JP4852862B2 - カラーフィルタの製造方法及びカラー液晶表示装置の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、アクティブマトリクス表示方式（例えば、Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ駆動方式；ＴＦＴ駆動方式）又はＸＹ直交配置マトリックス表示方式（ＸＹ直交配置ストライプ電極方式）によるカラー液晶表示装置に使用されるカラーフィルタ及びそのカラーフィルタを用いたカラー液晶表示装置に関する。

従来の一般的なアクティブマトリクス表示方式によるＴＦＴカラー液晶表示装置のカラーフィルタは、ガラス製又はプラスチック製の透明基板上に、ストライプ状、又は四角形ドット状若しくは多角形ドット状のマトリクス状の画素パターンとなるブルーパターン（Ｂ）、グリーンパターン（Ｇ）、レッドパターン（Ｒ）（又はシアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、イエロー（Ｙ））の透明着色パターン層を備えており、また各々透明着色パターン層の境界部分には、光吸収性（低反射性）ブラックマトリクスパターン層（略称ＢＭＸ）を備えている。

上記ＢＭＸは、クロム金属蒸着膜や、黒色顔料着色剤を用いてパターン形成され、各透明着色パターン層は、その端部を該ＢＭＸ上に重ねるようにして形成されている。

前記透明着色パターン層の上面全面及びその外側周囲の接着シール材より内側に、必要に応じてエポキシ系樹脂等の適宜透明樹脂によるオーバーコート層（図示せず））を介して、ＩＴＯ薄膜等の透明導電膜によるベタ状の透明な共通電極層を備えている。

また、該カラーフィルタには、透明基板に平行に離間対向して、画素電極とＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）からなるアクティブマトリクス電極が形成された対向電極板が重ね合わせられる。該対向電極板は、ガラス製又はプラスチック製の透明な対向電極基板のカラーフィルタとの対向内面側に、ＴＦＴ駆動方式（液晶表示駆動方式）による透明なＩＴＯ薄膜等によるマトリクス配線パターン状の画素電極である走査電極としてのアクティブマトリクス電極層を備える。

そして、上記透明基板と対向電極基板との離間対向間隙の液晶封入セル内には、両基板の最内面に形成された液晶配向膜を介して、平均粒径４〜８μｍの均一した粒径をもつ透明なビーズスペーサを分散させた液晶が充填されていて、エポキシ系樹脂接着剤等の接着シール材２１（接合シール材）によって、互いに基板周端部が密封シール状態に接合されているビーズスペーサー分散型のＴＦＴカラー液晶表示装置がある。

ところで、カラー液晶表示装置のカラー表示ディスプレイパネルの大型化に伴い、液晶セルの組み工程が、真空注入法からＯＤＦ法に主流が変わりつつある。また、パネルの更なる高精細化が求められている。

これらの要求から、従来のビーズスペーサー分散型のＴＦＴカラー液晶表示装置に代わって、フォトリソグラフィ法によるフォトレジストを用いたフォトレジスト膜の光硬化パターン膜をスペーサーとするフォトスペーサー型（Ｐｈｏｔｏ Ｓｐａｃｅｒ）のＴＦＴカラー液晶表示装置の要求が高まっており、そのカラーフィルタ及びＴＦＴカラー液晶表示装置に関しては、特開２００２−３５０８６０号公報、特許第３４９８０２０号公報等に記載されている。

以下に、本発明に関連する公知の特許文献を記載する。
特開２００２−３５０８６０号公報、 特許第３４９８０２０号公報

しかしながら、現行のカラーフィルタにおいてフォトスペーサーを作製するには、画素パターンであるＲ、Ｇ、Ｂの透明着色パターン層の形成工程後に、フォトスペーサー形成用のフォトレジストの塗布、フォトレジストへのスペーサーパターン露光マスクによるパターン露光と現像処理、及び現像処理後のスペーサーパターンの焼成等の各種の作製工程が必要であり、工程数の増大となって、作製効率に影響を与えることになる。

本発明は、アクティブマトリクス表示方式又はＸＹ直交配置マトリックス表示方式によるカラー液晶表示装置に使用されるカラーフィルタ及びそのカラーフィルタを用いたフォトスペーサー型カラー液晶表示装置におけるフォトスペーサーを、Ｒ、Ｇ、Ｂ等の各透明着色パターン層の形成工程中にてパターン形成できるようにすることによって、フォトスペーサーの精度と効率的な作製を実現することにある。

