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JP4968234B2 - Optical element and display device - Google Patents

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JP4968234B2
JP4968234B2 JP2008271142A JP2008271142A JP4968234B2 JP 4968234 B2 JP4968234 B2 JP 4968234B2 JP 2008271142 A JP2008271142 A JP 2008271142A JP 2008271142 A JP2008271142 A JP 2008271142A JP 4968234 B2 JP4968234 B2 JP 4968234B2
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Description

本発明は、偏光分離機能を有する光学素子及びこの光学素子を利用した表示装置に関する。   The present invention relates to an optical element having a polarization separation function and a display device using the optical element.

偏光分離機能を有する光学素子の1つとして、ワイヤーグリッド型偏光分離素子が知られている。このワイヤーグリッド型偏光分離素子は、ガラス基板等の表面に多数の微細なワイヤー(例えば、アルミニウム細線)が並べられたものであり、各ワイヤーの相互間隔(周期)は光の波長よりも短く設定される。ワイヤーグリッド型偏光分離素子は、偏光分離性能が高いことに加え、構成材料が無機物であることから耐光性にも優れるという特徴がある。このため、種々の光学系において、従来の高分子を素材とした偏光分離素子に代替して用いることが検討されている。ワイヤーグリッド型偏光分離素子の応用例の1つとして、液晶プロジェクタのような投写型表示装置が挙げられる。
特開2002−372749号公報
As one of optical elements having a polarization separation function, a wire grid type polarization separation element is known. This wire grid type polarization separation element is made by arranging a lot of fine wires (for example, aluminum fine wires) on the surface of a glass substrate or the like, and the mutual interval (period) of each wire is set shorter than the wavelength of light. Is done. The wire grid type polarization separation element is characterized by being excellent in light resistance since the constituent material is inorganic in addition to high polarization separation performance. For this reason, in various optical systems, it has been studied to substitute for a conventional polarization separation element made of a polymer. One application example of the wire grid type polarization separation element is a projection display device such as a liquid crystal projector.
JP 2002-372749 A

上述の投写型表示装置においては、ワイヤーグリッド型偏光分離素子は、液晶パネル(液晶ライトバルブ)の前面又は背面の少なくとも一方に配置される。投写型表示装置では、表示される画像の輝度を向上させる等のために比較的に強度の高い光が液晶パネルに入力される。ところが、原理上、ワイヤーグリッド型偏光分離素子は、入射光のうちTM偏光成分はほぼ全て透過させるもののTE偏光成分についてはほぼ全て反射するため、この反射光(TE偏光成分)が液晶パネルに再度入射して液晶パネルの動作を不安定にすることが懸念される。また、このような懸念は投写型表示装置に限られたものではなく、ワイヤーグリッド型偏光分離素子を用いて構成される種々の光学的装置にも共通して言えることである。いかなる光学的装置においても、光路上において不要な反射光が発生することは好ましくないからである。   In the above-described projection display device, the wire grid type polarization separation element is disposed on at least one of the front surface and the back surface of the liquid crystal panel (liquid crystal light valve). In the projection display device, light having a relatively high intensity is input to the liquid crystal panel in order to improve the brightness of a displayed image. However, in principle, the wire grid type polarization separation element transmits almost all TM polarized components of incident light, but reflects almost all TE polarized components. Therefore, the reflected light (TE polarized components) is again applied to the liquid crystal panel. There is concern that the operation of the liquid crystal panel may become unstable due to incidence. Further, such a concern is not limited to the projection display device, but can be commonly applied to various optical devices configured using a wire grid type polarization separation element. This is because it is not preferable that unnecessary reflected light is generated on the optical path in any optical device.

そこで、この発明は、反射光による悪影響を抑制することが可能な光学素子を提供することを1つの目的とする。
また、この発明は、上記の光学素子を用いて構成される高性能な表示装置を提供することを他の1つの目的とする。
Accordingly, an object of the present invention is to provide an optical element capable of suppressing adverse effects due to reflected light.
Another object of the present invention is to provide a high-performance display device configured using the optical element.

本発明に係る光学素子は、入射光を偏光分離する機能を有する光学素子であって、前記入射光に対して透明な基板と、断面形状が鋸歯形状の複数の凸部を含み、前記基板の一面側に設けられた回折構造部と、一方向に延在する複数の細線を含み、前記基板の一面側であって前記回折構造部の上面に沿って設けられたグリッド部と、を備え、前記グリッド部は、前記入射光のうち一の偏光成分を反射するとともに他の偏光成分を透過し、前記入射光の波長をλ、前記複数の細線の相互間隔をd、前記複数の凸部の相互間隔をδ、前記基板の構成材料の屈折率をnとしたときに、これらのパラメータが、d<λ、かつ、λ/n<δ≦λ、の関係を満たすものである。 An optical element according to the present invention is an optical element having a function of polarizing and separating incident light, and includes a substrate transparent to the incident light and a plurality of convex portions having a sawtooth shape in cross section. A diffractive structure provided on one side, and a grid part including a plurality of fine lines extending in one direction, provided on one side of the substrate and along the upper surface of the diffractive structure, The grid portion reflects one polarization component of the incident light and transmits another polarization component, the wavelength of the incident light is λ, the mutual distance between the plurality of thin wires is d, and the plurality of projections These parameters satisfy the relationship of d <λ and λ / n <δ ≦ λ, where δ is the mutual interval and n is the refractive index of the constituent material of the substrate.

また、本発明に係る光学素子は、入射光を偏光分離する機能を有する光学素子であって、前記入射光に対して透明な基板と、断面形状が鋸歯形状の複数の凸部を含み、前記基板の一面側に設けられた回折構造部と、一方向に延在する複数の細線を含み、前記基板の一面側であって前記回折構造部の上面に沿って設けられたグリッド部と、を備え、前記入射光の波長をλ、前記入射光の入射角度幅を±θ、前記複数の細線の相互間隔をd、前記複数の凸部の相互間隔をδ、前記基板の構成材料の屈折率をnとしたときに、これらのパラメータが、d<λ、かつ、λ/(n−sinθ)<δ≦λ/(1+sinθ)、の関係を満たすものである。   An optical element according to the present invention is an optical element having a function of polarizing and separating incident light, and includes a substrate transparent to the incident light, and a plurality of convex portions having a sawtooth shape in cross section, A diffractive structure portion provided on one surface side of the substrate, and a grid portion including a plurality of fine lines extending in one direction and provided on the one surface side of the substrate and along the upper surface of the diffractive structure portion; The wavelength of the incident light is λ, the incident angle width of the incident light is ± θ, the distance between the plurality of thin wires is d, the distance between the plurality of protrusions is δ, and the refractive index of the constituent material of the substrate These parameters satisfy the relationship of d <λ and λ / (n−sin θ) <δ ≦ λ / (1 + sin θ).

この光学素子では、グリッド部の作用により入射光のうち一方の偏光成分が反射され、他方の偏光成分が透過する。また、この反射される偏光成分(反射光)は、回折構造部の作用により、十分に大きな角度で回折される。上記したパラメータの関係が満たされることにより、この回折された反射光は、基板の他面とその周囲の媒体(例えば空気)との界面において全反射され、基板中を伝搬し、基板端部へ向かう。したがって、本発明に係る光学素子を所望の光学系に用いた際には、グリッド部によって生じた反射光のほとんどが光路の前段側へ戻ることがなく、不要な反射光による悪影響が抑制される。   In this optical element, one polarization component of incident light is reflected by the action of the grid portion, and the other polarization component is transmitted. Further, the reflected polarization component (reflected light) is diffracted at a sufficiently large angle by the action of the diffraction structure portion. When the above-described parameter relationship is satisfied, the diffracted reflected light is totally reflected at the interface between the other surface of the substrate and the surrounding medium (for example, air), propagates in the substrate, and reaches the edge of the substrate. Head. Therefore, when the optical element according to the present invention is used in a desired optical system, most of the reflected light generated by the grid portion does not return to the front stage side of the optical path, and adverse effects due to unnecessary reflected light are suppressed. .

好ましくは、上記光学素子は、前記回折構造部の前記凸部の高さがmλ/2nと設定される。ここで、mが1以上の整数(1,2,3・・・)である。
λは上記のように入射光の波長、nは基板の構成材料の屈折率である。
Preferably, in the optical element, the height of the convex portion of the diffractive structure portion is set to mλ / 2n. Here, m is an integer greater than or equal to 1 (1, 2, 3,...).
λ is the wavelength of the incident light as described above, and n is the refractive index of the constituent material of the substrate.

この条件が満たされることにより、光学素子の回折構造部における反射光の回折効果を十分に高め、かつ透過光(透過する偏光成分)の回折効果を十分に抑えることが可能となる。それにより、透過光量の大部分が非回折成分となるため、光の利用効率をより高めることが可能となる。   By satisfying this condition, it is possible to sufficiently enhance the diffraction effect of the reflected light in the diffraction structure portion of the optical element and sufficiently suppress the diffraction effect of the transmitted light (transmitted polarization component). As a result, most of the transmitted light amount is a non-diffracting component, so that the light utilization efficiency can be further increased.

上記光学素子においては、例えば、前記回折構造部の前記複数の凸部の各々の延在方向と前記グリッド部の前記複数の細線の各々の延在方向とが略平行とすることができる。また、上記回折構造部の上記複数の凸部の各々の延在方向と上記グリッド部の上記複数の細線の各々の延在方向とが交差していてもよい。   In the optical element, for example, the extending direction of each of the plurality of convex portions of the diffractive structure portion and the extending direction of each of the plurality of thin lines of the grid portion can be made substantially parallel. Further, the extending direction of each of the plurality of convex portions of the diffractive structure portion may intersect with the extending direction of each of the plurality of fine lines of the grid portion.

各凸部と各細線を交差させた場合には各凸部の段差の近傍における細線の形成がより容易となる。交差させる角度は任意であり、例えば、45°およびこの倍数の90°、135°などに設定することが可能である。   When each convex part and each thin line intersect, it becomes easier to form a thin line near the step of each convex part. The intersecting angle is arbitrary, and can be set to 45 ° and multiples of 90 °, 135 °, etc., for example.

上記光学素子においては、例えば、前記基板の前記一面に前記基板と略等しい屈折率を有する接着層を介して前記基板と略等しい屈折率を有する第2の基板が接合されていてもよい。   In the optical element, for example, a second substrate having a refractive index substantially equal to that of the substrate may be bonded to the one surface of the substrate via an adhesive layer having a refractive index substantially equal to that of the substrate.

回折構造部を有する基板の一面に、当該基板と略等しい屈折率を有する接着層を介して当該基板と略等しい屈折率を有する第2の基板を接合することで、回折構造部による透過光への影響をさらに抑えることができる。   By joining a second substrate having a refractive index substantially equal to the substrate to one surface of the substrate having the diffraction structure portion via an adhesive layer having a refractive index substantially equal to the substrate, the light transmitted by the diffraction structure portion is transmitted. The influence of can be further suppressed.

