JP4825384B2 - 置換チエニル（アミノ）スルホニルウレア - Google Patents

Description

【０００１】
本発明は新規な置換チエニル（アミノ）スルホニルウレア、それらの製造法及び除草剤としてのそれらの使用に関する。
【０００２】
ある種の置換チエニルスルホニルウレアが除草性を有することは既知である（ＥＰ−Ａ−３０１４２／ＵＳ−Ａ−４４８１０２９／ＵＳ−Ａ−４５９９１０３／ＵＳ−Ａ−４７０１５３５、ＥＰ−Ａ−９７１２２／ＵＳ−Ａ−４５４９８９８、ＥＰ−Ａ−２０７６０９／ＵＳ−Ａ−４６６８２８１を参照されたい）。しかしながら、これらの既知の化合物の除草活性は完全に満足できるわけではない。
【０００３】
従って、本発明は一般式（Ｉ）
【０００４】
【化１１】

【０００５】
［式中、
Ａは窒素又はＣＨ基を示し、
Ｑは単結合を示すか、あるいはＮＨを示し、
Ｒ¹は水素、ハロゲンあるいはそれぞれ場合により置換されていることができるアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アリールオキシ又はヘテロシクリルオキシを示し、
Ｒ²は水素、ハロゲンあるいはそれぞれ場合により置換されていることができるアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アリールオキシ又はヘテロシクリルオキシを示し、
Ｒ³は水素又は場合により置換されていることができるアルキルを示し、
Ｒ⁴はハロゲンあるいは場合により置換されていることができるアルキルを示し−ＱがＮＨを示す場合−また水素も示し、
Ｒ⁵は水素あるいはそれぞれ場合により置換されていることができるアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル又はヘテロシクリルを示す］
の新規な置換チエニル（アミノ）スルホニルウレア及び式（Ｉ）の化合物の塩を提供する。
【０００６】
飽和もしくは不飽和炭化水素基、例えばアルキル、アルケニル又はアルキニルは−アルコキシにおけるように複素原子との組合わせにおける場合を含んで−それぞれ直鎖状であるか又はこれが可能な限り分枝鎖状である。
【０００７】
場合により置換されていることができる基は単−もしくは多置換されていることができ、ここで多置換の場合、置換基は同一又は異なることができる。
【０００８】
上記及び下記で示す式中に存在する好ましい置換基又は基の範囲を以下に定義する。
【０００９】
Ａは好ましくは窒素又はＣＨ基を示す。
【００１０】
Ｑは好ましくは単結合を示すか、あるいはＮＨを示す。
【００１１】
Ｒ¹は好ましくは水素を示すか、ハロゲンを示すか、それぞれ場合によりシアノ−、ハロゲン−もしくはＣ₁−Ｃ₄−アルコキシ−置換されていることができる、それぞれアルキル基中に１〜４個の炭素原子を有するアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルアミノ又はジアルキルアミノを示すか、あるいはそれぞれ場合によりシアノ−、ハロゲン−、Ｃ₁−Ｃ₄−アルキル−もしくはＣ₁−Ｃ₄−アルコキシ−置換されていることができるフェノキシ、オキセタニルオキシ、フリルオキシ又はテトラヒドロフリルオキシを示す。
【００１２】
Ｒ²は好ましくは水素を示すか、ハロゲンを示すか、それぞれ場合によりシアノ−、ハロゲン−もしくはＣ₁−Ｃ₄−アルコキシ−置換されていることができる、それぞれアルキル基中に１〜４個の炭素原子を有するアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルアミノ又はジアルキルアミノを示すか、あるいはそれぞれ場合によりシアノ−、ハロゲン−、Ｃ₁−Ｃ₄−アルキル−もしくはＣ₁−Ｃ₄−アルコキシ−置換されていることができるフェノキシ、オキセタニルオキシ、フリルオキシ又はテトラヒドロフリルオキシを示す。
