JP5138443B2 - XY stage device - Google Patents
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Description
本発明は、特に、大型の液晶ディスプレイ等の製造に利用されるXYステージ装置に関する。 The present invention particularly relates to an XY stage apparatus used for manufacturing a large liquid crystal display or the like.
従来のこのような分野の技術として、特開2007−216349号公報がある。この公報に記載されたXYステージ装置は、Y軸(第1の軸線)方向へ延びる一対の石定盤と、それぞれの石定盤の上面でY軸方向へ延びる一対のガイドと、それぞれのガイドに沿って移動する断面コ字型の一対のスライダ(第1のスライダ)と、それぞれのスライダの上壁部に設けられてガイドの上面に対し空気を噴出してスライダを支持するエアパッド(第1の気体軸受)と、X軸(第2の軸線)方向へ延びると共に両端がそれぞれのスライダに連結されたYステージ(ガイド部材)と、Yステージに沿って移動するXステージ(第2のスライダ)と、Xステージ下面の四隅に設けられてそれぞれの石定盤の上面に対し空気を噴出してXステージを支持するエアパッドと、Xステージ上に配置されて液晶ディスプレイ用ガラス基板等のワーク(対象物)を真空吸着する吸着盤と、吸着盤の下面の四隅に設けられてそれぞれの石定盤の上面に対し空気を噴出して吸着盤を支持するエアパッド(第2の気体軸受)と、を備えている。このような構成により、Xステージ及びYステージの移動に伴って吸着盤及びワークが水平面内で移動する。
ここで、上記XYステージ装置にあっては、石定盤の上面にスライダ専用のガイドを設けるためのスペースを確保しなくてはならないため、更に、近年液晶ディスプレイ等の大型化によってワークも大きくなる傾向にあるため、それらに伴い石定盤を大きくしなくてはならならず、石材の確保、石材加工、及び石材の輸送等の点において問題を生じると共に、装置が大型化してしまうという問題を生じる。 Here, in the above XY stage apparatus, a space for providing a guide dedicated to the slider must be secured on the upper surface of the stone surface plate, and the work becomes larger due to the enlargement of the liquid crystal display or the like in recent years. Because of this tendency, the stone surface plate must be enlarged along with them, causing problems in terms of securing stone, processing stones, transporting stones, etc., and increasing the size of the equipment. Arise.
本発明は、定盤を小さくすると共に装置の小型化を図ることのできるXYステージ装置を提供することを目的とする。 It is an object of the present invention to provide an XY stage apparatus that can reduce the surface plate and reduce the size of the apparatus.
本発明に係るXYステージ装置は、上面が滑走面とされた定盤と、滑走面に沿って第1の軸線の延在方向に移動する第1のスライダと、第1のスライダに連結されて、水平面内で第1の軸線と直交する第2の軸線の方向へ延びるガイド部材と、ガイド部材に沿って第2の軸線の延在方向に移動する第2のスライダと、第2のスライダ上に配置され、上面に載置された対象物を吸着する吸着盤と、を備え、第1のスライダは滑走面に対し気体を噴出する第1の気体軸受によって支持され、吸着盤は滑走面に対し気体を噴出する第2の気体軸受によって支持され、第1のスライダは定盤にガイドされることを特徴とする。 An XY stage apparatus according to the present invention is connected to a surface plate whose upper surface is a sliding surface, a first slider that moves in the extending direction of the first axis along the sliding surface, and the first slider. A guide member extending in a direction of a second axis perpendicular to the first axis in a horizontal plane, a second slider moving in the extending direction of the second axis along the guide member, and the second slider The first slider is supported by a first gas bearing that ejects gas to the sliding surface, and the suction plate is disposed on the sliding surface. On the other hand, the first slider is supported by a second gas bearing that ejects gas, and the first slider is guided by a surface plate.
このXYステージ装置では、第2の気体軸受は定盤上面を滑走面として吸着盤を支持することができ、第1の気体軸受も定盤上面を滑走面として第1のスライダを支持することができる。このように、定盤を第1のスライダのガイドとして用いて第1の気体軸受と第2の気体軸受とで滑走面を共有させることにより、第1のスライダ専用のガイドを定盤上面に設けることを不要とし、これによって定盤を小さくすると共に装置の小型化を図ることができる。 In this XY stage apparatus, the second gas bearing can support the suction plate with the upper surface of the surface plate as the sliding surface, and the first gas bearing can also support the first slider with the upper surface of the surface plate as the sliding surface. it can. In this way, by using the surface plate as a guide for the first slider and sharing the sliding surface between the first gas bearing and the second gas bearing, a guide dedicated to the first slider is provided on the upper surface of the surface plate. This eliminates the need to reduce the size of the apparatus while reducing the size of the surface plate.