本発明の請求項１に係る発明は、透明基板１上に少なくともブラックマトリクスパターン層２により画素区分された透明着色パターン層３と、該透明着色パターン層３上に、アクティブマトリックス電極層と対向する透明な共通電極層５若しくはＸＹ直交マトリックス電極層のＸ方向若しくはＹ方向の透明なストライプ電極層５とを備えたカラーフィルタにおいて、前記透明着色パターン層３の一部に、その層厚を突起状に厚く形成したセルギャップ調整用のフォトスペーサ部４が設けられていることを特徴とするカラーフィルタである。

本発明の請求項２に係る発明は、上記請求項１に係るカラーフィルタにおいて、前記透明着色パターン層３の端部がブラックマトリクスパターン層２上にオーバーラップして形成され、突起状の前記フォトスペーサ部４が、ブラックマトリクスパターン層２上にオーバーラップした領域の透明着色パターン層３に形成されていることを特徴とするカラーフィルタである。

本発明の請求項３に係る発明は、上記請求項１に係るカラーフィルタにおいて、突起状の前記フォトスペーサ部４が、ブラックマトリクスパターン層２のうち画素電極層とＴＦＴ層からなるアクティブマトリックス電極層の各々ＴＦＴ層を隠蔽する部分に該当するブラックマトリクスパターン層２の領域上にオーバーラップした透明着色パターン層３部分に形成されていることを特徴とするカラーフィルタである。

本発明の請求項４に係る発明は、上記請求項１乃至３のいずれか１項に係るカラーフィルタにおいて、突起状の前記フォトスペーサ部４の上端部に液晶配向突起用樹脂層６が被覆形成されていることを特徴とするカラーフィルタである。

本発明の請求項５に係る発明は、上記請求項１乃至３のいずれか１項に係るカラーフィルタにおいて、突起状の前記フォトスペーサ部４の側面にオーバーハング部４ａを備え、該フォトスペーサ部４の上端部に、前記透明な共通電極層５に対して電気的に非導通の透明電極層７が被覆されていることを特徴とするカラーフィルタである。

本発明の請求項６に係る発明は、上記請求項１乃至５のいずれか１項記載のカラーフィ
ルタにおいて、突起状の前記フォトスペーサ部４が、前記透明着色パターン層３のレッド、グリーン、ブルーの３色、又はシアン、マゼンタ、イエローの３色のうち、いずれか１色又は２色又は３色の透明着色パターン層３に形成されていることを特徴とするカラーフィルタである。

本発明の請求項７に係る発明は、上記請求項１乃至６のいずれか１項に係るカラーフィルタにおいて、突起状の前記フォトスペーサ部４が、前記透明着色パターン層３のパターン形成領域に塗布された光重合硬化型透明着色フォトレジストを、露光量調整用のハーフトーン露光マスクを用いて投影露光することにより形成され、前記ハーフトーン露光マスクにより、透明着色パターン層３に相当する領域の露光量ＥＦとフォトスペーサ部４に相当する領域の露光量ＥＰとの関係を、ＥＦ＜ＥＰとして投影露光することにより形成されていることを特徴とするカラーフィルタである。

本発明の請求項８に係る発明は、上記請求項１乃至７のいずれか１項に係る透明な共通電極層５を形成したカラーフィルタＡと、透明対向電極基板１１上にＴＦＴ層を有するアクティブマトリックス電極層１３を形成した対向電極板Ｂとが、その両電極層５、１３を対向配置して重ね合わせられ、該重ね合わせ内面側に突起状の前記フォトスペーサ部４により所定間隔を以て形成された液晶封入セル１４内に液晶が封入され、該カラーフィルタＡと対向電極板Ｂとの互いの端部が接着シール材にて接合シールされていることを特徴とするカラー液晶表示装置である。

本発明の請求項９に係る発明は、上記請求項１乃至７のいずれか１項に係る透明な共通電極層５を形成したカラーフィルタＡと、透明対向電極基板１１上にＴＦＴ層を有するアクティブマトリックス電極層による対向電極層１３を形成した対向電極板Ｂとが、その両電極層５、１３にそれぞれ形成された液晶配向膜を対向配置して重ね合わせられ、該重ね合わせ内面側に突起状の前記フォトスペーサ部４により所定間隔を以て形成された液晶封入セル１４内に液晶が封入され、該カラーフィルタＡと対向電極板Ｂの互いの端部が接着シール材にて接合シールされていることを特徴とするカラー液晶表示装置である。