上記した光学素子は、上記基板の端部側に配置された光減衰部を更に備えることも好ましい。この光減衰部は、基板端部に接して配置されてもよいし、基板端部から離間した位置に配置されてもよい。光減衰部は、例えば暗色の樹脂膜や、反射防止膜等である。   The above-described optical element preferably further includes a light attenuating portion disposed on the end side of the substrate. The light attenuating unit may be disposed in contact with the substrate end or may be disposed at a position separated from the substrate end. The light attenuating part is, for example, a dark resin film or an antireflection film.

これにより、基板中を伝搬して基板端部に到達した反射光を吸収することにより、或いは外部に逃がすことにより、光学素子に閉じ込められる光の強度を低下させることができる。   Thereby, the intensity of light confined in the optical element can be reduced by absorbing the reflected light that has propagated through the substrate and reached the edge of the substrate, or by letting it escape to the outside.

本発明に係る投写型の表示装置は、(a)水銀ランプなどの光源と、(b)偏光分離機能を有し、上記光源の後段側に配置された第1の光学素子と、(c)入射光を変調する機能を有し、上記第1の光学素子の後段側に配置された液晶ライトバルブと、(d)偏光分離機能を有し、上記液晶ライトバルブの後段側に配置された第2の光学素子と、(e)上記第2の光学素子の後段側に配置された投射レンズと、を含み、少なくとも上記第2の光学素子として、上記の本発明に係る光学素子が用いられる。このとき、当該光学素子は、上記回折構造部及び上記グリッド部を設けた一面が後段側に配置される。   A projection display device according to the present invention includes (a) a light source such as a mercury lamp, (b) a first optical element having a polarization separation function and disposed on the rear stage side of the light source, and (c) A liquid crystal light valve having a function of modulating incident light and disposed on the rear stage side of the first optical element; and (d) a liquid crystal light valve having a polarization separation function and disposed on the rear stage side of the liquid crystal light valve. 2 and (e) a projection lens disposed on the rear side of the second optical element, and the optical element according to the present invention is used as at least the second optical element. At this time, in the optical element, one surface provided with the diffraction structure portion and the grid portion is arranged on the rear side.

少なくとも第2の光学素子として上記光学素子が用いられることにより、グリッド部による反射光が液晶ライトバルブへ入射することを回避できる。それにより、不要な光が入射することによって液晶ライトバルブの安定動作が妨げられることがない。具体的には、例えば液晶ライトバルブに薄膜トランジスタが含まれる場合に、不要な光が入射するとこの薄膜トランジスタに誤動作を生じさせ、表示品質を低下させる等の不都合が考えられる。本発明に係る表示装置によれば、このような不都合が回避される。また、複数の金属細線からなるグリッド部によって偏光分離素子として用いるので、耐光性に優れた表示装置を実現できる。よって、本発明によれば高性能な表示装置を提供することが可能となる。   By using the optical element as at least the second optical element, it is possible to prevent the reflected light from the grid portion from entering the liquid crystal light valve. Thereby, the stable operation of the liquid crystal light valve is not hindered by the incidence of unnecessary light. Specifically, for example, when a thin film transistor is included in the liquid crystal light valve, there may be inconveniences such as causing a malfunction of the thin film transistor when unnecessary light is incident, thereby reducing display quality. According to the display device of the present invention, such inconvenience is avoided. Moreover, since it uses as a polarization separation element by the grid part which consists of a some metal fine wire, the display apparatus excellent in light resistance is realizable. Therefore, according to the present invention, a high-performance display device can be provided.

上記の表示装置において、更に上記第1の光学素子としても上記の本発明に係る光学素子が用いられることも好ましい。このとき、当該光学素子は、上記回折構造部及び上記グリッド部を設けた一面が後段側に配置される。   In the above display device, it is also preferable that the optical element according to the present invention is used as the first optical element. At this time, in the optical element, one surface provided with the diffraction structure portion and the grid portion is arranged on the rear side.

第1の光学素子として上記光学素子が用いられることにより、グリッド部による反射光が前段側(例えば、光源)へ戻ることを回避できる。また、複数の金属細線からなるグリッド部によって偏光分離素子として用いるので、耐光性に優れた表示装置を実現できる。
よって、更に高性能、高品質な表示装置を提供することが可能となる。
By using the optical element as the first optical element, it is possible to avoid the reflected light from the grid portion from returning to the previous stage (for example, the light source). Moreover, since it uses as a polarization separation element by the grid part which consists of a some metal fine wire, the display apparatus excellent in light resistance is realizable.
Therefore, it is possible to provide a display device with higher performance and higher quality.

上記表示装置において、上記光源は、レーザー光源であってもよい。   In the display device, the light source may be a laser light source.

レーザー光源は、光の波長幅が極めて狭いため、本発明に係る光学素子による光の制御性が更に向上する。それにより、表示装置の表示品質を更に高めることが可能となる。   Since the laser light source has a very narrow wavelength range of light, the light controllability by the optical element according to the present invention is further improved. Thereby, the display quality of the display device can be further improved.

以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。なお、各図においては、各構成要素を図面上で認識し得る程度の大きさとするため、各構成要素の寸法や比率を実際のものとは適宜に異ならせてある。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In each figure, the dimensions and ratios of the constituent elements are appropriately changed from the actual ones in order to make the constituent elements large enough to be recognized on the drawings.

図1は、本発明を適用した一実施形態の光学素子の断面構造を示す模式図である。図1に示す本実施形態の光学素子1は、基板2と、回折構造部3と、グリッド部4と、光減衰部5と、を備える。この光学素子1は、グリッド部4の作用により入射光を偏光分離する機能を有する。   FIG. 1 is a schematic diagram showing a cross-sectional structure of an optical element according to an embodiment to which the present invention is applied. The optical element 1 according to this embodiment shown in FIG. 1 includes a substrate 2, a diffraction structure portion 3, a grid portion 4, and a light attenuation portion 5. The optical element 1 has a function of polarizing and separating incident light by the action of the grid portion 4.

基板2は、入射光の波長に対して透明な基板である。基板2としては、例えばガラス基板(石英基板)などの無機材料からなる基板が用いられる。基板2の厚さは、例えば0.7mm程度である。この基板2の一面側に回折構造部3が設けられている。また、基板2の他面は図示のように平面である。   The substrate 2 is a substrate that is transparent to the wavelength of incident light. As the substrate 2, for example, a substrate made of an inorganic material such as a glass substrate (quartz substrate) is used. The thickness of the substrate 2 is, for example, about 0.7 mm. A diffractive structure 3 is provided on one surface side of the substrate 2. The other surface of the substrate 2 is a plane as shown in the figure.

回折構造部3は、基板2の一面側に設けられている。この回折構造部3は、複数の凸部3aにより形成されている。なお、図中では便宜上、各1つの凸部3aについて符号を付している。これらの凸部3aからなる回折構造部3は図示のようにその断面形状が鋸歯形状である。ここで、鋸歯形状の断面形状とは、略三角形状の断面形状の斜辺の長さが異なり、頂点を通り底辺に垂直な直線に対して非対称の形状である。なお、略三角形状の断面形状の頂点が丸みを帯びた形状や、斜辺が曲線であるもの、あるいは微小な階段状に形成されているものも含む。また、各々の凸部3aの断面において斜辺の傾きがそれぞれ異なっていてもよい。本実施形態では、回折構造部3は、基板2の一面側を加工することによって形成されている。すなわち、基板2と回折構造部3とは一体に構成されている。   The diffractive structure 3 is provided on one side of the substrate 2. The diffractive structure portion 3 is formed by a plurality of convex portions 3a. In addition, in the figure, the code | symbol is attached | subjected about each one convex part 3a for convenience. As shown in the figure, the diffractive structure 3 composed of these convex portions 3a has a sawtooth shape in cross section. Here, the sawtooth-shaped cross-sectional shape is an asymmetrical shape with respect to a straight line passing through the apex and perpendicular to the bottom side, with the length of the hypotenuse of the substantially triangular cross-sectional shape being different. In addition, it includes a shape in which the apex of a substantially triangular cross-sectional shape is rounded, a shape in which a hypotenuse is a curve, or a shape formed in a minute step shape. In addition, the slopes of the hypotenuses may be different in the cross section of each projection 3a. In the present embodiment, the diffractive structure 3 is formed by processing one side of the substrate 2. That is, the substrate 2 and the diffractive structure 3 are integrally formed.

グリッド部4は、基板2の一面側であって回折構造部3の上面に沿って設けられている。このグリッド部4は、一方向に延在する複数の細線(微細ワイヤー)4aを含む。なお、図中では便宜上、1つの細線4aについてのみ符号を付している。各細線4aは、例えばアルミニウム等の金属膜である。   The grid portion 4 is provided on the one surface side of the substrate 2 and along the upper surface of the diffractive structure portion 3. The grid portion 4 includes a plurality of fine wires (fine wires) 4a extending in one direction. In the figure, only one thin line 4a is provided with a reference for convenience. Each thin wire 4a is a metal film such as aluminum.

光減衰部5は、基板2の各端部に設けられている。この光減衰部5は、例えば暗色の樹脂膜である。この光減衰部5には、回折構造部3において生じ、基板2の他面と空気との界面において全反射された回折光が入射する。光減衰部5は、この入射した回折光を吸収し、あるいはその強度を減衰させる。なお、光減衰部5は、基板2の各端部に接して配置される場合のほか、図2に示すように基板2の各端部と離間した位置に設けられてもよい。光減衰部5は省略することも可能である。   The light attenuating unit 5 is provided at each end of the substrate 2. The light attenuating portion 5 is, for example, a dark resin film. The light attenuating portion 5 is diffracted light that is generated in the diffraction structure portion 3 and totally reflected at the interface between the other surface of the substrate 2 and air. The light attenuating unit 5 absorbs the incident diffracted light or attenuates its intensity. In addition to the case where the light attenuating portion 5 is disposed in contact with each end portion of the substrate 2, the light attenuating portion 5 may be provided at a position separated from each end portion of the substrate 2 as shown in FIG. 2. The light attenuating unit 5 can be omitted.

図3は、光学素子の他の態様を説明する模式断面図である。図3に示す光学素子1aは、図1に示した光学素子1と同様の構成を有し、更に基板2の他面上に反射防止膜6を有する。この反射防止膜6は、例えば誘電体多層膜である。なお、反射防止膜6以外の構成要素については図1における光学素子1と共通の符号を付しており、それらについての説明を省略する。反射防止膜6を有することにより、基板2の他面側から入射する光の一部成分が反射することを抑制できる。   FIG. 3 is a schematic cross-sectional view illustrating another aspect of the optical element. The optical element 1a shown in FIG. 3 has the same configuration as the optical element 1 shown in FIG. 1, and further has an antireflection film 6 on the other surface of the substrate 2. The antireflection film 6 is a dielectric multilayer film, for example. Components other than the antireflection film 6 are denoted by the same reference numerals as those of the optical element 1 in FIG. 1, and description thereof will be omitted. By having the antireflection film 6, it is possible to suppress reflection of a part of the light component incident from the other surface side of the substrate 2.

