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JP5082377B2 - 含フッ素有機硫黄化合物及びその有害節足動物防除用途 - Google Patents

含フッ素有機硫黄化合物及びその有害節足動物防除用途 Download PDF

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Description

本発明は、含フッ素有機硫黄化合物及びその有害節足動物防除用途に関する。
従来より、有害節足動物の防除のために多くの有害節足動物防除剤が開発され、実用に供されている。
本発明は、有害節足動物に対して優れた防除効力を有する新規な化合物とその用途を提供することを課題とする。
本発明者等は、有害節足動物に対して優れた防除効力を有する化合物を見出すべく鋭意検討した結果、下記式(I)で示される含フッ素有機硫黄化合物が有害昆虫類並びに有害ダニ類等の有害節足動物に対して優れた効力を有することを見出し、本発明に到った。
即ち、本発明は下記式(I)
Figure 0005082377
〔式中、R1はC3−C6フルオロアルキル基を表し、R2はシアノ基、C(=O)R5又はC(=S)R6を表し、R3は水素原子、ハロゲン原子又はC1−C4アルキル基を表し、R4はC1−C5フルオロアルキル基を表し、R5及びR6は各々、C1−C4アルコキシ基、1個若しくは2個のC1−C4アルキル基で置換されていてもよいアミノ基又はC2−C5環状アミノ基を表し、nは0、1又は2を表す。〕で示される含フッ素有機硫黄化合物(以下、本発明化合物と記す場合がある。)、本発明化合物を有効成分として含有することを特徴とする本発明の有害節足動物防除剤及び本発明化合物の有効量を有害節足動物又は有害節足動物の生息場所に施用することを特徴とする有害節足動物の防除方法を提供する。
本発明化合物は、有害節足動物に対して優れた防除効力を有することから、有害節足動物防除剤の有効成分として有用である。
本発明において、C1−C4等の記載は、各置換基を構成する全炭素数を意味する。また、本発明において、フルオロアルキル基との記載は、炭素原子に1個又は2個以上のフッ素原子が結合してなるアルキル基を表す。
式(I)においてR1で示されるC3−C6フルオロアルキル基としては、例えば
2−フルオロプロピル基、2,2−ジフルオロプロピル基、3−フルオロプロピル基、3,3−ジフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基及び2,2,2−トリフルオロ−(1−トリフルオロメチル)エチル基等のC3フルオロアルキル基;
2−フルオロブチル基、2,2−ジフルオロブチル基、3−フルオロブチル基、3,3−ジフルオロブチル基、4−フルオロブチル基、4,4−ジフルオロブチル基、4,4,4−トリフルオロブチル基、3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチル基、2,2,3,4,4−ペンタフルオロブチル基及び2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブチル基等のC4フルオロアルキル基;
2−フルオロペンチル基、2,2−ジフルオロペンチル基、3−フルオロペンチル基、3,3−ジフルオロペンチル基、4−フルオロペンチル基、4,4−ジフルオロペンチル基、5−フルオロペンチル基、5,5−ジフルオロペンチル基、5,5,5−トリフルオロペンチル基、4,4,5,5,5−ペンタフルオロペンチル基、3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロペンチル基、2,2,3,3,4,4,5,5−オクタフルオロペンチル基及び2,2,3,3,4,4,5,5,5−ノナフルオロペンチル基等のC5フルオロアルキル基;
2−フルオロヘキシル基、2,2−ジフルオロヘキシル基、3−フルオロヘキシル基、3,3−ジフルオロヘキシル基、4−フルオロヘキシル基、4,4−ジフルオロヘキシル基、5−フルオロヘキシル基、5,5−ジフルオロヘキシル基、6−フルオロヘキシル基、6,6−ジフルオロヘキシル基、6,6,6−トリフルオロヘキシル基、5,5,6,6,6−ペンタフルオロヘキシル基、4,4,5,5,6,6,6−ヘプタフルオロヘキシル基、3,3,4,4,5,5,6,6,6−ノナフルオロヘキシル基及び2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,6−ウンデカフルオロヘキシル基等のC6フルオロアルキル基;
が挙げられる。
式(I)においてR4で示されるC1−C5フルオロアルキル基としては、例えば
フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、1−フルオロエチル基、2−フルオロエチル基、1,1−ジフルオロエチル基、2,2−ジフルオロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル基及び1,1,2,2,2−ペンタフルオロエチル基等のC1−C2フルオロアルキル基;
1−フルオロプロピル基、1,1−ジフルオロプロピル基、2−フルオロプロピル基、2,2−ジフルオロプロピル基、3−フルオロプロピル基、3,3−ジフルオロプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、1,1,2,2,3,3,3−ヘプタフルオロプロピル基、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル基、2,2,2−トリフルオロ−(1−トリフルオロメチル)エチル基、1,2,2,2−テトラフルオロ−(1−トリフルオロメチル)エチル基及び2,2,3,3−テトラフルオロプロピル基等のC3フルオロアルキル基;
1−フルオロブチル基、1,1−ジフルオロブチル基、2−フルオロブチル基、2,2−ジフルオロブチル基、3−フルオロブチル基、3,3−ジフルオロブチル基、4−フルオロブチル基、4,4−ジフルオロブチル基、4,4,4−トリフルオロブチル基、3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチル基、2,2,3,4,4−ペンタフルオロブチル基及び2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブチル基等のC4フルオロアルキル基;
1−フルオロペンチル基、1,1−ジフルオロペンチル基、2−フルオロペンチル基、2,2−ジフルオロペンチル基、3−フルオロペンチル基、3,3−ジフルオロペンチル基、4−フルオロペンチル基、4,4−ジフルオロペンチル基、5−フルオロペンチル基、5,5−ジフルオロペンチル基、5,5,5−トリフルオロペンチル基、4,4,5,5,5−ペンタフルオロペンチル基、3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロペンチル基、2,2,3,3,4,4,5,5−オクタフルオロペンチル基及び2,2,3,3,4,4,5,5,5−ノナフルオロペンチル基等のC5フルオロアルキル基;
が挙げられる。
式(I)においてR3で示されるC1−C4アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基が挙げられる。
式(I)においてR5及びR6で示されるC1−C4アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、tert−ブトキシ基が挙げられる。
式(I)においてR5及びR6で示される1個若しくは2個のC1−C4アルキル基で置換されていてもよいアミノ基としては、例えばアミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、2−プロピルアミノ基、ブチルアミノ基、イソブチルアミノ基、tert−ブチルアミノ基、ジメチルアミノ基が挙げられる。
式(I)においてR5及びR6で示されるC2−C5環状アミノ基としては、例えば1−アジリジノ基、1−アゼチジニル基、1−ピロリジニル基、ピペリジノ基が挙げられる。
本発明化合物の態様としては、例えば以下のものが挙げられる。
式(I)において、nが2である含フッ素有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がシアノ基又はC(=O)R5である含フッ素有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がシアノ基である含フッ素有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がC(=O)R5であり、R5が1個若しくは2個のC1−C4アルキル基で置換されていてもよいアミノ基ある含フッ素有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がC(=O)R5であり、R5がアミノ基である含フッ素有機硫黄化合物;
式(I)において、R3がハロゲン原子である含フッ素有機硫黄化合物;
式(I)において、R3がフッ素原子又は塩素原子である含フッ素有機硫黄化合物;
式(I)において、R4がC1−C3フルオロアルキル基である含フッ素有機硫黄化合物;
式(I)において、R4がトリフルオロメチル基である含フッ素有機硫黄化合物;
式(I)において、R4が1,1,2,2,2−ペンタフルオロエチル基である含フッ素有機硫黄化合物;
式(I)において、R4が1,1,2,2,3,3,3−へプタフルオロブチル基である含フッ素有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R4がC1−C3フルオロアルキル基である含フッ素有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R4がトリフルオロメチル基である含フッ素有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R4が1,1,2,2,2−ペンタフルオロエチル基である含フッ素有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R4が1,1,2,2,3,3,3−へプタフルオロブチル基である含フッ素有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R2がシアノ基又はC(=O)R5である含フッ素有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R2がシアノ基である含フッ素有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R2がC(=O)R5であり、R5が1個若しくは2個のC1−C4アルキル基で置換されていてもよいアミノ基ある含フッ素有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R2がC(=O)R5であり、R5がアミノ基である含フッ素有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R3がハロゲン原子である含フッ素有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R3がフッ素原子又は塩素原子である含フッ素有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がシアノ基又はC(=O)R5であり、R3がハロゲン原子である含フッ素有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がシアノ基であり、R3がハロゲン原子である含フッ素有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がC(=O)R5であり、R5が1個若しくは2個のC1−C4アルキル基で置換されていてもよいアミノ基であり、R3がハロゲン原子ある含フッ素有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がC(=O)R5であり、R5がアミノ基であり、R3がハロゲン原子である含フッ素有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がシアノ基又はC(=O)R5であり、R3がフッ素原子又は塩素原子である含フッ素有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がシアノ基であり、R3がフッ素原子又は塩素原子である含フッ素有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がC(=O)R5であり、R5が1個若しくは2個のC1−C4アルキル基で置換されていてもよいアミノ基であり、R3がフッ素原子又は塩素原子ある含フッ素有機硫黄化合物;
式(I)において、R2がC(=O)R5であり、R5がアミノ基であり、R3がフッ素原子又は塩素原子である含フッ素有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R2がシアノ基又はC(=O)R5であり、R3がハロゲン原子である含フッ素有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R2がシアノ基であり、R3がハロゲン原子である含フッ素有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R2がC(=O)R5であり、R5が1個若しくは2個のC1−C4アルキル基で置換されていてもよいアミノ基であり、R3がハロゲン原子ある含フッ素有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R2がC(=O)R5であり、R5がアミノ基であり、R3がハロゲン原子である含フッ素有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R2がシアノ基又はC(=O)R5であり、R3がフッ素原子又は塩素原子である含フッ素有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R2がシアノ基であり、R3がフッ素原子又は塩素原子である含フッ素有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R2がC(=O)R5であり、R5が1個若しくは2個のC1−C4アルキル基で置換されていてもよいアミノ基であり、R3がフッ素原子又は塩素原子ある含フッ素有機硫黄化合物;
式(I)において、nが2であり、R2がC(=O)R5であり、R5がアミノ基であり、R3がフッ素原子又は塩素原子である含フッ素有機硫黄化合物;
式(I)において、R3が水素原子又はハロゲン原子である含フッ素有機硫黄化合物;
式(I)において、R3が水素原子又はC1−C4アルキル基である含フッ素有機硫黄化合物;
式(I)において、R3がハロゲン原子又はC1−C4アルキル基である含フッ素有機硫黄化合物;
式(I)において、R3が水素原子又はハロゲン原子であり、R4がC1−C3フルオロアルキル基である含フッ素有機硫黄化合物;
式(I)において、R3が水素原子又はC1−C4アルキル基であり、R4がC1−C3フルオロアルキル基である含フッ素有機硫黄化合物;
式(I)において、R3がハロゲン原子又はC1−C4アルキル基であり、R4がC1−C3フルオロアルキル基である含フッ素有機硫黄化合物。
次に、本発明化合物の製造法について説明する。
本発明化合物は、例えば以下の(製造法1)〜(製造法12)により製造することができる。
(製造法1)
本発明化合物のうち、R3がC1−C4アルキル基である化合物(I−2)は、例えば下記の化合物(a)と化合物(I−1)とを反応させることにより製造することができる。
Figure 0005082377
[式中、R1、R2、R4及びnは前記と同じ意味を表し、R3-1はC1−C4アルキル基を表し、Xは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、p−トルエンスルホニルオキシ基及びトリフルオロメタンスルホニルオキシ基等の脱離基を表す。]
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド及びトリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物(I−1)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
反応に用いられる化合物(a)の量は、化合物(I−1)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−100〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(I−2)を単離することができる。単離された化合物(I−2)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
(製造法2)
本発明化合物のうち、R3が水素原子又はC1−C4アルキル基である化合物(I−3)は、例えば下記の化合物(c)と化合物(d)とを反応させることにより製造することができる。
Figure 0005082377
[式中、R1、R2、R4、n及びXは前記と同じ意味を表し、R3-2は水素原子又はC1−C4アルキル基を表す。]
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド及びトリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物(d)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
反応に用いられる化合物(c)の量は、化合物(d)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−100〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(I−3)を単離することができる。単離された化合物(I−3)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
本発明化合物(I)のうち、R3がハロゲン原子である化合物(I−4)は、例えば下記の(製造法3)又は(製造法4)で示される方法にて製造することができる。
(製造法3)
化合物(I−1)とハロゲン化剤(e)とを塩基の存在下で反応させることにより製造する方法。
Figure 0005082377
[式中、R1、R2、R4及びnは前記と同じ意味を表し、R3-3はハロゲン原子を表す。]
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウムtert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド及びトリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物(I−1)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
該反応に用いられるハロゲン化剤(e)としては、例えば四塩化炭素、ヘキサクロロエタン等のハロゲン化炭化水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素のハロゲン、N−クロロコハク酸イミド、N−ブロモコハク酸イミド、N−ヨードコハク酸イミド等のハロゲン化スクシンイミド、1−フルオロ−2,4,6−トリメチルピリジニウム トリフルオロメタンスルホナート、1,1’−ジフルオロ−2,2’−ビピリジニウム ビステトラフルオロボレート等のN−フルオロピリジニウム塩、塩化銅(II)、臭化銅(II)等の無機塩が挙げられる。
反応に用いられるハロゲン化剤(e)の量は、化合物(I−1)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−100〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(I−4)を単離することができる。単離された化合物(I−4)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
(製造法4)
化合物(I−1)とハロゲン化剤(f)とを反応させることにより製造する方法。
Figure 0005082377
[式中、R1、R2、R4、R3-3及びnは前記と同じ意味を表す。]
該反応は無溶媒若しくは溶媒中で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばクロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、アセトニトリル、プロピオニトリル等の脂肪族ニトリル、酢酸等の脂肪族カルボン酸、二硫化炭素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられるハロゲン化剤(f)としては、例えばフッ素、塩素、臭素、ヨウ素のハロゲン、フッ化水素、塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素のハロゲン化水素、塩化チオニル、臭化チオニル、塩化スルフリル等のハロゲン化硫黄化合物、三塩化リン、三臭化リン、五塩化リン、オキシ塩化リン等のハロゲン化リン化合物があげられる。
反応に用いられるハロゲン化剤(f)の量は、化合物(I−1)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−100〜200℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(I−4)を単離することができる。単離された化合物(I−4)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
本発明化合物(I)のうち、R2がC(=O)R5であり、R5がC1−C4アルコキシ基、1個若しくは2個のC1−C4アルキル基で置換されていてもよいアミノ基又はC2−C5環状アミノ基である化合物(I−5)は、例えば下記の(製造法5)又は(製造法6)で示される方法にて製造することができる。
(製造法5)
化合物(i)と化合物(j)とを反応させることにより製造する方法。
Figure 0005082377
[式中、R1、R3、R4、R5及びnは前記と同じ意味を表し、Zはハロゲン原子を表す。]
(工程5−1)
化合物(i)は、化合物(g)とハロゲン化剤(h)とを反応させることにより製造することができる。
該反応は無溶媒若しくは溶媒中で行うことができる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばクロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素が挙げられる。
反応に用いられるハロゲン化剤(h)としては、例えば塩化オキサリル、塩化チオニル、臭化チオニル、三塩化リン、三臭化リン及び五塩化リンが挙げられる。反応に用いられるハロゲン化剤(h)の量は、化合物(g)1モルに対し、通常1モル〜溶媒量の割合である。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濃縮する等の操作を行うことにより化合物(i)を単離することができる。単離された化合物(i)は蒸留等によりさらに精製することもできる。
(工程5−2)
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基及びトリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物(i)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
反応に用いられる化合物(j)の量は、化合物(i)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(I−5)を単離することができる。単離された化合物(I−5)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
(製造法6)
化合物(g)と化合物(j)とを反応させることにより製造する方法。
Figure 0005082377
[式中、R1、R3、R4、R5及びnは前記と同じ意味を表す。]
該反応は通常溶媒中、縮合剤の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素が挙げられる。
反応に用いられる縮合剤としては、例えばジシクロヘキシルカルボジイミド、N−(3−ジメチルアミノプロピル)−N′−エチルカルボジイミド、カルボニルジイミダゾール等が挙げられる。
反応に用いられる縮合剤の量は、化合物(g)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
反応に用いられる化合物(j)の量は、化合物(g)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濃縮する等の操作を行うことにより化合物(I−5)を単離することができる。単離された化合物(I−5)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
(製造法7)
本発明化合物のうち、R3が水素原子である化合物(I−1)は、例えば下記の化合物(c)と化合物(k)とを反応させることにより製造することができる。
Figure 0005082377
[式中、R1、R2、R4、X及びnは前記と同じ意味を表す。]
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド及びトリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物(k)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
