け渡し装置に基板浮上装置10を配置してもよい。また、基板検査装置1に接続されない基板搬送装置に基板浮上装置10を配置することもできる。   Further, the substrate floating device 10 may be disposed on a substrate transport device or a substrate transfer device that is disposed before or after the substrate transport direction (arrow D1) of the substrate inspection apparatus 1. Further, the substrate floating device 10 can be arranged on a substrate transfer device that is not connected to the substrate inspection device 1.

また、本実施の形態では、バッファタンク12aは、浮上プレート11の配列方向の1つである顕微鏡移動方向(矢印D2)に延びるが、浮上プレート11の他の配列方向である基板搬送方向(矢印D1)に延びるようにしてもよい。その場合には、プレート支持フレーム12の長手方向を基板搬送方向(矢印D1)と平行となるようにプレート支持フレーム12を配置するか、或いは、プレート支持フレーム11を貫通するようにバッファタンクを配置するとよい。   In the present embodiment, the buffer tank 12a extends in the microscope movement direction (arrow D2), which is one of the arrangement directions of the floating plates 11, but the substrate transport direction (arrow), which is another arrangement direction of the floating plates 11. D1) may be extended. In that case, the plate support frame 12 is disposed so that the longitudinal direction of the plate support frame 12 is parallel to the substrate transport direction (arrow D1), or the buffer tank is disposed so as to penetrate the plate support frame 11. Good.

また、本実施の形態では、バッファタンク12aから浮上プレート11に延びるエア配管13が浮上プレート11毎に1つずつ配置されるが、エア配管13を分岐させて2つ或いは4つの浮上プレート11と接続されるようにしてもよい。その場合にも、分岐されたエア配管の長さは互いに同一とするとよい。   In the present embodiment, one air pipe 13 extending from the buffer tank 12a to the levitation plate 11 is arranged for each levitation plate 11. However, the air pipe 13 is branched to provide two or four levitation plates 11. You may make it connect. Even in this case, the lengths of the branched air pipes are preferably the same.

また、プレート支持フレーム12が2列の浮上プレート11の互いに対向する端部を支持する場合には、プレート支持フレーム12の内部に形成されたバッファタンク12aの両側面にエア配管13を接続することで、バッファタンク12aの数を抑えることができる。   When the plate support frame 12 supports the opposite ends of the two rows of floating plates 11, the air pipes 13 are connected to both side surfaces of the buffer tank 12 a formed inside the plate support frame 12. Thus, the number of buffer tanks 12a can be suppressed.

また、バッファタンク12a(プレート支持フレーム12)の側面に、配管継手13aが取付けられるエア供給口をエア配管13の数よりも多く形成しておくことで、浮上プレート11を異なる大きさのものに変更する際にも、その変更後の浮上プレートに一定距離のエア配管を接続することができる。   Further, by forming more air supply ports to which the pipe joints 13a are attached on the side surfaces of the buffer tank 12a (plate support frame 12) than the number of the air pipes 13, the floating plate 11 can have a different size. When changing, air piping of a fixed distance can be connected to the changed floating plate.

また、本実施の形態では、全てのエア配管13の長さ(矢印L)が完全に同一にせずに、一部のエア配管13の長さを異ならせると共に、それにより生じるエア配管13における圧力損失差を解消するように浮上プレート11への供給圧力を調整したような場合でも、エア配管13の長さが実質同一というものとする。   Further, in the present embodiment, the lengths of all the air pipes 13 (arrow L) are not completely the same, but the lengths of some of the air pipes 13 are made different, and the resulting pressures in the air pipes 13 are generated. Even when the supply pressure to the levitation plate 11 is adjusted so as to eliminate the loss difference, the length of the air pipe 13 is substantially the same.

また、複数のバッファタンク12aを直列に連結し、エア供給源からバッファタンク12aへのエア配管14の数や長さを抑えるようにしてもよい。   Further, a plurality of buffer tanks 12a may be connected in series to suppress the number and length of the air pipes 14 from the air supply source to the buffer tank 12a.

本発明の一実施の形態に係る基板浮上装置を備える基板検査装置を示す斜視図である。It is a perspective view showing a substrate inspection device provided with a substrate floating device concerning one embodiment of the present invention. 本発明の一実施の形態に係る基板浮上装置を上方から見た斜視図である。It is the perspective view which looked at the board | substrate levitation apparatus which concerns on one embodiment of this invention from upper direction. 本発明の一実施の形態に係る基板浮上装置を下方から見た斜視図である。It is the perspective view which looked at the board | substrate floating apparatus which concerns on one embodiment of this invention from the downward direction.

