JP5011383B2 - 電子源 - Google Patents
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- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 64
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 30
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 30
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 27
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 27
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims description 19
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 18
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 13
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 13
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 12
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 10
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical group [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000011575 calcium Substances 0.000 claims description 5
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 5
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 claims description 4
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N scandium atom Chemical compound [Sc] SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 23
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 5
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- 239000003870 refractory metal Substances 0.000 description 4
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- 238000001198 high resolution scanning electron microscopy Methods 0.000 description 3
- QKYBEKAEVQPNIN-UHFFFAOYSA-N barium(2+);oxido(oxo)alumane Chemical compound [Ba+2].[O-][Al]=O.[O-][Al]=O QKYBEKAEVQPNIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005219 brazing Methods 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N isoamyl acetate Chemical compound CC(C)CCOC(C)=O MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 229910015999 BaAl Inorganic materials 0.000 description 1
- 241001122767 Theaceae Species 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229940117955 isoamyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 235000012149 noodles Nutrition 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- DECCZIUVGMLHKQ-UHFFFAOYSA-N rhenium tungsten Chemical compound [W].[Re] DECCZIUVGMLHKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000682 scanning probe acoustic microscopy Methods 0.000 description 1
- VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N selanylidenegallium;selenium Chemical compound [Se].[Se]=[Ga].[Se]=[Ga] VSZWPYCFIRKVQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/06—Electron sources; Electron guns
- H01J37/063—Geometrical arrangement of electrodes for beam-forming
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J1/00—Details of electrodes, of magnetic control means, of screens, or of the mounting or spacing thereof, common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
- H01J1/02—Main electrodes
- H01J1/13—Solid thermionic cathodes
- H01J1/20—Cathodes heated indirectly by an electric current; Cathodes heated by electron or ion bombardment
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- H01J1/00—Details of electrodes, of magnetic control means, of screens, or of the mounting or spacing thereof, common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
- H01J1/02—Main electrodes
- H01J1/13—Solid thermionic cathodes
- H01J1/20—Cathodes heated indirectly by an electric current; Cathodes heated by electron or ion bombardment
- H01J1/26—Supports for the emissive material
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/06—Electron sources; Electron guns
- H01J37/073—Electron guns using field emission, photo emission, or secondary emission electron sources
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/06—Electron sources; Electron guns
- H01J37/075—Electron guns using thermionic emission from cathodes heated by particle bombardment or by irradiation, e.g. by laser
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/02—Details