反応に用いられる化合物(c)の量は、化合物(k)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−100〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(I−1)を単離することができる。単離された化合物(I−1)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
(製造法8)
本発明化合物のうち、R2がC(=O)R5であり、R5が1個若しくは2個のC1−C4アルキル基で置換されていてもよいアミノ基又はC2−C5環状アミノ基であり、nが2である化合物(I−8)は、本発明化合物のうちR2がC(=O)R5であり、R5がC1−C4アルコキシ基であり、nが2である化合物(I−7)を化合物(p)と反応させることにより製造することもできる。
Figure 0005082377
〔式中、R1、R3及びR4は前記と同じ意味を表し、R5-1はC1−C4アルコキシ基を表し、R5-2は1個若しくは2個のC1−C4アルキル基で置換されていてもよいアミノ基又はC2−C5環状アミノ基を表す。〕
該反応は通常溶媒中で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素が挙げられる。
反応に用いられる化合物(p)の量は、化合物(I−7)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濃縮する等の操作を行うことにより化合物(I−8)を単離することができる。単離された化合物(I−8)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
(製造法9)
本発明化合物のうち、R2がC(=S)R5である化合物(I−9)は、本発明化合物のうちR2がC(=O)R5である化合物(I−5)を硫黄化剤(q)と反応させることにより製造することもできる。
Figure 0005082377
〔式中、R1、R3、R4、R5及びnは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は通常溶媒中で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素が挙げられる。
該反応に用いられる硫黄化剤(q)としては、例えば硫化水素、五硫化二りん等の無機硫黄化合物、2,4−ビス(4−メトキシフェニル)−1,3−ジチア−2,4−ジホスフェタン 2,4−ジスルフィド等の有機硫黄化合物が挙げられる。
該反応に用いられる硫黄化剤(q)の量は、化合物(I−5)1モルに対し、通常0.5〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常0〜250℃の範囲であり、反応時間は通常1〜72時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濃縮する等の操作を行うことにより化合物(I−9)を単離することができる。単離された化合物(I−9)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
本発明化合物のうち、nが0である化合物(I−10)は、例えば(製造法10)又は(製造法11)に示される方法により製造することができる。
(製造法10)
化合物(r)と化合物(m)とを反応させることにより製造する方法。
Figure 0005082377
[式中、R1、R2、R3-2、R4及びXは前記と同じ意味を表す。]
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド及びトリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。
反応に用いられる塩基の量は、化合物(r)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
反応に用いられる化合物(m)の量は、化合物(r)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(I−10)を単離することができる。単離された化合物(I−10)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
(製造法11)
化合物(s)と化合物(o)とを反応させることにより製造する方法。
Figure 0005082377
[式中、R1、R2、R3-2、R4及びXは前記と同じ意味を表す。]
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド類及びトリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物(o)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
反応に用いられる化合物(s)の量は、化合物(o)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(I−10)を単離することができる。単離された化合物(I−10)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
(製造法12)
本発明化合物のうち、nが1又は2である化合物(I−11)は、例えば化合物(I−10)を酸化することにより製造することができる。
Figure 0005082377
[式中、R1、R2、R3-2、R4は前記と同じ意味を表し、n’は1又は2を表す。]
該反応は、酸化剤の存在下、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、酢酸、トリフルオロ酢酸等の脂肪族カルボン酸、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる酸化剤としては、例えば過酢酸、トリフルオロ過酢酸、m−クロロ過安息香酸等の有機過酸化物、塩素、臭素のハロゲン分子、N−クロロコハク酸イミド等の含ハロゲンイミド、過塩素酸(若しくはその塩)、過ヨウ素酸(若しくはその塩)等のハロゲン化物、過マンガン酸カリウム等の過マンガン酸塩、クロム酸カリウム等のクロム酸塩及び過酸化水素が挙げられる。反応に用いられる酸化剤の量は、化合物(I−10)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−50〜200℃の範囲であり、反応時間は通常1〜72時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の操作を行うことにより、化合物(I−11)を単離することができる。単離した化合物(I−11)は、必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等でさらに精製することもできる。
次に、本発明化合物の製造に用いられる中間体の製造法について、参考製造法で説明する。
(参考製造法1)
化合物(g)は化合物(I−6)を加水分解することにより製造することができる。
Figure 0005082377
[式中、R1、R3、R4及びnは前記と同じ意味を表し、R5-3はメトキシ基又はエトキシ基を表す。]
該反応は酸又は塩基、並びに水の存在下、通常有機溶媒中で行われる。
反応に用いられる有機溶媒としては、メタノール、エタノール等のアルコール、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、蟻酸、酢酸等の脂肪族カルボン酸及びそれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基が挙げられる。
反応に用いられる酸としては、例えば塩酸、硫酸等の無機酸が挙げられる。
反応に用いられる酸又は塩基の量は、化合物(I−6)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に必要に応じて水及び/又は酸を加え、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の操作を行うことにより化合物(g)を単離することができる。単離された化合物(g)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
(参考製造法2)
化合物(d)のうち、R3-2がC1−C4アルキル基である化合物(d−1)は、例えば下記の化合物(a)と化合物(k)を反応させることにより製造することができる。
Figure 0005082377
[式中、R2、R4、R3-1、n及びXは前記と同じ意味を表す。]
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド及びトリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。
反応に用いられる塩基の量は、化合物(k)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
反応に用いられる化合物(a)の量は、化合物(k)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(d−1)を単離することができる。単離された化合物(d−1)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
(参考製造法3)
化合物(k)のうち、nが0である化合物(k−1)及びnが1又は2である化合物(k−2)は、例えば以下に示す方法により製造することができる。
Figure 0005082377
[式中、R2、R4、X及びn’は前記と同じ意味を表す。]
(工程III−1−a)
化合物(k−1)は、例えば化合物(l)と化合物(m)とを反応させることにより製造することができる。
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド及びトリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。
反応に用いられる塩基の量は、化合物(l)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
反応に用いられる化合物(m)の量は、化合物(l)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(k−1)を単離することができる。単離された化合物(k−1)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
(工程III−1−b)
化合物(k−1)は、例えば化合物(n)と化合物(o)とを反応させることにより製造することもできる。
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えばN,N−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド類及びトリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物(o)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
反応に用いられる化合物(n)の量は、化合物(o)1モルに対し、通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−20〜100℃の範囲であり、反応時間は通常1〜24時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物(k−1)を単離することができる。単離された化合物(k−1)は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
(工程III−2)
化合物(k−2)は、例えば化合物(k−1)を酸化することにより製造することができる。
該反応は、酸化剤の存在下、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、酢酸、トリフルオロ酢酸等の脂肪族カルボン酸、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる酸化剤としては、例えば過酢酸、トリフルオロ過酢酸、m−クロロ過安息香酸等の有機過酸化物、塩素、臭素のハロゲン分子、N−クロロコハク酸イミド等の含ハロゲンイミド、過塩素酸(若しくはその塩)、過ヨウ素酸(若しくはその塩)等のハロゲン化物、過マンガン酸カリウム等の過マンガン酸塩、クロム酸カリウム等のクロム酸塩及び過酸化水素が挙げられる。反応に用いられる酸化剤の量は、化合物(k−1)1モルに対して通常1〜10モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−50〜200℃の範囲であり、反応時間は通常1〜72時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の操作を行うことにより、化合物(k−2)を単離することができる。単離した化合物(k−2)は、必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等でさらに精製することもできる。
前記化合物(o)及び(s)は、例えばThe Journal of Organic Chemistry,27(1),p.93−95(1962)及びHETEROCYCLES,24(5),p.1331−1346(1986)に記載の方法に準じて各々製造することができる。
前記化合物(t)は、例えばThe Journal of Organic Chemistry, 18, p.1112−1116 (1953)に記載の方法に準じて製造することができる。
本発明化合物が効力を示す有害節足動物としては、有害昆虫類並びに有害ダニ類等が挙げられる。より具体的には、下記のものが挙げられる。
半翅目害虫:ヒメトビウンカ(Laodelphax striatellus)、トビイロウンカ(Nilaparvata lugens)、セジロウンカ(Sogatella furcifera)等のウンカ類、ツマグロヨコバイ(Nephotettix cincticeps)、タイワンツマグロヨコバイ(Nephotettix virescens)等のヨコバイ類、ワタアブラムシ(Aphis gossypii)、モモアカアブラムシ(Myzus persicae)、ダイコンアブラムシ(Brevicoryne brassicae)、チューリップヒゲナガアブラムシ(Macrosiphum euphorbiae)、ジャガイモヒゲナガアブラムシ(Aulacorthum solani)、ムギクビレアブラムシ(Rhopalosiphum padi),ミカンクロアブラムシ(Toxoptera citricidus)等のアブラムシ類、アオクサカメムシ(Nezara antennata)、ホソヘリカメムシ(Riptortus clavetus)、オオトゲシラホシカメムシ(Eysarcoris lewisi)、トゲシラホシカメムシ(Eysarcoris parvus)、チャバネアオカメムシ(Plautia stali)、クサギカメムシ(Halyomorpha mista)アカスジカスミカメ(Stenotus rubrovittatus)、アカヒゲホソミドリカスミカメ(Trigonotylus ruficornis)等のカメムシ類、オンシツコナジラミ(Trialeurodes vaporariorum)、シルバーリーフコナジラミ(Bemisia argentifolii)等のコナジラミ類、アカマルカイガラムシ(Aonidiella aurantii)、サンホーゼカイガラムシ(Comstockaspis perniciosa)、シトラススノースケール(Unaspis citri)、ルビーロウムシ(Ceroplastes rubens)、イセリヤカイガラムシ(Icerya purchasi)等のカイガラムシ類、グンバイムシ類、トコジラミ(Cimex lectularius)等のトコジラミ類、キジラミ類等;
鱗翅目害虫:ニカメイガ(Chilo suppressalis)、コブノメイガ(Cnaphalocrocis medinalis)、ワタノメイガ(Notarcha derogata)、ノシメマダラメイガ(Plodia interpunctella)、アワノメイガ(Maruca testulalis)、ハイマダラノメイガ(Hellula undalis)、シバツトガ(Pediasia teterrellus)等のメイガ類、ハスモンヨトウ(Spodoptera litura)、アワヨトウ(Pseudaletia separata)、トリコプルシア属、ヘリオティス属、ヘリコベルパ属等のヤガ類、モンシロチョウ(Pieris rapae)等のシロチョウ類、アドキソフィエス属、ナシヒメシンクイ(Grapholita molesta)、コドリンガ(Cydia pomonella)等のハマキガ類、モモシンクイガ(Carposina niponensis)等のシンクイガ類、リオネティア属等のハモグリガ類、リマントリア属、ユープロクティス属等のドクガ類、コナガ(Plutella xylostella)等のスガ類、チャノホソガ(Caloptilia theivora)、キンモンホソガ(Phyllonorycter ringoneella)のホソガ類、ワタアカミムシ(Pectinophora gossypiella)等のキバガ類、アメリカシロヒトリ(Hyphantria cunea)等のヒトリガ類、イガ(Tinea translucens)、コイガ(Tineola bisselliella)等のヒロズコガ類等;
双翅目害虫:アカイエカ(Culex pipiens pallens)、コガタアカイエカ(Culex tritaeniorhynchus)、ネッタイイエカ(Culex quinquefasciatus)等のイエカ類、ネッタイシマカ(Aedes aegypti)、ヒトスジシマカ(Aedes albopictus)等のエーデス属、(Anopheles sinensis)等のアノフェレス属、ユスリカ類、イエバエ(Musca domestica)、オオイエバエ(Muscina stabulans)等のイエバエ類、クロバエ類、ニクバエ類、ヒメイエバエ類、タネバエ(Delia platura)、タマネギバエ(Delia antiqua)等のハナバエ類、マメハモグリバエ(Liriomyza trifolii)等のハモグリバエ類、ミバエ類、ショウジョウバエ類、オオキモンノミバエ(Megaselia spiracularis)等のノミバエ類、オオチョウバエ(Clogmia albipunctata)等のチョウバエ類、ブユ類、アブ類、サシバエ類等;
鞘翅目害虫:ウエスタンコーンルートワーム(Diabrotica virgifera virgifera)、サザンコーンルートワーム(Diabrotica undecimpunctata howardi)等のコーンルートワーム類、ドウガネブイブイ(Anomala cuprea)、ヒメコガネ(Anomala rufocuprea)等のコガネムシ類、メイズウィービル(Sitophilus zeamais)、イネミズゾウムシ(Lissorhoptrus oryzophilus)、アズキゾウムシ(Callosobruchuys chienensis)等のゾウムシ類、チャイロコメノゴミムシダマシ(Tenebrio molitor)、コクヌストモドキ(Tribolium castaneum)等のゴミムシダマシ類、イネドロオイムシ(Oulema oryzae)、ウリハムシ(Aulacophora femoralis)、キスジノミハムシ(Phyllotreta striolata)、コロラドハムシ(Leptinotarsa decemlineata)等のハムシ類、ハラジロカツオブシムシ(Dermestes maculates)等のカツオブシムシ類、シバンムシ類、ニジュウヤホシテントウ(Epilachna vigintioctopunctata)等のエピラクナ類、ヒラタキクイムシ類、ナガシンクイムシ類、ヒョウホンムシ類、カミキリムシ類、アオバアリガタハネカクシ(Paederus fuscipes)等;
ゴキブリ目害虫:チャバネゴキブリ(Blattella germanica)、クロゴキブリ(Periplaneta fuliginosa)、ワモンゴキブリ(Periplaneta americana)、トビイロゴキブリ(Periplaneta brunnea)、トウヨウゴキブリ(Blatta orientalis)等;
アザミウマ目害虫:ミナミキイロアザミウマ(Thrips palmi)、ネギアザミウマ(Thrips tabaci)、ミカンキイロアザミウマ(Frankliniella occidentalis)、ヒラズハナアザミウマ(Frankliniella intonsa)、チャノキイロアザミウマ(Scirtothrips dorsalis)等;
膜翅目害虫:イエヒメアリ(Monomorium pharaosis)、クロヤマアリ(Formica fusca japonica)、ルリアリ(Ochetellus glaber)、アミメアリ(Pristomyrmex pungens)、オオズアリ(Pheidole noda)、アルゼンチンアリ(Linepithema humile)等のアリ類、スズメバチ類、アリガタバチ類、ニホンカブラバチ(Athalia japonica)等のハバチ類等;
直翅目害虫:ケラ類、バッタ類、コオロギ類等;
隠翅目害虫:ネコノミ(Ctenocephalides felis)、イヌノミ(Ctenocephalides canis)、ヒトノミ(Pulex irritans)、ケオプスネズミノミ(Xenopsylla cheopis)等。
シラミ目害虫:コロモジラミ(Pediculus humanus corporis)、ケジラミ (Phthirus pubis)、ウシジラミ(Haematopinus eurysternus)、ヒツジジラミ(Dalmalinia ovis)、ブタジラミ(Haematopinus suis)等;
シロアリ目害虫:ヤマトシロアリ(Reticulitermes speratus)、イエシロアリ(Coptotermes formosanus)、イースタンサブテラニアンターマイト(Reticulitermes flavipes)、ウエスタンサブテラニアンターマイト(Reticulitermes hesperus)、ダークサザンサブテラニアンターマイト(Reticulitermes virginicus)、アリッドランドサブテラニアンターマイト(Reticulitermes tibialis)、デザートサブテラニアンターマイト(Heterotermes aureus)等のサブテラニアンターマイト類、アメリカカンザイシロアリ(Incisitermes minor)等のドライウッドターマイト類、ネバダダンプウッドターマイト(Zootermopsis nevadensis)等のダンプウッドターマイト類等;
ダニ目害虫:ナミハダニ(Tetranychus urticae)、カンザワハダニ(Tetranychus kanzawai)、ミカンハダニ(Panonychus citri)、リンゴハダニ(Panonychus ulmi)、オリゴニカス属等のハダニ類、トマトサビダニ(Aculops lycopers)、ミカンサビダニ(Aculops pelekassi)、リンゴサビダニ(Aculus schlechtendali)等のフシダニ類、チャノホコリダニ(Polyphagotarsonemus latus)等のホコリダニ類、ヒメハダニ類、ケナガハダニ類、フタトゲチマダニ(Haemaphysalis longicornis)、キチマダニ(Haemaphysalis flava)、アメリカンドッグチック(Dermacentor variabilis)、ヤマトチマダニ(Haemaphysalis flava)、タイワンカクマダニ(Dermacentor taiwanicus)、ヤマトマダニ(Ixodes ovatus)、シュルツマダニ(Ixodes persulcatus) 、ブラックレッグドチック(Ixodes scapularis)、オウシマダニ(Boophilus microplus)、ローンスターチック(Amblyomma americanum)、クリイロコイタマダニ(Rhipicephalus sanguineus)等のマダニ類、ケナガコナダニ(Tyrophagus putrescentiae)等のコナダニ類、コナヒョウヒダニ(Dermatophagoides farinae)、ヤケヒョウヒダニ(Dermatophagoides ptrenyssnus)等のヒョウヒダニ類、ホソツメダニ(Cheyletus eruditus)、クワガタツメダニ(Cheyletus malaccensis)、ミナミツメダニ(Cheyletus moorei)等のツメダニ類、イエダニ(Ornithonyssus bacoti)、トリサシダニ(Ornithonyssus sylvairum)、ワクモ(Dermanyssus gallinae)等のワクモ類、アオツツガムシ(Leptotrombidium akamushi)等のツツガムシ類等;
クモ類:カバキコマチグモ(Chiracanthium japonicum)、セアカゴケグモ(Latrodectus hasseltii)等;
唇脚綱類:ゲジ(Thereuonema hilgendorfi)、トビズムカデ(Scolopendra subspinipes)等;
倍脚綱類:ヤケヤスデ(Oxidus gracilis)、アカヤスデ(Nedyopus tambanus)等;
等脚目類:オカダンゴムシ(Armadillidium vulgare)等;
腹足綱類:チャコウラナメクジ(Limax marginatus)、キイロコウラナメクジ(Limax flavus)等。
本発明の有害節足動物防除剤は本発明化合物そのものでもよいが、通常は固体担体、液体担体及び又はガス状担体と混合し、更に必要に応じて界面活性剤その他の製剤用補助剤を添加して、乳剤、油剤、シャンプー剤、フロアブル剤、粉剤、水和剤、粒剤、ペースト状製剤、マイクロカプセル製剤、泡沫剤、エアゾール製剤、炭酸ガス製剤、錠剤、樹脂製剤等の形態に製剤化されたものである。これらの製剤は、毒餌、蚊取り線香、電気蚊取りマット、燻煙剤、燻蒸剤、シートに加工されて、使用されることもある。
