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JP5092564B2 - ディスプレイ装置用基板ガラス - Google Patents

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Description

本発明は、耐熱性・耐久性に優れるガラス組成物に関する。例えば、フラットパネルディスプレイ装置用基板ガラスとして、特にLCD(液晶ディスプレイ)に好適なディスプレイ装置用基板ガラスに関する。
フラットパネルディスプレイとして知られるLCDには耐熱性やアルカリ含有量の問題などから一般的なソーダライムシリケートガラスが使用できない。そこで、従来LCD製造分野においては無アルカリガラスが使用されてきた。これらの無アルカリガラスは耐熱性に優れている上、アルカリ含有量が微量であるために、基板ガラスに電極を付与した後、アルカリイオンの電極側への拡散が起こらないという長所がある。(特許文献1,2参照)。
特許第2707625号公報 特許第2987523号公報
しかし、上記公報に記載のものは、そのアルカリの少ない組成のため、一般に融点が1600℃前後と高く、また組成にBが含まれている。
フラットパネルディスプレイの製法については、大型化のニーズが強いため、FL工法が適しており、FL工法で大量生産されるガラスは建築用、自動車用などのソーダライムシリケートガラスが一般的である。しかし、これらの溶融温度は1500℃程度であり、先に述べた無アルカリガラスのそれよりも約100℃低いため、無アルカリガラスを溶融する場合、耐火物などを1600℃に対応できるものに入れ替える必要がある。
また、無アルカリガラスに含まれるBは揮発しやすい成分で、これらは耐火物を浸食する作用を有する。従って、従来のソーダライムシリケートガラスを溶融していたFL窯で無アルカリガラスを溶融する場合、耐火物の入れ替え等の大掛かりな窯の変更が必要になる上、耐火物に対して浸食性を有する揮発物質が存在することから、窯の寿命が短くなるため、大きなコスト要因となる。
従って、実際に無アルカリガラスを製造する場合には、ソーダライムシリケートガラスとの併用を避け、それ専用のFL窯を一基作製するのが一般的だが、こちらも大きなコスト要因となる。
本発明は、重量%表示で、
SiO 52〜60、Al 3〜12であって、SiOとAlの合計量が55〜70であり、
NaO 2〜4、KO 0〜1であって、NaOとKOの合計量が2〜5であり、
MgO 0〜10、CaO 0〜10、BaO 9〜17、SrO 0〜10であって、MgOとCaOとBaOとSrOの合計量が25〜32であり、
ZrO 2〜6、
を含むことを特徴とするディスプレイ装置用基板ガラスである。
また、実質的にBをガラス中に含まないことを特徴とする上記のディスプレイ装置用基板ガラスである。
また、泡切れに要する時間が1500℃で2時間以内であることを特徴とする上記のディスプレイ装置用基板ガラスである。
また、溶融温度(粘性がlogη=2.0の時の温度(℃))が1520℃以下であることを特徴とする上記のディスプレイ装置用基板ガラスである。
さらに、JIS R3502に基づくアルカリ溶出量が0.02mg以下であることを特徴とする上記のディスプレイ装置用基板ガラスである。
本発明により、アルカリ溶出量は無アルカリガラスと同等である上、Bを含まず、溶融温度が1500℃程度で、従来のFL窯による製造が可能なガラス組成が提供される。
本発明は、重量%表示で、
SiO 52〜60、Al 3〜12であって、SiOとAlの合計量が55〜70であり、
NaO 2〜4、KO 0〜1であって、NaOとKOの合計量が2〜5であり、
MgO 0〜10、CaO 0〜10、BaO 9〜17、SrO 0〜10であって、MgOとCaOとBaOとSrOの合計量が25〜32であり、
ZrO 2〜6、
を含むことを特徴とするディスプレイ装置用基板ガラスである。
SiOはガラスの主成分であり、重量%において52%未満ではガラスの耐熱性または化学的耐久性を悪化させる。他方、60%を超えるとガラス融液の高温粘度が高くなり、ガラス成形が困難となる。従って52〜60%、好ましくは52〜56%の範囲とする。
Alは、歪点を高くし、密度を低くする成分である。重量%において3%未満ではガラスの耐熱性または化学的耐久性を悪化させる。他方、12%を超えるとガラスの失透傾向が大きくなり、溶融ガラスの成形が困難になる。従って3〜12%の範囲である。