- H01J2237/0216—Means for avoiding or correcting vibration effects
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/06—Sources
- H01J2237/063—Electron sources
- H01J2237/06308—Thermionic sources
- H01J2237/06316—Schottky emission
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Optics & Photonics (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
2: 供給源
3: フィラメント
4: 導電端子
5: 絶縁碍子
6: カップ状部品
7: 金属部品
8: サプレッサー電極
9: 引き出し電極
10: 蛍光板
11: アパーチャー
12: カップ状電極
13: プローブ電流測定用微小電流計
14: バイアス電源
15: 高圧電源
16: フィラメント加熱電源
17: 全放射電流測定用電流計
18: 放射電子線
20: 金属片
本明細書および請求の範囲では、下記の通り用語の意味を定義する。
本発明者等は、ZrO/W電子源を用いて比較的高倍率でSEM像を見る際、装置周辺からの振動によりノイズが発生し、分解能が得られず、測長などを行うことができない場合があることに気づき、このノイズの除去のために鋭意研究開発に励んだ。その結果、本発明者等は、このノイズは、ZrO/W電子源のタングステンフィラメントが共振周波数により振動していることが原因であるのではないかと考えた。
以下、本発明の実施の形態について、電子顕微鏡、電子線露光機、測長SEM等に用いられる、動作温度が1500K以下の電子放射陰極を例に説明するが、本発明はこれに制限されるものではない。尚、すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。
以下、本実施形態の電子源の作用効果について説明する。
本実施形態に係る電子源は、一端部に電子放出部を有する針状チップ1と、針状チップ1の一端部と異なる他端部に接合されているカップ状部品6と、カップ状部品6を加熱するための加熱用フィラメント3と、を備える電子源である。そして、加熱用フィラメント3は、カップ状部品6の内部に設けられている空隙中に、カップ状部品6に対して非接触状態になるように配置されている。
図2および図3に例示した通りに、絶縁碍子5に固定されたタングステンからなるカップ状部品6の内部に非接触で内挿するように、タングステン製のフィラメント3を一対の導電端子4にスポット溶接により固定した。<100>方位の単結晶タングステン針状チップ1をカップ状部品6の外底部にスポット溶接により取り付けた。
従来構造の図1に示す構造で、即ち、絶縁碍子5に固定された導電端子4に設けられたタングステン製のフィラメント3にタングステンの<100>方位の針状チップ1がスポット溶接により固着したものに、実施例と同じ方法によりバリウム・アルミネート供給源を形成した。同様に共振試験及び陰極先端位置安定性評価試験を実施した。
実施例および比較例を各n=3で試験した共振試験結果を表1に示す。共振試験において、共振周波数はほぼ同様であったが、振幅が実施例については著しく抑制されていることが確認された。
Claims (7)
- 一端部に電子放出部を有するロッドと、前記ロッドの前記一端部と異なる他端部に接合されている伝熱部と、前記伝熱部を加熱するための電熱変換部と、前記電熱変換部の両端部に電気的に接続されている一対の導電端子と、前記一対の導電端子および前記伝熱部を直接的または間接的に担持する絶縁碍子と、を備える電子源であって、
前記電熱変換部は、前記伝熱部の内部に設けられている空隙中に、前記伝熱部に対して非接触状態になるように配置され、
前記伝熱部がカップ状構造を有しており、前記ロッドの前記他端部が前記カップ状構造の外底部に接合され、かつ前記ロッドが、前記一端部である先端部に前記電子放出部を有し、前記他端部である基部において前記カップ状構造の外底部に接合されている針状チップであり、該針状チップの前記基部から前記先端部へのベクトルが、前記カップ状構造の外底部平面に略垂直になるように設けられている、電子源。 - 前記電熱変換部が、前記カップ状構造の内部に、前記カップ状構造に対して非接触状態になるように配置されている加熱用フィラメントである、請求項1記載の電子源。
- 前記ロッドが、タングステン、モリブデン、イリジウム、ニオブ、タンタルまたはレニウムの単結晶と、前記単結晶に設けられている金属元素の酸化物を拡散させるための供給源とを有する、請求項1または2に記載の電子源。
- 前記金属酸化物が、ジルコニウム、チタン、ハフニウム、スカンジウム、イットリウム、ランタノイド系列元素、バリウム、ストロンチウムおよびカルシウムからなる群から選ばれる1種以上の元素を含有する金属酸化物である、請求項3に記載の電子源。
- 前記伝熱部が、タングステン、モリブデン、イリジウム、ニオブ、タンタルおよびレニウムからなる群から選ばれる1種以上の金属を含む材料からなる、請求項1ないし4のいずれかに記載の電子源。
- 前記伝熱部および前記ロッドが、タングステン、モリブデン、イリジウム、ニオブ、タンタルまたはレニウムの単結晶からなる一体成形構造を有する、請求項1または2に記載の電子源。
- 前記ロッドの動作温度が1500K以下である、請求項1ないし6のいずれかに記載の電子源。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009514166A JP5011383B2 (ja) | 2007-05-16 | 2008-05-13 | 電子源 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007130326 | 2007-05-16 | ||
JP2007130326 | 2007-05-16 | ||
PCT/JP2008/058766 WO2008140080A1 (ja) | 2007-05-16 | 2008-05-13 | 電子源 |
JP2009514166A JP5011383B2 (ja) | 2007-05-16 | 2008-05-13 | 電子源 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2008140080A1 JPWO2008140080A1 (ja) | 2010-08-05 |
JP5011383B2 true JP5011383B2 (ja) | 2012-08-29 |
Family
ID=40002270
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009514166A Active JP5011383B2 (ja) | 2007-05-16 | 2008-05-13 | 電子源 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8436524B2 (ja) |
EP (1) | EP2148354B1 (ja) |
JP (1) | JP5011383B2 (ja) |
WO (1) | WO2008140080A1 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
2008
- 2008-05-13 WO PCT/JP2008/058766 patent/WO2008140080A1/ja active Application Filing
- 2008-05-13 JP JP2009514166A patent/JP5011383B2/ja active Active
- 2008-05-13 US US12/597,961 patent/US8436524B2/en active Active
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Publication number | Publication date |
---|---|
US8436524B2 (en) | 2013-05-07 |
WO2008140080A1 (ja) | 2008-11-20 |
JPWO2008140080A1 (ja) | 2010-08-05 |
EP2148354A4 (en) | 2011-09-07 |
US20100090581A1 (en) | 2010-04-15 |
EP2148354B1 (en) | 2014-09-24 |
EP2148354A1 (en) | 2010-01-27 |
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