これらの製剤は、本発明化合物を通常0.1〜95重量%含有する。
製剤化の際に用いられる固体担体としては、例えば粘土類(カオリンクレー、珪藻土、ベントナイト、フバサミクレー、酸性白土等)、合成含水酸化珪素、タルク、セラミック、その他の無機鉱物(セリサイト、石英、硫黄、活性炭、炭酸カルシウム、水和シリカ等)、化学肥料(硫安、燐安、硝安、塩安、尿素等)等の微粉末及び粒状物が挙げられる。
液体担体としては、例えば芳香族または脂肪族炭化水素類(キシレン、トルエン、アルキルナフタレン、フェニルキシリルエタン、ケロシン、軽油、ヘキサン、シクロヘキサン等)、ハロゲン化炭化水素類(クロロベンゼン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン等)、アルコール類(メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、ヘキサノール、エチレングリコール等)、エーテル類(ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等)、エステル類(酢酸エチル、酢酸ブチル等)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等)、ニトリル類(アセトニトリル、イソブチロニトリル等)、スルホキシド類(ジメチルスルホキシド等)、酸アミド類(N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等)、植物油(大豆油、綿実油等)、植物精油(オレンジ油、ヒソップ油、レモン油等)および水などが挙げられる。
ガス状担体としては、例えばブタンガス、フロンガス、液化石油ガス(LPG)、ジメチルエーテル、炭酸ガス等を挙げることができる。
界面活性剤としては、例えばアルキル硫酸エステル塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、アルキルアリールエーテル類及びそのポリオキシエチレン化物、ポリエチレングリコールエーテル類、多価アルコールエステル類及び糖アルコール誘導体が挙げられる。
その他の製剤用補助剤としては、固着剤、分散剤及び安定剤等、具体的には例えばカゼイン、ゼラチン、多糖類(澱粉、アラビアガム、セルロース誘導体、アルギン酸等)、リグニン誘導体、ベントナイト、糖類、合成水溶性高分子(ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸類等)、PAP(酸性リン酸イソプロピル)、BHT(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール)、BHA(2−t−ブチル−4−メトキシフェノールと3−t−ブチル−4−メトキシフェノールとの混合物)、植物油、鉱物油、脂肪酸及び脂肪酸エステルが挙げられる。
樹脂製剤の基材としては、例えば塩化ビニル系重合体、ポリウレタン等を挙げることができ、これらの基材には必要によりフタル酸エステル類(フタル酸ジメチル、フタル酸ジオクチル等)、アジピン酸エステル類、ステアリン酸等の可塑剤が添加されていてもよい。樹脂製剤は該基材中に化合物を通常の混練装置を用いて混練した後、射出成型、押出成型、プレス成型等により成型することにより得られ、必要により更に成型、裁断等の工程を経て、板状、フィルム状、テープ状、網状、ひも状等の樹脂製剤に加工できる。これらの樹脂製剤は、例えば動物用首輪、動物用イヤータッグ、シート製剤、誘引ひも、園芸用支柱として加工される。
毒餌の基材としては、例えば穀物粉、植物油、糖、結晶セルロース等が挙げられ、更に必要に応じて、ジブチルヒドロキシトルエン、ノルジヒドログアイアレチン酸等の酸化防止剤、デヒドロ酢酸等の保存料、トウガラシ末等の子供やペットによる誤食防止剤、チーズ香料、タマネギ香料ピーナッツオイル等の害虫誘引性香料等が添加される。
本発明の有害節足動物防除剤は、例えば有害節足動物に直接、及び/又は有害節足動物の生息場所(植物体、動物体、土壌等)に施用することにより用いられる。
本発明の有害節足動物防除剤を農林害虫の防除に用いる場合は、その施用量は有効成分量として通常1〜10000g/ha、好ましくは10〜500g/haである。乳剤、水和剤、フロアブル剤、マイクロカプセル製剤等は通常有効成分濃度が1〜1000ppmとなるように水で希釈して使用し、粉剤、粒剤等は通常そのまま使用する。これらの製剤を有害節足動物から保護すべき植物に対して直接散布してもよい。これらの製剤を土壌に処理することにより土壌に棲息する有害節足動物を防除することもでき、またこれらの製剤を植物を植え付ける前の苗床に処理したり、植付時に植穴や株元に処理することもできる。さらに、本発明の有害節足動物防除剤のシート製剤を植物に巻き付けたり、植物の近傍に設置したり、株元の土壌表面に敷くなどの方法でも施用することができる。
本発明の有害節足動物防除剤を防疫用として用いる場合は、その施用量は空間に適用するときは有効成分量として通常0.001〜10mg/m3であり、平面に適用するときは0.001〜100mg/m2である。乳剤、水和剤、フロアブル剤等は通常有効成分濃度が0.01〜10000ppmとなるように水で希釈して施用し、油剤、エアゾール、燻煙剤、毒餌等は通常そのまま施用する。
本発明の有害節足動物防除剤をウシ、ウマ、ブタ、ヒツジ、ヤギ、ニワトリ用の家畜、イヌ、ネコ、ラット、マウス等の小動物の外部寄生虫防除に用いる場合は、獣医学的に公知の方法で動物に使用することができる。具体的な使用方法としては、全身抑制を目的にする場合には、例えば錠剤、飼料混入、坐薬、注射(筋肉内、皮下、静脈内、腹腔内等)により投与され、非全身的抑制を目的とする場合には、例えば油剤若しくは水性液剤を噴霧する、ポアオン処理若しくはスポットオン処理を行う、シャンプー製剤で動物を洗う又は樹脂製剤を首輪や耳札にして動物に付ける等の方法により用いられる。動物体に投与する場合の本発明化合物の量は、通常動物の体重1kgに対して、0.1〜1000mgの範囲である。
本発明の有害生物防除剤は他の殺虫剤、殺線虫剤、殺ダニ剤、殺菌剤、除草剤、植物生長調節剤、共力剤、肥料、土壌改良剤、動物用飼料等と混用又は併用することもできる。
かかる他の殺虫剤、殺ダニ剤としては、例えばアレスリン、テトラメスリン、プラレトリン、フェノトリン、レスメトリン、シフェノトリン、ペルメトリン、シペルメトリン、アルファシペルメトリン、ゼータシペルメトリン、デルタメトリン、トラロメトリン、シフルトリン、ベータシフルトリン、シハロトリン、ラムダシハロトリン、フラメトリン、イミプロトリン、エトフェンプロクス、フェンバレレート、エスフェンバレレート、フェンプロパトリン、シラフルオフェン、ビフェントリン、トランスフルスリン、フルシトリネート、タウフルバリネート、アクリナトリン、テフルトリン、シクロプロトリン、エンペンスリン、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−メトキシメチルベンジル 3−(2−メチル−1−プロペニル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボキシレート、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−メトキシメチルベンジル 3−(1−プロペニル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボキシレート、2,3,5,6−テトラフルオロ−4−メチルベンジル 3−(1−プロペニル)−2,2−ジメチルシクロプロパンカルボキシレート等のピレスロイド化合物、ジクロルボス、フェニトロチオン、シアノホス、プロフェノホス、スルプロホス、フェントエート、イソキサチオン、テトラクロロビンホス、フェンチオン、クロルピリホス、ダイアジノン、アセフェート、テルブホス、フォレート、クロルエトキシホス、ホスチアゼート、エトプロホス、カズサホス、メチダチオン等の有機燐化合物、プロポキサー、カルバリル、メトキサジアゾン、フェノブカルブ、メソミル、チオジカルブ、アラニカルブ、ベンフラカルブ、オキサミル、アルジカルブ、メチオカルブ等のカーバメート化合物、ルフェヌロン、クロルフルアズロン、ヘキサフルムロン、ジフルベンズロン、トリフルムロン、テフルベンズロン、フルフェノクスロン、フルアズロン、ノバルロン、トリアズロン等のベンゾイルフェニルウレア化合物、ピリプロキシフェン、メトプレン、ハイドロプレン、フェノキシカルブ等の幼若ホルモン様物質、アセタミプリド、ニテンピラム、チアクロプリド、チアメトキサム、ジノテフラン、クロチアニジン等のネオニコチノイド系化合物、アセトプロール、エチプロール等のN-フェニルピラゾール系化合物、テブフェノジド、クロマフェノジド、メトキシフェノジド、ハロフェノジド等のベンゾイルヒドラジン化合物、ジアフェンチウロン、ピメトロジン、フロニカミド、トリアザメート、ブプロフェジン、スピノサド、エマメクチン安息香酸塩、クロルフェナピル、インドキサカルブ、ピリダリル、シロマジン、フェンピロキシメート、ビフェナゼート、テブフェンピラド、トルフェンピラド、ピリダベン、ピリミジフェン、フルアクリピリム、エトキサゾール、フェナザキン、アセキノシル、ヘキシチアゾクス、クロフェンテジン、酸化フェンブタスズ、ジコホル、プロパルギット、エバーメクチン、ミルベメクチン、アミトラズ、カルタップ、ベンスルタップ、チオシクラム、エンドスルファン、スピロジクロフェン、スピロメシフェン、フルベンジアミド及びアザジラクチンが挙げられる。
他の殺菌剤としては、例えば、アゾキシストロビン等のストロビルリン化合物、トリクロホスメチル等の有機リン化合物、トリフルミゾール、ペフラゾエート、ジフェノコナゾール等のアゾール化合物、フサライド、フルトラニル、バリダマイシン、プロベナゾール、ジク-ロメジン、ペンシクロン、ダゾメット、カスガマイシン、IBP、ピロキロン、オキソリニック酸、トリシクラゾール、フェリムゾン、メプロニル、EDDP、イソプロチオラン、カルプロパミド、ジクロシメット、フラメトピル、フルジオキソニル、プロシミドン及びジエトフェンカルブが挙げられる。
以下、本発明を製造例、製剤例及び試験例等によりさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。
まず、本発明化合物の製造例を示す。
製造例1
1−ヨード−3,3,3−トリフルオロプロパン0.6g及び(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)アセトニトリル0.5gをN,N−ジメチルホルムアミド20mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.1gを加え、同温で24時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、5,5,5−トリフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ペンタンニトリル(以下、本発明化合物(1)と記す。) 1.44gを得た。
本発明化合物(1)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)4.00−4.07(m,1H)、3.44−3.62(m,2H)、2.72−2.87(m,2H)、2.36−2.64(m,4H)
製造例2
トリフルオロメタンスルホン酸 2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル0.7g及び(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)アセトニトリル0.5gをN,N−ジメチルホルムアミド20mlに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム0.3gを加え、同温で40時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、4,4,5,5,5−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ペンタンニトリル(以下、本発明化合物(2)と記す。) 0.40gを得た。
本発明化合物(2)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)4.22(dd,1H)、3.54−3.72(m,2H)、2.76−3.06(m,4H)
製造例3
1−ヨード−3,3,4,4,4−ペンタフルオロブタン0.6g及び(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)アセトニトリル0.4gをN,N−ジメチルホルムアミド20mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.09gを加え、同温で20時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンニトリル(以下、本発明化合物(3)と記す。) 1.44gを得た。
本発明化合物(3)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)4.01−4.08(m,1H)、3.44−3.62(m,2H)、2.73−2.88(m,2H)、2.28−2.62(m,4H)
製造例4
トリフルオロメタンスルホン酸 2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブチル0.9g及び(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)アセトニトリル0.5gをN,N−ジメチルホルムアミド20mlに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム0.3gを加え、同温で28時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、4,4,5,5,6,6,6−ヘプタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンニトリル(以下、本発明化合物(4)と記す。) 0.40gを得た。
本発明化合物(4)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)4.22(dd,1H)、3.55−3.72(m,2H)、2.78−3.10(m,4H)
製造例5
1−ヨード−3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロペンタン0.8g及び(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)アセトニトリル0.5gをN,N−ジメチルホルムアミド20mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.1gを加え、同温で24時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、5,5,6,6,7,7,7−ヘプタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘプタンニトリル(以下、本発明化合物(5)と記す。) 0.45gを得た。
本発明化合物(5)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)4.04−4.08(m,1H)、3.46−3.63(m,2H)、2.73−2.88(m,2H)、2.34−2.64(m,4H)
製造例6
トリフルオロメタンスルホン酸 2,2,3,3,4,4,5,5−オクタフルオロペンチル1.3g及び(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)アセトニトリル0.7gをN,N−ジメチルホルムアミド30mlに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム0.5gを加え、同温で20時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、4,4,5,5,6,6,7,7−オクタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘプタンニトリル(以下、本発明化合物(6)と記す。) 0.32gを得た。
本発明化合物(6)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.05(tt,1H)、4.21(dd,1H)、3.50−3.71(m,2H)、2.70−3.09(m,4H)
製造例7
1−ヨード−3,3,4,4,5,5,6,6,6−ノナフルオロヘキサン1.3g及び(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)アセトニトリル0.7gをN,N−ジメチルホルムアミド30mlに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム0.1gを加え、同温で6時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、5,5,6,6,7,7,8,8,8−ノナフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)オクタンニトリル(以下、本発明化合物(7)と記す。) 0.59gを得た。
本発明化合物(7)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)4.02−4.08(m,1H)、3.45−3.63(m,2H)、2.73−2.86(m,2H)、2.34−2.63(m,4H)
製造例8
1−ヨード−3,3,4,4,4−ペンタフルオロブタン0.6g及び(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)アセトニトリル0.4gをN,N−ジメチルホルムアミド50mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.5gを加え、同温で4日間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)ヘキサンニトリル(以下、本発明化合物(8)と記す。) 2.66gを得た。
本発明化合物(8)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)4.04−4.09(m,1H)、3.48−3.68(m,2H)、2.67−2.82(m,2H)、2.31−2.61(m,4H)
製造例9
トリフルオロメタンスルホン酸 2,2,3,3,4,4,4−ヘプタフルオロブチル0.7g及び(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)アセトニトリル0.5gをN,N−ジメチルホルムアミド20mlに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム0.3gを加え、同温で40時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、4,4,5,5,6,6,6−ヘプタフルオロ−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)ヘキサンニトリル(以下、本発明化合物(9)と記す。) 0.38gを得た。
本発明化合物(9)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)4.22(dd,1H)、3.56−3.76(m,2H)、2.68−3.10(m,4H)
製造例10
1−ヨード−3,3,4,4,4−ペンタフルオロブタン1.8g及び(3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロペンチルスルホニル)アセトニトリル2.0gをN,N−ジメチルホルムアミド50mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.3gを加え、同温で20時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−(3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロペンチルスルホニル)−5,5,6,6,6−ペンタフルオロヘキサンニトリル(以下、本発明化合物(10)と記す。) 1.43gを得た。
本発明化合物(10)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)4.07(dd,1H)、3.48−3.67(m,2H)、2.32−2.85(m,6H)
製造例11
ヨードメタン0.2g及び5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンニトリル0.5gをN,N−ジメチルホルムアミド20mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.06gを加え、同温で20時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−メチル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンニトリル(以下、本発明化合物(11)と記す。) 0.35gを得た。
本発明化合物(11)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.40−3.58(m,2H)、2.73−2.88(m,2H)、2.16−2.58(m,4H)、1.83(s,3H)
製造例12
ヨードメタン0.3g及び4,4,5,5,6,6,6−ヘプタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンニトリル0.7gをN,N−ジメチルホルムアミド30mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.07gを加え、同温で24時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、4,4,5,5,6,6,6−ヘプタフルオロ−2−メチル−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンニトリル(以下、本発明化合物(12)と記す。) 0.32gを得た。
本発明化合物(12)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.48−3.65(m,2H)、2.61−3.13(m,4H)、2.00(d,3H)
製造例13
ヨードメタン0.2g及び5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)ヘキサンニトリル0.5gをN,N−ジメチルホルムアミド20mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.05gを加え、同温で20時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−メチル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)ヘキサンニトリル(以下、本発明化合物(13)と記す。) 0.49gを得た。
本発明化合物(13)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.42−3.61(m,2H)、2.68−2.82(m,2H)、2.18−2.58(m,4H)、1.84(s,3H)
製造例14
ヨードメタン0.2g及び5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロペンチルスルホニル)ヘキサンニトリル0.5gをN,N−ジメチルホルムアミド20mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.05gを加え、同温で2日間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−(3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロペンチルスルホニル)−2−メチル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロヘキサンニトリル(以下、本発明化合物(14)と記す。) 0.49gを得た。
本発明化合物(14)

Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.42−3.61(m,2H)、2.68−2.82(m,2H)、2.18−2.58(m,4H)、1.84(s,3H)
製造例15
ヨードエタン0.2g及び5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンニトリル0.5gをN,N−ジメチルホルムアミド20mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.06gを加え、同温で10時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−エチル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンニトリル(以下、本発明化合物(15)と記す。) 0.37gを得た。
本発明化合物(15)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.39−3.58(m,2H)、2.72−2.84(m,2H)、2.32−2.56(m,4H)、2.06−2.26(m,2H)、1.28(t,3H)
製造例16