本発明の請求項１０に係る発明は、上記請求項１乃至７のいずれか１項に係るＸＹ直交マトリックス電極層のＸ方向若しくはＹ方向の透明なストライプ電極層５を形成したカラーフィルタＡと、透明対向電極基板１１上にＸＹ直交マトリックス電極層のＹ方向若しくはＸ方向の透明なストライプ電極層による対向電極層１３を形成した対向電極板Ｂとが、その両電極層５、１３を対向配置して重ね合わせられ、該重ね合わせ内面側に突起状の前記フォトスペーサ部４により所定間隔を以て形成された液晶封入セル１４内に液晶が封入され、該カラーフィルタＡと対向電極板Ｂとの互いの端部が接着シール材にて接合シールされていることを特徴とするカラー液晶表示装置である。

本発明の請求項１１に係る発明は、上記請求項１乃至７のいずれか１項に係るＸＹ直交マトリックス電極層のＸ方向若しくはＹ方向の透明なストライプ電極層５を形成したカラーフィルタＡと、透明対向電極基板１１上にＸＹ直交マトリックス電極層のＹ方向若しくはＸ方向の透明なストライプ電極層による対向電極層１３を形成した対向電極板Ｂとが、その両電極層５、１３にそれぞれ形成された液晶配向膜を対向配置して重ね合わせられ、該重ね合わせ内面側に突起状の前記フォトスペーサ部４により所定間隔を以て形成された液晶封入セル１４内に液晶が封入され、該カラーフィルタＡと対向電極板Ｂとの互いの端部が、接着シール材にて接合シールされていることを特徴とするカラー液晶表示装置である。

本発明のカラーフィルタ及びカラー液晶表示装置は、アクティブマトリクス表示方式又
はＸＹ直交配置マトリックス表示方式によるカラー液晶表示装置に使用するカラーフィルタ及びそのカラーフィルタを用いたカラー液晶表示装置であり、カラーフィルタにフォトスペーサーを作製する際に、透明基板上に塗布した画素パターンであるＲ、Ｇ、Ｂの透明着色パターン層を形成する材料に対してハーフトーン露光用マスクを用いて投影露光することにより、画素パターンであるＲ、Ｇ、Ｂの透明着色パターン層と、該パターン層上に突起状のフォトスペーサーとを同時に作製することができ、フォトスペーサー形成用のフォトレジストの塗布、フォトレジストへのスペーサーパターン露光マスクによるパターン露光と現像処理、及び現像処理後のスペーサーパターンの焼成等の工程が不要であり、作製効率の向上に効果的である。

本発明によれば、フォトスペーサー型カラー液晶表示装置におけるフォトスペーサーをＲ、Ｇ、Ｂ等の各透明着色パターン層の形成工程中にてパターン形成することができフォトスペーサーの精度と効率的な作製を実現することができる。

本発明のカラーフィルタの一実施の形態を、図１（ａ）に示すＸ−Ｘ側断面図、及び図１（ｂ）に示す平面図に基づいて以下に詳細に説明する。

本発明のカラーフィルタＡは、図１（ａ）に示すように、ガラス又はプラスチック製の透明基板１上にブラックマトリクスパターン層２（遮光パターン層）と、該ブラックマトリクスパターン層２によって画素状に区分されたレッド（Ｒ）、グリーン（Ｇ）、ブルー（Ｂ）（又はシアン、マゼンタ、イエロー）の３色による透明着色パターン層３とを備え、該透明着色パターン層３上の一部には、該透明着色パターン層３の形成材料により突起状のフォトスペーサ部４が設けられている。

前記透明着色パターン層３は、その端部がブラックマトリクスパターン層２上にオーバーラップして形成されていて、突起状の前記フォトスペーサ部４は、該透明着色パターン層３のパターン形成と同時に形成されていて、ブラックマトリクスパターン層２上にオーバーラップした透明着色パターン層３の領域（透明着色パターン層３における非画素領域）の透明着色パターン層３上に層厚の厚い厚膜部として一体に形成されている。