【００１３】
Ｒ³は好ましくは水素を示すか、あるいは場合によりＣ₁−Ｃ₄−アルコキシ−、Ｃ₁−Ｃ₄−アルキル−カルボニル−もしくはＣ₁−Ｃ₄−アルコキシ−カルボニル−置換されていることができる、１〜４個の炭素原子を有するアルキルを示す。
【００１４】
Ｒ⁴は好ましくは場合によりシアノ−、ハロゲン−もしくはＣ₁−Ｃ₄−アルコキシ−置換されていることができる、１〜６個の炭素原子を有するアルキルを示し−ＱがＮＨを示す場合−また水素も示す。
【００１５】
Ｒ⁵は好ましくは水素を示すか、場合によりシアノ−、ハロゲン−もしくはＣ₁−Ｃ₄−アルコキシ−置換されていることができる、１〜６個の炭素原子を有するアルキルを示すか、それぞれ場合によりハロゲン−置換されていることができる、それぞれ２〜６個の炭素原子を有するアルケニル又はアルキニルを示すか、それぞれ場合によりシアノ−、ハロゲン−もしくはＣ₁−Ｃ₄−アルキル−置換されていることができる、それぞれシクロアルキル基中に３〜６個の炭素原子及び場合によりアルキル部分中に１〜４個の炭素原子を有するシクロアルキル又はシクロアルキルアルキルを示すか、あるいはそれぞれシアノ−、ハロゲン−、Ｃ₁−Ｃ₄−アルキル−もしくはＣ₁−Ｃ₄−アルコキシ−置換されていることができるオキセタニル、フリル又はテトラヒドロフリルを示す。
【００１６】
Ａは特に好ましくは窒素又はＣＨ基を示す。
【００１７】
Ｑは特に好ましくは単結合を示すか、あるいはＮＨを示す。
【００１８】
Ｒ¹は特に好ましくは水素、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素を示すか、あるいはそれぞれ場合によりシアノ−、フッ素−、塩素−、メトキシ−もしくはエトキシ−置換されていることができるメチル、エチル、ｎ−もしくはｉ−プロピル、メトキシ、エトキシ、ｎ−もしくはｉ−プロポキシ、メチルチオ、エチルチオ、ｎ−もしくはｉ−プロピルチオ、メチルアミノ、エチルアミノ、ｎ−もしくはｉ−プロピルアミノ、ジメチルアミノ又はジエチルアミノを示す。
【００１９】
Ｒ²は特に好ましくはフッ素、塩素、臭素を示すか、あるいはそれぞれ場合によりシアノ−、フッ素−、塩素−、メトキシ−もしくはエトキシ−置換されていることができるメチル、エチル、ｎ−もしくはｉ−プロピル、メトキシ、エトキシ、ｎ−もしくはｉ−プロポキシ、メチルチオ、エチルチオ、ｎ−もしくはｉ−プロピルチオ、メチルアミノ、エチルアミノ、ｎ−もしくはｉ−プロピルアミノ、ジメチルアミノ又はジエチルアミノを示す。
【００２０】
Ｒ³は特に好ましくは水素を示すか、あるいはそれぞれ場合によりメトキシ−、エトキシ−、ｎ−もしくはｉ−プロポキシ−、アセチル−、プロピオニル−、ｎ−もしくはｉ−ブチロイル−、メトキシカルボニル−、エトキシカルボニル−、ｎ−もしくはｉ−プロポキシカルボニル−置換されていることができるメチル又はエチルを示す。
【００２１】
Ｒ⁴は特に好ましくはそれぞれ場合によりシアノ−、フッ素−、塩素−、メトキシ−もしくはエトキシ−置換されていることができるメチル、エチル、ｎ−もしくはｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−、ｓ−もしくはｔ−ブチルを示す。
【００２２】
Ｒ⁵は特に好ましくは水素を示すか、それぞれ場合によりシアノ−、フッ素−、塩素−、メトキシ−、エトキシ−、ｎ−もしくはｉ−プロポキシ−置換されていることができるメチル、エチル、ｎ−もしくはｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−、ｓ−もしくはｔ−ブチルを示すか、それぞれ場合によりフッ素−、塩素−もしくは臭素−置換されていることができるプロペニル、ブテニル、プロピニル又はブチニルを示すか、あるいはそれぞれ場合によりシアノ−、フッ素−、塩素−、臭素−、メチル−、エチル−、ｎ−もしくはｉ−プロピル−置換されていることができるシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロプロピルメチル、シクロブチルメチル、シクロペンチルメチル又はシクロヘキシルメチルを示す。