1−ヨードプロパン0.2g及び5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンニトリル0.5gをN,N−ジメチルホルムアミド20mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.06gを加え、同温で24時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−プロピル−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンニトリル(以下、本発明化合物(16)と記す。) 0.38gを得た。
本発明化合物(16)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.38−3.58(m,2H)、2.72−2.86(m,2H)、2.32−2.58(m,4H)、1.95−2.11(m,2H)、1.58−1.72(m,2H)、1.10(t,3H)
製造例17
2−ヨードプロパン0.2g及び5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンニトリル0.5gをN,N−ジメチルホルムアミド20mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.06gを加え、同温で6時間、60℃で2時間さらに90℃で6時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(2−プロピル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンニトリル(以下、本発明化合物(17)と記す。) 0.13gを得た。
本発明化合物(17)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.39−3.60(m,2H)、2.70−2.87(m,2H)、2.26−2.62(m,5H)、1.35(d,3H)、1.27(d,3H)
製造例18
1−ヨードブタン0.3g及び5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンニトリル0.5gをN,N−ジメチルホルムアミド20mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.06gを加え、同温で8時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−ブチル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンニトリル(以下、本発明化合物(18)と記す。) 0.28gを得た。
本発明化合物(18)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.38−3.58(m,2H)、2.72−2.86(m,2H)、2.32−2.58(m,4H)、1.94−2.11(m,2H)、1.38−1.65(m,4H)、1.00(t,3H)
製造例19
1−ヨードペンタン0.3g及び5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンニトリル0.5gをN,N−ジメチルホルムアミド20mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.06gを加え、同温で20時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチル)−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘプタンニトリル(以下、本発明化合物(19)と記す。) 0.28gを得た。
本発明化合物(19)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.38−3.58(m,2H)、2.72−2.86(m,2H)、2.32−2.58(m,4H)、1.94−2.11(m,2H)、1.38−1.65(m,6H)、1.00(t,3H)
製造例20
5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンニトリル0.5gをテトラヒドロフラン20mlに溶解させた。ここへ0℃で水素化ナトリウム(60%油性)0.06gを加え、同温で0.5時間撹拌した。続いて同温で1−フルオロ−2,4,6−トリメチルピリジニウム トリフルオロメタンスルホナート0.4gを加え0.5時間撹拌した。さらに室温で10時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2,5,5,6,6,6−ヘキサフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンニトリル(以下、本発明化合物(20)と記す。) 0.37gを得た。
本発明化合物(20)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.54−3.67(m,2H)、2.39−2.88(m,6H)
製造例21
5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンニトリル0.5gをテトラヒドロフラン20mlに溶解させた。ここへ0℃で水素化ナトリウム(60%油性)0.06gを加え、同温で0.5時間撹拌した。続いて同温でN−クロロコハク酸イミド0.2gを加え0.5時間撹拌した。さらに室温で3日間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−クロロ−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンニトリル(以下、本発明化合物(21)と記す。) 0.15gを得た。
本発明化合物(21)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.66−3.84(m,2H)、2.42−2.92(m,6H)
製造例22
1−ヨード−4,4,4−トリフルオロブタン2.0g及び(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)酢酸メチル2.0gをN,N−ジメチルホルムアミド20mlに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム1.2gを加え、同温で20時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、6,6,6−トリフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸メチル(以下、本発明化合物(22)と記す。) 0.80gを得た。
本発明化合物(22)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.89(s,3H)、3.82−3.88(m,1H)、3.30−3.50(m,2H)、2.62−2.77(m,2H)、2.10−2.24(m,4H)、1.64−1.75(m,2H)
製造例23
1−ヨード−3,3,4,4,4−ペンタフルオロブタン1.2g及び(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)酢酸メチル1.0gをN,N−ジメチルホルムアミド20mlに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム0.6gを加え、同温で30時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸メチル(以下、本発明化合物(23)と記す。) 1.20gを得た。
本発明化合物(23)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.90(s,3H)、3.86−3.94(m,1H)、3.38−3.51(m,2H)、2.63−2.78(m,2H)、2.38−2.53(m,2H)、2.18−2.34(m,2H)
製造例24
1−ヨード−3,3,4,4,4−ペンタフルオロブタン4.8g及び(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)酢酸メチル5.0gをN,N−ジメチルホルムアミド50mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.7gを加え、同温で2日間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)ヘキサン酸メチル(以下、本発明化合物(24)と記す。) 4.69gを得た。
本発明化合物(24)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.91(s,3H)、3.89−3.97(m,1H)、3.44−3.51(m,2H)、2.58−2.73(m,2H)、2.39−2.53(m,2H)、2.20−2.34(m,2H)
製造例25
5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸0.5gをジクロロメタン10mlに溶解させた。ここへ室温でN,N−ジメチルホルムアミド2滴、続いて塩化オキサリル0.2mlを順次滴下し、同温で2時間撹拌した後、反応混合物を減圧下濃縮した。得られた残渣をテトラヒドロフラン20mlに溶解させ、ここへ室温でtert−ブチルアルコール0.1g及びトリエチルアミン0.2mlを滴下した。同温で1時間撹拌した後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸 tert−ブチル(以下、本発明化合物(25)と記す。) 0.42gを得た。
本発明化合物(25)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.75−3.82(m,1H)、3.38−3.52(m,2H)、2.63−2.78(m,2H)、2.18−2.46(m,4H)、1.53(s,9H)
製造例26
ヨードメタン0.4g及び5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸メチル1.0gをN,N−ジメチルホルムアミド20mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.1gを加え、同温で3時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−メチル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸メチル(以下、本発明化合物(26)と記す。)0.73gを得た。
本発明化合物(26)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.88(s,3H)、3.43−3.52(m,2H)、2.63−2.78(m,2H)、2.08−2.54(m,4H)、1.70(s,3H)
製造例27
ヨードエタン0.4g及び5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸メチル1.0gをN,N−ジメチルホルムアミド20mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.1gを加え、同温で20時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−エチル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸メチル(以下、本発明化合物(27)と記す。)0.45gを得た。
本発明化合物(27)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.88(s,3H)、3.33−3.65(m,2H)、2.06−2.77(m,8H)、1.04(t,3H)
製造例28
1−ヨードプロパン0.4g及び5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸メチル1.0gをN,N−ジメチルホルムアミド20mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.1gを加え、同温で20時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−プロピル−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸メチル(以下、本発明化合物(28)と記す。)0.89gを得た。
本発明化合物(28)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.87(s,3H)、3.32−3.66(m,2H)、1.96−2.76(m,8H)、1.16−1.58(m,2H)、1.01(t,3H)
製造例29
5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸メチル0.5gをテトラヒドロフラン20mlに溶解し、ここに0℃で水素化ナトリウム(60%油性)0.05gを加え、同温で0.5時間撹拌した。続いて同温で1−フルオロ−2,4,6−トリメチルピリジニウム トリフルオロメタンスルホナート0.4gを加え0.5時間撹拌した。さらに室温で10時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2,5,5,6,6,6−ヘキサフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸メチル(以下、本発明化合物(29)と記す。) 0.39gを得た。
本発明化合物(29)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)4.00(s,3H)、3.26−3.56(m,2H)、2.09−2.80(m,6H)
製造例30
ヨードメタン0.7g及び5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)ヘキサン酸メチル2.0gをN,N−ジメチルホルムアミド50mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.2gを加え、同温で4時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−メチル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)ヘキサン酸メチル(以下、本発明化合物(30)と記す。)1.20gを得た。
本発明化合物(30)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.90(s,3H)、3.46−3.53(m,2H)、2.45−2.72(m,3H)、2.09−2.34(m,3H)、1.71(s,3H)
製造例31
5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸0.5gをジクロロメタン10mlに溶解させた。ここへ室温でN,N−ジメチルホルムアミド2滴、続いて塩化オキサリル0.2mlを順次滴下し、同温で2時間撹拌した後、反応混合物を減圧下濃縮した。得られた残渣をテトラヒドロフラン20mlに溶解させ、ここへ室温でアンモニア(30%(w/w)水溶液)0.2gを滴下した。同温で2時間撹拌した後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンアミド(以下、本発明化合物(31)と記す。) 0.24gを得た。
本発明化合物(31)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.34(bs,1H)、5.73(bs,1H)、3.73(dd,1H)、3.21−3.42(m,2H)、2.64−2.73(m,2H)、2.12−2.48(m,4H)
製造例32
5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸0.5gをジクロロメタン10mlに溶解させた。ここへ室温でN,N−ジメチルホルムアミド2滴、続いて塩化オキサリル0.2mlを順次滴下し、同温で1時間撹拌した後、反応混合物を減圧下濃縮した。得られた残渣をテトラヒドロフラン20mlに溶解させ、ここへ室温でメチルアミン(40%(w/w)水溶液)0.3gを滴下した。同温で2時間撹拌した後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、N−メチル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンアミド(以下、本発明化合物(32)と記す。) 0.26gを得た。
本発明化合物(32)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.22(bs,1H)、3.63(dd,1H)、3.18−3.39(m,2H)、2.94(d,3H)、2.60−2.73(m,2H)、2.08−2.50(m,4H)
製造例33
5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸0.5gをジクロロメタン10mlに溶解させた。ここへ室温でN,N−ジメチルホルムアミド2滴、続いて塩化オキサリル0.2mlを順次滴下し、同温で1時間撹拌した後、反応混合物を減圧下濃縮した。得られた残渣をテトラヒドロフラン20mlに溶解させ、ここへ室温でジメチルアミン(40%(w/w)水溶液)0.5gを滴下した。同温で2時間撹拌した後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、N,N−ジメチル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンアミド(以下、本発明化合物(33)と記す。) 0.30gを得た。
本発明化合物(33)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)4.31(dd,1H)、3.19−3.53(m,2H)、3.21(s,3H)、3.09(s,3H)、2.57−2.70(m,2H)、1.98−2.54(m,4H)
製造例34
2−メチル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸1.1gをジクロロメタン20mlに溶解させた。ここへ室温でN,N−ジメチルホルムアミド2滴、続いて塩化オキサリル0.5mlを順次滴下し、同温で2時間撹拌した後、反応混合物を減圧下濃縮した。得られた残渣をテトラヒドロフラン20mlに溶解させ、ここへ室温でアンモニア(30%(w/w)水溶液)0.5gを滴下した。同温で2時間撹拌した後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−メチル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンアミド(以下、本発明化合物(34)と記す。) 0.76gを得た。
本発明化合物(34)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.62(bs,1H)、5.74(bs,1H)、3.20−3.41(m,2H)、2.64−2.78(m,2H)、2.08−2.54(m,4H)、1.68(s,3H)
製造例35
2−メチル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸1.1gをジクロロメタン20mlに溶解させた。ここへ室温でN,N−ジメチルホルムアミド2滴、続いて塩化オキサリル0.5mlを順次滴下し、同温で2時間撹拌した後、反応混合物を減圧下濃縮した。得られた残渣をテトラヒドロフラン20mlに溶解させ、ここへ室温でメチルアミン(40%(w/w)水溶液)0.7gを滴下した。同温で2時間撹拌した後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、N,2−ジメチル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンアミド(以下、本発明化合物(35)と記す。) 0.70gを得た。
本発明化合物(35)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.56(bs,1H)、3.14−3.39(m,2H)、2.91(d,3H)、2.60−2.74(m,2H)、2.03−2.53(m,4H)、1.67(s,3H)
製造例36
5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸0.5gをジクロロメタン10mlに溶解させた。ここへ室温でN,N−ジメチルホルムアミド2滴、続いて塩化オキサリル0.2mlを順次滴下し、同温で1時間撹拌した後、反応混合物を減圧下濃縮した。得られた残渣をテトラヒドロフラン20mlに溶解させ、ここへ室温でジメチルアミン(40%(w/w)水溶液)1.0gを滴下した。同温で4時間撹拌した後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)−N,N,2−トリメチルヘキサンアミド(以下、本発明化合物(36)と記す。) 0.97gを得た。
本発明化合物(36)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.37(dd,2H)、3.16(bs,6H)、1.98−2.88(m,6H)、1.82(s,3H)
製造例37
2−メチル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸0.5gをジクロロメタン20mlに溶解させた。ここへ室温でN,N−ジメチルホルムアミド1滴、続いて塩化オキサリル0.2mlを順次滴下し、同温で2時間撹拌した後、反応混合物を減圧下濃縮した。得られた残渣をテトラヒドロフラン20mlに溶解させ、ここへ室温でエチルアミン(70%(w/w)水溶液)0.2gを滴下した。同温で8時間撹拌した後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、N−エチル−2−メチル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンアミド(以下、本発明化合物(37)と記す。) 0.41gを得た。
本発明化合物(37)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.57(bs,1H)、3.13−3.44(m,4H)、2.61−2.74(m,2H)、2.01−2.52(m,4H)、1.66(s,3H)、1.18(t,3H)
製造例38
2−エチル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸0.5gをジクロロメタン20mlに溶解させた。ここへ室温でN,N−ジメチルホルムアミド1滴、続いて塩化オキサリル0.2mlを順次滴下し、同温で2時間撹拌した後、反応混合物を減圧下濃縮した。得られた残渣をテトラヒドロフラン20mlに溶解させ、ここへ室温でアンモニア(30%(w/w)水溶液)0.2gを滴下した。同温で1時間撹拌した後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−エチル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンアミド(以下、本発明化合物(38)と記す。) 0.37gを得た。
本発明化合物(38)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.59(bs,1H)、5.82(bs,1H)、3.19−3.48(m,2H)、2.62−2.76(m,2H)、2.11−2.52(m,6H)、1.10(t,3H)
製造例39
1−ヨード−4,4,4−トリフルオロブタン0.6g及び(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)アセトニトリル0.5gをN,N−ジメチルホルムアミド20mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.1gを加え、同温で10時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、6,6,6−トリフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンニトリル(以下、本発明化合物(39)と記す。) 0.57gを得た。
本発明化合物(39)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.90−3.97(m,1H)、3.41−3.59(m,2H)、2.68−2.88(m,2H)、1.78−2.36(m,6H)
製造例40
2−メチル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸0.5gをジクロロメタン20mlに溶解させた。ここへ室温でN,N−ジメチルホルムアミド2滴、続いて塩化オキサリル0.2mlを順次滴下し、同温で2時間撹拌した後、反応混合物を減圧下濃縮した。得られた残渣をテトラヒドロフラン20mlに溶解させ、ここへ室温でプロピルアミン0.2gを滴下した。同温で14時間撹拌した後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−メチル−N−プロピル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンアミド(以下、本発明化合物(40)と記す。) 0.26gを得た。
