JP4828208B2 - ペンタフルオロエタンの分離回収方法および該方法を含むペンタフルオロエタンの製造方法 - Google Patents
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Description
ペンタフルオロエタンが排出される主な要因としては、
(1)冷凍機等の解体に伴う使用済み冷媒、
(2)半導体製造工程における排ガス
等が考えられる。
[1]ペンタフルオロエタンを濃度80体積%以上かつ非凝縮性ガスを濃度20体積%以下で含有する粗ペンタフルオロエタンを、少なくとも下記(1)〜(3)の工程を含む方法により蒸留精製することを特徴とするペンタフルオロエタンの分離回収方法:
(1)前記粗ペンタフルオロエタンを充填塔に導入し、非凝縮性ガスを濃度95体積%以上かつペンタフルオロエタンを濃度5体積%以下で含有する塔頂留出分と、ペンタフルオロエタンを濃度99.9体積%以上かつ非凝縮性ガスを濃度0.1体積%以下で含有す
る塔底留出分とに分離する工程、
(2)前記塔頂留出分を冷却した後、気液分離装置を用いて非凝縮性ガスを濃度99体積%以上で含有するガス成分と、ペンタフルオロエタンを濃度99体積%以上で含有する液成分とに分離する工程、および
(3)前記液相の一部または全部を前記充填塔の上部に導入する工程。
[7]前記気液分離装置の操作温度が−15〜−50℃の範囲にあることを特徴とする上記[1]〜[6]のいずれかに記載のペンタフルオロエタンの分離回収方法。
[9]前記気液分離装置を用いて分離されたガス成分を塩素系溶剤と接触させて該ガス成分中のペンタフルオロエタンを吸収することを特徴とする上記[1]〜[8]のいずれかに記載のペンタフルオロエタンの分離回収方法。
(1)前記粗ペンタフルオロエタンを充填塔に導入し、非凝縮性ガスを濃度95体積%以上かつペンタフルオロエタンを濃度5体積%以下で含有する塔頂留出分と、ペンタフルオロエタンを濃度99.9体積%以上かつ非凝縮性ガスを濃度0.1体積%以下で含有す
る塔底留出分とに分離する工程、
(2)前記塔頂留出分を冷却した後、気液分離装置を用いて非凝縮性ガスを濃度99体積%以上で含有するガス成分と、ペンタフルオロエタンを濃度99体積%以上で含有する液成分とに分離する工程、および
(3)前記液相の一部または全部を前記充填塔の上部に導入する工程。
(1)前記粗ペンタフルオロエタンを充填塔に導入し、非凝縮性ガスを濃度95体積%以上かつペンタフルオロエタンを濃度5体積%以下で含有する塔頂留出分と、ペンタフルオロエタンを濃度99.9体積%以上かつ非凝縮性ガスを濃度0.1体積%以下で含有する塔底留出分とに分離する工程、
(2)前記塔頂留出分を冷却した後、気液分離装置を用いて非凝縮性ガスを濃度99体積%以上で含有するガス成分と、ペンタフルオロエタンを濃度99体積%以上で含有する液成分とに分離する工程、および
(3)前記液相の一部または全部を前記充填塔の上部に導入する工程。
上述したように、ペンタフルオロエタンは、様々な産業活動の分野において排出される可能性がある。このとき、ペンタフルオロエタンは、単独ではなく、他の化合物との混合ガス、すなわち粗ペンタフルオロエタンとして排出されることが多い。本発明の分離回収方法は、このような粗ペンタフルオロエタンから充填塔と気液分離装置とを組み合わせて選択的にペンタフルオロエタンを回収する方法であり、本発明のペンタフルオロエタンの製造方法は、この分離回収方法を適用した製造方法である。
が低下し、粗ペンタフルオロエタン単位量あたりのペンタフルオロエタンの回収量が少なくなり、回収コストが増大することがあるので好ましくない。このような観点から、粗ペンタフルオロエタン中のペンタフルオロエタンの濃度は、80〜95体積%が好ましく、85〜95体積%がより好ましい。
(I)フッ素化反応工程
ペンタフルオロエタンは、例えば、テトラクロロエチレンまたはそのフッ素化物を従来公知の方法(例えば、特表平9−511515号公報参照)によりフッ化水素(HF)でフッ素化して製造することができる。この場合、有機物原料であるテトラクロロエチレン(CCl2=CCl2)は酸素や水分が共存すると、微量ながらも分解が進行する可能性がある。そのため、その貯蔵に際しては窒素で加圧された密閉容器に貯蔵され、さらに反応容器への供給時においても大気に触れることがないように貯蔵容器に直接接続した配管からポンプ等を用いて、ペンタフルオロエタンの製造工程へ送給される。このとき、送給されるテトラクロロエチレンには、貯蔵時に使用していた窒素が溶解している。また、HFは腐食性の高い物質であり、窒素で加圧された密閉容器に貯蔵されるため、テトラクロロエチレンと同様、送給されるHFには貯蔵時に使用していた窒素が溶解している。