前記突起状のフォトスペーサ部４の作製方法としては、透明着色パターン層３のパターニングにおいて、透明着色パターン層３に相当するパターン部分を露光量ＥＦにて投影露光するためのパターン露光用のハーフトーン膜部（抑制露光部）と、フォトスペーサ部４に相当するパターン部分を露光量ＥＰ（ＥＰ＞ＥＦ）にて投影露光するための透明部（通常露光部）とを形成した露光マスク（フォトマスク）を用いる。

露光マスク上の透明着色パターンの非形成部に対応する領域には、例えば、膜厚約１０００Åの金属クロム膜による遮光膜が形成され、また、画素領域の透明着色パターン層３に対応する領域には、例えば、膜厚約２５００ÅのＩＴＯ（酸化インジウム・スズ）膜によるハーフトーン膜部（半透過部）が形成され、透明着色パターン層３領域内のフォトスペーサ部４に対応する部分は、ガラス板等の透明なマスク基板による全透過部となっている。

上記露光マスクを用いて露光量を調整した投影露光方式にて、予めブラックマトリクス層２を形成した透明基板１上に塗布したレッド（Ｒ）又はグリーン（Ｇ）又はブルー（Ｂ）の光重合硬化型の着色フォトレジストに対してパターン露光し、現像処理することによって、露光マスクの全透過部にて露光量ＥＰにて露光されたレジスト部位は十分に硬化して、必要な高さを持った層厚の厚いフォトスペーサ部４が形成され、ハーフトーン膜部（半透過部）にて露光量ＥＦにて露光された部位は、全透過部にて露光されたレジスト部位
よりは十分に硬化せず、前記フォトスペーサ部４よりも薄い層厚の着色フィルタとして最適な層厚の透明着色パターン層３が形成される。

該透明着色パターン層３上には、ブラックマトリクスパターン層２と透明着色パターン層３とフォトスペーサ部４とを被覆するように、ＩＴＯ薄膜からなるベタ状の透明な共通電極層５を備えている。

また、図１（ａ）〜（ｂ）に示すように、ブラックマトリクスパターン層２上にオーバーラップしていない透明着色パターン層３の領域（透明着色パターン層３における画素領域）を被覆する共通電極層５上には、突起状の液晶配向樹脂層６が、１個乃至複数個の微小ドット状若しくは線形パターン状に、又は、ベタ状の液晶配向樹脂層６が形成されている。

また、図１（ａ）に示すように、突起状のフォトスペーサ部４の頂部に被覆された共通電極層５の上部には、突起状の前記配向樹脂層６を形成した樹脂材による頂部樹脂層６ａが形成されていて、該頂部樹脂層６ａの厚さを含めた突起状のフォトスペーサ部４の頂部の高さは、少なくとも突起状の前記配向樹脂層６の頂部の高さより高位となっている。

また、本発明のカラーフィルタＡの突起状フォトスペーサ部４は、前述したようにブラックマトリクスパターン層２上にオーバーラップした透明着色パターン層３の領域（透明着色パターン層３における非画素領域）の透明着色パターン層３上の一部に層厚が厚く一体に形成されているものであるが、図１（ｂ）の平面図に示すように、例えば、ブラックマトリクスパターン層２のうち、アクティブマトリックス電極層のＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）層を隠蔽する部分に該当するＴＦＴ隠蔽用ブラックマトリクスパターン層２ａ上にオーバーラップした領域の透明着色パターン層３上に該透明着色パターン層３の形成材料によって一体に形成されている。

本発明のカラーフィルタの他の実施の形態を、図２（ａ）に示すＸ−Ｘ側断面図、及び図２（ｂ）に示す平面図に基づいて以下に詳細に説明する。

本発明のカラーフィルタＡは、図２（ａ）に示すように、ガラス又はプラスチック製の透明基板１上にブラックマトリクスパターン層２（遮光パターン層）と、該ブラックマトリクスパターン層２によって画素状に区分されたレッド（Ｒ）、グリーン（Ｇ）、ブルー（Ｂ）（又はシアン、マゼンタ、イエロー）の三色による透明着色パターン層３とを備え、該透明着色パターン層３上の一部には、該透明着色パターン層の形成材料により突起状のフォトスペーサ部４が設けられている。