図4は、グリッド部4の一部を拡大して示した模式的な斜視図である。この図4に基づいてグリッド部4の有する機能を説明する。グリッド部4への入射光80は、各細線4aの延在方向(長軸方向)と平行な偏光軸を有する成分p(TE偏光成分)が反射され、各細線4aの延在方向と直交する偏光軸を有する成分s(TM偏光成分)が透過する。すなわち、グリッド部4は入射光80を互いに偏光状態の異なる反射光80rと透過光80tとに分離する機能(偏光分離機能)を有する。本実施形態の光学素子1は、このような偏光分離機能を果たすグリッド部4が基板2の一面側に設けられている。   FIG. 4 is a schematic perspective view showing a part of the grid portion 4 in an enlarged manner. Based on this FIG. 4, the function which the grid part 4 has is demonstrated. In the incident light 80 to the grid portion 4, a component p (TE polarization component) having a polarization axis parallel to the extending direction (major axis direction) of each thin wire 4a is reflected, and is orthogonal to the extending direction of each thin wire 4a. A component s (TM polarization component) having a polarization axis is transmitted. That is, the grid unit 4 has a function (polarization separation function) for separating the incident light 80 into reflected light 80r and transmitted light 80t having different polarization states. In the optical element 1 of the present embodiment, a grid portion 4 that performs such a polarization separation function is provided on one surface side of the substrate 2.

図5は、回折構造部3のパターンの一部を示す模式的な平面図である。図5(A)に示すように、回折構造部3は、一方向(図示のY方向)に延在する複数の凸部3aを有する。これらの凸部3aは、図示のようにストライプ形状となっており、X方向に沿って周期的に配列されている。なお、各凸部3aは図5(A)に示したような一次元状の配列に限定されず、例えば図5(B)に示すように各凸部3aが二次元状に配列されていてもよい。   FIG. 5 is a schematic plan view showing a part of the pattern of the diffractive structure section 3. As shown in FIG. 5A, the diffractive structure 3 has a plurality of convex portions 3a extending in one direction (the Y direction shown in the figure). These convex portions 3a have a stripe shape as shown in the figure, and are periodically arranged along the X direction. In addition, each convex part 3a is not limited to the one-dimensional array as shown in FIG. 5 (A), for example, as shown in FIG. 5 (B), each convex part 3a is arranged two-dimensionally. Also good.

図6は、回折構造部3およびグリッド部4の一部を拡大して示した模式断面図である。
この図6に基づいて回折構造部3およびグリッド部4の構造を更に詳細に説明する。図示のように、回折構造部3の各凸部3aの相互間隔(凸構造の周期)をδ(nm)、グリッド部4の各細線4aの相互間隔(グリッド周期)をd(nm)、入射光の波長をλ(nm)、入射光の入射角度幅を±θ、基板2の構成材料の屈折率をn、基板2の周囲の空気の屈折率をnair(=1)、とする。本実施形態の光学素子1においては、この入射光の波長λと回折構造およびグリッド構造との間には以下の関係がある。
d<λ かつ λ/(n−sinθ)<δ≦λ/(1+sinθ) (1)
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing a part of the diffraction structure portion 3 and the grid portion 4 in an enlarged manner.
Based on this FIG. 6, the structure of the diffraction structure part 3 and the grid part 4 is demonstrated still in detail. As shown in the drawing, the mutual interval (period of the convex structure) of the convex portions 3a of the diffractive structure section 3 is δ (nm), the mutual interval (grid period) of the thin wires 4a of the grid section 4 is d (nm), and incident. The wavelength of light is λ (nm), the incident angle width of incident light is ± θ, the refractive index of the constituent material of the substrate 2 is n, and the refractive index of air around the substrate 2 is n air (= 1). In the optical element 1 of the present embodiment, the following relationship exists between the wavelength λ of the incident light and the diffraction structure and the grid structure.
d <λ and λ / (n−sin θ) <δ ≦ λ / (1 + sin θ) (1)

例えば、入射光の波長がλ=600nm、入射角度幅がθ=10度、基板2の構成材料の屈折率がn=1.46(例えば、SiOの場合)である場合、上記(1)の関係を満たすためには、例えばグリッド周期をd=140nm、凹凸構造の周期をδ=490nm、と設定することができる。
このような光学素子1に対して基板2の他面2bから入射した光は、グリッド部4の作用によって偏光分離される。すなわち、上記のようにTE偏光成分は反射され、TM偏光成分は基板2を透過する。また、これと併せて回折構造部3の作用により、TE偏光成分は大きな角度で回折される。この回折されたTE偏光成分は、空気と基板2との界面で全反射を生じることにより、基板2の内部を伝搬して基板2の端部へ進行する。上記のように基板2に光減衰部5が設けられている場合には、この基板2内部を伝搬したTE偏光成分は光減衰部5によって吸収され、又は強度が低下する。このように回折によって生じたTE偏光成分が基板2と空気との界面において全反射を生じるための条件、すなわち上記(1)式の条件について次に詳述する。
For example, when the wavelength of incident light is λ = 600 nm, the incident angle width is θ = 10 degrees, and the refractive index of the constituent material of the substrate 2 is n = 1.46 (for example, in the case of SiO 2 ), the above (1) In order to satisfy this relationship, for example, the grid period can be set to d = 140 nm, and the period of the concavo-convex structure can be set to δ = 490 nm.
Light incident on the optical element 1 from the other surface 2 b of the substrate 2 is polarized and separated by the action of the grid portion 4. That is, as described above, the TE polarization component is reflected, and the TM polarization component is transmitted through the substrate 2. In addition, the TE polarization component is diffracted at a large angle by the action of the diffractive structure portion 3 together with this. The diffracted TE polarization component causes total reflection at the interface between the air and the substrate 2, thereby propagating through the inside of the substrate 2 and traveling toward the end of the substrate 2. When the light attenuating unit 5 is provided on the substrate 2 as described above, the TE-polarized component propagating through the substrate 2 is absorbed by the light attenuating unit 5 or the intensity is reduced. The conditions for the TE polarization component thus generated by diffraction to cause total reflection at the interface between the substrate 2 and the air, that is, the condition of the above formula (1) will be described in detail below.

(A)λ/n<δの関係の導出
基板2の内部へm次の回折光が存在するためには、以下の関係式を満足する必要がある。
sinθm=sinθ/n+mλ/(nδ)<1 (2)
ただし、図示のように基板2の内部での回折角をθmとする。また、上記のようにλは空気中での入射光の波長、nは基板2の構成材料の屈折率、δは凸構造の周期である。
基板2の内部へ全ての回折光を閉じこめるとした場合、上記の(2)式において回折次数をm=1とする。これにより、下記の(3)式が導かれる。
λ/(n−sinθ)<δ (3)
(B)δ≦λの関係の導出
基板2の内部へm次の回折光を閉じこめるには、回折角θmが臨界角θc(全反射が起こる角度)よりも大きいこと、すなわち基板2と空気との界面におけるm次の回折光の入射角θiが臨界角θcよりも大きいことが必要である。そのためには、以下の式を満足する必要がある。
sinθm=−sinθ/n+mλ/(nδ)≧sinθc (4)
基板2の内部へ全ての回折光を閉じこめるとした場合、上記の(4)式において回折次数をm=1とする。これにより、下記の(5)式が導かれる。
δ≦λ/(nsinθc+sinθ) (5)
全反射条件では、nsinθc=1であるから、上記の(5)式は以下のようになる。
δ≦λ(1+sinθ) (6)
以上の(3)式および(6)式から、λ/(n−sinθ)<δ≦λ/(1+sinθ)の関係が導かれる。
(A) Derivation of the relationship of λ / n <δ In order for the m-th order diffracted light to exist inside the substrate 2, the following relational expression must be satisfied.
sin θm = sin θ / n + mλ / (nδ) <1 (2)
However, as shown, the diffraction angle inside the substrate 2 is θm. As described above, λ is the wavelength of incident light in the air, n is the refractive index of the constituent material of the substrate 2, and δ is the period of the convex structure.
When all the diffracted light is confined inside the substrate 2, the diffraction order is m = 1 in the above equation (2). As a result, the following expression (3) is derived.
λ / (n−sin θ) <δ (3)
(B) Derivation of the relationship of δ ≦ λ In order to confine the m-th order diffracted light inside the substrate 2, the diffraction angle θm is larger than the critical angle θc (the angle at which total reflection occurs), that is, the substrate 2 and the air It is necessary that the incident angle θi of the m-th order diffracted light at the interface is larger than the critical angle θc. For that purpose, it is necessary to satisfy the following expression.
sin θm = −sin θ / n + mλ / (nδ) ≧ sin θc (4)
When all the diffracted light is confined inside the substrate 2, the diffraction order is set to m = 1 in the above equation (4). As a result, the following expression (5) is derived.
δ ≦ λ / (nsinθc + sinθ) (5)
Since nsin θc = 1 under the total reflection condition, the above equation (5) is as follows.
δ ≦ λ (1 + sin θ) (6)
From the above equations (3) and (6), a relationship of λ / (n−sin θ) <δ ≦ λ / (1 + sin θ) is derived.

次に、回折構造部3の凹凸構造の深さ(凸部3aの高さ)についての好適な条件を説明する。図6に示すように凹凸構造の深さをgとする。また、光学素子1に対する入射光が基板2の他面2bに対してほぼ直交する状況を考える。このとき、反射光の回折効果が最大となる場合の深さg(以下、便宜上「gr」とする)は近似的に以下の式で与えられる。
gr=mλ/2n: m=1,2,… (7)
他方、透過光の回折効果が最大となる場合の深さg(以下、便宜上「gt」とする)は近似的に以下の式で与えられる。
gt=mλ/(n−1): m=1,2,… (8)
上記の(7)式および(8)式から、反射光の回折効果が最大となる深さgrと透過光の回折効果が最大となる深さgtとは異なることが分かる。したがって、回折構造部3の深さgをgrに等しくすれば、透過光の回折効果を十分に抑えることが可能である。
例えば、λ=600nmの場合、m=1に対して、gr=205nm、gt=1304nmとなる。ただし、屈折率nが1.46であるとする。そこで、例えば回折構造部3の深さgをgrに等しい205nmと設定したとすると、透過光量のほとんどを非回折成分とすることができる。例えば、この光学素子1の後段にレンズを配置した場合であれば、ほぼ全ての光をこのレンズへ入射させることができる。
Next, a preferable condition for the depth of the concavo-convex structure of the diffractive structure 3 (height of the convex portion 3a) will be described. As shown in FIG. 6, the depth of the concavo-convex structure is defined as g. Also, consider a situation where the incident light on the optical element 1 is substantially orthogonal to the other surface 2 b of the substrate 2. At this time, the depth g (hereinafter referred to as “gr” for convenience) when the diffraction effect of the reflected light is maximized is approximately given by the following expression.
gr = mλ / 2n: m = 1, 2,... (7)
On the other hand, the depth g (hereinafter referred to as “gt” for convenience) when the diffraction effect of transmitted light is maximized is approximately given by the following equation.
gt = mλ / (n−1): m = 1, 2,... (8)
From the above equations (7) and (8), it can be seen that the depth gr at which the diffraction effect of the reflected light is maximized is different from the depth gt at which the diffraction effect of the transmitted light is maximized. Therefore, if the depth g of the diffractive structure 3 is made equal to gr, it is possible to sufficiently suppress the diffraction effect of the transmitted light.
For example, when λ = 600 nm, for m = 1, gr = 205 nm and gt = 1304 nm. However, it is assumed that the refractive index n is 1.46. Therefore, for example, if the depth g of the diffractive structure 3 is set to 205 nm equal to gr, most of the transmitted light amount can be made a non-diffracted component. For example, if a lens is arranged at the rear stage of the optical element 1, almost all light can be incident on the lens.