上記フッ素化反応により得られたペンタフルオロエタンは、中間体であるテトラクロロエチレンの部分フッ素化物、未反応原料であるテトラクロロエチレンおよびフッ化水素、副生成物である塩化水素(HCl)などからなる混合物として得られ、これらの化合物とは適当な方法により分離回収される。この分離回収方法としては、一般的には蒸留(例えば、国際公開第96/11176号パンフレット参照)が用いられる。ところが、ペンタフルオロエタンとHFまたはHClとは共沸混合物または擬似共沸混合物を形成するため、これらの酸性成分を除去する目的で、水またはアルカリ水溶液で予め処理する必要がある。この前処理において使用される水またはアルカリ水溶液には窒素、空気などの非凝縮性ガスが溶解しており、この非凝縮性ガスも蒸留後のペンタフルオロエタンに混入する可能性、すなわち、粗ペンタフルオロエタンとして得られる可能性がある。
また、上記フッ素化反応により得られたペンタフルオロエタンには、不純物としてペンタフルオロエタン以外のHFC類が含まれることがある。このHFC類は、触媒の存在下で酸素および/または含酸素化合物と接触させることにより低減することができる(例えば、特開2003−261476号公報、特開2005−53805号公報参照)。この接触操作により、HFC類は酸素および/または含酸素化合物と反応し、二酸化炭素など
が副生する。ところで、この反応に供される酸素および/または含酸素化合物は、反応をより優位に進行させるために、ペンタフルオロエタンに含まれるHFC類との反応に必要な量より過剰な量で用いられる。このため、導入された酸素および/または含酸素化合物はHFC類との反応により消失するだけでなく、反応後のペンタフルオロエタンにも酸素および/または含酸素化合物(非凝縮性ガス)が残存する可能性、すなわち、粗ペンタフルオロエタンとして得られる可能性がある。
(1)蒸留精製工程
上記工程(I)〜(III)で得られた、酸素などの非凝縮性ガスとペンタフルオロエタ
ンとを含む粗ペンタフルオロエタンは、ペンタフルオロエタンを濃度80体積%以上、好ましくは80〜95体積%、より好ましくは85〜95体積%で、非凝縮性ガスを20体積%以下、好ましくは5〜20体積%、より好ましくは5〜15体積%で含有する。
充填塔に導入された粗ペンタフルオロエタンは、非凝縮性ガスを濃度95体積%以上かつペンタフルオロエタンを濃度5体積%以下で含有する塔頂留出分と、ペンタフルオロエタンを濃度99.9体積%以上かつ非凝縮性ガスを濃度0.1体積%以下で含有する塔底留出分とに分離される。この塔底留出分は、必要に応じて再度、蒸留され、ペンタフルオロエタンを回収することができる。
上記蒸留精製工程(1)で得た塔頂留出分を、気液分離ポットなどの気液分離装置を用いて非凝縮性ガスを濃度99体積%以上で含有するガス成分と、ペンタフルオロエタンを濃度99体積%以上で含有する液成分とに分離する。塔頂留出分を気液分離装置に導入する際、予めブラインやスーパーブラインなどの冷却手段により冷却することが好ましい。上記気液分離装置は、液体窒素などを用いて冷却され、操作温度を−15〜−50℃、操作圧力を0.7〜2.0MPaの範囲に制御することが望ましい。
(V)吸収工程
上記気液分離工程(2)で得たガス成分には微量のペンタフルオロエタンが含まれている。そこで、このガス成分を、塩素系溶剤と接触させて、ペンタフルオロエタンを主として吸収する。吸収方法は従来公知の気液接触方法(例えば、化学工学便覧 改訂6版 p588〜626参照)を適用することができる。例えば、充填塔、ぬれ壁塔、スプレー塔、サイクロンスクラバー、ベンチュリースクラバー、遠心式吸収装置、気泡塔、段塔、気泡攪拌槽などの気液接触装置を用いる方法が挙げられ、気液接触効率がよいため、充填塔を用いる方法が好ましい。
い。0.1MPaより低くするためには減圧系の設備が必要となり、2MPaを超えると高圧系の設備が必要となるので好ましくない。
以下、実施例により本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
テトラクロロエチレンとフッ化水素とを、気相中、触媒の存在下で反応させた後、蒸留精製して、主としてジフルオロメタンや1,1,1−トリフルオロエタンなどのHFC類を含む混合ガスを得た。次いで、この混合ガスを触媒の存在下、290℃で空気と接触させて反応させ、主としてペンタフルオロエタンと非凝縮性ガスとを含む粗ペンタフルオロエタンを得た。この粗ペンタフルオロエタンをガスクロマトグロフィーにて分析したところ、以下の組成であった。
非凝縮性ガス: 6.1vol%
HFC−125: 1.9vol%
非凝縮性ガス: 98.1vol%
(塔底留出分)
HFC−125:99.95vol%
非凝縮性ガス: 0.05vol%
塔底留出分は留出分ライン4より抜き出され、必要に応じて再度蒸留してペンタフルオロエタンを回収した。
(ガス成分)