符号の説明Explanation of symbols

1 基板検査装置
2 顕微鏡
3 ガントリ
4 ベース部
5 除振部
6 架設フレーム
10 基板浮上装置
11 浮上プレート
12 プレート支持フレーム
12a バッファタンク
12b シール材
13,14 エア配管
13a,13b 配管継手
15 フレームベース部
16 高さ調整部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Board | substrate inspection apparatus 2 Microscope 3 Gantry 4 Base part 5 Anti-vibration part 6 Construction frame 10 Board | substrate levitation apparatus 11 Floating plate 12 Plate support frame 12a Buffer tank 12b Seal material 13,14 Air piping 13a, 13b Piping joint 15 Frame base part 16 Height adjustment section

Claims (2)

基板浮上用のエアを吐出する複数の浮上プレートと、
該複数の浮上プレートに供給するエアを一時的に貯留するバッファタンクと、
該バッファタンクから前記複数の浮上プレートのそれぞれにエアを供給する複数のエア配管と、
を備える基板浮上装置において、
前記バッファタンクは、前記複数の浮上プレートが配置される領域の下方且つ近傍に配置されると共に、前記浮上プレートの配列方向に延び、
前記複数のエア配管は、前記バッファタンクから前記浮上プレートまでの長さが互いに実質同一であ
前記基板浮上装置は、前記浮上プレートを下方から支持するプレート支持フレームを更に備え、
前記バッファタンクは、前記プレート支持フレームの内部に形成される、
ことを特徴とする基板浮上装置。
A plurality of floating plates for discharging air for substrate floating;
A buffer tank for temporarily storing air to be supplied to the plurality of floating plates;
A plurality of air pipes for supplying air from the buffer tank to each of the plurality of floating plates;
In a substrate levitation apparatus comprising:
The buffer tank is disposed below and in the vicinity of the region where the plurality of floating plates are disposed, and extends in the arrangement direction of the floating plates,
Wherein the plurality of air pipes, the length from the buffer tank to the floating plate Ri substantially equal der each other,
The substrate floating device further includes a plate support frame that supports the floating plate from below.
The buffer tank is formed inside the plate support frame,
A substrate floating apparatus characterized by the above.
前記エア配管は、前記バッファタンクから前記プレート支持フレームに沿って上方に延びると共に、該プレート支持フレームの上端で湾曲して前記浮上プレートの底面に沿って水平に延びて、該浮上プレートに接続されることを特徴とする請求項記載の基板浮上装置。
The air pipe extends upward from the buffer tank along the plate support frame, is curved at the upper end of the plate support frame, extends horizontally along the bottom surface of the floating plate, and is connected to the floating plate. The substrate floating apparatus according to claim 1 .
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20120225206A1 (en) * 2011-03-01 2012-09-06 Applied Materials, Inc. Apparatus and Process for Atomic Layer Deposition
JP6270114B2 (en) * 2013-11-20 2018-01-31 東レエンジニアリング株式会社 Substrate floating device
KR102625921B1 (en) * 2015-05-28 2024-01-16 가부시키가이샤 니콘 Object holding apparatus, exposure apparatus, manufacturing method of flat panel display, and device manufacturing method
CN106185325A (en) * 2016-08-25 2016-12-07 芜湖东旭光电科技有限公司 A kind of air-floating apparatus, air supporting control method and glass substrate conveying device

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA1167797A (en) * 1983-06-30 1984-05-22 Herbert E. Gladish Air conveyor components
US5320329A (en) * 1993-02-16 1994-06-14 Surface Combustion, Inc. Pressure pad for stably floating thin strip
JP3360539B2 (en) * 1996-07-12 2002-12-24 信越半導体株式会社 Gas supply device and equipment for vapor phase growth
JP4114335B2 (en) * 2001-10-15 2008-07-09 セイコーエプソン株式会社 Ink supply piping system for inkjet printer and inkjet printer
TWI226303B (en) * 2002-04-18 2005-01-11 Olympus Corp Substrate carrying device
JP2004338849A (en) * 2003-05-14 2004-12-02 Olympus Corp Substrate positioning device
JP2004345744A (en) * 2003-05-20 2004-12-09 Hitachi Zosen Corp Air levitation device and air levitation transfer device
JP4613800B2 (en) * 2004-12-01 2011-01-19 株式会社Ihi Levitation device and transfer device
JP2006212486A (en) * 2005-01-05 2006-08-17 Kobelco Eco-Solutions Co Ltd Membrane separator
CN101920849A (en) * 2005-11-14 2010-12-22 株式会社Ihi Floating device and conveying device

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