【００２３】
Ａは特別に好ましくは窒素又はＣＨ基を示す。
【００２４】
Ｑは特別に好ましくは単結合を示すか、あるいはＮＨを示す。
【００２５】
Ｒ¹は特別に好ましくは水素、フッ素、塩素、臭素を示すか、それぞれ場合によりフッ素−、塩素−、メトキシ−もしくはエトキシ−置換されていることができるメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、メチルチオ、エチルチオ、メチルアミノ、エチルアミノを示すか、あるいはジメチルアミノを示す。
【００２６】
Ｒ²は特別に好ましくはフッ素、塩素、臭素を示すか、それぞれ場合によりフッ素−、塩素−、メトキシ−もしくはエトキシ−置換されていることができるメチル、エチル、メトキシ、エトキシ、メチルチオ、エチルチオ、メチルアミノ又はエチルアミノを示すか、あるいはジメチルアミノを示す。
【００２７】
Ｒ³は特別に好ましくは水素又はメチルを示す。
【００２８】
Ｒ⁴は特別に好ましくはそれぞれ場合によりフッ素−もしくは塩素−置換されていることができるメチル、エチル、ｎ−もしくはｉ−プロピルを示す。
【００２９】
Ｒ⁵は特別に好ましくはそれぞれ場合によりフッ素−、塩素−、メトキシ−もしくはエトキシ−置換されていることができるメチル、エチル、ｎ−もしくはｉ−プロピルを示すか、あるいはそれぞれ場合によりフッ素−もしくは塩素−置換されていることができるプロペニル又はピロピニルを示す。
【００３０】
Ａは最も好ましくはＣＨ基を示す。
【００３１】
Ｒ¹及びＲ²は最も好ましくはメトキシを示す。
【００３２】
Ｒ³は最も好ましくは水素を示す。
【００３３】
本発明はまた、好ましくは、Ａ、Ｑ、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴及びＲ⁵が上記で好ましいとして示した意味を有する式（Ｉ）の化合物のナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、アンモニウム、Ｃ₁−Ｃ₄−アルキル−アンモニウム、ジ−（Ｃ₁−Ｃ₄−アルキル）−アンモニウム、トリ−（Ｃ₁−Ｃ₄−アルキル）−アンモニウム、テトラ−（Ｃ₁−Ｃ₄−アルキル）−アンモニウム、トリ−（Ｃ₁−Ｃ₄−アルキル）−スルホニウム、Ｃ₅−もしくはＣ₆−シクロアルキル−アンモニウム及びジ−（Ｃ₁−Ｃ₂−アルキル）−ベンジル−アンモニウム塩を提供する。
【００３４】
上記の一般的な又は好ましい基の定義は式（Ｉ）の最終的生成物、ならびに対応して、それぞれ製造に必要な出発材料又は中間体の両方に適用される。これらの基の定義を所望通りに、すなわち示した好ましい化合物の範囲の間の組合わせを含んで、互いに組み合わせることができる。
【００３５】
上記で好ましいとして示した意味の組合わせを含有する式（Ｉ）の化合物が本発明に従って好ましい。
【００３６】
上記で特に好ましいとして示した意味の組合わせを含有する式（Ｉ）の化合物が本発明に従って特に好ましい。
【００３７】
上記で特別に好ましいとして示した意味の組合わせを含有する式（Ｉ）の化合物が本発明に従って特別に好ましい。
【００３８】
Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³又はＡが最も好ましいとして示した意味の１つを有する化合物が本発明に従って最も好ましい。
【００３９】
本発明に従う式（Ｉ）の化合物の例を以下の群において挙げる。
１群
【００４０】
【化１２】