回折構造部3による透過光への影響をさらに抑えるには、図7に示すように、グリッド部4の上に接着層10を介して、回折構造部3に用いた基板2と同じ材質の基板20を貼り合せる。この際、接着層10の屈折率nを基板2の屈折率nと略等しくする。
なお、回折構造部3を挟んで貼り合せる2枚の基板2,20は同じ材質のものである必要はなく、両者の屈折率nが略等しく、どちらも透過光に対して透明であればよい。
In order to further suppress the influence of the diffractive structure 3 on the transmitted light, a substrate made of the same material as the substrate 2 used for the diffractive structure 3 via an adhesive layer 10 on the grid 4 as shown in FIG. 20 is pasted. At this time, the refractive index n of the adhesive layer 10 is made substantially equal to the refractive index n of the substrate 2.
Note that the two substrates 2 and 20 to be bonded with the diffractive structure 3 sandwiched therebetween do not need to be made of the same material, and the refractive indexes n of both are substantially equal and both are transparent to the transmitted light. .

回折構造部3の断面形状を鋸歯形状とすることにより、グリッド部4からの反射光を基板2の内部へ閉じ込め、伝播させることが可能となる。図6において、基板2の内部で生じる1次回折光は、基板2の他面側で全反射された後に、回折構造部3で再度回折される。このとき、一部の光が外へ漏れてしまう(図中、点線の矢印)。この漏れる光を極力少なくするには、回折構造部3の断面形状が鋸歯形状であることが望ましい。   By making the cross-sectional shape of the diffractive structure part 3 into a sawtooth shape, the reflected light from the grid part 4 can be confined and propagated inside the substrate 2. In FIG. 6, the first-order diffracted light generated inside the substrate 2 is totally diffracted by the diffraction structure unit 3 after being totally reflected on the other surface side of the substrate 2. At this time, part of the light leaks to the outside (dotted arrows in the figure). In order to reduce this leaking light as much as possible, it is desirable that the cross-sectional shape of the diffractive structure 3 is a sawtooth shape.

図8(A)は回折構造部3の断面形状が鋸歯形状の場合における回折光強度と回折構造部3の深さgとの関係を示すグラフである。図8(A)において、曲線I(+)は+1次、曲線I(0)は0次、曲線I(−)は−1次を示している。
図8(A)に示すように、適当な深さg(例えば、6〜7rad)を選ぶことにより、入射光のほとんどのエネルギーを+1次の回折光へ移すことができる。そして、+1次の回折光が再度回折された場合でも、基板2の外へ漏れる光はほとんど生じない。
FIG. 8A is a graph showing the relationship between the diffracted light intensity and the depth g of the diffractive structure 3 when the diffractive structure 3 has a sawtooth cross section. In FIG. 8A, the curve I (+) indicates the + 1st order, the curve I (0) indicates the 0th order, and the curve I (−) indicates the −1st order.
As shown in FIG. 8A, most energy of incident light can be transferred to + 1st order diffracted light by selecting an appropriate depth g (for example, 6 to 7 rad). Even when the + 1st order diffracted light is diffracted again, almost no light leaks out of the substrate 2.

図8(B)は回折構造部3の断面形状が矩形の場合における回折光強度と回折構造部3の深さgとの関係を示すグラフである。図8(B)において、曲線I(+)は+1次、曲線I(0)は0次、曲線I(−)は−1次を示している。
図8(B)に示すように、適当な深さg(例えば、3〜3.3rad)を選ぶことにより、入射光の80%程度のエネルギーを+1次と−1次の回折光へ移すことができる。しかし、+1次と−1次の回折光が再度回折された場合、ある程度の光量(20%程度)が基板の外へ漏れてしまう。
FIG. 8B is a graph showing the relationship between the diffracted light intensity and the depth g of the diffractive structure 3 when the cross-sectional shape of the diffractive structure 3 is rectangular. In FIG. 8B, the curve I (+) indicates the + 1st order, the curve I (0) indicates the 0th order, and the curve I (−) indicates the −1st order.
As shown in FIG. 8B, by selecting an appropriate depth g (for example, 3 to 3.3 rad), energy of about 80% of incident light is transferred to + 1st order and −1st order diffracted light. Can do. However, when the + 1st order and −1st order diffracted light is diffracted again, a certain amount of light (about 20%) leaks out of the substrate.

図9は、回折構造部3とグリッド部4の配置を示す模式的な平面図である。この図に基づき、回折構造部3とグリッド部4との配置関係について説明する。回折構造部3とグリッド部4との相互の配置関係は、例えば図9(A)に示すような態様とすることができる。具体的には、図9(A)に示す例では、回折構造部3の各凸部3aはそれぞれ図示のY方向に沿って延在しており、かつこれらの凸部3aはX方向に沿って配列されている。同様に、グリッド部4の各細線4aはそれぞれ図示のY方向に沿って延在しており、かつこれらの細線4aはX方向に沿って交互に配置されている。すなわち、各凸部3aの延在方向と細線4aの延在方向とが平行である。   FIG. 9 is a schematic plan view showing the arrangement of the diffractive structure section 3 and the grid section 4. Based on this figure, the arrangement relationship between the diffraction structure portion 3 and the grid portion 4 will be described. The mutual arrangement relationship between the diffractive structure portion 3 and the grid portion 4 can be, for example, as shown in FIG. Specifically, in the example shown in FIG. 9A, each convex portion 3a of the diffractive structure portion 3 extends along the Y direction shown in the drawing, and these convex portions 3a extend along the X direction. Are arranged. Similarly, each thin line 4a of the grid part 4 extends along the Y direction shown in the figure, and these thin lines 4a are alternately arranged along the X direction. That is, the extending direction of each convex part 3a and the extending direction of the thin wire 4a are parallel.

また、回折構造部3とグリッド部4との相互の配置関係は、図9(B)や図9(C)に示すように、各凸部3aの延在方向と各細線4aの延在方向とがある角度で交差するようにすることも好ましい。具体的には、図9(B)に示す例では、回折構造部3の各凸部3aはそれぞれ図示のY方向に沿って延在しており、かつこれらの凸部3aはX方向に沿って配列されている。これに対して、グリッド部4の各細線4aはそれぞれ図示のY方向に対してほぼ45°の角度で交差した方向に沿って延在しており、かつこれらの細線4aは当該交差方向と直交する方向に沿って配列されている。   Moreover, as shown in FIGS. 9B and 9C, the mutual arrangement relationship between the diffractive structure portion 3 and the grid portion 4 is such that the extending direction of each convex portion 3a and the extending direction of each thin wire 4a. It is also preferable to cross each other at a certain angle. Specifically, in the example shown in FIG. 9B, each convex portion 3a of the diffractive structure portion 3 extends along the Y direction shown in the drawing, and these convex portions 3a extend along the X direction. Are arranged. On the other hand, each thin line 4a of the grid portion 4 extends along a direction intersecting with the illustrated Y direction at an angle of approximately 45 °, and these thin lines 4a are orthogonal to the intersecting direction. Are arranged along the direction.

図9(C)に示す例では、回折構造部3の各凸部3aはそれぞれ図示のY方向に沿って延在しており、かつこれらの凸部3aはX方向に沿って配列されている。これに対して、グリッド部4の各細線4aはそれぞれ図示のY方向に対してほぼ90°の角度で交差した方向(すなわちX方向)に沿って延在しており、かつこれらの細線4aは当該交差方向と直交する方向(すなわちY方向)に沿って配列されている。このように、凸部3aと各細線4aとを交差させることにより、各凸部3aの段差の近傍における細線4aの形成がより容易となる。各凸部3aの延在方向と各細線4aの延在方向との交差角度は適宜設定すればよい。上記の一例とした交差角度である45°および90°は、光学系一般においてよく用いられる角度であるために好ましい。   In the example shown in FIG. 9C, each convex portion 3a of the diffractive structure portion 3 extends along the Y direction shown in the drawing, and these convex portions 3a are arranged along the X direction. . On the other hand, each thin line 4a of the grid portion 4 extends along a direction intersecting at an angle of approximately 90 ° with respect to the illustrated Y direction (that is, the X direction), and these thin lines 4a are They are arranged along a direction orthogonal to the intersecting direction (that is, the Y direction). Thus, by making the convex part 3a and each thin wire | line 4a cross, formation of the thin wire | line 4a in the vicinity of the level | step difference of each convex part 3a becomes easier. What is necessary is just to set suitably the intersection angle of the extension direction of each convex part 3a, and the extension direction of each thin wire | line 4a. The crossing angles of 45 ° and 90 ° as an example above are preferable because they are often used in optical systems in general.

次にこの光学素子1の製造方法の一例について説明する。
図10および図11は、光学素子1の製造方法の一例を示す模式工程図である。図10および図11においては、光学素子1の断面の一部が拡大して示されている。
Next, an example of a method for manufacturing the optical element 1 will be described.
10 and 11 are schematic process diagrams showing an example of a method for manufacturing the optical element 1. 10 and 11, a part of the cross section of the optical element 1 is shown in an enlarged manner.