また、第1のスライダには、定盤の両側面の側から定盤を挟み込むように配置された第3の気体軸受が設けられ、第1のスライダは定盤によってガイドされることが好ましい。第3の気体軸受で水平方向に支持することによって第1のスライダを滑らかに移動させることができると共に、定盤の両側面を滑走面として有効活用することができる。 The first slider is preferably provided with a third gas bearing arranged so as to sandwich the surface plate from both side surfaces of the surface plate, and the first slider is preferably guided by the surface plate. By supporting the third gas bearing in the horizontal direction, the first slider can be moved smoothly, and both side surfaces of the surface plate can be effectively used as the sliding surface.
また、第1のスライダは滑走面に対向する上壁部を有し、上壁部は三つの第1の気体軸受によって支持されることが好ましい。第1のスライダを三つの第1の気体軸受で支持することによって、第1のスライダの安定性を高めることができる。 Moreover, it is preferable that a 1st slider has an upper wall part which opposes a sliding surface, and an upper wall part is supported by the three 1st gas bearings. By supporting the first slider with the three first gas bearings, the stability of the first slider can be enhanced.
また、定盤及び第1のスライダをそれぞれ一対備え、ガイド部材の両端側には第1のスライダがそれぞれ連結されていることが好ましい。一対の定盤のいずれにおいても上面に第1のスライダ専用のガイドを設けることを不要とし、これによってそれぞれの定盤を小さくすると共に一層装置の小型化を図ることができる。 Preferably, the surface plate and the first slider are provided in pairs, and the first slider is connected to both ends of the guide member. In any of the pair of surface plates, it is not necessary to provide a guide dedicated to the first slider on the upper surface, thereby reducing the size of each surface plate and further reducing the size of the apparatus.
本発明に係るXYステージ装置によれば、定盤を小さくすると共に装置の小型化を図ることができる。 According to the XY stage apparatus of the present invention, the surface plate can be made small and the apparatus can be miniaturized.
以下、本発明によるXYステージ装置の好適な実施形態について添付図面を参照しながら説明する。 Hereinafter, preferred embodiments of an XY stage apparatus according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
図1〜5に示すように、XYステージ装置1は、ベース2上に並設されてY軸方向に延在する一対の石定盤(定盤)3,4と、石定盤3,4に沿ってY軸方向へ移動するY軸ステージ6と、Y軸ステージ6の駆動部として機能する一対のY軸リニアモータ7,8と、Y軸ステージ6上でX軸方向へ移動するX軸ステージ9と、X軸ステージ9の駆動部として機能するX軸リニアモータ10と、X軸ステージ9上に配置される吸着盤11とを備えている。なお、図1,2に示すように、X軸(第2の軸線)及びY軸(第1の軸線)は水平面上で互いに90度をなし、鉛直方向をZ軸方向と定め、以下必要な場合にX軸、Y軸、Z軸を用いる。
As shown in FIGS. 1 to 5, the
一方の石定盤3は、角柱状の石材からなり、その上面には平面加工が施されることによってエアベアリングが滑走するための上面側滑走面3aが形成されている。また、Y軸方向に沿って延在する両側面にも、上面と同様に平面加工が施されることによってエアベアリングが滑走するための側面側滑走面3b,3cが形成されている。同様に、他方の石定盤4の上面及び両側面にも平面加工が施されることによって上面側滑走面4a及び側面側滑走面4b,4cが形成されている。