【００４１】
ここで、Ａ、Ｑ、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は例えば下記に挙げる意味を有する：
【００４２】
【表１】

【００４３】
【表２】

【００４４】
２群
【００４５】
【化１３】

【００４６】
ここで、Ａ、Ｑ、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は例えば１群において上記で示した意味を有する。
３群
【００４７】
【化１４】

【００４８】
ここで、Ａ、Ｑ、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は例えば１群において上記で示した意味を有する。
４群
【００４９】
【化１５】

【００５０】
ここで、Ａ、Ｑ、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は例えば１群において上記で示した意味を有する。
５群
【００５１】
【化１６】

【００５２】
ここで、Ａ、Ｑ、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は例えば１群において上記で示した意味を有する。
６群
【００５３】
【化１７】

【００５４】
ここで、Ａ、Ｑ、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は例えば１群において上記で示した意味を有する。
７群
【００５５】
【化１８】

【００５６】
ここで、Ａ、Ｑ、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は例えば１群において上記で示した意味を有する。
８群
【００５７】
【化１９】

【００５８】
ここで、Ａ、Ｑ、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は例えば１群において上記で示した意味を有する。
９群
【００５９】
【化２０】

【００６０】
ここで、Ａ、Ｑ、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は例えば１群において上記で示した意味を有する。
１０群
【００６１】
【化２１】

【００６２】
ここで、Ａ、Ｑ、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は例えば１群において上記で示した意味を有する。
１１群
【００６３】
【化２２】

【００６４】
ここで、Ａ、Ｑ、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は例えば１群において上記で示した意味を有する。
１２群
【００６５】
【化２３】

【００６６】
ここで、Ａ、Ｑ、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は例えば１群において上記で示した意味を有する。
１３群
【００６７】
【化２４】

【００６８】
ここで、Ａ、Ｑ、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は例えば１群において上記で示した意味を有する。
１４群
【００６９】
【化２５】

【００７０】
ここで、Ａ、Ｑ、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は例えば１群において上記で示した意味を有する。
１５群
【００７１】
【化２６】

【００７２】
ここで、Ａ、Ｑ、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は例えば１群において上記で示した意味を有する。
１６群
【００７３】
【化２７】

【００７４】
ここで、Ａ、Ｑ、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は例えば１群において上記で示した意味を有する。
１７群
【００７５】
【化２８】

【００７６】
ここで、Ａ、Ｑ、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は例えば１群において上記で示した意味を有する。
１８群
【００７７】
【化２９】

【００７８】
ここで、Ａ、Ｑ、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は例えば１群において上記で示した意味を有する。
１９群
【００７９】
【化３０】

【００８０】
ここで、Ａ、Ｑ、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は例えば１群において上記で示した意味を有する。
２０群
【００８１】
【化３１】

【００８２】
ここで、Ａ、Ｑ、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は例えば１群において上記で示した意味を有する。
２１群
【００８３】
【化３２】

【００８４】
ここで、Ａ、Ｑ、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は例えば１群において上記で示した意味を有する。
２２群
【００８５】
【化３３】

【００８６】
ここで、Ａ、Ｑ、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は例えば１群において上記で示した意味を有する。
２３群
【００８７】
【化３４】

【００８８】
ここで、Ａ、Ｑ、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は例えば１群において上記で示した意味を有する。
２４群
【００８９】
【化３５】

【００９０】
ここで、Ａ、Ｑ、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は例えば１群において上記で示した意味を有する。
２５群
【００９１】
【化３６】

【００９２】
ここで、Ａ、Ｑ、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は例えば１群において上記で示した意味を有する。
【００９３】
一般式（Ｉ）の新規な置換チエニル（アミノ）スルホニルウレアは強い除草活性を有する。
【００９４】
一般式（Ｉ）の新規な置換チエニル（アミノ）スルホニルウレアは、
（ａ）一般式（ＩＩ）
【００９５】
【化３７】

【００９６】
［式中、
Ａ、Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ上記で定義した通りである］
のアミノアジンを一般式（ＩＩＩ）
【００９７】
【化３８】

【００９８】
［式中、
Ｑ、Ｒ⁴及びＲ⁵はそれぞれ上記で定義した通りである］
のチエニル（アミノ）スルホニルイソシアナートと、適宜反応助剤の存在下に且つ適宜希釈剤の存在下において反応させるか、
あるいは
（ｂ）一般式（ＩＶ）
【００９９】
【化３９】

【０１００】
［式中、
Ａ、Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ上記で定義した通りであり、
Ｚはハロゲン、アルコキシ又はアリールオキシを示し、
Ｒは上記でＲ³に関して示した意味を有するか、あるいは基−Ｃ（Ｏ）−Ｚを示す］
の置換アミノアジンを一般式（Ｖ）
【０１０１】
【化４０】