まず、基板2の一面に凸部3aからなる回折構造部3が形成される(図10(A))。本工程は、例えば周知のフォトリソグラフィ技術およびエッチング技術を用いて実現できる。具体的には、基板2の一面上に感光膜(レジスト膜等)を形成しておき、各凸部3aに対応した露光パターンを有する露光マスクを用いてこの感光膜を露光し、現像する。その後、この現像後の感光膜をエッチングマスクとして用いて、ドライエッチングまたはウェットエッチングを行う。それにより、露光マスクのパターンが基板2の一面に所定の凹凸形状が形成される。ここで、基板2は、例えば上記のようにガラス基板であり、その板厚は例えば0.7mmである。また、凸部3aの高さ(すなわち回折構造部3の深さg)は、例えば上記のように205nmである。この深さgは、エッチング時間等によって制御する。   First, the diffractive structure 3 including the convex portions 3a is formed on one surface of the substrate 2 (FIG. 10A). This step can be realized using, for example, a well-known photolithography technique and etching technique. Specifically, a photosensitive film (resist film or the like) is formed on one surface of the substrate 2, and the photosensitive film is exposed and developed using an exposure mask having an exposure pattern corresponding to each convex portion 3a. Thereafter, dry etching or wet etching is performed using the developed photosensitive film as an etching mask. Thereby, a predetermined uneven shape is formed on one surface of the substrate 2 of the pattern of the exposure mask. Here, the board | substrate 2 is a glass substrate, for example as mentioned above, The plate | board thickness is 0.7 mm, for example. Further, the height of the convex portion 3a (that is, the depth g of the diffraction structure portion 3) is, for example, 205 nm as described above. This depth g is controlled by the etching time or the like.

次に、基板2の一面上に、凸部3aを覆う金属膜7が形成される(図10(B))。この金属膜7は、後の工程において加工され、上記のグリッド部4を構成する各細線4aとなるものである。金属膜7は、例えばアルミニウム膜、銀膜、ニッケル膜などであり、その膜厚は例えば120nm程度である。このような金属膜7は、例えば真空蒸着法やスパッタリング法などの物理気相堆積法を用いて形成することができる。   Next, a metal film 7 covering the convex portion 3a is formed on one surface of the substrate 2 (FIG. 10B). This metal film 7 is processed in a later process and becomes each thin wire 4a constituting the grid portion 4 described above. The metal film 7 is, for example, an aluminum film, a silver film, or a nickel film, and the film thickness is, for example, about 120 nm. Such a metal film 7 can be formed by using, for example, a physical vapor deposition method such as a vacuum evaporation method or a sputtering method.

次に、基板2の一面上に、金属膜7を覆う反射防止膜8が形成される(図10(C))。この反射防止膜8は、後の工程において感光膜を露光する際に露光精度を向上する目的で用いられる。このような反射防止膜8としては、例えばSiON(酸化窒化硅素)膜、SnO(酸化錫膜)、ITO(インジウム錫酸化物)膜などが適している。反射防止膜8の膜厚は、例えば数十nm程度である。ある膜が反射防止膜として利用できるかどうかはその膜の材料が有する複素屈折率に依存し、例えば、複素屈折率の実部の値が+1.4以上、複素屈折率の虚部の値が−0.1〜−1.5くらいであることが望ましい。   Next, an antireflection film 8 that covers the metal film 7 is formed on one surface of the substrate 2 (FIG. 10C). This antireflection film 8 is used for the purpose of improving the exposure accuracy when exposing the photosensitive film in a later step. As such an antireflection film 8, for example, a SiON (silicon oxynitride) film, a SnO (tin oxide film), an ITO (indium tin oxide) film or the like is suitable. The thickness of the antireflection film 8 is, for example, about several tens of nm. Whether a film can be used as an antireflection film depends on the complex refractive index of the material of the film. For example, the real part value of the complex refractive index is +1.4 or more, and the imaginary part value of the complex refractive index is It is desirable to be about -0.1 to -1.5.

次に、基板2の一面上に、反射防止膜8(又は金属膜7)を覆う感光膜9が形成される(図10(C))。感光膜9は、例えばネガ型またはポジ型のレジスト膜である。感光膜9は、例えばスピンコート法を用いて形成することができる。この感光膜9の膜厚は適宜設定すればよいが、少なくとも各凸部3aに重畳する領域を全て覆い、かつ図示のように膜表面がほぼ平坦となるようにすることが望ましい。この場合、回折構造部3の上部(凸部3a頂点)における感光膜9の膜厚と回折構造部3の下部(凸部3aの底部に対応する領域)における感光膜9の膜厚との差は、上記した回折構造部3の深さgとほぼ等しい。   Next, a photosensitive film 9 that covers the antireflection film 8 (or the metal film 7) is formed on one surface of the substrate 2 (FIG. 10C). The photosensitive film 9 is, for example, a negative or positive resist film. The photosensitive film 9 can be formed using, for example, a spin coating method. The film thickness of the photosensitive film 9 may be set as appropriate, but it is desirable to cover at least all the regions overlapping with the respective protrusions 3a and to make the film surface substantially flat as shown. In this case, the difference between the film thickness of the photosensitive film 9 at the upper part of the diffractive structure 3 (the apex of the convex part 3a) and the film thickness of the photosensitive film 9 at the lower part of the diffractive structure part 3 (a region corresponding to the bottom of the convex part 3a). Is substantially equal to the depth g of the diffractive structure 3 described above.

次に、基板2の一面上に形成された感光膜9に対して、レーザー干渉露光が行われる(図11(A))。レーザー干渉露光に用いられる光源としては、例えば波長266nmの連続発振DUV(Deep Ultra Violet)レーザーが挙げられる。このレーザーから出力されるレーザー光を適宜2本のレーザー光に分岐し、図示のように所定の角度θで交叉させる。それにより、周期的な明暗からなる干渉縞を含む光(干渉光)が発生する。干渉縞のピッチ(明暗の周期)は上記の交叉角度θによって決まる。例えば、交叉角度θを72°に設定することにより、干渉縞のピッチを140nmとすることができる。このような干渉光を感光膜9に照射することにより、感光膜9には干渉縞のピッチに対応した潜像パターンが形成される。このとき、上述したように感光膜9の下側に反射防止膜8が設けられていることにより、レーザー光が金属膜7によって反射され、露光精度が低下するという不都合を回避することができる。 Next, laser interference exposure is performed on the photosensitive film 9 formed on one surface of the substrate 2 (FIG. 11A). As a light source used for laser interference exposure, for example, a continuous wave DUV (Deep Ultra Violet) laser having a wavelength of 266 nm may be mentioned. The laser beam output from the laser is split into an appropriate two laser beams, thereby intersect at a predetermined angle theta L as shown. Thereby, light (interference light) including interference fringes composed of periodic brightness and darkness is generated. Pitch of the interference fringes (the period of light and dark) is determined by the crossover angle theta L. For example, by setting the crossing angle theta L to 72 °, the pitch of the interference fringes can be 140 nm. By irradiating the photosensitive film 9 with such interference light, a latent image pattern corresponding to the pitch of the interference fringes is formed on the photosensitive film 9. At this time, as described above, since the antireflection film 8 is provided on the lower side of the photosensitive film 9, the disadvantage that the laser light is reflected by the metal film 7 and the exposure accuracy is reduced can be avoided.

次に、干渉光を用いて潜像パターンが形成された感光膜9が現像される(図11(B))。それにより、図示のように干渉縞のピッチに対応した周期を有する感光膜パターン9aが形成される。例えば、干渉縞のピッチを140nmとした場合には、この感光膜パターン9aの周期も概ね140nmとなる。   Next, the photosensitive film 9 on which the latent image pattern is formed using the interference light is developed (FIG. 11B). As a result, a photosensitive film pattern 9a having a period corresponding to the pitch of the interference fringes is formed as shown. For example, when the pitch of the interference fringes is 140 nm, the period of the photosensitive film pattern 9a is approximately 140 nm.

次に、感光膜パターン9aをマスクとしてエッチング(例えば、ドライエッチング)が行われる(図11(C))。それにより、図示のように感光膜パターン9aのパターンが反射防止膜8に転写され、更に当該パターンが金属膜7に転写される。その後、感光膜パターン9aおよび反射防止膜8が除去される。それにより、図示のように基板2の一面上に、回折構造部3の各凸部3aの表面に沿ってグリッド部4(すなわち、各細線4a)が形成される。   Next, etching (for example, dry etching) is performed using the photosensitive film pattern 9a as a mask (FIG. 11C). As a result, the pattern of the photosensitive film pattern 9 a is transferred to the antireflection film 8 as shown in the drawing, and the pattern is further transferred to the metal film 7. Thereafter, the photosensitive film pattern 9a and the antireflection film 8 are removed. Thereby, the grid part 4 (namely, each thin wire | line 4a) is formed along the surface of each convex part 3a of the diffraction structure part 3 on one surface of the board | substrate 2 like illustration.

なお、上述の製造方法においては、反射防止膜8と金属膜7との間に極薄い膜厚(例えば、20nm程度)のSiO膜を設けておくことも好ましい。それにより、金属膜7に対するエッチング選択比をより向上させることが可能となり、感光膜9をより薄くすることができる。このことは、潜像パターンが浅くなることを意味し、安定した露光を行う点でより有利になる。この場合には、上記の反射防止膜8を形成する工程の後、金属膜7を形成する工程に先だって、SiO膜を形成する工程を行えばよい。SiO膜は、例えば化学気相堆積法によって形成することができる。また、プロセス条件等によっては反射防止膜8を省略することもできる。 In the above manufacturing method, it is also preferable to provide an extremely thin SiO 2 film (for example, about 20 nm) between the antireflection film 8 and the metal film 7. As a result, the etching selectivity with respect to the metal film 7 can be further improved, and the photosensitive film 9 can be made thinner. This means that the latent image pattern becomes shallow, which is more advantageous in terms of performing stable exposure. In this case, after the step of forming the antireflection film 8, the step of forming the SiO 2 film may be performed prior to the step of forming the metal film 7. The SiO 2 film can be formed by, for example, chemical vapor deposition. Further, the antireflection film 8 can be omitted depending on process conditions and the like.

上記した本実施形態の光学素子1は、種々の光学装置に組み込んで用いることもできる。以下、光学装置の一例として、液晶ライトバルブを用いた投写型の表示装置(液晶プロジェクタ)について説明する。   The above-described optical element 1 of the present embodiment can be used by being incorporated into various optical devices. Hereinafter, as an example of the optical device, a projection type display device (liquid crystal projector) using a liquid crystal light valve will be described.

図12は、本実施形態に係る光学素子を用いた投写型の表示装置の構成例を示す模式図である。図12では原理的な構成を説明するために1つの光学系のみを示している。図12に示す表示装置は、水銀ランプ等の光源50、光学素子51、液晶ライトバルブ(液晶パネル)52、光学素子53、瞳54a、投射レンズ54、を含む。図中の1点鎖線は、光源50から出力される光の光路を示している。この光路上に、光学素子51、液晶ライトバルブ52、光学素子53、投射レンズ54が順に配置されている。この表示装置において、少なくとも光学素子53として本実施形態に係る光学素子が用いられる。   FIG. 12 is a schematic diagram illustrating a configuration example of a projection display device using the optical element according to the present embodiment. FIG. 12 shows only one optical system for explaining the principle configuration. The display device shown in FIG. 12 includes a light source 50 such as a mercury lamp, an optical element 51, a liquid crystal light valve (liquid crystal panel) 52, an optical element 53, a pupil 54a, and a projection lens 54. A one-dot chain line in the drawing indicates an optical path of light output from the light source 50. On the optical path, an optical element 51, a liquid crystal light valve 52, an optical element 53, and a projection lens 54 are arranged in this order. In this display device, at least the optical element according to the present embodiment is used as the optical element 53.