NaOは、KOとともにガラス溶解時の融剤として作用する。2%未満ではガラス融液の高温粘度が高くなり、ガラス成形が困難となる。他方、4%を超えるとアルカリ溶出量が大きくなる。従って2〜4%の範囲とする。
Oは、NaOと同様の作用効果を示す。1%を超えるとアルカリ溶出量が大きくなる。従って、0〜1%の範囲とする。
前記アルカリ成分(NaO、KO)の量に関して、その合量を2〜5%にすることにより、高温粘度およびアルカリ溶出量を適切な範囲に維持することができる。アルカリ成分の合量が2%未満ではガラス融液の高温粘度が高くなり、ガラス成形が困難となる。またガラスの失透傾向が増大する。5%を超えるとアルカリ溶出量が大きくなり過ぎる。従って、2〜5%の範囲とするものである。
MgOは、必須成分ではないが、ガラス溶解時の溶融ガラスの粘度を下げる作用を有する。10%を超えるとガラスの失透傾向が増大し溶融ガラスの成形が困難になる。従って0〜10%の範囲とする。
CaOは、必須成分ではないが、ガラス溶解時の溶融ガラスの粘度を下げる作用を有する。10%を超えると失透傾向が大きくなり、溶融ガラスの成形が困難になる。従って0〜10%の範囲とする。
SrOは、必須成分ではないが、CaOとの共存下でガラス融液の高温粘度を下げて失透の発生を抑制する作用を有する。10%を超えると失透傾向が大きくなり、溶融ガラスの成形が困難になる。従って0〜10%の範囲とする。
BaOは、ガラス溶解時の溶融ガラスの粘度を下げる作用を有すると共にガラス中のアルカリイオンの拡散を妨げる作用を有する。9%未満ではガラスのアルカリ溶出量が大きくなる。他方、17%を超えると失透傾向が大きくなり、溶融ガラスの成形が困難になる。従って、9〜17%の範囲とする。
さらに、上記組成範囲内において、二価の金属酸化物RO(Rは、Mg、Ca、Sr、Ba)の合計量を25〜32%の範囲とすることによって、ガラスの溶融性を良好な範囲に維持しつつ、粘度―温度勾配を適度としてガラスの成形性を良好とし、耐熱性、化学的耐久性等に優れたガラスを得ることができる。ROの合計が25%未満では、高温粘度が上昇してガラスの溶融と成形が困難となる。一方、32%を超えると、特に密度が上昇するとともに失透傾向が増大し、化学的耐久性が低下する。より好ましい範囲は、27〜32%である。
ZrOは、ガラスの化学的耐久性を向上させる効果を有する。2%未満ではガラスの化学的耐久性が低くなる。他方、6%を超えると失透傾向が大きくなり、溶融ガラスの成形が困難になる。従って2〜6%の範囲とする。
また、実質的にBをガラス中に含まないことを特徴とする上記のディスプレイ装置用基板ガラスである。
ここで実質的に含まないとは、0.1%以下であることをいう。Bが0.1%以下であれば、本発明の目的である耐火物の侵食を抑える事ができる。
本発明の好ましい態様のガラスは実質的に上記成分からなるが、本発明の目的を損なわない範囲で他の成分を合量で1%まで含有してもよい。たとえば、ガラスの溶解、清澄、成形性の改善のためにSO、Cl、F、As等を合量で1%まで含有してもよい。また、ガラスを着色するためにFe、CoO、NiO等を合量で1%まで含有してもよい。さらに、PDPにおける電子線ブラウニング防止等のためにTiOおよびCeOをそれぞれ1%まで、合量で1%まで含有してもよい。
また、泡切れに要する時間が1500℃で2時間以内であることを特徴とする上記のディスプレイ装置用基板ガラスである。泡切れに要する時間が1500℃で2時間を超えると、FL法による場合、基板に泡が残り望ましくない。
また、溶融温度(粘性がlogη=2.0の時の温度(℃))が1520℃以下であることを特徴とする上記のディスプレイ装置用基板ガラスである。溶融温度が1520℃を超えると、FL法による製板が困難になる。
また、本発明はJIS R3502に基づくアルカリ溶出量が0.02mg未満であることを特徴とする上記のディスプレイ装置用基板ガラスである。アルカリ溶出量が0.02mg以上ではアルカリの拡散により電極の劣化が起こるため不適である。従って、アルカリ溶出量は0.02mg以下が適当である。
以下、実施例に基づき、説明する。
(ガラスの作成)