本発明化合物(40)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.62(bs,1H)、3.11−3.38(m,4H)、2.00−2.74(m,6H)、1.66(s,3H)、1.45−1.70(m,2H)、0.94(t,3H)
製造例41
2−メチル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸0.5gをジクロロメタン20mlに溶解させた。ここへ室温でN,N−ジメチルホルムアミド2滴、続いて塩化オキサリル0.2mlを順次滴下し、同温で2時間撹拌した後、反応混合物を減圧下濃縮した。得られた残渣をテトラヒドロフラン20mlに溶解させ、ここへ室温でイソプロピルアミン0.2gを滴下した。同温で14時間撹拌した後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、N−イソプロピル−2−メチル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンアミド(以下、本発明化合物(41)と記す。) 0.25gを得た。
本発明化合物(41)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.40(bs,1H)、4.05−4.18(m,1H)、3.10−3.39(m,2H)、2.60−2.78(m,2H)、1.98−2.52(m,4H)、1.65(s,3H)、1.19(dd,6H)
製造例42
1−ヨード−3,3,4,4,4−ペンタフルオロブタン0.9g及び(3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロペンチルスルホニル)酢酸メチル1.1gをN,N−ジメチルホルムアミド20mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.1gを加え、同温で3日間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−(3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロペンチルスルホニル)−5,5,6,6,6−ペンタフルオロヘキサン酸メチル(以下、本発明化合物(42)と記す。) 1.12gを得た。
本発明化合物(42)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.91−3.95(m,1H)、3.91(s,3H)、3.41−3.53(m,2H)、2.62−2.77(m,2H)、2.38−2.54(m,2H)、2.19−2.34(m,2H)
製造例43
ヨードメタン0.2g及び2−(3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロペンチルスルホニル)−5,5,6,6,6−ペンタフルオロヘキサン酸メチル0.6gをN,N−ジメチルホルムアミド20mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.1gを加え、同温で10時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−(3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロペンチルスルホニル)−2−メチル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロヘキサン酸メチル(以下、本発明化合物(43)と記す。)0.41gを得た。
本発明化合物(43)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.89(s,3H)、3.47−3.56(m,2H)、2.61−2.78(m,2H)、1.95−2.56(m,4H)、1.71(s,3H)
製造例44
ヨードメタン0.4g及び6,6,6−トリフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸メチル1.0gをN,N−ジメチルホルムアミド20mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.1gを加え、同温で10時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−メチル−6,6,6−トリフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸メチル(以下、本発明化合物(44)と記す。)0.85gを得た。
本発明化合物(44)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.86(s,3H)、3.31−3.55(m,2H)、2.62−2.75(m,2H)、1.95−2.33(m,4H)、1.67(s,3H)、1.43−1.80(m,2H)
製造例45
ヨードメタン0.2g及び6,6,6−トリフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンニトリル0.5gをN,N−ジメチルホルムアミド20mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.06gを加え、同温で10時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−メチル−6,6,6−トリフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンニトリル(以下、本発明化合物(45)と記す。) 0.37gを得た。
本発明化合物(45)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.40−3.55(m,2H)、2.73−2.88(m,2H)、1.85−2.34(m,6H)、1.80(s,3H)
製造例46
1−ヨード−3,3,4,4,4−ペンタフルオロブタン1.0g及び2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)プロピオン酸エチル1.0gをジメチルスルホキシド20mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.2gを加え、同温で10時間、60℃で4時間さらに90℃で4時間撹拌した後、反応混合物を室温まで放冷し、ここへ10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−メチル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸エチル(以下、本発明化合物(46)と記す。)0.47gを得た。
本発明化合物(46)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)4.33(q,2H)、3.46−3.53(m,2H)、2.63−2.78(m,2H)、2.08−2.54(m,4H)、1.69(s,3H)、1.34(t,3H)
製造例47
S−(3,3,3−トリフルオロプロピル)=ベンゼンチオアート1.8gをテトラヒドロフラン100mlに溶解し、氷冷下でここにナトリウムメトキシド(28%(w/w)メタノール溶液)1.5mlを加えた。該混合物中に氷冷下で2−ブロモ−5,5,6,6,6−ペンタフルオロヘキサンニトリル2.0gを滴下し、室温で0.5時間攪拌した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を10%塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示される5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルチオ)ヘキサンニトリル(以下、本発明化合物(47)と記す。)1.6gを得た。
本発明化合物(47)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.67(t,1H)、2.89−3.04(m,2H)、2.10−2.58(m,6H)
製造例48
S−(3,3,3−トリフルオロプロピル)=ベンゼンチオアート0.5gをテトラヒドロフラン20mlに溶解し、氷冷下でここにナトリウムメトキシド(28%(w/w)メタノール溶液)0.4mlを加えた。該混合物中に氷冷下で2−ブロモ−5,5,6,6,6−ペンタフルオロヘキサンニトリル0.6gを滴下し、室温で1時間攪拌した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を10%塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をクロロホルム20mlに溶解し、氷冷下でここに過酢酸(32%(w/w)酢酸溶液)0.5gを加えた後、同温で4時間撹拌した。反応混合物を室温まで昇温してから水中にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示される5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルフィニル)ヘキサンニトリル(以下、本発明化合物(48)と記す。)0.4gを得た。
本発明化合物(48)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.62−3.69(m,1H)、2.98−3.38(m,2H)、2.25−2.82(m,6H)
製造例49
2−メチル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸1.1gをジクロロメタン20mlに溶解させた。ここへ室温でN,N−ジメチルホルムアミド2滴、続いて塩化オキサリル0.5mlを順次滴下し、同温で2時間撹拌した後、反応混合物を減圧下濃縮した。得られた残渣をテトラヒドロフラン20mlに溶解し、ここへ室温でアンモニア(30%(w/w)水溶液)0.5gを加え、同温で10時間撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、減圧下濃縮した。得られた残渣に、2,4−ビス(4−メトキシフェニル)−1,3−ジチア−2,4−ジホスフェタン 2,4−ジスルフィド1.2g及びトルエン20mlを加えた混合物を10時間加熱還流した。室温まで放冷した反応混合物を減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−メチル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンチオアミド(以下、本発明化合物(49)と記す。) 0.47gを得た。
本発明化合物(49)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)8.03(bs,1H)、7.80(bs,1H)、3.19−3.44(m,2H)、2.08−2.78(m,6H)、1.85(s,3H)
製造例50
5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルチオ)ヘキサンニトリル0.5g及びヨードメタン0.2gをテトラヒドロフラン20mlに溶解し、ここへ−78℃でナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド(1M−テトラヒドロフラン溶液)1.6mlを加えた。同温で0.5時間攪拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を10%塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示される2−メチル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルチオ)ヘキサンニトリル(以下、本発明化合物(50)と記す。)0.4gを得た。
本発明化合物(50)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)2.98(t,2H)、2.08−2.58(m,6H)、1.71(s,3H)
製造例51
1−ヨード−3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロペンタン5.7g及び(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)酢酸メチル5.0gをN,N−ジメチルホルムアミド50mlに溶解し、ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.7gを加え、同温で3日間撹拌した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、5,5,6,6,7,7,7−ヘプタフルオロ−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)ヘプタン酸メチル(以下、本発明化合物(51)と記す。)1.80gを得た。
本発明化合物(51)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.91(s,3H)、3.90−3.97(m,1H)、3.41−3.54(m,2H)、2.20−2.73(m,6H)
製造例52
ヨードメタン0.4g及び5,5,6,6,7,7,7−ヘプタフルオロ−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)ヘプタン酸メチル1.3gをN,N−ジメチルホルムアミド50mlに溶解し、ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.1gを加え、同温で3時間撹拌した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、5,5,6,6,7,7,7−ヘプタフルオロ−2−メチル−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)ヘプタン酸メチル(以下、本発明化合物(52)と記す。)1.30gを得た。
本発明化合物(52)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.88(s,3H)、3.47−3.54(m,2H)、2.08−2.73(m,6H)、1.71(s,3H)
製造例53
1−ヨード−3,3,3−トリフルオロプロパン0.4g及び(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)アセトニトリル0.5gをN,N−ジメチルホルムアミド20mlに溶解、ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.08gを加え、同温で20時間撹拌した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)−5,5,5−トリフルオロペンタンニトリル(以下、本発明化合物(53)と記す。) 0.26gを得た。
本発明化合物(53)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)4.04−4.08(m,1H)、3.47−3.66(m,2H)、2.35−2.81(m,6H)
製造例54
1−ヨード−3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロペンタン0.6g及び(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)アセトニトリル0.5gをN,N−ジメチルホルムアミド20mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.08gを加え、同温で24時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、5,5,6,6,7,7,7−ヘプタフルオロ−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)ヘプタンニトリル(以下、本発明化合物(54)と記す。) 0.30gを得た。
本発明化合物(54)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)4.16−4.22(m,1H)、3.50−3.68(m,2H)、2.33−2.88(m,6H)
製造例55
5,5,6,6,7,7,7−ヘプタフルオロ−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)ヘプタン酸0.5gをジクロロメタン20mlに溶解させた。ここへ室温でN,N−ジメチルホルムアミド2滴、続いて塩化オキサリル0.1mlを順次滴下し、同温で2時間撹拌した後、反応混合物を減圧下濃縮した。得られた残渣をテトラヒドロフラン20mlに溶解させ、ここへ室温でアンモニア(30%(w/w)水溶液)0.2gを滴下した。同温で2時間撹拌した後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、5,5,6,6,7,7,7−ヘプタフルオロ−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)ヘプタンアミド(以下、本発明化合物(55)と記す。) 0.31gを得た。
本発明化合物(55)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.31(bs,1H)、5.73(bs,1H)、3.72−3.78(m,1H)、3.24−3.45(m,2H)、2.12−2.74(m,6H)
製造例56
5,5,6,6,7,7,7−ヘプタフルオロ−2−メチル−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)ヘプタン酸1.1gをジクロロメタン20mlに溶解させた。ここへ室温でN,N−ジメチルホルムアミド2滴、続いて塩化オキサリル0.4mlを順次滴下し、同温で2時間撹拌した後、反応混合物を減圧下濃縮した。得られた残渣をテトラヒドロフラン50mlに溶解させ、ここへ室温でアンモニア(30%(w/w)水溶液)0.4gを滴下した。同温で2時間撹拌した後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、5,5,6,6,7,7,7−ヘプタフルオロ−2−メチル−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)ヘプタンアミド(以下、本発明化合物(56)と記す。) 0.60gを得た。
本発明化合物(56)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.63(bs,1H)、5.76(bs,1H)、3.20−3.45(m,2H)、2.08−2.73(m,6H)、1.70(s,3H)
製造例57
2−メチル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルチオ)ヘキサンニトリル0.6gをクロロホルム30mlに溶解し、氷冷下で過酢酸(32%(w/w)酢酸溶液)0.4gを加えた後、同温で2時間、さらに室温で10時間撹拌した。反応混合物を水中にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示される2−メチル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルフィニル)ヘキサンニトリルのジアステレオマー混合物(以下、本発明化合物(57)と記す。)0.25gを得た。
本発明化合物(57)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)2.98−3.21(m,2H)、2.60−2.82(m,2H)、2.04−2.54(m,4H)、1.68(s,2H)、1.59(s,1H)
製造例58
5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸メチル0.8gをテトラヒドロフラン50mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.08gを加え、同温で0.5時間撹拌した。該混合物中に室温でN−クロロコハク酸イミド0.3gを加え4時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−クロロ−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸メチル(以下、本発明化合物(58)と記す。) 0.60gを得た。
本発明化合物(58)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.97(s,3H)、3.52−3.92(m,2H)、2.18−2.91(m,6H)
製造例59
2−クロロ−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸メチル0.5gをメタノール50mlに溶解させた。ここへ室温でアンモニア(7M−メタノール溶液)0.5mlを加え、同温で2時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−クロロ−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンアミド(以下、本発明化合物(59)と記す。) 0.15gを得た。
本発明化合物(59)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.88(bs,1H)、6.02(bs,1H)、3.38−3.74(m,2H)、2.13−2.95(m,6H)
製造例60
5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)ヘキサン酸0.5gをジクロロメタン20mlに溶解させた。ここへ室温でN,N−ジメチルホルムアミド2滴、続いて塩化オキサリル0.2mlを順次滴下し、同温で4時間撹拌した後、反応混合物を減圧下濃縮した。得られた残渣をテトラヒドロフラン20mlに溶解させ、ここへ室温でアンモニア(30%(w/w)水溶液)0.2gを滴下した。同温で2日間撹拌した後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)ヘキサンアミド(以下、本発明化合物(60)と記す。) 0.20gを得た。
本発明化合物(60)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.41(bs,1H)、5.73(bs,1H)、3.74−3.79(m,1H)、3.20−3.45(m,2H)、2.08−2.74(m,6H)
製造例61
2−メチル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)ヘキサン酸0.8gをジクロロメタン20mlに溶解させた。ここへ室温でN,N−ジメチルホルムアミド2滴、続いて塩化オキサリル0.3mlを順次滴下し、同温で4時間撹拌した後、反応混合物を減圧下濃縮した。得られた残渣をテトラヒドロフラン20mlに溶解させ、ここへ室温でアンモニア(30%(w/w)水溶液)0.3gを滴下した。同温で2日間撹拌した後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−メチル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)ヘキサンアミド(以下、本発明化合物(61)と記す。) 0.60gを得た。
本発明化合物(61)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.69(bs,1H)、6.01(bs,1H)、3.22−3.46(m,2H)、2.08−2.73(m,6H)、1.69(s,3H)
製造例62
5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルチオ)ヘキサンニトリル2.0gをメタノール50mlに溶解し、室温下でここにナトリウムメトキシド(28%(w/w)メタノール溶液)12.5mlを加え、同温で15時間攪拌した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を10%塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示される5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルチオ)ヘキサン酸メチル(以下、本発明化合物(62)と記す。)0.8gを得た。
本発明化合物(62)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.79(s,3H)、3.31(t,1H)、2.72−2.90(m,2H)、1.93−2.48(m,6H)
製造例63
5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルチオ)ヘキサン酸メチル0.3gをクロロホルム20mlに溶解し、氷冷下で過酢酸(32%(w/w)酢酸溶液)0.2gを加えた後、室温まで昇温し、6時間撹拌した。反応混合物を水中にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示される5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルフィニル)ヘキサン酸メチルのジアステレオマー混合物(以下、本発明化合物(63)と記す。)0.18gを得た。
本発明化合物(63)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.86(s,1.2H)、3.84(s,1.8H)、3.57−3.69(m,1H)、2.13−3.14(m,8H)
製造例64