前記透明着色パターン層３は、その端部がブラックマトリクスパターン層２上にオーバーラップして形成されていて、突起状の前記フォトスペーサ部４は、該透明着色パターン層３のパターン形成と同時に形成されていて、ブラックマトリクスパターン層２上にオーバーラップした透明着色パターン層３の領域（透明着色パターン層３における非画素領域）の透明着色パターン層３の層厚の厚い厚膜部として、該透明着色パターン層３と一体に形成されている。

前記突起状のフォトスペーサ部４は、図２（ａ）に示すように、その突起の基部から頂部の方向に向かって、その突起状のフォトスペーサ部４の側面部が頂部太り状（先太り状又は逆テーパー状）のオーバーハング形状を呈するオーバーハング側面部４ａを備えている。なお、オーバーハング側面部４ａの形成は、パターン露光後の露光硬化した着色フォトレジストパターンを現像処理（エッチング処理）する際に、その現像処理時間を比較的に長く採ることにより発生するサイドエッチング現象を利用することにより形成すること
ができる。

前記透明着色パターン層３上には、ブラックマトリクスパターン層２と透明着色パターン層３とを被覆するように、ＩＴＯ薄膜からなるベタ状の共通電極層５を備えている。

また、図２（ａ）に示すように、オーバーハング側面部４ａを備えた突起状のフォトスペーサ部４の頂部にも該オーバーハング側面部４ａを除いてＩＴＯ薄膜からなるＩＴＯ被覆層７を備えているが、このＩＴＯ薄膜は、透明基板１に対して垂直方向に透明着色パターン層３に向かって異方性（一方向性）のスパッタリング蒸着法にて形成されるため、フォトスペーサ部４のオーバーハング側面部４ａには、スパッタリングされるＩＴＯが周り込むことがなくＩＴＯ薄膜が形成されない。そのために前記共通電極層５とＩＴＯ被覆層７とは互いに電気的に非導通状態を保持している。

また、図２（ａ）〜（ｂ）に示すように、ブラックマトリクスパターン層２上にオーバーラップしていない透明着色パターン層３の領域（透明着色パターン層３における画素領域）を被覆する共通電極層５上には、必要に応じて１乃至複数個の微小ドット状若しくは線形パターン状に、又はベタ状に、液晶配向樹脂層６が形成されている。

また、図２（ａ）に示すように、突起状のフォトスペーサ部４の頂部に被覆されたＩＴＯ被覆層７の上部には、必要に応じて突起状の前記配向樹脂層６を形成した樹脂材による頂部樹脂層６ａが形成されていてもよく、また、突起状の前記配向樹脂層６の頂部の高さは、ＩＴＯ被覆層７の厚さ又は頂部樹脂層６ａの厚さを含めた突起状のフォトスペーサ部４の頂部の高さより低く形成されている。

また、本発明のカラーフィルタＡの突起状フォトスペーサ部４は、前述したようにブラックマトリクスパターン層２上にオーバーラップした透明着色パターン層３の領域（透明着色パターン層３における非画素領域）の透明着色パターン層３上の一部に一体に形成されているものであるが、図２（ｂ）の平面図に示すように、例えばブラックマトリクスパターン層２のうち、アクティブマトリックス電極層のＴＦＴ層を隠蔽する部分に該当するＴＦＴ用ブラックマトリクスパターン層２ａ上にオーバーラップした領域の透明着色パターン層３部分に、該透明着色パターン層３の形成材料によって一体に形成されている。

本発明のカラーフィルタは対向電極板との重ね合わせによりカラー液晶表示装置が形成されるものである。

図３は、図１（ａ）〜（ｂ）に示した本発明の一実施の形態によるカラーフィルタＡと、ＴＦＴ方式の対向電極板Ｂとを重ね合わせアッセンブルして構成されるカラー液晶表示装置の側断面図である。

図３に示すように、カラーフィルタＡには、ＴＦＴ方式の対向電極板Ｂが、その両電極層５、１３を対向配置して重ね合わせられている。対向電極板Ｂには、対向電極基板１１上にＴＦＴトランジスタ層１２を有するＴＦＴモジュール層と画素電極層からなるアクティブマトリックス電極層１３が形成されている。