珪砂、酸化アルミニウム、炭酸ナトリウム、硫酸ナトリウム、炭酸カリウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウム、炭酸バリウム、珪酸ジルコニウムよりなる調合原料を白金ルツボに充填し、電気炉内で1500〜1600℃、約6時間加熱溶融した。加熱溶融の途中で白金棒によりガラス融液を攪拌してガラスを均質化させた。次に、溶融ガラスを鋳型に流し込み、ガラスブロックとし、550〜600℃に保持した電気炉に移入して該炉内で徐冷した。得られたガラス試料は泡や脈理の無い均質なものであった。
原料調合に基づくガラスの組成(酸化物換算)を表1〜3に示す。これらのガラスについて、溶融温度(℃)、アルカリ溶出量、泡切れ時間を以下の方法により測定した。
溶融温度は球引き上げ粘度計(オプト企業製)を用いて球引き上げ法によりlogη=2.0の温度を溶融温度として測定した。
泡切れ時間は調合原料およびカレットを白金ルツボに充填し、電気炉内で1500℃で2時間加熱後、0.5時間かけて1450℃に降温させ、さらに0.5時間保持後、溶融ガラスを鋳型に流し込み、放冷した。冷却後、ガラス中の残存泡の有無を顕微鏡で確認した。表中で残存泡が無かった場合を○、残存泡があった場合を×とした。
アルカリ溶出量はJIS R3502の規定に基づいて測定した。
Figure 0005092564
Figure 0005092564
Figure 0005092564
(結果)
表1中の実施例1〜8、表2中の実施例9〜12は本発明におけるガラスであり、表3中の比較例1〜8は従来の無アルカリガラスで、比較例9は高歪点ガラスである。比較例1〜8の無アルカリガラスにおいては、アルカリ溶出量が0.02mg未満で適切な値であるものの、いずれのガラスもBを含んでいる上、溶融温度が1520℃以下の値を示すものはないため不適である。また、1500℃での泡切れも達成できていない。また、比較例9のガラスでは溶融温度が実施例1〜12のガラスと同等であるにもかかわらず、泡切れ特性については×であり、アルカリ溶出量も0.1mgであるため、不適であった。
これらに対して実施例1〜16のガラスは、アルカリ溶出量が適切な値を示している上、溶融温度がいずれも1520℃以下である。また、比較例9と比較されるように、同様の溶融温度を有するガラスの中でも特に泡切れ特性に優れていた。
従って、本願発明のガラスは、アルカリイオンの拡散に対して無アルカリガラスと対等な性質を有している上、溶融温度がソーダライムシリケートガラス相当であるため、従来のFL工法に使用していたFL窯をそのまま利用して製造することが可能である。また、特に泡切れ特性に優れているため、従来のFL窯を用いた大サイズで薄い板ガラス製造を可能にすることは明白である。
また、Bを含まないため、FL窯の寿命は従来ガラスの場合と同じであることは明白である。
本発明は、LCD等のディスプレイパネル用途だけでなく、熱処理工程の必要な電子材料分野全体に利用できるものである。

Claims (5)

  1. 重量%表示で、
    SiO 52〜60、
    Al 3〜12であって、
    SiOとAlの合計量が55〜70であり、
    NaO 2〜4、
    O 0〜1であって、
    NaOとKOの合計量が2〜5であり、
    MgO 0〜10、
    CaO 0〜10、
    BaO 9〜17、
    SrO 0〜10であって、
    MgOとCaOとBaOとSrOの合計量が25〜32であり、
    ZrO 2〜6、
    を含むことを特徴とするディスプレイ装置用基板ガラス。
  2. 実質的にBをガラス中に含まないことを特徴とする請求項1に記載のディスプレイ装置用基板ガラス。
  3. 泡切れに要する時間が1500℃で2時間以内であることを特徴とする請求項1又は2のいずれかに記載のディスプレイ装置用基板ガラス。
  4. 溶融温度(粘性がlogη=2.0の時の温度(℃))が1520℃以下であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のディスプレイ装置用基板ガラス。
  5. JIS R3502に基づくアルカリ溶出量が0.02mg以下であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載のディスプレイ装置用基板ガラス。
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