光学素子51は、偏光分離機能を有する素子である。すなわち、光源50から出力された光がこの光学素子51に入射すると、一方の偏光成分だけが透過し、他方の偏光成分は透過しない。光学素子51は、例えば樹脂を一軸延伸する等によって得られる高分子タイプの偏光板である。また、光学素子51は、上記のグリッド部のような微細な多数の細線を透明基板上に設けたものであってもよい。このような構造の光学素子は、耐光性に優れており、入射光のうち各細線と平行な偏光成分を反射し、各細線と直交する偏光成分を透過させる。   The optical element 51 is an element having a polarization separation function. That is, when the light output from the light source 50 enters the optical element 51, only one polarization component is transmitted, and the other polarization component is not transmitted. The optical element 51 is a polymer-type polarizing plate obtained, for example, by uniaxially stretching a resin. Further, the optical element 51 may be one in which a large number of fine fine lines such as the above-described grid portion are provided on a transparent substrate. The optical element having such a structure is excellent in light resistance, and reflects a polarized light component parallel to each thin line in incident light and transmits a polarized light component orthogonal to each thin line.

液晶ライトバルブ52は、対向配置された2つの透明基板間に液晶材料(液晶層)が配置されている。この液晶ライトバルブ52は、各透明基板に設けられた電極を通じて液晶材料に適宜電圧を印加することにより、液晶分子の配向状態が制御される。この液晶分子の配向状態を制御することにより、光学素子51を透過した光の偏光状態を適宜変化させることができる。この光の偏光状態の変化に基づいて、スクリーン60に投射されるべき画像が形成される。すなわち、液晶ライトバルブ52は、光変調装置(光変調手段)としての機能を果たす。   In the liquid crystal light valve 52, a liquid crystal material (liquid crystal layer) is disposed between two transparent substrates disposed opposite to each other. The liquid crystal light valve 52 controls the alignment state of the liquid crystal molecules by appropriately applying a voltage to the liquid crystal material through the electrodes provided on each transparent substrate. By controlling the alignment state of the liquid crystal molecules, the polarization state of the light transmitted through the optical element 51 can be appropriately changed. Based on the change in the polarization state of the light, an image to be projected on the screen 60 is formed. In other words, the liquid crystal light valve 52 functions as a light modulation device (light modulation means).

光学素子53は、上記したように本実施形態に係る光学素子である。この光学素子53は、回折構造部およびグリッド部(図示を省略)が設けられた一面53aが光路の後段側に配置され、これらの回折構造部等が設けられていない他面53bが光路の前段側(光源50側)に配置される。このように配置することにより、液晶ライトバルブ52を透過した光のうち、TE成分が上述したようにして回折および全反射し、光学素子53の基板中を基板端部へ向かって伝搬する。それにより、液晶ライトバルブ52への戻り光が著しく軽減され、液晶ライトバルブ52の誤動作等の不具合を防止することが可能となる。   The optical element 53 is an optical element according to this embodiment as described above. In this optical element 53, one surface 53a provided with a diffractive structure portion and a grid portion (not shown) is disposed on the rear side of the optical path, and the other surface 53b provided with no diffractive structure portion or the like is provided on the front side of the optical path. It is arranged on the side (light source 50 side). With this arrangement, the TE component of the light transmitted through the liquid crystal light valve 52 is diffracted and totally reflected as described above, and propagates through the substrate of the optical element 53 toward the substrate end. As a result, the return light to the liquid crystal light valve 52 is remarkably reduced, and problems such as malfunction of the liquid crystal light valve 52 can be prevented.

なお、上記の光学素子51についても本実施形態に係る光学素子が用いられてもよい。
その場合には、光学素子53と同様に配置される。すなわち、この場合の光学素子51は、回折構造部およびグリッド部(図示を省略)が設けられた一面51aが光路の後段側(液晶ライトバルブ52側)に配置され、これらの回折構造部等が設けられていない他面51bが光路の前段側(光源50側)に配置される。
Note that the optical element according to the present embodiment may also be used for the optical element 51 described above.
In that case, it is arranged in the same manner as the optical element 53. That is, in this case, the optical element 51 has a surface 51a provided with a diffractive structure portion and a grid portion (not shown) disposed on the rear side of the optical path (the liquid crystal light valve 52 side). The other surface 51b that is not provided is disposed on the front side (light source 50 side) of the optical path.

これらの光学素子51、液晶ライトバルブ52および光学素子53によって形成された画像は、瞳54aを介して投射レンズ54に入射し、投射レンズ54によって拡大されてスクリーン60に結像する。それにより、拡大された画像がスクリーン60上に表示される。   An image formed by the optical element 51, the liquid crystal light valve 52, and the optical element 53 is incident on the projection lens 54 through the pupil 54a, and is magnified by the projection lens 54 to form an image on the screen 60. As a result, the enlarged image is displayed on the screen 60.

次に、上記した投写型の表示装置の応用例として、3つの光学系を有する投写型の表示装置の構成例を説明する。なお、以下の各応用例において、上記図12に示した表示装置と共通する構成要素については同符号を付し、それらの詳細な説明は省略する。   Next, a configuration example of a projection display device having three optical systems will be described as an application example of the above-described projection display device. Note that, in each of the following application examples, components common to the display device illustrated in FIG. 12 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

図13は、3つの光学系を有する投写型表示装置の構成例を示す模式図である。図13に示す投写型の表示装置は、図示のように、プリズム(光合成手段)56の有する4面のうち、1つの面に光学素子51B、液晶ライトバルブ52B及び光学素子53Bが対向配置され、他の1つの面に光学素子51G、液晶ライトバルブ52G及び光学素子53Gが対向配置され、他の1つの面に光学素子51R、液晶ライトバルブ52R及び光学素子53Rが対向配置されている。   FIG. 13 is a schematic diagram illustrating a configuration example of a projection display device having three optical systems. In the projection type display device shown in FIG. 13, the optical element 51B, the liquid crystal light valve 52B, and the optical element 53B are arranged to face each other on one of the four faces of the prism (light combining means) 56, as shown in the figure. The optical element 51G, the liquid crystal light valve 52G, and the optical element 53G are arranged to face each other on one surface, and the optical element 51R, the liquid crystal light valve 52R, and the optical element 53R are arranged to face each other on the other surface.

この投写型表示装置においては、光源50から出力された光はダイクロイックミラー58aに入射する。この入射光のうち、青色成分は透過し、残りの成分は反射される。透過した青色成分(以下「青色光」という。)は、ミラー57aによって反射され、光学素子51Bに入射し、液晶ライトバルブ52Bによって適宜変調され、光学素子53Bを通過してプリズム56の1つの面に入射する。また、ダイクロイックミラー58aによって反射された光成分はダイクロイックミラー58bに入射する。この入射光のうち、赤色成分は透過し、緑色成分は反射される。透過した赤色成分(以下「赤色光」という。)は、各ミラー57b、57cによって反射され、光学素子51Rに入射し、液晶ライトバルブ52Rによって適宜変調され、光学素子53Rを通過してプリズム56の他の1面に入射する。反射した緑色成分(以下「緑色光」という。)は、光学素子51Gに入射し、液晶ライトバルブ52Gによって適宜変調され、光学素子53Gを通過してプリズム56の他の1面に入射する。プリズム56の3面にそれぞれ入射した青色光、緑色光、赤色光は、プリズム56によって合成され、当該プリズム56の他の1面から出射する。この出射した合成光が投射レンズ55によって拡大され、スクリーン60上に投射される。   In this projection display device, the light output from the light source 50 enters the dichroic mirror 58a. Of this incident light, the blue component is transmitted and the remaining components are reflected. The transmitted blue component (hereinafter referred to as “blue light”) is reflected by the mirror 57a, enters the optical element 51B, is appropriately modulated by the liquid crystal light valve 52B, passes through the optical element 53B, and passes through one surface of the prism 56. Is incident on. The light component reflected by the dichroic mirror 58a is incident on the dichroic mirror 58b. Of this incident light, the red component is transmitted and the green component is reflected. The transmitted red component (hereinafter referred to as “red light”) is reflected by the mirrors 57b and 57c, enters the optical element 51R, is appropriately modulated by the liquid crystal light valve 52R, passes through the optical element 53R, and passes through the optical element 53R. Incident on the other surface. The reflected green component (hereinafter referred to as “green light”) enters the optical element 51G, is appropriately modulated by the liquid crystal light valve 52G, passes through the optical element 53G, and enters the other surface of the prism 56. Blue light, green light, and red light respectively incident on the three surfaces of the prism 56 are combined by the prism 56 and emitted from the other surface of the prism 56. The emitted combined light is magnified by the projection lens 55 and projected onto the screen 60.

なお、図13に示す光学素子51R、51G、51Bが上記実施形態の光学素子51に相当し、液晶ライトバルブ52R、52G、52Bが上記実施形態の液晶ライトバルブ52に相当し、光学素子53R、53G、53Bが上記実施形態の光学素子53に相当する。各光学素子53R、53G、53Bは、それぞれ回折構造部およびグリッド部が設けられる一面側が光路上の後段側(プリズム側)に配置され、他面側が光路上の前段側(液晶ライトバルブ側)に配置される。また、各光学素子51R、51G、51Bにも回折構造部等を設ける場合には、各光学素子51R、51G、51Bは、それぞれ回折構造部およびグリッド部が設けられる一面側が光路上の後段側(液晶ライトバルブ側)に配置され、他面側が光路上の前段側(ミラー又はダイクロイックミラー側)に配置される。   The optical elements 51R, 51G, and 51B shown in FIG. 13 correspond to the optical element 51 of the above embodiment, the liquid crystal light valves 52R, 52G, and 52B correspond to the liquid crystal light valve 52 of the above embodiment, and the optical elements 53R, 53G and 53B correspond to the optical element 53 of the above embodiment. In each of the optical elements 53R, 53G, and 53B, one surface side on which the diffractive structure portion and the grid portion are provided is disposed on the rear stage side (prism side) on the optical path, and the other surface side is on the front stage side (liquid crystal light valve side) on the optical path. Be placed. In addition, when the diffractive structure is provided also in each of the optical elements 51R, 51G, and 51B, each optical element 51R, 51G, and 51B has the one side where the diffractive structure and the grid are provided on the rear side of the optical path ( It is arranged on the liquid crystal light valve side, and the other surface side is arranged on the front stage side (mirror or dichroic mirror side) on the optical path.