カラーフィルタＡと対向電極板Ｂは、前記突起状フォトスペーサ部４により所定間隔を以て両電極層５、１３を対向配置して重ね合わせられ、該重ね合わせ内面側には、前記突起状フォトスペーサ部４により形成された所定間隔の液晶封入セル１４が形成され、該液晶封入セル内には液晶Ｌが封入されて、該カラーフィルタＡと対向電極板Ｂとの互いの端部は接着シール材（図示せず）により接合シールされている。

なお、両電極層５、１３上には、それぞれベタ状の液晶配向膜を形成してもよいし、液晶配向樹脂層６が形成される場合にはベタ状の液晶配向膜は形成しなくてもよい。

図３に示すように、カラーフィルタＡの突起状フォトスペーサ部４の頂部にある共通電極層５は、対向電極板Ｂのアクティブマトリックス電極層１３に対して、被覆樹脂層６ａによる絶縁層を介して接触するために、両電極層５、１３は電気的に非導通状態を保持することができる。

図４は、図２（ａ）〜（ｂ）に示した本発明の他の実施の形態によるカラーフィルタＡと、ＴＦＴ方式の対向電極板Ｂとを重ね合わせアッセンブルして構成されるカラー液晶表示装置の側断面図である。

図４に示すように、カラーフィルタＡには、ＴＦＴ方式の対向電極板Ｂが、その両電極層５、１３を対向配置して重ね合わせられている。対向電極板Ｂには、対向電極基板１１上にＴＦＴトランジスタ層１２を有するＴＦＴモジュール層と画素電極層からなるアクティブマトリックス電極層１３が形成されている。

カラーフィルタＡと対向電極板Ｂは、前記突起状フォトスペーサ部４により所定間隔を以て両電極層５、１３を対向配置して重ね合わせられ、該重ね合わせ内面側には、前記突起状フォトスペーサ部４により形成された所定間隔の液晶封入セル１４が形成され、該液晶封入セル内には液晶Ｌが封入されて、該カラーフィルタＡと対向電極板Ｂとの互いの端部は接着シール材（図示せず）により接合シールされている。

図４に示すように、カラーフィルタＡの突起状フォトスペーサ部４の頂部にある共通電極層５のＩＴＯ膜により形成されたＩＴＯ被覆層７は、突起状フォトスペーサ部４のオーバーハング側面部４ａによって透明着色パターン層３上の共通電極層５に対して非導通状態を保持しており、突起状フォトスペーサ部４の頂部は、対向電極板Ｂのアクティブマトリックス電極層１３に対しては、両電極層５、１３が互いに電気的に非導通状態で接触することができる。また、必要に応じて設けた被覆樹脂層６ａによる絶縁層を介して接触するために、両電極層５、１３は電気的に非導通状態を保持することができる。

なお、両電極層５、１３上には、それぞれベタ状の液晶配向膜を形成してもよいし、液晶配向樹脂層６が形成される場合にはベタ状の液晶配向膜は形成しなくてもよい。

（ａ）は本発明のカラーフィルタの一実施の形態における側断面図、（ｂ）はその平面図。 （ａ）は本発明のカラーフィルタの他の実施の形態における側断面図、（ｂ）はその平面図。 本発明のカラー液晶表示装置の一実施の形態における側断面図。 本発明のカラー液晶表示装置の他の実施の形態における側断面図。

符号の説明

Ａ…カラーフィルタ
Ｂ…対向電極板
Ｌ…液晶
１…透明基板
２…ブラックマトリクス層
３…透明着色パターン層
４…フォトスペーサ部
４ａ…オーバーハング側面部
５…共通電極層 ６…液晶配向樹脂層
６ａ…被覆樹脂層
７…ＩＴＯ被覆層
１１…対向電極基板
１２…ＴＦＴ層
１３…対向電極層（画素電極を含むアクティブマトリクス電極層）
１４…液晶封入セル

Claims (11)