One
図3及び図4に示すように、Y軸ステージ6は、石定盤3,4にガイドされてそれぞれY軸方向へ移動する一対のY軸スライダ(第1のスライダ)12,13と、Y軸スライダ12,13を石定盤3,4の上面側滑走面3a,4aでそれぞれZ軸方向に支持するためのY軸リフトエアベアリング(第1の気体軸受)14,16と、Y軸スライダ12,13を石定盤3,4の側面側滑走面3b,3c,4b,4cでそれぞれ水平方向(X軸方向)に支持するためのY軸ヨーエアベアリング(第3の気体軸受)17,18と、Y軸スライダ12,13を架け渡すようにX軸方向へ延在するガイド部材19とを備えている。
As shown in FIGS. 3 and 4, the Y-
一方の石定盤3にガイドされるY軸スライダ12は、石定盤3の上面側滑走面3aに対向する上壁部12aと、石定盤3の側面側滑走面3b,3cにそれぞれ対向する一対の側壁部12b,12cとを備える断面略コ字形部材であり、上壁部12aの上面にはY軸方向における中央位置でガイド部材19の一端部が連結されている。また、Y軸スライダ12の上壁部12aには、X軸方向に延びる長円状の貫通孔21,22がガイド部材19を挟んでそれぞれ形成されている。
The Y-
Y軸スライダ12をZ軸方向に支持するY軸リフトエアベアリング14は、Y軸スライダ12の上壁部12aの下面において、Y軸方向における両端部にそれぞれ一個ずつと、Y軸方向における中央位置に一個との合計三個からなり、三角点になるように配置されている。更にY軸リフトエアベアリング14は、上面側滑走面3aに対して空気などの気体を噴出することで発生する上向きの力とY軸スライダ12等の自重による下向きの力とを釣り合わせることによって、上面側滑走面3aとの間で数μm程度の隙間を保ちながらY軸スライダ12を非接触状態で支持する。なお、Y軸リフトエアベアリング14は、気体を噴出するのみならず、吸引機能を有していてもよい。
The Y-axis lift air bearing 14 that supports the Y-
Y軸スライダ12を水平方向に支持するY軸ヨーエアベアリング17は、Y軸スライダ12の両方の側壁部12b,12cにそれぞれ二個ずつ設けられており(図5参照)、側面側滑走面3b,3cに対して空気などの気体をそれぞれ噴出することで発生する反発力同士を互いに釣り合わせることによって、側面側滑走面3b,3cとの間で各々数μm程度の隙間を保ちながらY軸スライダ12を非接触状態で支持する。
Two Y-axis
他方の石定盤4にガイドされるY軸スライダ13、Y軸リフトエアベアリング16及びY軸ヨーエアベアリング18は、Y軸スライダ12、Y軸リフトエアベアリング14及びY軸ヨーエアベアリング17とY軸方向から見て左右対象な構成をなしている。すなわち、Y軸スライダ13は上壁部13a、側壁部13b,13c及び貫通孔23,24を有すると共にガイド部材19の他端部と連結され、Y軸リフトエアベアリング16は上面側滑走面4aに対して気体を噴出し、Y軸ヨーエアベアリング18は側面側滑走面4b,4cに対して気体を噴出する。
The Y-
X軸ステージ9をガイドするガイド部材19は、上向きに開口した断面コ字形をなし、X軸方向に沿って延在するガイド部材19の外側の両側面には平面加工が施され、この面は、エアベアリングが滑走するための滑走面19a,19bとして利用される(図5参照)。
The
Y軸ステージ6の駆動部として機能するY軸リニアモータ7,8は、Y軸スライダ12,13のX軸方向における両外側でそれぞれY軸方向へ延在するY軸マグネットヨーク26,27と、Y軸スライダ12,13にそれぞれ設けられたY軸コイルユニット28,29とから構成されている。
Y-axis
Y軸リニアモータ7,8の固定子として機能するY軸マグネットヨーク26,27は、ベース2のX軸方向における両側に配置された枠部31,32の上端にそれぞれ固定され、断面コ字形をなす。Y軸マグネットヨーク26,27の内壁面には、Y軸方向に沿ってS極とN極のパターンを繰り返すように連設された複数の永久磁石が固定されている。
The Y-
Y軸リニアモータ7,8の可動子として機能するY軸コイルユニット28,29は、Y軸スライダ12の上壁部12aから上方へ向かって突出する支持壁部12dの上端部及びY軸スライダ13の支持壁部13dの上端部にそれぞれ固定されると共にY軸マグネットヨーク26,27内に挿入される。Y軸コイルユニット28,29は複数のコイルを有しており、これらの複数のコイルはY軸方向に連結されてケースで覆われている。また、Y軸コイルユニット28,29のコイルには、Y軸マグネットヨーク26,27の永久磁石のS極とN極のパターンにあわせて磁極が変化するように通電され、Y軸マグネットヨーク26,27との間でそれぞれ反発力を発生させて推力を得ることによってY軸ステージ6をY軸方向に移動させることができる。
The Y-