2,5,5,6,6,6−ヘキサフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸メチル0.5gをメタノール20mlに溶解させた。ここへ室温でアンモニア(7M−メタノール溶液)0.5mlを加え、同温で0.5時間撹拌した。さらにアンモニア(7M−メタノール溶液)5mlを加え、同温で2時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2,5,5,6,6,6−ヘキサフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンアミド(以下、本発明化合物(64)と記す。) 0.37gを得た。
本発明化合物(64)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.54(bs,1H)、5.88(bs,1H)、3.30−3.58(m,2H)、2.14−2.83(m,6H)
製造例65
5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸メチル2.0gをテトラヒドロフラン50mlに溶解させた。ここへ氷冷下で水素化ナトリウム(60%油性)0.21gを加え、同温で0.5時間撹拌した。ここへN−ブロモコハク酸イミド0.9gを加え、反応混合物を室温まで昇温した後、12時間撹拌した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−ブロモ−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸メチル(以下、本発明化合物(65)と記す。) 0.30gを得た。
本発明化合物(65)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.96(s,3H)、3.75−4.01(m,2H)、2.35−2.92(m,6H)
製造例66
2−(3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロペンチルスルホニル)−5,5,6,6,6−ペンタフルオロヘキサン酸メチル1.0gをテトラヒドロフラン50mlに溶解し、ここに0℃で水素化ナトリウム(60%油性)0.08gを加え、同温で0.5時間撹拌した。該混合物中に0℃で1−フルオロ−2,4,6−トリメチルピリジニウム トリフルオロメタンスルホナート0.6gを加え1時間撹拌した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−(3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロペンチルスルホニル)−2,5,5,6,6,6−ヘキサフルオロヘキサン酸メチル(以下、本発明化合物(66)と記す。) 0.75gを得た。
本発明化合物(66)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)4.00(s,3H)、3.34−3.61(m,2H)、2.09−2.81(m,6H)
製造例67
2−(3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロペンチルスルホニル)−2,5,5,6,6,6−ヘキサフルオロヘキサン酸メチル1.5gをメタノール30mlに溶解させた。ここへ室温でアンモニア(7M−メタノール溶液)1.3mlを加え、同温で24時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−(3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロペンチルスルホニル)−2,5,5,6,6,6−ヘキサフルオロヘキサンアミド(以下、本発明化合物(67)と記す。) 1.10gを得た。
本発明化合物(67)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.54(bs,1H)、5.89(bs,1H)、3.34−3.62(m,2H)、2.10−2.82(m,6H)
製造例68
5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルチオ)ヘキサン酸メチル0.3g及びヨードメタン0.12gをテトラヒドロフラン20mlに溶解し、ここへ0℃でナトリウムビス(トリメチルシリル)アミド(1M−テトラヒドロフラン溶液)0.9mlを加えた。同温で1時間攪拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を10%塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示される2−メチル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルチオ)ヘキサン酸メチル(以下、本発明化合物(68)と記す。)0.3gを得た。
本発明化合物(68)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.78(s,3H)、2.73−2.79(m,2H)、1.96−2.41(m,6H)、1.50(s,3H)
製造例69
2,5,5,6,6,6−ヘキサフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸メチル1.0gをメタノール30mlに溶解させた。ここへ室温でメチルアミン(2M−メタノール溶液)3.8mlを加え、同温で2時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2,5,5,6,6,6−ヘキサフルオロ−N−メチル−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンアミド(以下、本発明化合物(69)と記す。) 0.92gを得た。
本発明化合物(69)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.58(bs,1H)、3.26−3.58(m,2H)、2.99(d,3H)、2.04−2.82(m,6H)
製造例70
2−メチル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルチオ)ヘキサン酸メチル1.0gをメタノール50mlに溶解し、室温で水酸化カリウム水溶液(水酸化カリウム0.9g及び水5mlの混合溶液の全量)を加え、同温で1日間撹拌した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をジクロロメタン20mlに溶解させた。ここへ室温でN,N−ジメチルホルムアミド2滴、続いて塩化オキサリル0.4mlを順次滴下し、同温で1時間撹拌した後、反応混合物を減圧下濃縮した。得られた残渣をテトラヒドロフラン20mlに溶解させ、ここへ室温でアンモニア(30%(w/w)水溶液)0.4gを滴下した。同温で1時間撹拌した後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−メチル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルチオ)ヘキサンアミド(以下、本発明化合物(70)と記す。) 0.25gを得た。
本発明化合物(70)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.60(bs,1H)、5.49(bs,1H)、2.73(t,2H)、1.96−2.44(m,6H)、1.51(s,3H)
製造例71
2−メチル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルチオ)ヘキサン酸メチル4.4gをクロロホルム30mlに溶解し、氷冷下で過酢酸(32%(w/w)酢酸溶液)2.9gを加えた後、4時間撹拌した。反応混合物を水中にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示される2−メチル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルフィニル)ヘキサン酸メチルのジアステレオマー混合物(以下、本発明化合物(71)と記す。)1.10gを得た。
本発明化合物(71)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.84(s,1.2H)、3.82(s,1.8H)、2.06−2.84(m,8H)、1.53(s,1.2H)、1.52(s,1.8H)
製造例72
2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)−5,5,6,6,6−ペンタフルオロヘキサン酸メチル1.0gをテトラヒドロフラン50mlに溶解し、ここに室温下で水素化ナトリウム(60%油性)0.09gを加え、同温で0.5時間撹拌した。該混合物中に室温で1−フルオロ−2,4,6−トリメチルピリジニウム トリフルオロメタンスルホナート0.7gを加え3時間撹拌した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2,5,5,6,6,6−ヘキサフルオロ−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)ヘキサン酸メチル(以下、本発明化合物(72)と記す。) 0.78gを得た。
本発明化合物(72)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)4.00(s,3H)、3.33−3.60(m,2H)、2.08−2.81(m,6H)
製造例73
2,5,5,6,6,6−ヘキサフルオロ−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)ヘキサン酸メチル0.6gをメタノール20mlに溶解させた。ここへ室温でアンモニア(7M−メタノール溶液)0.6mlを加え、同温で12時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2,5,5,6,6,6−ヘキサフルオロ−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)ヘキサンアミド(以下、本発明化合物(73)と記す。) 0.45gを得た。
本発明化合物(73)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.55(bs,1H)、5.91(bs,1H)、3.33−3.61(m,2H)、2.04−2.83(m,6H)
製造例74
2,5,5,6,6,6−ヘキサフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸メチル0.5gをメタノール30mlに溶解し、室温で水酸化カリウム水溶液(水酸化カリウム0.4g及び水5mlの混合溶液の全量)を加え、同温で12時間撹拌した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をジクロロメタン20mlに溶解させた。ここへ室温でN,N−ジメチルホルムアミド2滴、続いて塩化オキサリル0.2mlを順次滴下し、同温で2時間撹拌した後、反応混合物を減圧下濃縮した。得られた残渣をテトラヒドロフラン30mlに溶解させ、ここへ室温でジメチルアミン(40%(w/w)水溶液)0.4gを滴下した。同温で2時間撹拌した後、反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、N,N−ジメチル−2,5,5,6,6,6−ヘキサフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンアミド(以下、本発明化合物(74)と記す。) 0.26gを得た。
本発明化合物(74)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.32−3.55(m,2H)、3.29(d,3H)、3.10(s,3H)、2.14−2.97(m,6H)
製造例75
2−クロロ−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸メチル1.0gをメタノール30mlに溶解させた。ここへ室温でメチルアミン(2M−メタノール溶液)3.6mlを加え、同温で16時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−クロロ−N−メチル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンアミド(以下、本発明化合物(75)と記す。) 0.15gを得た。
本発明化合物(75)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.95(bs,1H)、3.35−3.75(m,2H)、2.96(d,3H)、2.05−2.98(m,6H)
製造例76
1−ヨード−3,3,3−トリフルオロプロパン1.0g及び(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)酢酸メチル1.0gをジメチルスルホキシド20mlに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム0.6gを加え、同温で16時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、5,5,5−トリフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ペンタン酸メチル(以下、本発明化合物(76)と記す。) 0.42gを得た。
本発明化合物(76)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.90(s,3H)、3.88−3.94(m,1H)、3.36−3.52(m,2H)、2.62−2.78(m,2H)、2.38−2.53(m,2H)、2.24−2.48(m,2H)
製造例77
5,5,5−トリフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ペンタン酸メチル1.0gをテトラヒドロフラン30mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.12gを加え、同温で0.5時間撹拌した。該混合物中に室温でN−クロロコハク酸イミド0.4gを加え2時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−クロロ−5,5,5−トリフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ペンタン酸メチル(以下、本発明化合物(77)と記す。) 0.65gを得た。
本発明化合物(77)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.97(s,3H)、3.58−3.88(m,2H)、2.35−2.88(m,6H)
製造例78
1−ヨード−4,4,4−トリフルオロブタン2.0g及び(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)酢酸メチル2.0gをジメチルスルホキシド30mlに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム1.2gを加え、同温で3日間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、6,6,6−トリフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸メチル(以下、本発明化合物(78)と記す。) 1.50gを得た。
本発明化合物(78)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.89(s,3H)、3.80−3.90(m,1H)、3.28−3.50(m,2H)、2.60−2.78(m,2H)、2.09−2.27(m,4H)、1.62−1.75(m,2H)
製造例79
6,6,6−トリフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸メチル1.0gをテトラヒドロフラン30mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.12gを加え、同温で0.5時間撹拌した。該混合物中に室温でN−クロロコハク酸イミド0.4gを加え4時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−クロロ−6,6,6−トリフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸メチル(以下、本発明化合物(79)と記す。) 0.96gを得た。
本発明化合物(79)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.96(s,3H)、3.53−3.84(m,2H)、2.12−2.79(m,6H)、1.72−2.02(m,2H)
製造例80
2−クロロ−6,6,6−トリフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸メチル0.8gをメタノール20mlに溶解させた。ここへ室温でアンモニア(7M−メタノール溶液)0.9mlを加え、同温で10時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−クロロ−6,6,6−トリフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサンアミド(以下、本発明化合物(80)と記す。) 0.51gを得た。
本発明化合物(80)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.93(bs,1H)、6.20(bs,1H)、3.36−3.74(m,2H)、2.13−2.81(m,6H)、1.61−2.01(m,2H)
製造例81
2−クロロ−5,5,5−トリフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ペンタン酸メチル1.0gをメタノール30mlに溶解させた。ここへ室温でアンモニア(7M−メタノール溶液)1.2mlを加え、同温で14時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−クロロ−5,5,5−トリフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ペンタンアミド(以下、本発明化合物(81)と記す。) 0.62gを得た。
本発明化合物(81)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.93(bs,1H)、6.36(bs,1H)、3.38−3.73(m,2H)、2.21−2.92(m,6H)
製造例82
1−ヨード−3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロペンタン2.8g及び(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)酢酸メチル2.0gをジメチルスルホキシド30mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.34gを加え、同温で14時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、5,5,6,6,7,7,7−ヘプタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘプタン酸メチル(以下、本発明化合物(82)と記す。)2.30gを得た。
本発明化合物(82)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.91(s,3H)、3.87−3.95(m,1H)、3.36−3.52(m,2H)、2.21−2.78(m,6H)
製造例83
5,5,6,6,7,7,7−ヘプタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘプタン酸メチル1.0gをテトラヒドロフラン30mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.09gを加え、同温で0.5時間撹拌した。該混合物中に室温でN−クロロコハク酸イミド0.3gを加え1時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−クロロ−5,5,6,6,7,7,7−ヘプタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘプタン酸メチル(以下、本発明化合物(83)と記す。) 0.93gを得た。
本発明化合物(83)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.97(s,3H)、3.53−3.90(m,2H)、2.30−2.91(m,6H)
製造例84
2−クロロ−5,5,6,6,7,7,7−ヘプタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘプタン酸メチル0.7gをメタノール30mlに溶解させた。ここへ室温でアンモニア(7M−メタノール溶液)0.6mlを加え、同温で10時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−クロロ−5,5,6,6,7,7,7−ヘプタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘプタンアミド(以下、本発明化合物(84)と記す。) 0.50gを得た。
本発明化合物(84)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.88(bs,1H)、5.94(bs,1H)、3.37−3.73(m,2H)、2.14−2.96(m,6H)
製造例85
1−ヨード−3,3,4,4,5,5,6,6,6−ノナフルオロヘキサン7.0g及び(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)酢酸メチル4.4gをジメチルスルホキシド50mlに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム2.59gを加えた。反応混合物を60℃まで昇温し2日間撹拌した後、室温付近まで放冷し、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、5,5,6,6,7,7,8,8,8−ノナフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)オクタン酸メチル(以下、本発明化合物(85)と記す。)1.50gを得た。
本発明化合物(85)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.92(s,3H)、3.87−3.95(m,1H)、3.38−3.52(m,2H)、2.20−2.78(m,6H)
製造例86
5,5,6,6,7,7,8,8,8−ノナフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)オクタン酸メチル1.0gをテトラヒドロフラン30mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.08gを加え、同温で0.5時間撹拌した。該混合物中に室温でN−クロロコハク酸イミド0.3gを加え16時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−クロロ−5,5,6,6,7,7,8,8,8−ノナフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)オクタン酸メチル(以下、本発明化合物(86)と記す。) 0.89gを得た。
本発明化合物(86)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.97(s,3H)、3.58−3.92(m,2H)、2.33−2.94(m,6H)
製造例87
2−クロロ−5,5,6,6,7,7,8,8,8−ノナフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)オクタン酸メチル0.8gをメタノール20mlに溶解させた。ここへ室温でアンモニア(7M−メタノール溶液)1.1mlを加え、同温で12時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−クロロ−5,5,6,6,7,7,8,8,8−ノナフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)オクタンアミド(以下、本発明化合物(87)と記す。) 0.45gを得た。
本発明化合物(87)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.88(bs,1H)、5.93(bs,1H)、3.38−3.77(m,2H)、2.15−2.98(m,6H)
製造例88
5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)ヘキサン酸メチル2.0gをジメチルスルホキシド30mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.19gを加え、同温で0.5時間撹拌した。該混合物中に室温で塩化銅(II)1.9gを加え12時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−クロロ−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)ヘキサン酸メチル(以下、本発明化合物(88)と記す。) 1.70gを得た。