1. 透明基板１上に、ブラックマトリクスパターン層２により画素区分された透明着色パターン層３を形成し、次に、該透明着色パターン層３上に、アクティブマトリックス電極層と対向する透明な共通電極層５若しくはＸＹ直交マトリックス電極層のＸ方向若しくはＹ方向の透明なストライプ電極層５を形成してカラーフィルタを製造する方法において、
   前記透明着色パターン層３を形成する工程が、着色フォトレジストの塗布膜に対してパターン露光し、現像処理して透明着色パターン層３を形成する工程であって、
   そのパターン露光の際に、透明着色パターン層３に相当するパターン部分の露光量を露光量ＥＦとした場合、その一部の部位を露光量ＥＦより多い露光量ＥＰで露光して、この露光量ＥＰで露光された部分を突起状に厚く形成して、この突起状部位をセルギャップ調整用のフォトスペーサ部４とする
   ことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
2. 請求項１記載のカラーフィルタの製造方法において、
   前記透明着色パターン層３の端部をブラックマトリクスパターン層２上にオーバーラップして形成し、
   突起状の前記フォトスペーサ部４を、ブラックマトリクスパターン層２上にオーバーラップした領域の透明着色パターン層３に形成することを特徴とする
   カラーフィルタの製造方法。
3. 請求項１記載のカラーフィルタの製造方法において、
   突起状の前記フォトスペーサ部４を、ブラックマトリクスパターン層２のうち画素電極層とＴＦＴ層からなるアクティブマトリックス電極層の各々ＴＦＴ層を隠蔽する部分に該当するブラックマトリクスパターン層２の領域上にオーバーラップした透明着色パターン層３部分に形成する
   ことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
4. 請求項１乃至３のいずれか１項記載のカラーフィルタの製造方法において、
   突起状の前記フォトスペーサ部４の上端部に液晶配向突起用樹脂層６を被覆形成する
   ことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
5. 請求項１乃至３のいずれか１項記載のカラーフィルタの製造方法において、
   突起状の前記フォトスペーサ部４をその側面にオーバーハング部４ａを備える形状に形
   成すると共に、該フォトスペーサ部４の上端部に、前記透明な共通電極層５に対して電気的に非導通の透明電極層７を被覆する
   ことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
6. 請求項１乃至５のいずれか１項記載のカラーフィルタの製造方法において、
   突起状の前記フォトスペーサ部４を、前記透明着色パターン層３のレッド、グリーン、ブルーの３色、又はシアン、マゼンタ、イエローの３色のうち、いずれか１色又は２色又は３色の透明着色パターン層３で形成する
   ことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
7. 請求項１乃至６のいずれか１項記載のカラーフィルタの製造方法において、
   透明着色パターン層３に相当するパターン部分を、露光量調整用のハーフトーン露光マスクを用いて露光量ＥＦで投影露光する
   ことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
8. 透明な共通電極層５を形成したカラーフィルタＡと、透明対向電極基板１１上にＴＦＴ層を有するアクティブマトリックス電極層１３を形成した対向電極板Ｂとをその両電極層５、１３を対向配置して重ね合わせ、該重ね合わせ内面側に突起状のフォトスペーサ部４により所定間隔を以て形成された液晶封入セル１４内に液晶を封入し、該カラーフィルタＡと対向電極板Ｂとの互いの端部を接着シール材にて接合シールすることにより、カラー液晶表示装置を製造する方法において、
   前記カラーフィルターＡを製造する方法が、透明基板１上に、ブラックマトリクスパターン層２により画素区分された透明着色パターン層３を形成し、次に、該透明着色パターン層３上に、アクティブマトリックス電極層と対向する透明な共通電極層５を形成してカラーフィルタを製造する方法において、
   前記透明着色パターン層３を形成する工程が、着色フォトレジストの塗布膜に対してパターン露光し、現像処理して透明着色パターン層３を形成する工程であって、
   そのパターン露光の際に、透明着色パターン層３に相当するパターン部分の露光量を露光量ＥＦとした場合、その一部の部位を露光量ＥＦより多い露光量ＥＰで露光して、この露光量ＥＰで露光された部分を突起状に厚く形成して、この突起状部位をセルギャップ調整用のフォトスペーサ部４とする