HFC−125: 0.3vol%
非凝縮性ガス: 99.7vol%
(液成分)
HFC−125:>99.9vol%
非凝縮性ガス: <0.1vol%
抜き出された上記液成分を抜き出しライン8より充填塔2の上部に導入して再循環させた。
ができる。
2 充填塔
3 塔頂留出分の留出分ライン
4 塔底留出分の留出分ライン
5 熱交換機(例えばブライン冷却)
6 熱交換機(例えばスーパーブライン冷却)
7 気液分離装置
8 気液分離装置の塔底部抜き出しライン
9 気液分離装置の塔頂部抜き出しライン
10 吸収装置
11 吸収装置のガス排出ライン
12 吸収装置の溶媒排出ライン
Claims (15)
- ペンタフルオロエタンを濃度80体積%以上かつ非凝縮性ガスを濃度20体積%以下で含有する粗ペンタフルオロエタンを、少なくとも下記(1)〜(3)の工程を含む方法により蒸留精製することを特徴とするペンタフルオロエタンの分離回収方法:
(1)前記粗ペンタフルオロエタンを充填塔に導入し、非凝縮性ガスを濃度95体積%以上かつペンタフルオロエタンを濃度5体積%以下で含有する塔頂留出分と、ペンタフルオロエタンを濃度99.9体積%以上かつ非凝縮性ガスを濃度0.1体積%以下で含有する塔底留出分とに分離する工程、
(2)前記塔頂留出分を冷却した後、気液分離装置を用いて非凝縮性ガスを濃度99体積%以上で含有するガス成分と、ペンタフルオロエタンを濃度99体積%以上で含有する液成分とに分離する工程、および
(3)前記液相の一部または全部を前記充填塔の上部に導入する工程。 - 前記粗ペンタフルオロエタンが、ペンタフルオロエタンおよび他のフルオロカーボンを含有する混合ガスと酸素および/または含酸素化合物とを触媒の存在下で接触させる工程を経て得られることを特徴とする請求項1に記載のペンタフルオロエタンの分離回収方法。
- 前記非凝縮性ガスが、酸素、窒素および一酸化炭素からなる群から選択される少なくとも1種のガスであることを特徴とする請求項1または2に記載のペンタフルオロエタンの分離回収方法。
- 前記粗ペンタフルオロエタンを、15〜30℃の範囲の温度、0.7〜2.0MPaの範囲の圧力で前記充填塔に導入することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のペンタフルオロエタンの分離回収方法。
- 前記充填塔の塔頂温度が10〜30℃、塔底温度が15〜35℃の範囲にあることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のペンタフルオロエタンの分離回収方法。
- 前記充填塔の操作圧力が0.7〜2.0MPaの範囲にあることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のペンタフルオロエタンの分離回収方法。
- 前記気液分離装置の操作温度が−15〜−50℃の範囲にあることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載のペンタフルオロエタンの分離回収方法。
- 前記気液分離装置の操作圧力が0.7〜2.0MPaの範囲にあることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載のペンタフルオロエタンの分離回収方法。
- 前記気液分離装置を用いて分離されたガス成分を塩素系溶剤と接触させて該ガス成分中のペンタフルオロエタンを吸収することを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載のペンタフルオロエタンの分離回収方法。
- 前記塩素系溶剤がトリクロロエチレンおよび/またはテトラクロロエチレンであることを特徴とする請求項9に記載のペンタフルオロエタンの分離回収方法。
- 請求項9または10に記載の分離回収方法によって得られた、ペンタフルオロエタンを吸収させた前記塩素系溶剤を、ペンタフルオロエタンを分離することなくペンタフルオロエタンの製造原料として用いることを特徴とするペンタフルオロエタンの製造方法。
- テトラクロロエチレンまたはそのフッ素化物とフッ化水素とをフッ素化触媒の存在下で反応させた後、蒸留および脱酸処理を施してペンタフルオロエタンを濃度80体積%以上かつ非凝縮性ガスを濃度20体積%以下で含有する粗ペンタフルオロエタンを得た後、該粗ペンタフルオロエタンを少なくとも下記(1)〜(3)の工程を含む方法により蒸留精製することを特徴とするペンタフルオロエタンの製造方法:
(1)前記粗ペンタフルオロエタンを充填塔に導入し、非凝縮性ガスを濃度95体積%以上かつペンタフルオロエタンを濃度5体積%以下で含有する塔頂留出分と、ペンタフルオロエタンを濃度99.9体積%以上かつ非凝縮性ガスを濃度0.1体積%以下で含有する塔底留出分とに分離する工程、