図3及び図5に示すように、X軸ステージ9は、ガイド部材19を取り囲むように下向きに開口した断面コ字形をなすと共にガイド部材19に沿ってX軸方向へ移動するX軸スライダ(第2のスライダ)33と、X軸スライダ33を石定盤3,4の上面側滑走面3a,4aでZ軸方向に支持するためのX軸脚部34と、X軸スライダ33をガイド部材19の滑走面19a,19bで水平方向(Y軸方向)に支持するためのX軸ヨーエアベアリング36と、X軸スライダ33上に設けられて吸着盤11をZ軸周りに回動させるθテーブル37とを備えている。なお、X軸スライダ33は、断面コ字形に限らず、ガイド部材19を取り囲むような断面ロ字形をなしていてもよい。
As shown in FIGS. 3 and 5, the
X軸スライダ33をZ軸方向に支持する各X軸脚部34は、X軸スライダ33の四隅に固定され、下方へ向かって延在する支柱38の端部には、X軸リフトエアベアリング39が設けられ、支柱38は、Y軸スライダ12の貫通孔21,22及びY軸スライダ13の貫通孔23,24にそれぞれ通されている。X軸リフトエアベアリング39は、上面側滑走面3a,4aに対して空気などの気体を噴出することで発生する上向きの力とX軸スライダ33等の自重による下向きの力とを釣り合わせることによって、上面側滑走面3a,4aとの間で数μm程度の隙間を保ちながらX軸スライダ33を非接触状態でそれぞれ支持する。X軸ステージ9がX軸方向へ移動する時、X軸リフトエアベアリング39はY軸スライダ12,13の上壁部12a,13aと干渉することなく長円状の貫通孔21〜24内で移動することができる。なお、X軸リフトエアベアリング39は、気体を噴出するのみならず、吸引機能を有していてもよい。
The
X軸スライダ33を水平方向に支持するX軸ヨーエアベアリング36は、X軸スライダ33の両方の側壁部にそれぞれ二個ずつ設けられており(図4参照)、ガイド部材19の滑走面19a,19bに対して空気などの気体をそれぞれ噴出することで発生する反発力同士を互いに釣り合わせることによって、滑走面19a,19bとの間で各々数μm程度の隙間を保ちながらX軸スライダ33を非接触状態で支持する。
Two X-axis
X軸ステージ9の駆動部として機能するX軸リニアモータ10は、ガイド部材19上でX軸方向へ延在するX軸マグネットヨーク41と、X軸スライダ33の上壁部の下方に設けられたX軸コイルユニット42とから構成されている。
The X-axis
X軸リニアモータ10の固定子として機能するX軸マグネットヨーク41は、横向きに開口した断面コ字形をなす。X軸マグネットヨーク41の内壁面には、X軸方向に沿ってS極とN極のパターンを繰り返すように連設された複数の永久磁石が固定されている。
The
X軸リニアモータ10の可動子として機能するX軸コイルユニット42は、X軸スライダ33の上壁部から下方へ向かって突出する支持壁部に固定されると共にX軸マグネットヨーク41内に挿入される。X軸コイルユニット42は複数のコイルを有しており、これらの複数のコイルはX軸方向に連結されてケースで覆われている。また、X軸コイルユニット42のコイルには、X軸マグネットヨーク41の永久磁石のS極とN極のパターンにあわせて磁極が変化するように通電され、X軸マグネットヨーク41との間で反発力を発生させて推力を得ることによってX軸ステージ9をX軸方向に移動させることができる。
The
対象物が載置される吸着盤11は、Y軸方向の幅がY軸スライダ12,13よりも大きく、X軸方向の幅がX軸スライダ33よりも大きい矩形板状の部材であり、吸着盤11は吸着盤脚部43によって支持されている。また、吸着盤11の上面には、例えば、液晶ディスプレイ用ガラス基板等の対象物を真空吸着するための吸着孔が多数形成されている。
The
吸着盤11を支持する各吸着盤脚部43は、吸着盤11の四隅に固定され、下方へ向かって延在する支柱40の下端には吸着盤リフトエアベアリング(第2の気体軸受)44が設けられている。四個の吸着盤リフトエアベアリング44は、上面側滑走面3a上に二個配置されると共に上面側滑走面4a上に二個配置されており、上面側滑走面3a,4aに対して空気などの気体を噴出することで発生する上向きの力と吸着盤11等の自重による下向きの力とを釣り合わせることによって、上面側滑走面3a,4aとの間で数μm程度の隙間を保ちながら吸着盤11を非接触状態でそれぞれ支持する。吸着盤11がY軸ステージ6及びX軸ステージ9に伴い移動する時、吸着盤リフトエアベアリング44は上面側滑走面3a,4a内で移動する。なお、吸着盤リフトエアベアリング44は、気体を噴出するのみならず、吸引機能を有していてもよい。
The
以上によって、XYステージ装置1は、吸着盤リフトエアベアリング44が石定盤3,4の上面を滑走面として吸着盤11を支持することができ、Y軸リフトエアベアリング14,16も石定盤3,4の上面を滑走面としてY軸スライダ12,13をそれぞれ支持することができる。このように、石定盤3,4をY軸スライダ12,13のガイドとして用いてY軸リフトエアベアリング14,16と吸着盤リフトエアベアリング44とで滑走面を共有させることにより、Y軸スライダ12,13専用のガイドを石定盤3,4の上面に設けることを不要とし、これによって石定盤3,4を小さくすると共に装置の小型化を図ることができる。
As described above, in the