   ことを特徴とするカラー液晶表示装置の製造方法。
9. 透明な共通電極層５を形成したカラーフィルタＡと、透明対向電極基板１１上にＴＦＴ層を有するアクティブマトリックス電極層１３を形成した対向電極板Ｂとをその両電極層５、１３にそれぞれ形成された液晶配向膜を対向配置して重ね合わせ、該重ね合わせ内面側に突起状のフォトスペーサ部４により所定間隔を以て形成された液晶封入セル１４内に液晶を封入し、該カラーフィルタＡと対向電極板Ｂとの互いの端部を接着シール材にて接合シールすることにより、カラー液晶表示装置を製造する方法において、
   前記カラーフィルターＡを製造する方法が、透明基板１上に、ブラックマトリクスパターン層２により画素区分された透明着色パターン層３を形成し、次に、該透明着色パターン層３上に、アクティブマトリックス電極層と対向する透明な共通電極層５を形成してカラーフィルタを製造する方法において、
   前記透明着色パターン層３を形成する工程が、着色フォトレジストの塗布膜に対してパターン露光し、現像処理して透明着色パターン層３を形成する工程であって、
   そのパターン露光の際に、透明着色パターン層３に相当するパターン部分の露光量を露光量ＥＦとした場合、その一部の部位を露光量ＥＦより多い露光量ＥＰで露光して、この露光量ＥＰで露光された部分を突起状に厚く形成して、この突起状部位をセルギャップ調整用のフォトスペーサ部４とする
   ことを特徴とするカラー液晶表示装置の製造方法。
10. ＸＹ直交マトリックス電極層のＸ方向若しくはＹ方向の透明なストライプ電極層５を形成したカラーフィルタＡと、透明対向電極基板１１上にＸＹ直交マトリックス電極層のＹ方向若しくはＸ方向の透明なストライプ電極層による対向電極層１３を形成した対向電極板Ｂとを、その両電極層５、１３を対向配置して重ね合わせ、該重ね合わせ内面側に突起状のフォトスペーサ部４により所定間隔を以て形成された液晶封入セル１４内に液晶を封入し、該カラーフィルタＡと対向電極板Ｂとの互いの端部を接着シール材にて接合シールすることにより、カラー液晶表示装置を製造する方法において、
    前記カラーフィルターＡを製造する方法が、透明基板１上に、ブラックマトリクスパターン層２により画素区分された透明着色パターン層３を形成し、次に、該透明着色パターン層３上に、ＸＹ直交マトリックス電極層のＸ方向若しくはＹ方向の透明なストライプ電極層５を形成してカラーフィルタを製造する方法において、
    前記透明着色パターン層３を形成する工程が、着色フォトレジストの塗布膜に対してパターン露光し、現像処理して透明着色パターン層３を形成する工程であって、
    そのパターン露光の際に、透明着色パターン層３に相当するパターン部分の露光量を露光量ＥＦとした場合、その一部の部位を露光量ＥＦより多い露光量ＥＰで露光して、この露光量ＥＰで露光された部分を突起状に厚く形成して、この突起状部位をセルギャップ調整用のフォトスペーサ部４とする
    ことを特徴とするカラー液晶表示装置の製造方法。
11. ＸＹ直交マトリックス電極層のＸ方向若しくはＹ方向の透明なストライプ電極層５を形成したカラーフィルタＡと、透明対向電極基板１１上にＸＹ直交マトリックス電極層のＹ方向若しくはＸ方向の透明なストライプ電極層による対向電極層１３を形成した対向電極板Ｂとを、その両電極層５、１３にそれぞれ形成された液晶配向膜を対向配置して重ね合わせ、該重ね合わせ内面側に突起状のフォトスペーサ部４により所定間隔を以て形成された液晶封入セル１４内に液晶を封入し、該カラーフィルタＡと対向電極板Ｂとの互いの端部を接着シール材にて接合シールすることにより、カラー液晶表示装置を製造する方法において、
    前記カラーフィルターＡを製造する方法が、透明基板１上に、ブラックマトリクスパターン層２により画素区分された透明着色パターン層３を形成し、次に、該透明着色パターン層３上に、ＸＹ直交マトリックス電極層のＸ方向若しくはＹ方向の透明なストライプ電極層５を形成してカラーフィルタを製造する方法において、
    前記透明着色パターン層３を形成する工程が、着色フォトレジストの塗布膜に対してパターン露光し、現像処理して透明着色パターン層３を形成する工程であって、
    そのパターン露光の際に、透明着色パターン層３に相当するパターン部分の露光量を露光量ＥＦとした場合、その一部の部位を露光量ＥＦより多い露光量ＥＰで露光して、この露光量ＥＰで露光された部分を突起状に厚く形成して、この突起状部位をセルギャップ調整用のフォトスペーサ部４とする
    ことを特徴とするカラー液晶表示装置の製造方法。

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