本発明化合物(88)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.98(s,3H)、3.63−3.93(m,2H)、2.29−2.92(m,6H)
製造例89
2−クロロ−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)ヘキサン酸メチル1.5gをメタノール30mlに溶解させた。ここへ室温でアンモニア(7M−メタノール溶液)1.4mlを加え、同温で16時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−クロロ−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)ヘキサンアミド(以下、本発明化合物(89)と記す。) 1.10gを得た。
本発明化合物(89)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.86(bs,1H)、5.93(bs,1H)、3.40−3.78(m,2H)、2.13−2.95(m,6H)
製造例90
5,5,6,6,7,7,7−ヘプタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘプタン酸メチル1.0gをテトラヒドロフラン30mlに溶解し、ここに室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.09gを加え、同温で0.5時間撹拌した。該混合物中に室温で1−フルオロ−2,4,6−トリメチルピリジニウム トリフルオロメタンスルホナート0.7gを加え10時間撹拌した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2,5,5,6,6,7,7,7−オクタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘプタン酸メチル(以下、本発明化合物(90)と記す。) 0.90gを得た。
本発明化合物(90)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)4.00(s,3H)、3.26−3.58(m,2H)、2.12−2.80(m,6H)
製造例91
2,5,5,6,6,7,7,7−オクタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘプタン酸メチル0.7gをメタノール30mlに溶解させた。ここへ室温でアンモニア(7M−メタノール溶液)0.7mlを加え、同温で10時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2,5,5,6,6,7,7,7−オクタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘプタンアミド(以下、本発明化合物(91)と記す。) 1.10gを得た。
本発明化合物(91)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.58(bs,1H)、5.92(bs,1H)、3.26−3.58(m,2H)、2.19−2.83(m,6H)
製造例92
1−ヨード−3,3,3−トリフルオロプロパン1.6g及び(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)酢酸メチル2.0gをジメチルスルホキシド50mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.3gを加え、同温で19時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)−5,5,5−トリフルオロペンタン酸メチル(以下、本発明化合物(92)と記す。)1.20gを得た。
本発明化合物(92)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.90(s,3H)、3.88−3.96(m,1H)、3.38−3.55(m,2H)、2.54−2.73(m,2H)、2.23−2.50(m,4H)
製造例93
2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)−5,5,5−トリフルオロペンタン酸メチル1.0gをテトラヒドロフラン30mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.11gを加え、同温で0.5時間撹拌した。該混合物中に室温でN−クロロコハク酸イミド0.4gを加え10時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−クロロ−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)−5,5,5−トリフルオロペンタン酸メチル(以下、本発明化合物(93)と記す。) 0.75gを得た。
本発明化合物(93)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.97(s,3H)、3.62−3.91(m,2H)、2.37−2.88(m,6H)
製造例94
2−クロロ−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)−5,5,5−トリフルオロペンタン酸メチル0.5gをメタノール50mlに溶解させた。ここへ室温でアンモニア(7M−メタノール溶液)0.5mlを加え、同温で18時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−クロロ−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)−5,5,5−トリフルオロペンタンアミド(以下、本発明化合物(94)と記す。) 1.10gを得た。
本発明化合物(94)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.87(bs,1H)、6.01(bs,1H)、3.35−3.80(m,2H)、2.19−2.92(m,6H)
製造例95
1−ヨード−3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロペンタン2.3g及び(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)酢酸メチル2.0gをジメチルスルホキシド50mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.3gを加え、同温で26時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、5,5,6,6,7,7,7−ヘプタフルオロ−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)ヘプタン酸メチル(以下、本発明化合物(95)と記す。)1.40gを得た。
本発明化合物(95)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.93−3.97(m,1H)、3.91(s,3H)、3.41−3.55(m,2H)、2.21−2.73(m,6H)
製造例96
5,5,6,6,7,7,7−ヘプタフルオロ−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)ヘプタン酸メチル1.3gをテトラヒドロフラン30mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.11gを加え、同温で0.5時間撹拌した。該混合物中に室温でN−クロロコハク酸イミド0.4gを加え10時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−クロロ−5,5,6,6,7,7,7−ヘプタフルオロ−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)ヘプタン酸メチル(以下、本発明化合物(96)と記す。) 0.91gを得た。
本発明化合物(96)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.98(s,3H)、3.62−3.92(m,2H)、2.19−2.94(m,6H)
製造例97
2−クロロ−5,5,6,6,7,7,7−ヘプタフルオロ−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)ヘプタン酸メチル0.8gをメタノール50mlに溶解させた。ここへ室温でアンモニア(7M−メタノール溶液)0.7mlを加え、同温で18時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−クロロ−5,5,6,6,7,7,7−ヘプタフルオロ−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)ヘプタンアミド(以下、本発明化合物(97)と記す。) 0.60gを得た。
本発明化合物(97)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.88(bs,1H)、5.95(bs,1H)、3.39−3.78(m,2H)、2.14−2.96(m,6H)
製造例98
1−ヨード−5,5,5−トリフルオロペンタン2.2g及び(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)酢酸メチル2.0gをジメチルスルホキシド30mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.3gを加え、同温で20時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、7,7,7−トリフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘプタン酸メチル(以下、本発明化合物(98)と記す。)1.69gを得た。
本発明化合物(98)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.87(s,3H)、3.80−3.88(m,1H)、3.26−3.50(m,2H)、2.59−2.78(m,2H)、2.03−2.18(m,4H)、1.44−1.72(m,4H)
製造例99
7,7,7−トリフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘプタン酸メチル1.0gをテトラヒドロフラン30mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.11gを加え、同温で0.5時間撹拌した。該混合物中に室温でN−クロロコハク酸イミド0.4gを加え10時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−クロロ−7,7,7−トリフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘプタン酸メチル(以下、本発明化合物(99)と記す。) 0.80gを得た。
本発明化合物(99)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.94(s,3H)、3.50−3.81(m,2H)、2.55−2.80(m,3H)、2.05−2.32(m,3H)、1.50−1.80(m,4H)
製造例100
2−クロロ−7,7,7−トリフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘプタン酸メチル0.6gをメタノール30mlに溶解させた。ここへ室温でアンモニア(7M−メタノール溶液)0.7mlを加え、同温で3日間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−クロロ−7,7,7−トリフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘプタンアミド(以下、本発明化合物(100)と記す。) 0.46gを得た。
本発明化合物(100)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.88(bs,1H)、5.98(bs,1H)、3.34−3.78(m,2H)、2.58−2.81(m,3H)、2.01−2.28(m,3H)、1.40−1.82(m,4H)
製造例101
p−トルエンスルホン酸4,4,5,5,5−ペンタフルオロペンチル1.4g及び(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)酢酸メチル1.0gをジメチルスルホキシド50mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.2gを加えた後90℃まで昇温した。同温で6時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、6,6,7,7,7−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘプタン酸メチル(以下、本発明化合物(101)と記す。)0.70gを得た。
本発明化合物(101)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.89(s,3H)、3.80−3.88(m,1H)、3.26−3.54(m,2H)、2.59−2.80(m,3H)、2.00−2.26(m,3H)、1.65−1.78(m,2H)
製造102
6,6,7,7,7−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘプタン酸メチル0.5gをテトラヒドロフラン30mlに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム(60%油性)0.05gを加え、同温で0.5時間撹拌した。該混合物中に室温でN−クロロコハク酸イミド0.2gを加え10時間撹拌した後、反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−クロロ−6,6,7,7,7−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘプタン酸メチル(以下、本発明化合物(102)と記す。) 0.38gを得た。
本発明化合物(102)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.96(s,3H)、3.50−3.85(m,2H)、2.61−2.78(m,3H)、1.75−2.40(m,5H)
製造例103
2−クロロ−6,6,7,7,7−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘプタン酸メチル0.3gをメタノール30mlに溶解させた。ここへ室温でアンモニア(7M−メタノール溶液)0.3mlを加え、同温で20時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、2−クロロ−6,6,7,7,7−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘプタンアミド(以下、本発明化合物(103)と記す。) 0.23gを得た。
本発明化合物(103)
Figure 0005082377
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)6.95(bs,1H)、6.30(bs,1H)、3.35−3.78(m,2H)、2.61−2.80(m,3H)、1.62−2.32(m,5H)












次に本発明化合物の具体例を示す。
式(I−A)で示される化合物;
Figure 0005082377
式中、R1、R2、R3及びR4は、以下の〔表1〕〜〔表42〕に示される組合せを表す。
Figure 0005082377
Figure 0005082377
Figure 0005082377

Figure 0005082377
Figure 0005082377
Figure 0005082377
Figure 0005082377
Figure 0005082377
Figure 0005082377
Figure 0005082377
Figure 0005082377
Figure 0005082377
Figure 0005082377
Figure 0005082377
Figure 0005082377
Figure 0005082377
Figure 0005082377
Figure 0005082377
Figure 0005082377
Figure 0005082377
Figure 0005082377
Figure 0005082377
Figure 0005082377
Figure 0005082377
Figure 0005082377
Figure 0005082377
Figure 0005082377
Figure 0005082377
Figure 0005082377
Figure 0005082377
Figure 0005082377
Figure 0005082377
Figure 0005082377
Figure 0005082377
Figure 0005082377
Figure 0005082377
Figure 0005082377
Figure 0005082377
Figure 0005082377
Figure 0005082377
Figure 0005082377
Figure 0005082377
式(I−B)で示される化合物;
Figure 0005082377
式中、R1、R2、R3及びR4は、前記〔表1〕〜〔表42〕に示される組合せを表す。
式(I−C)で示される化合物;
Figure 0005082377
式中、R1、R2、R3及びR4は、前記〔表1〕〜〔表42〕に示される組合せを表す。

次に、本発明化合物の中間体の製造例を参考製造例として示す。
参考製造例1
1−ブロモ−3,3,3−トリフルオロプロパン9.6g及びチオ安息香酸5gをN,N−ジメチルホルムアミド30mlに溶解し、氷冷下でここに水素化ナトリウム(60%油性)1.45gを加えた後、室温で12時間攪拌した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を10%塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示されるS−(3,3,3−トリフルオロプロピル)=ベンゼンチオアート
Figure 0005082377
6.90gを得た。
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)7.97(d,2H)、7.58−7.62(m,1H)、7.47(dd,2H)、3.24(t,2H)、2.44−2.56(m,2H)
参考製造例2
1−ヨード−3,3,4,4,4−ペンタフルオロブタン9.9g及びチオ安息香酸5gをN,N−ジメチルホルムアミド30mlに溶解し、氷冷下でここに炭酸カリウム5.0gを加えた後、室温で20時間攪拌した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を10%塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示されるS−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチル)=ベンゼンチオアート
Figure 0005082377
7.90gを得た。
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)7.95(d,2H)、7.58−7.65(m,1H)、7.47(dd,2H)、3.27(t,2H)、2.38−2.53(m,2H)
参考製造例3
1−ヨード−3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロペンタン2.0g及びチオ安息香酸0.9gをN,N−ジメチルホルムアミド20mlに溶解し、氷冷下でここに炭酸カリウム0.9gを加えた後、室温で20時間攪拌した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を10%塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示されるS−(3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロペンチル)=ベンゼンチオアート
Figure 0005082377
1.75gを得た。
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)7.95(d,2H)、7.58−7.64(m,1H)、7.47(dd,2H)、3.29(t,2H)、2.40−2.56(m,2H)
参考製造例4
S−(3,3,3−トリフルオロプロピル)=ベンゼンチオアート10gをテトラヒドロフラン50mlに溶解し、氷冷下でここにナトリウムメトキシド(28%(w/w)メタノール溶液)8.4mlを加えた。続いて同温でブロモアセトニトリル5.1g滴下し、室温で2時間攪拌した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を10%塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣を氷酢酸40mlに溶解し、氷冷下で過酢酸(32%(w/w)酢酸溶液)20mlを加えた後、60℃で10時間撹拌した。反応混合物を室温まで放冷し、水中にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示される(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)アセトニトリル
Figure 0005082377
7.04gを得た。
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)4.06(s,2H)、3.48−3.55(m,2H)、2.72−2.84(m,2H)
参考製造例5
S−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチル)=ベンゼンチオアート7.1gをテトラヒドロフラン50mlに溶解し、氷冷下でここにナトリウムメトキシド(28%(w/w)メタノール溶液)4.9mlを加えた。続いて同温でブロモアセトニトリル3.0gを滴下し、室温で20時間攪拌した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を10%塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣を氷酢酸40mlに溶解し、氷冷下で過酢酸(32%(w/w)酢酸溶液)20mlを加えた後、60℃で8時間撹拌した。反応混合物を室温まで放冷し、水中にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示される(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)アセトニトリル
Figure 0005082377
5.47gを得た。
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)4.07(s,2H)、3.51−3.58(m,2H)、2.65−2.78(m,2H)
参考製造例6
S−(3,3,4,4,5,5,5−ペプタフルオロペンチル)=ベンゼンチオアート9.7gをテトラヒドロフラン30mlに溶解し、氷冷下でここにナトリウムメトキシド(28%(w/w)メタノール溶液)5.7mlを加えた。続いて同温でブロモアセトニトリル3.5gを滴下し、室温で10時間攪拌した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を10%塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣を氷酢酸40mlに溶解し、氷冷下で過酢酸(32%(w/w)酢酸溶液)20mlを加えた後、60℃で6時間撹拌した。反応混合物を室温まで放冷し、水中にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示される(3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロペンチルスルホニル)アセトニトリル
Figure 0005082377
6.54gを得た。
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)4.09(s,2H)、3.54−3.59(m,2H)、2.69−2.84(m,2H)
参考製造例7
チオグリコール酸メチル10g及び1−ヨード−3,3,3−トリフルオロプロパン21gをN,N−ジメチルホルムアミド200mlに溶解し、氷冷下で炭酸カリウム13gを加えた後、室温で20時間攪拌した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を10%塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣を氷酢酸100mlに溶解し、氷冷下で過酢酸(32%(w/w)酢酸溶液)50mlを加えた後、60℃で16時間撹拌した。反応混合物を室温まで放冷し、水中にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示される(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)酢酸メチル