また、Y軸スライダ12,13には、石定盤3,4の側面側滑走面3b,3c,4b,4cの側から石定盤3,4を挟み込むように配置されたY軸ヨーエアベアリング17,18が設けられているため、Y軸ヨーエアベアリング17,18で水平方向に支持することによってY軸スライダ12,13を滑らかに移動させることができると共に、石定盤3,4の両側面を滑走面として有効活用することができる。
Further, the Y-
また、Y軸スライダ12の上壁部12aが三個のY軸リフトエアベアリング14によって支持され、Y軸スライダ13の上壁部13aが三個のY軸リフトエアベアリング16によって支持されているため、Y軸スライダ12,13の安定性を高めることができる。
Further, the
また、一対の石定盤3,4及びY軸スライダ12,13を備え、ガイド部材19の両端側にはY軸スライダ12,13がそれぞれ連結されているため、一対の石定盤3,4のいずれにおいても上面にY軸スライダ12,13専用のガイドを設けることを不要とし、これによってそれぞれの石定盤3,4を小さくすると共に一層装置の小型化を図ることができる。
Further, since the pair of
本発明は、上述した実施形態に限定されるものではない。 The present invention is not limited to the embodiment described above.
例えば、X軸リフトエアベアリング39は貫通孔21〜24内に配置されているが、これに代えて、貫通孔21〜24に支柱38を通過させて、貫通孔21〜24の下方にX軸リフトエアベアリング39が配置される構成としてもよい。
For example, the X-axis
また、X軸スライダ33は、X軸リフトエアベアリング39及びX軸ヨーエアベアリング36を用いることによって石定盤3,4の上面側滑走面3a,4a及びガイド部材19の滑走面19a,19bにガイドされてX軸方向に移動しているが、これに代えて、転がりガイドによってガイドされる構成としてもよい。
Further, the
1…XYステージ装置、3,4…石定盤(定盤)、3a,4a…上面側滑走面、11…吸着盤、12,13…Y軸スライダ(第1のスライダ)、12a,13a…上壁部、14,16…Y軸リフトエアベアリング(第1の気体軸受)、17,18…Y軸ヨーエアベアリング(第3の気体軸受)、19…ガイド部材、33…X軸スライダ(第2のスライダ)、44…吸着盤リフトエアベアリング(第2の気体軸受)。
DESCRIPTION OF
Claims (4)
前記滑走面に沿って第1の軸線の延在方向に移動する第1のスライダと、
前記第1のスライダに連結されて、水平面内で前記第1の軸線と直交する第2の軸線の方向へ延びるガイド部材と、
前記ガイド部材に沿って前記第2の軸線の延在方向に移動する第2のスライダと、
前記第2のスライダ上に配置され、上面に載置された対象物を吸着する吸着盤と、を備え、
前記第1のスライダは前記滑走面に対し気体を噴出する第1の気体軸受によって支持され、前記吸着盤は前記滑走面に対し気体を噴出する第2の気体軸受によって支持され、前記第1のスライダは前記定盤によってガイドされることを特徴とするXYステージ装置。 A surface plate whose upper surface is a sliding surface;
A first slider that moves in the extending direction of the first axis along the sliding surface;
A guide member connected to the first slider and extending in a direction of a second axis perpendicular to the first axis in a horizontal plane;
A second slider that moves in the extending direction of the second axis along the guide member;
An adsorbing plate arranged on the second slider and adsorbing an object placed on the upper surface;
The first slider is supported by a first gas bearing that ejects gas to the sliding surface, and the suction plate is supported by a second gas bearing that ejects gas to the sliding surface, and the first slider is supported by the first gas bearing. An XY stage apparatus, wherein the slider is guided by the surface plate.
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