図14は、3つの光学系を有する投写型表示装置の他の構成例を示す模式図である。この構成例は、上記図13に示した投写型表示装置とは異なり、プリズムを用いないで構成された投写型表示装置である。   FIG. 14 is a schematic diagram showing another configuration example of a projection display device having three optical systems. Unlike the projection display apparatus shown in FIG. 13, the configuration example is a projection display apparatus configured without using a prism.

この投写型表示装置においては、光源50から出力された光はダイクロイックミラー58aに入射する。この入射光のうち、赤色成分のみが反射され、残りの各成分は透過する。透過した各成分は、ダイクロイックミラー58bに入射する。この入射光のうち、緑色成分(緑色光)は反射され、青色成分(青色光)は透過する。透過した青色光は光学素子51Bに入射し、液晶ライトバルブ52Bによって適宜変調され、光学素子53Bを通過してミラー57bに入射する。ミラー57bに入射した青色光は反射され、ダイクロイックミラー58dに入射し、当該ダイクロイックミラー58dによって反射され、投射レンズ55に入射する。また、ダイクロイックミラー58aによって反射された赤色光はミラー57aに入射し、反射される。この反射された赤色光は光学素子51Rに入射し、液晶ライトバルブ52Rによって適宜変調され、光学素子53Rを通過してダイクロイックミラー58cに入射する。ダイクロイックミラー58cに入射した赤色光は、当該ダイクロイックミラー58cを透過してダイクロイックミラー58dに入射する。ダイクロイックミラー58dに入射した赤色光は当該ダイクロイックミラー58dを透過し、投射レンズ55に入射する。また、ダイクロイックミラー58bによって反射された緑色光は光学素子51Gに入射し、液晶ライトバルブ52Gによって適宜変調され、光学素子53Gを通過してダイクロイックミラー58cに入射する。ダイクロイックミラー58cに入射した緑色光は当該ダイクロイックミラー58cに反射され、ダイクロイックミラー58dに入射し、当該ダイクロイックミラー58dを透過し、投射レンズ55に入射する。このようにして最終的に合成され、投射レンズ55に入射した合成光(青色光、緑色光、赤色光の合成光)が投射レンズ55によって拡大され、スクリーン60上に投射される。   In this projection display device, the light output from the light source 50 enters the dichroic mirror 58a. Of this incident light, only the red component is reflected and the remaining components are transmitted. Each transmitted component enters the dichroic mirror 58b. Of this incident light, the green component (green light) is reflected and the blue component (blue light) is transmitted. The transmitted blue light enters the optical element 51B, is appropriately modulated by the liquid crystal light valve 52B, passes through the optical element 53B, and enters the mirror 57b. The blue light incident on the mirror 57b is reflected, incident on the dichroic mirror 58d, reflected by the dichroic mirror 58d, and incident on the projection lens 55. The red light reflected by the dichroic mirror 58a enters the mirror 57a and is reflected. The reflected red light enters the optical element 51R, is appropriately modulated by the liquid crystal light valve 52R, passes through the optical element 53R, and enters the dichroic mirror 58c. The red light incident on the dichroic mirror 58c passes through the dichroic mirror 58c and enters the dichroic mirror 58d. The red light incident on the dichroic mirror 58d passes through the dichroic mirror 58d and enters the projection lens 55. The green light reflected by the dichroic mirror 58b enters the optical element 51G, is appropriately modulated by the liquid crystal light valve 52G, passes through the optical element 53G, and enters the dichroic mirror 58c. The green light incident on the dichroic mirror 58c is reflected by the dichroic mirror 58c, enters the dichroic mirror 58d, passes through the dichroic mirror 58d, and enters the projection lens 55. The combined light (the combined light of blue light, green light, and red light) finally combined and incident on the projection lens 55 is enlarged by the projection lens 55 and projected onto the screen 60.

本例においても、光学素子51R、51G、51Bが上記実施形態の光学素子51に相当し、液晶ライトバルブ52R、52G、52Bが上記実施形態の液晶ライトバルブ52に相当し、光学素子53R、53G、53Bが上記実施形態の光学素子53に相当する。
各光学素子53R、53G、53Bは、それぞれ回折構造部およびグリッド部が設けられる一面側が光路上の後段側(ミラー又はダイクロイックミラー側)に配置され、他面側が光路上の前段側(液晶ライトバルブ側)に配置される。また、各光学素子51R、51G、51Bにも回折構造部等を設ける場合には、各光学素子51R、51G、51Bは、それぞれ回折構造部およびグリッド部が設けられる一面側が光路上の後段側(液晶ライトバルブ側)に配置され、他面側が光路上の前段側(ミラー又はダイクロイックミラー側)に配置される。
Also in this example, the optical elements 51R, 51G, 51B correspond to the optical element 51 of the above embodiment, the liquid crystal light valves 52R, 52G, 52B correspond to the liquid crystal light valve 52 of the above embodiment, and the optical elements 53R, 53G. , 53B corresponds to the optical element 53 of the above embodiment.
In each of the optical elements 53R, 53G, and 53B, one surface side on which the diffractive structure portion and the grid portion are provided is disposed on the rear stage side (mirror or dichroic mirror side) on the optical path, and the other surface side is the front stage side (liquid crystal light valve) on the optical path. Side). In addition, when the diffractive structure is provided also in each of the optical elements 51R, 51G, and 51B, each optical element 51R, 51G, and 51B has the one side where the diffractive structure and the grid are provided on the rear side of the optical path ( It is arranged on the liquid crystal light valve side, and the other surface side is arranged on the front stage side (mirror or dichroic mirror side) on the optical path.

なお、各実施形態の投写型表示装置において、光源50はレーザー光源であってもよい。その場合、光の波長幅が極めて狭いため、本実施形態に係る光学素子による光の制御性が更に向上する。
また、各光学素子は、それぞれが対象とする光の波長λに応じて回折構造部およびグリッド部の構造が最適化されることも好ましい。例えば、上記図13又は図14に示す光学系において、青色光に対応する光学素子53Bに対しては波長λを450nm、緑色光に対応する光学素子53Gに対しては波長λを550nm、赤色光に対応する光学素子53Rに対しては波長λを650nmとして上記(1)式〜(8)式の各関係式を適用することにより、各光学素子の構造を各波長ごとに最適化することができる。
In the projection display device of each embodiment, the light source 50 may be a laser light source. In that case, since the wavelength width of light is extremely narrow, the controllability of light by the optical element according to the present embodiment is further improved.
In addition, it is also preferable that the structures of the diffractive structure portion and the grid portion of each optical element are optimized in accordance with the wavelength λ of the target light. For example, in the optical system shown in FIG. 13 or FIG. 14, the wavelength λ is 450 nm for the optical element 53B corresponding to blue light, and the wavelength λ is 550 nm for the optical element 53G corresponding to green light. For the optical element 53R corresponding to the above, it is possible to optimize the structure of each optical element for each wavelength by applying the relational expressions (1) to (8) above with a wavelength λ of 650 nm. it can.

このように、本実施形態の光学素子によれば、グリッド部の作用により入射光のうち一方の偏光成分が反射され、他方の偏光成分が透過する。また、この反射される偏光成分(反射光)は、回折構造部の作用により、十分に大きな角度で回折される。上記したパラメータの関係が満たされることにより、この回折された反射光は、基板の他面とその周囲の媒体(例えば空気)との界面において全反射され、基板中を伝搬し、基板端部へ向かう。
したがって、本発明に係る光学素子を所望の光学系に用いた際には、グリッド部によって生じた反射光が光路の前段側へ戻ることがなく、不要な反射光による悪影響が抑制される。
Thus, according to the optical element of this embodiment, one polarization component of incident light is reflected by the action of the grid portion, and the other polarization component is transmitted. Further, the reflected polarization component (reflected light) is diffracted at a sufficiently large angle by the action of the diffraction structure portion. When the above-described parameter relationship is satisfied, the diffracted reflected light is totally reflected at the interface between the other surface of the substrate and the surrounding medium (for example, air), propagates in the substrate, and reaches the edge of the substrate. Head.
Therefore, when the optical element according to the present invention is used in a desired optical system, the reflected light generated by the grid portion does not return to the previous stage of the optical path, and adverse effects due to unnecessary reflected light are suppressed.

また、本実施形態の投写型表示装置によれば、少なくとも液晶ライトバルブの後段側の光学素子として回折構造部とグリッド部とを有する上記の光学素子が用いられることにより、グリッド部による反射光が液晶ライトバルブへ入射することを回避できる。それにより、不要な光が入射することによって液晶ライトバルブの安定動作が妨げられることがない。また、複数の金属細線からなるグリッド部によって偏光分離素子として用いるので、耐光性に優れた表示装置を実現できる。よって、本発明によれば高性能な表示装置を提供することが可能となる。また、液晶ライトバルブの前段側の光学素子としても回折構造部とグリッド部とを有する上記の光学素子が用いられた場合には、更に高性能、高品質な表示装置を提供することが可能となる。   Further, according to the projection display device of the present embodiment, the above-described optical element having the diffractive structure part and the grid part is used as an optical element on the rear side of the liquid crystal light valve, so that the reflected light from the grid part is reflected. It is possible to avoid entering the liquid crystal light valve. Thereby, the stable operation of the liquid crystal light valve is not hindered by the incidence of unnecessary light. Moreover, since it uses as a polarization separation element by the grid part which consists of a some metal fine wire, the display apparatus excellent in light resistance is realizable. Therefore, according to the present invention, a high-performance display device can be provided. Further, when the above-described optical element having a diffractive structure part and a grid part is used as an optical element on the front side of the liquid crystal light valve, it is possible to provide a display device with higher performance and higher quality. Become.

なお、本発明は上述した実施形態の内容に限定されず、本発明の要旨の範囲内において種々に変形して実施をすることが可能である。
例えば、基板上の位置によって入射する光の波長や入射角度等の条件が異なる場合に、その条件に対応して同一基板上で回折構造体の凸部の深さや幅、形状等を異ならせてもよい。
また、上述した実施形態では、基板の一面側に対してエッチング等の加工を行うことによって回折構造部を形成していたが、他の製造方法を採用することも可能である。具体的には、基板の一面上にポリマー(高分子樹脂)膜を形成し、その後このポリマー膜に対してフォトマスク露光およびウェットエッチングを行うことによって、上記と同様な光学素子を形成することも可能である。また、これ以外にも、型成形が可能な光屈折率ガラス(n=2.0程度)を用いて、回折構造部を有する基板を一体成形してもよい。この場合、屈折率が高いことにより、回折構造部の深さgをより小さくすることが可能となるので、グリッド部を形成する上で好ましい。また、基板上に他の膜(例えば、SiOなどの無機膜)を形成し、この膜を選択的にエッチングすることにより回折構造部を形成することもできる。
The present invention is not limited to the contents of the above-described embodiments, and various modifications can be made within the scope of the gist of the present invention.
For example, when conditions such as the wavelength of incident light and the incident angle differ depending on the position on the substrate, the depth, width, shape, etc. of the convex portions of the diffractive structure are varied on the same substrate in accordance with the conditions. Also good.
In the above-described embodiment, the diffractive structure is formed by performing processing such as etching on one side of the substrate. However, other manufacturing methods may be employed. Specifically, an optical element similar to the above may be formed by forming a polymer (polymer resin) film on one surface of the substrate and then performing photomask exposure and wet etching on the polymer film. Is possible. In addition to this, a substrate having a diffractive structure portion may be integrally formed using a light refractive index glass (n = about 2.0) that can be molded. In this case, since the refractive index is high, the depth g of the diffractive structure portion can be further reduced, which is preferable in forming the grid portion. Alternatively, the diffraction structure can be formed by forming another film (for example, an inorganic film such as SiO 2 ) on the substrate and selectively etching the film.