(2)前記塔頂留出分を冷却した後、気液分離装置を用いて非凝縮性ガスを濃度99体積%以上で含有するガス成分と、ペンタフルオロエタンを濃度99体積%以上で含有する液成分とに分離する工程、および
(3)前記液相の一部または全部を前記充填塔の上部に導入する工程。 - テトラクロロエチレンまたはそのフッ素化物とフッ化水素とをフッ素化触媒の存在下で反応させた後、蒸留および脱酸処理を施してペンタフルオロエタンと他のフルオロカーボンを含有する混合ガスを得た後、該混合ガスと、酸素および/または含酸素化合物とを触媒の存在下で接触させてペンタフルオロエタンを濃度80体積%以上かつ非凝縮性ガスを濃度20体積%以下で含有する粗ペンタフルオロエタンを分離回収する工程を経て、少なくとも下記(1)〜(3)の工程を含む方法により蒸留精製することを特徴とするペンタフルオロエタンの製造方法:
(1)前記粗ペンタフルオロエタンを充填塔に導入し、非凝縮性ガスを濃度95体積%以上かつペンタフルオロエタンを濃度5体積%以下で含有する塔頂留出分と、ペンタフルオロエタンを濃度99.9体積%以上かつ非凝縮性ガスを濃度0.1体積%以下で含有する塔底留出分とに分離する工程、
(2)前記塔頂留出分を冷却した後、気液分離装置を用いて非凝縮性ガスを濃度99体積%以上で含有するガス成分と、ペンタフルオロエタンを濃度99体積%以上で含有する液成分とに分離する工程、および
(3)前記液相の一部または全部を前記充填塔の上部に導入する工程。 - 前記気液分離装置を用いて分離されたガス成分を塩素系溶剤と接触させて該ガス成分中のペンタフルオロエタンを吸収し、該塩素系溶剤を、ペンタフルオロエタンを分離することなくペンタフルオロエタンの製造原料として用いることを特徴とする請求項12または13に記載のペンタフルオロエタンの製造方法。
- 前記塩素系溶剤がトリクロロエチレンおよび/またはテトラクロロエチレンであることを特徴とする請求項14に記載のペンタフルオロエタンの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005324705A JP4828208B2 (ja) | 2005-11-09 | 2005-11-09 | ペンタフルオロエタンの分離回収方法および該方法を含むペンタフルオロエタンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007131554A JP2007131554A (ja) | 2007-05-31 |
JP4828208B2 true JP4828208B2 (ja) | 2011-11-30 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4828208B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110193254A (zh) * | 2019-06-13 | 2019-09-03 | 湖北兴瑞硅材料有限公司 | 一种甲基氯硅烷单体湿法除尘的节能装置及工艺 |
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---|---|---|---|---|
CN115518402B (zh) * | 2022-10-31 | 2024-05-28 | 中盐常州化工股份有限公司 | 一种甲苯氯化液后处理装置及处理方法 |
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---|---|---|---|---|
JP4703865B2 (ja) * | 2001-02-23 | 2011-06-15 | 昭和電工株式会社 | パーフルオロカーボン類の製造方法およびその用途 |
JP4225736B2 (ja) * | 2002-03-11 | 2009-02-18 | 昭和電工株式会社 | フルオロエタンの製造方法およびその用途 |
JP4666874B2 (ja) * | 2002-07-02 | 2011-04-06 | 昭和電工株式会社 | ペンタフルオロエタンの精製方法および製造方法並びにその用途 |
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CN110193254A (zh) * | 2019-06-13 | 2019-09-03 | 湖北兴瑞硅材料有限公司 | 一种甲基氯硅烷单体湿法除尘的节能装置及工艺 |
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JP2007131554A (ja) | 2007-05-31 |
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