Figure 0005082377
14.1gを得た。
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)4.05(s,2H)、3.84(s,3H)、3.49−3.57(m,2H)、2.66−2.79(m,2H)
参考製造例8
チオグリコール酸メチル10g及び1−ヨード−3,3,4,4,4−ペンタフルオロブタン26gをN,N−ジメチルホルムアミド100mlに溶解し、氷冷下で炭酸カリウム13gを加えた後、室温で20時間攪拌した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を10%塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣を氷酢酸100mlに溶解し、氷冷下で過酢酸(32%(w/w)酢酸溶液)50mlを加えた後、60℃で10時間撹拌した。反応混合物を室温まで放冷し、水中にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示される(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)酢酸メチル
Figure 0005082377
23.1gを得た。
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)4.05(s,2H)、3.86(s,3H)、3.52−3.59(m,2H)、2.59−2.75(m,2H)
参考製造例9
チオグリコール酸メチル5g及び1−ヨード−3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロペンタン15gをN,N−ジメチルホルムアミド50mlに溶解し、氷冷下で炭酸カリウム6.5gを加えた後、室温で10時間攪拌した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を10%塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣を氷酢酸50mlに溶解し、氷冷下で過酢酸(32%(w/w)酢酸溶液)20mlを加えた後、60℃で4時間撹拌した。反応混合物を室温まで放冷し、水中にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示される(3,3,4,4,5,5,5−ヘプタフルオロペンチルスルホニル)酢酸メチル
Figure 0005082377
12.6gを得た。
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)4.06(s,2H)、3.86(s,3H)、3.52−3.59(m,2H)、2.63−2.78(m,2H)
参考製造例10
5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸メチル0.3gをメタノール30mlに溶解し、室温で水酸化カリウム水溶液(水酸化カリウム0.3g及び水5mlの混合溶液の全量)を加え、同温で24時間撹拌した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮して、下式で示される5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸
Figure 0005082377
0.28gを得た。
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.91−3.98(m,1H)、3.48−3.56(m,2H)、2.64−2.78(m,2H)、2.23−2.54(m,4H)
参考製造例11
2−メチル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)ヘキサン酸メチル0.5gをメタノール30mlに溶解し、室温で水酸化カリウム水溶液(水酸化カリウム0.3g及び水5mlの混合溶液の全量)を加え、同温で6時間撹拌した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮して、下式で示される2−メチル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)ヘキサン酸
Figure 0005082377
0.48gを得た。
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.48−3.54(m,2H)、2.67−2.78(m,2H)、2.18−2.56(m,4H)、1.73(s,3H)
参考製造例12
2−エチル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸メチル0.5gをメタノール30mlに溶解し、室温下水酸化カリウム水溶液(水酸化カリウム0.3g及び水5mlの混合溶液の全量)を加え、同温で10時間撹拌した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮して、下式で示される2−エチル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)ヘキサン酸
Figure 0005082377
0.48gを得た。
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.35−3.71(m,2H)、2.08−2.78(m,8H)、1.10(t,3H)
参考製造例13
2−メルカプトプロピオン酸エチル20g及び1−ヨード−3,3,3−トリフルオロプロパン33gをN,N−ジメチルホルムアミド200mlに溶解し、氷冷下で炭酸カリウム21gを加えた後、室温で4時間攪拌した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を10%塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣を氷酢酸100mlに溶解し、氷冷下で過酸化水素水(30%(w/w)水溶液)30mlを加えた後、60℃で4時間撹拌した。反応混合物を室温まで放冷し、水中にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示される2−(3,3,3−トリフルオロプロピルスルホニル)プロピオン酸エチル
Figure 0005082377
36.3gを得た。
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)4.24−4.38(m,2H)、3.94(q,1H)、3.37−3.55(m,2H)、2.62−2.78(m,2H)、1.69(d,3H)、1.34(t,3H)
参考製造例14
5,5,6,6,6−ペンタフルオロヘキサンニトリル40gに、室温下臭素11ml及び三臭化リン2mlを滴下した。反応混合物を90℃まで昇温し、同温で6時間加熱撹拌した後、室温まで放冷した。反応混合物を水中にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示される2−ブロモ−5,5,6,6,6−ペンタフルオロヘキサンニトリル
Figure 0005082377
17.5gを得た。
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)4.45(t,1H)、2.28−2.47(m,4H)
参考製造例15
5,5,6,6,7,7,7−ヘプタフルオロ−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)ヘプタン酸メチル0.5gをメタノール30mlに溶解し、室温で水酸化カリウム水溶液(水酸化カリウム0.3g及び水5mlの混合溶液の全量)を加え、同温で2日間撹拌した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮して、下式で示される5,5,6,6,7,7,7−ヘプタフルオロ−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)ヘプタン酸
Figure 0005082377
0.48gを得た。
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.95−4.04(m,1H)、3.49−3.57(m,2H)、2.06−2.78(m,6H)
参考製造例16
5,5,6,6,7,7,7−ヘプタフルオロ−2−メチル−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)ヘプタン酸メチル1.2gをメタノール30mlに溶解し、室温で水酸化カリウム水溶液(水酸化カリウム0.8g及び水10mlの混合溶液の全量)を加え、同温で2日間撹拌した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮して、下式で示される5,5,6,6,7,7,7−ヘプタフルオロ−2−メチル−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)ヘプタン酸
Figure 0005082377
1.10gを得た。
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.50−3.58(m,2H)、2.14−2.77(m,6H)、1.75(s,3H)
参考製造例17
5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)ヘキサン酸メチル0.5gをメタノール50mlに溶解し、室温で水酸化カリウム水溶液(水酸化カリウム0.4g及び水5mlの混合溶液の全量)を加え、同温で1日間撹拌した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮して、下式で示される5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)ヘキサン酸
Figure 0005082377
0.48gを得た。
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.95−4.01(m,1H)、3.50−3.56(m,2H)、2.22−2.75(m,6H)
参考製造例18
2−メチル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)ヘキサン酸メチル0.9gをメタノール50mlに溶解し、室温で水酸化カリウム水溶液(水酸化カリウム0.7g及び水5mlの混合溶液の全量)を加え、同温で1日間撹拌した。反応混合物に10%塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮して、下式で示される2−メチル−5,5,6,6,6−ペンタフルオロ−2−(3,3,4,4,4−ペンタフルオロブチルスルホニル)ヘキサン酸
Figure 0005082377
0.78gを得た。
1H−NMR(CDCl3,TMS):δ(ppm)3.50−3.59(m,2H)、2.16−2.75(m,6H)、1.75(s,3H)
次に製剤例を示す。なお、部は重量部を示す。
製剤例1
本発明化合物(1)〜(103)9部を、キシレン37.5部およびN,N−ジメチルホルムアミド37.5部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル10部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム6部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
製剤例2
本発明化合物(1)〜(103)40部にソルポール5060(東邦化学登録商標名)5部を加え、よく混合して、カープレックス#80(塩野義製薬登録商標名、合成含水酸化ケイ素微粉末)32部、300メッシュ珪藻土23部を加え、ジュースミキサーで混合して、水和剤を得る。
製剤例3
本発明化合物(1)〜(103)3部、合成含水酸化珪素微粉末5部、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム5部、ベントナイト30部およびクレー57部を加え、よく撹拌混合し、ついでこれらの混合物に適当量の水を加え、さらに撹拌し、増粒機で製粒し、通風乾燥して粒剤を得る。
製剤例4
本発明化合物(1)〜(103)4.5部、合成含水酸化珪素微粉末1部、凝集剤としてドリレスB(三共社製)1部、クレー7部を乳鉢でよく混合した後にジュースミキサーで撹拌混合する。得られた混合物にカットクレー86.5部を加えて、充分撹拌混合し、粉剤を得る。
製剤例5
本発明化合物(1)〜(103)10部;ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩50部を含むホワイトカーボン35部;及び水55部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより、製剤を得る。
製剤例6
本発明化合物(1)〜(103)0.5部をジクロロメタン10部に溶解し、これをアイソパーM(イソパラフィン:エクソン化学登録商標名)89.5部に混合して油剤を得る。
製剤例7
本発明化合物(1)〜(103)0.1部、ネオチオゾール(中央化成株式会社)49.9部をエアゾール缶に入れ、エアゾールバルブを装着した後、25部のジメチルエーテル及び25部のLPGを充填し、アクチュエータを装着することにより油性エアゾールを得る。
製剤例8
本発明化合物(1)〜(103)0.6部、BHT0.01部、キシレン5部、脱臭灯油3.39部および乳化剤{アトモス300(アトモスケミカル社登録商標名)}1部を混合溶解したものと、蒸留水50部とをエアゾール容器に充填し、バルブ部分を取り付け、該バルブを通じて噴射剤(LPG)40部を加圧充填して、水性エアゾールを得る。
次に、本発明化合物が有害節足動物防除剤の有効成分として有効であることを試験例により示す。
試験例1
製剤例5により得られた本発明化合物(1)、(2)、(3)、(4)、(5)、(6)、(8)、(9)、(11)、(12)、(13)、(14)、(15)、(16)、(17)、(18)、(20)、(21)、(22)、(23)、(24)、(25)、(26)、(27)、(29)、(30)、(31)、(32)、(33)、(34)、(35)、(36)、(37)、(38)、(39)、(40)、(41)、(44)、(45)、(46)、(47)、(48)、(49)、(50)、(52)、(53)、(55)、(56)、(57)、(58)、(59)、(60)、(61)、(63)、(64)、(65)、(67)、(68)、(71)、(72)、(73)、(74)、(75)、(78)、(79)、(80)、(81)、(82)、(83)、(84)、(86)、(87)、(88)、(89)、(90)、(91)、(93)、(94)、(96)、(97)、(100)、(101)、(102)及び(103)の製剤を有効成分濃度が55.6ppmとなるように希釈し、試験用薬液を調製した。
一方、底に直径5mmの穴を5箇所あけたポリエチレンカップに培土ボンソル2号(住友化学株式会社製)50gを入れて種子を10〜15粒播種し、第2本葉が展開するまで生育させたイネに、上記のように調製した試験用薬液45mlをカップの底から吸収させることによって処理した。その後、温室内〈25℃〉に6日間静置した後、イネの高さを5cmに切り揃え、トビイロウンカの初齢幼虫を30頭放し、温室内〈25℃〉に静置した。トビイロウンカの幼虫を放してから6日後に当該イネに寄生するトビイロウンカの数を調査した。
その結果、本発明化合物(1)、(2)、(3)、(4)、(5)、(6)、(8)、(9)、(11)、(12)、(13)、(14)、(15)、(16)、(17)、(18)、(20)、(21)、(22)、(23)、(24)、(25)、(26)、(27)、(29)、(30)、(31)、(32)、(33)、(34)、(35)、(36)、(37)、(38)、(39)、(40)、(41)、(44)、(45)、(46)、(47)、(48)、(49)、(50)、(52)、(53)、(55)、(56)、(57)、(58)、(59)、(60)、(61)、(63)、(64)、(65)、(67)、(68)、(71)、(72)、(73)、(74)、(75)、(78)、(79)、(80)、(81)、(82)、(83)、(84)、(86)、(87)、(88)、(89)、(90)、(91)、(93)、(94)、(96)、(97)、(100)、(101)、(102)及び(103)の処理においては各々処理6日後に寄生する虫数は3頭以下であった。
試験例2
製剤例5により得られた本発明化合物(1)、(2)、(3)、(4)、(5)、(6)、(8)、(9)、(10)、(11)、(12)、(13)、(14)、(15)、(16)、(17)、(18)、(19)、(20)、(21)、(22)、(23)、(25)、(26)、(28)、(29)、(30)、(31)、(32)、(33)、(34)、(35)、(36)、(37)、(38)、(39)、(40)、(41)、(43)、(44)、(45)、(46)、(47)、(48)、(49)、(50)、(52)、(53)、(55)、(56)、(57)、(58)、(59)、(60)、(61)、(63)、(64)、(65)、(66)、(67)、(68)、(69)、(70)、(71)、(72)、(73)、(74)、(75)、(78)、(79)、(80)、(81)、(82)、(84)、(86)、(87)、(88)、(89)、(90)、(91)、(93)、(94)、(95)、(96)、(97)、(99)、(100)、(101)、(102)及び(103)の製剤を有効成分濃度が500ppmとなるように水で希釈し、試験用薬液を調製した。直径5.5cmのポリエチレンカップの底に同大の濾紙を敷き、該試験用薬液0.7mlを濾紙上に滴下し、餌としてショ糖30mgを均一に入れた。該ポリエチレンカップ内にイエバエ(Musca domestica)雌成虫10頭を放ち、蓋をした。24時間後にイエバエの生死を調査し死虫率を求めた。
その結果、より得られた本発明化合物(1)、(2)、(3)、(4)、(5)、(6)、(8)、(9)、(10)、(11)、(12)、(13)、(14)、(15)、(16)、(17)、(18)、(19)、(20)、(21)、(22)、(23)、(25)、(26)、(28)、(29)、(30)、(31)、(32)、(33)、(34)、(35)、(36)、(37)、(38)、(39)、(40)、(41)、(43)、(44)、(45)、(46)、(47)、(48)、(49)、(50)、(52)、(53)、(55)、(56)、(57)、(58)、(59)、(60)、(61)、(63)、(64)、(65)、(66)、(67)、(68)、(69)、(70)、(71)、(72)、(73)、(74)、(75)、(78)、(79)、(80)、(81)、(82)、(84)、(86)、(87)、(88)、(89)、(90)、(91)、(93)、(94)、(95)、(96)、(97)、(99)、(100)、(101)、(102)及び(103)の処理においては死虫率70%以上を示した。
試験例3
製剤例5により得られた本発明化合物(1)、(2)、(3)、(4)、(5)、(6)、(7)、(8)、(9)、(10)、(11)、(12)、(13)、(14)、(15)、(16)、(17)、(20)、(21)、(23)、(26)、(29)、(30)、(31)、(32)、(33)、(34)、(35)、(36)、(37)、(38)、(39)、(40)、(41)、(44)、(45)、(46)、(47)、(49)、(50)、(52)、(53)、(55)、(56)、(57)、(58)、(59)、(60)、(61)、(63)、(64)、(65)、(67)、(68)、(69)、(70)、(71)、(72)、(73)、(74)、(75)、(78)、(79)、(80)、(81)、(84)、(86)、(87)、(88)、(89)、(90)、(91)、(93)、(94)、(96)、(97)、(100)、(101)、(102)及び(103)の製剤を有効成分濃度が500ppmとなるように水で希釈し、試験用薬液を調製した。直径5.5cmのポリエチレンカップの底に同大の濾紙を敷き、該試験用薬液0.7mlを濾紙上に滴下し、餌としてショ糖30mgを均一に入れた。該ポリエチレンカップ内にチャバネゴキブリ(Blattalla germanica)雄成虫2頭を放ち、蓋をした。6日後にチャバネゴキブリの生死を調査し死虫率を求めた。
その結果、本発明化合物(1)、(2)、(3)、(4)、(5)、(6)、(7)、(8)、(9)、(10)、(11)、(12)、(13)、(14)、(15)、(16)、(17)、(20)、(21)、(23)、(26)、(29)、(30)、(31)、(32)、(33)、(34)、(35)、(36)、(37)、(38)、(39)、(40)、(41)、(44)、(45)、(46)、(47)、(49)、(50)、(52)、(53)、(55)、(56)、(57)、(58)、(59)、(60)、(61)、(63)、(64)、(65)、(67)、(68)、(69)、(70)、(71)、(72)、(73)、(74)、(75)、(78)、(79)、(80)、(81)、(84)、(86)、(87)、(88)、(89)、(90)、(91)、(93)、(94)、(96)、(97)、(100)、(101)、(102)及び(103)の処理においては死虫率100%を示した。
試験例4
製剤例5により得られた本発明化合物(1)、(2)、(3)、(4)、(5)、(6)、(7)、(8)、(9)、(10)、(11)、(12)、(13)、(14)、(15)、(16)、(17)、(18)、(19)、(20)、(21)、(22)、(23)、(24)、(25)、(26)、(29)、(30)、(31)、(32)、(33)、(34)、(35)、(37)、(38)、(39)、(40)、(41)、(42)、(45)、(46)、(47)、(49)、(50)、(51)、(52)、(53)、(56)、(57)、(58)、(59)、(60)、(61)、(63)、(65)、(67)、(68)、(69)、(70)、(71)、(72)、(73)、(74)、(75)、(76)、(78)、(79)、(80)、(81)、(82)、(83)、(84)、(86)、(87)(88)、(89)、(90)、(91)、(92)、(93)、(94)、(95)、(96)、(97)、(100)、(102)及び(103)の製剤を有効成分濃度が500ppmとなるように水で希釈し、試験用薬液を調製した。前記試験用薬液0.7mlをイオン交換水100mlに加えた(有効成分濃度3.5ppm)。該液中にアカイエカ(Culex pipiens pallens)終令幼虫20頭を放し、1日後にその生死を調査し死虫率を求めた。
その結果、本発明化合物(1)、(2)、(3)、(4)、(5)、(6)、(7)、(8)、(9)、(10)、(11)、(12)、(13)、(14)、(15)、(16)、(17)、(18)、(19)、(20)、(21)、(22)、(23)、(24)、(25)、(26)、(29)、(30)、(31)、(32)、(33)、(34)、(35)、(37)、(38)、(39)、(40)、(41)、(42)、(45)、(46)、(47)、(49)、(50)、(51)、(52)、(53)、(56)、(57)、(58)、(59)、(60)、(61)、(63)、(65)、(67)、(68)、(69)、(70)、(71)、(72)、(73)、(74)、(75)、(76)、(78)、(79)、(80)、(81)、(82)、(83)、(84)、(86)、(87)、(88)、(89)、(90)、(91)、(92)、(93)、(94)、(95)、(96)、(97)、(100)、(102)及び(103)の処理においては死虫率90%以上を示した。


Claims (10)

  1. 式(I)
    Figure 0005082377
    〔式中、
    1はC3−C6フルオロアルキル基を表し、
    2はシアノ基、C(=O)R5又はC(=S)R6を表し、
    3は水素原子、ハロゲン原子又はC1−C4アルキル基を表し、
    4はC1−Cフルオロアルキル基を表し、
    5及びR6は各々、C1−C4アルコキシ基又は1個若しくは2個のC1−Cアルキル基で置換されていてもよいアミノ基を表し、
    nは0、1又は2を表す。〕
    で示される含フッ素有機硫黄化合物。
  2. nが2である請求項1記載の含フッ素有機硫黄化合物。
  3. 2がシアノ基又はC(=O)R5である請求項1又は2記載の含フッ素有機硫黄化合物。
  4. 2がシアノ基である請求項1又は2記載の含フッ素有機硫黄化合物。
  5. 2がC(=O)R5であり、R5が1個若しくは2個のC1−C4アルキル基で置換されていてもよいアミノ基である請求項1又は2記載の含フッ素有機硫黄化合物。
  6. 2がC(=O)R5であり、R5がアミノ基である請求項1又は2記載の含フッ素有機硫黄化合物。
  7. 3がハロゲン原子である請求項1〜6いずれか一項記載の含フッ素有機硫黄化合物。
  8. 請求項1〜7いずれか一項記載の含フッ素有機硫黄化合物を有効成分として含有することを特徴とする有害節足動物防除剤。
  9. 請求項1〜7いずれか一項記載の含フッ素有機硫黄化合物の有効量を有害節足動物又は有害節足動物の生息場所に施用することを特徴とする有害節足動物の防除方法。
  10. 式(d)
    Figure 0005082377
    〔式中、
    2 はシアノ基、C(=O)R 5 又はC(=S)R 6 を表し、
    4 はC1−C3フルオロアルキル基を表し、
    5 及びR 6 は各々、C1−C2アルコキシ基又は1個若しくは2個のC1−C2アルキル基で置換されていてもよいアミノ基を表し、
    nは0、1又は2を表し、
    3-2 はC1−C4アルキル基を表す。〕
    で示される化合物。
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