また、上述した実施形態では、光学素子の用途の一例として投写型表示装置を例示していたが、本発明に係る光学素子の応用例はこれに限定されるものではない。投写型表示装置は本発明に係る光学素子を備える光学装置の一例に過ぎない。本発明に係る光学素子は、他にも例えば偏光分離層を必要とする液晶ディスプレイへも適用することが可能である。もちろん、本発明に係る光学素子の表示用途の光学装置に限定されず、偏光分離機能を必要とする種々の光学装置一般に対し、本発明に係る光学素子を用いることが可能である。   In the above-described embodiment, the projection display device is illustrated as an example of the use of the optical element. However, the application example of the optical element according to the present invention is not limited to this. The projection display device is only an example of an optical device including the optical element according to the present invention. The optical element according to the present invention can also be applied to, for example, a liquid crystal display that requires a polarization separation layer. Of course, the optical device according to the present invention is not limited to the optical device for display of the optical element according to the present invention, and the optical element according to the present invention can be used for various optical devices in general that require a polarization separation function.

本発明の実施形態における光学素子の断面構造を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the cross-section of the optical element in embodiment of this invention. 本発明の実施形態における光学素子の断面構造を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the cross-section of the optical element in embodiment of this invention. 本発明の実施形態における光学素子の断面構造を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the cross-section of the optical element in embodiment of this invention. 本発明の実施形態におけるグリッド部の一部を拡大して示した模式的な斜視図である。It is the typical perspective view which expanded and showed a part of grid part in the embodiment of the present invention. 回折構造部のパターンの一部を示す模式的な平面図である。It is a typical top view which shows a part of pattern of a diffraction structure part. 回折構造部およびグリッド部の一部を拡大して示した模式断面図である。It is the schematic cross section which expanded and showed a part of diffraction structure part and a grid part. 回折構造部およびグリッド部の一部を拡大して示した模式断面図である。It is the schematic cross section which expanded and showed a part of diffraction structure part and a grid part. 凸部の深さに対する反射回折効率を示すグラフである。It is a graph which shows the reflection diffraction efficiency with respect to the depth of a convex part. 回折構造部とグリッド部の配置を示す模式的な平面図である。It is a typical top view which shows arrangement | positioning of a diffraction structure part and a grid part. 光学素子の製造方法の一例を示す模式工程図である。It is a schematic process drawing which shows an example of the manufacturing method of an optical element. 光学素子の製造方法の一例を示す模式工程図である。It is a schematic process drawing which shows an example of the manufacturing method of an optical element. 投写型の表示装置の構成例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structural example of a projection type display apparatus. 3つの光学系を有する投写型表示装置の構成例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structural example of the projection type display apparatus which has three optical systems. 3つの光学系を有する投写型表示装置の構成例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structural example of the projection type display apparatus which has three optical systems.

符号の説明Explanation of symbols

1,1a 光学素子、2 基板、3 回折構造部、3a 凸部、4 グリッド部、4a 細線、5 光減衰部、10 接着層、20 基板(第2の基板)、50 光源、51R,51G,51B 光学素子、52R,52G,52B 液晶ライトバルブ、53R,53G,53B 光学素子、54,55 投射レンズ、80 入射光、δ 相互間隔、d 相互間隔、λ 波長、θ 入射角度幅、n 屈折率 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,1a Optical element, 2 board | substrate, 3 diffraction structure part, 3a convex part, 4 grid part, 4a fine wire, 5 light attenuation part, 10 adhesive layer, 20 board | substrate (2nd board | substrate), 50 light source, 51R, 51G, 51B optical element, 52R, 52G, 52B liquid crystal light valve, 53R, 53G, 53B optical element, 54, 55 projection lens, 80 incident light, δ mutual distance, d mutual distance, λ wavelength, θ incident angle width, n refractive index

Claims (10)

入射光を偏光分離する機能を有する光学素子であって、
前記入射光に対して透明な基板と、
断面形状が鋸歯形状の複数の凸部を含み、前記基板の一面側に設けられた回折構造部と、
一方向に延在する複数の細線を含み、前記基板の一面側であって前記回折構造部の上面に沿って設けられたグリッド部と、
を備え、
前記グリッド部は、前記入射光のうち一の偏光成分を反射するとともに他の偏光成分を透過し、
前記入射光の波長をλ、前記複数の細線の相互間隔をd、前記複数の凸部の相互間隔をδ、前記基板の構成材料の屈折率をnとしたときに、これらのパラメータが、
d<λ、かつ、λ/n<δ≦λ、の関係を満たす、
光学素子。
An optical element having a function of polarizing and separating incident light,
A substrate transparent to the incident light;
The cross-sectional shape includes a plurality of convex portions having a sawtooth shape, and a diffractive structure portion provided on one surface side of the substrate;
A grid portion including a plurality of fine lines extending in one direction, provided on one side of the substrate and along the upper surface of the diffraction structure portion;
With
The grid portion reflects one polarization component of the incident light and transmits another polarization component,
When the wavelength of the incident light is λ, the distance between the plurality of thin wires is d, the distance between the plurality of protrusions is δ, and the refractive index of the constituent material of the substrate is n, these parameters are:
satisfying the relationship of d <λ and λ / n <δ ≦ λ.
Optical element.
入射光を偏光分離する機能を有する光学素子であって、
前記入射光に対して透明な基板と、
断面形状が鋸歯形状の複数の凸部を含み、前記基板の一面側に設けられた回折構造部と、
一方向に延在する複数の細線を含み、前記基板の一面側であって前記回折構造部の上面に沿って設けられたグリッド部と、
を備え、
前記入射光の波長をλ、前記入射光の入射角度幅を±θ、前記複数の細線の相互間隔をd、前記複数の凸部の相互間隔をδ、前記基板の構成材料の屈折率をnとしたときに、これらのパラメータが、
d<λ、かつ、λ/(n−sinθ)<δ≦λ/(1+sinθ)、の関係を満たす、
光学素子。
An optical element having a function of polarizing and separating incident light,
A substrate transparent to the incident light;
The cross-sectional shape includes a plurality of convex portions having a sawtooth shape, and a diffractive structure portion provided on one surface side of the substrate;
A grid portion including a plurality of fine lines extending in one direction, provided on one side of the substrate and along the upper surface of the diffraction structure portion;
With
The wavelength of the incident light is λ, the incident angle width of the incident light is ± θ, the distance between the plurality of thin wires is d, the distance between the plurality of protrusions is δ, and the refractive index of the constituent material of the substrate is n. When these parameters are
d <λ, and λ / (n−sin θ) <δ ≦ λ / (1 + sin θ).
Optical element.
mを1以上の整数としたときに、前記回折構造部の前記凸部の高さがmλ/2nと設定された、
請求項1または請求項2に記載の光学素子。
When m is an integer of 1 or more, the height of the convex portion of the diffractive structure portion is set to mλ / 2n.
The optical element according to claim 1.
前記回折構造部の前記複数の凸部の各々の延在方向と前記グリッド部の前記複数の細線の各々の延在方向とが略平行である、
請求項1または請求項2に記載の光学素子。
The extending direction of each of the plurality of convex portions of the diffractive structure portion and the extending direction of each of the plurality of fine lines of the grid portion are substantially parallel.
The optical element according to claim 1.
前記回折構造部の前記複数の凸部の各々の延在方向と前記グリッド部の前記複数の細線の各々の延在方向とが交差している、
請求項1または請求項2に記載の光学素子。
The extending direction of each of the plurality of convex portions of the diffractive structure portion and the extending direction of each of the plurality of fine lines of the grid portion intersect,
The optical element according to claim 1.
前記基板の前記一面に前記基板と略等しい屈折率を有する接着層を介して前記基板と略等しい屈折率を有する第2の基板が接合されている、
請求項1または請求項2に記載の光学素子。
A second substrate having a refractive index substantially equal to the substrate is bonded to the one surface of the substrate via an adhesive layer having a refractive index substantially equal to the substrate;
The optical element according to claim 1.
前記基板の端部側に配置された光減衰部を更に備える、
請求項1または請求項2に記載の光学素子。
A light attenuator disposed on the end side of the substrate;
The optical element according to claim 1.
投写型の表示装置であって、
光源と、
偏光分離機能を有し、前記光源の後段側に配置された第1の光学素子と、
入射光を変調する機能を有し、前記第1の光学素子の後段側に配置された液晶ライトバルブと、
偏光分離機能を有し、前記液晶ライトバルブの後段側に配置された第2の光学素子と、
前記第2の光学素子の後段側に配置された投射レンズと、
を含み、
前記第2の光学素子として請求項1乃至請求項7の何れか1項に記載の光学素子が用いられ、かつ当該光学素子は前記回折構造部及び前記グリッド部を設けた一面が後段側に配置される、
表示装置。
A projection display device,
A light source;
A first optical element having a polarization separation function and disposed on the rear side of the light source;
A liquid crystal light valve having a function of modulating incident light and disposed on the rear side of the first optical element;
A second optical element having a polarization separation function and disposed on the rear stage side of the liquid crystal light valve;
A projection lens disposed on the rear side of the second optical element;
Including
The optical element according to any one of claims 1 to 7 is used as the second optical element, and the optical element has one surface provided with the diffractive structure portion and the grid portion arranged on the rear stage side. To be
Display device.
前記第1の光学素子として請求項1乃至請求項7の何れか1項に記載の光学素子が用いられ、かつ当該光学素子は前記回折構造部及び前記グリッド部を設けた一面が後段側に配置される、
請求項8に記載の表示装置。
The optical element according to any one of claims 1 to 7 is used as the first optical element, and the optical element is provided with one surface provided with the diffractive structure portion and the grid portion on the rear stage side. To be
The display device according to claim 8.
前記光源がレーザー光源である、
請求項8または請求項9に記載の表示装置。
The light source is a laser light source;
The display device according to claim 8 or 9.
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