【０１０２】
［式中、
Ｑ、Ｒ⁴及びＲ⁵はそれぞれ上記で定義した通りである］
のチオフェン誘導体と、適宜反応助剤の存在下に且つ適宜希釈剤の存在下において反応させるか、
あるいは
（ｃ）一般式（ＩＩ）
【０１０３】
【化４１】

【０１０４】
［式中、
Ａ、Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ上記で定義した通りである］
のアミノアジンを一般式（ＶＩ）
【０１０５】
【化４２】

【０１０６】
［式中、
Ｑ、Ｒ⁴及びＲ⁵はそれぞれ上記で定義した通りであり、
Ｚはハロゲン、アルコキシ又はアリールオキシを示す］
のチオフェン誘導体と、適宜反応助剤の存在下に且つ適宜希釈剤の存在下において反応させるか、
あるいは
（ｄ）一般式（ＩＩ）
【０１０７】
【化４３】

【０１０８】
［式中、
Ａ、Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ上記で定義した通りである］
のアミノアジンを、適宜希釈剤の存在下で、クロロスルホニルイソシアナートと反応させ、得られる一般式（ＶＩＩ）
【０１０９】
【化４４】

【０１１０】
［式中、
Ａ、Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ上記で定義した通りである］
のクロロスルホニルアミノカルボニルアミノ−アジンを
−中間体の単離の後又は「その場で」−、
一般式（ＶＩＩＩ）
【０１１１】
【化４５】

【０１１２】
［式中、
Ｒ⁴及びＲ⁵はそれぞれ上記で定義した通りである］
の置換アミノチオフェンと、適宜反応助剤の存在下に且つ適宜希釈剤の存在下において反応させ、
方法（ａ）、（ｂ）、（ｃ）又は（ｄ）により得られる式（Ｉ）の化合物を適宜通常の方法により塩に転換する
場合に得られる。
【０１１３】
例えば、２−アミノ−４−メトキシ−６−メチル−ピリミジン及び４−エトキシカルボニル−２−トリフルオロメチル−チエン−３−イル−スルホニルイソシアナートを出発材料として用いると、本発明に従う方法（ａ）における反応の経路は以下の式スキームにより示すことができる：
【０１１４】
【化４６】

【０１１５】
例えば、２−メトキシカルボニルアミノ−４−メトキシ−６−トリフルオロメチル−１，３，５−トリアジン及び２−エチル−４−ｉ−プロポキシカルボニル−チオフェン−３−スルホンアミドを出発材料として用いると、本発明に従う方法（ｂ）における反応の経路は以下の式スキームにより示すことができる：
【０１１６】
【化４７】

【０１１７】
例えば、２−アミノ−４−クロロ−６−メトキシ−ピリミジン及びＯ−フェニル Ｎ−（４−エトキシカルボニル−２−メチル−チエン−３−イル−スルホニル）−ウレタンを出発材料として用いると、本発明に従う方法（ｃ）における反応の経路は以下の式スキームにより示すことができる：
【０１１８】
【化４８】

【０１１９】
例えば、２−アミノ−４−メトキシ−６−トリフルオロメチル−ピリミジン、クロロスルホニルイソシアナート及び３−アミノ−２−エチル−チオフェン−４−カルボン酸エチルを出発材料として用いると、本発明に従う方法（ｄ）における反応の経路は以下の式スキームにより示すことができる：
【０１２０】
【化４９】

【０１２１】
式（ＩＩ）は一般式（Ｉ）の化合物の製造のための本発明に従う方法（ａ）、（ｃ）及び（ｄ）において出発材料として用いられるべきアミノアジンの一般的定義を与える。式（ＩＩ）において、Ａ、Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ好ましくは又は特に、式（Ｉ）の化合物の記載と関連して、Ａ、Ｒ¹及びＲ²のために好ましい又は特に好ましいとしてすでに上記で挙げた意味を有する。
【０１２２】
式（ＩＩ）のアミノアジンは合成のための既知の化学薬品であり、それらのいくつかは商業的に入手可能である。
【０１２３】
式（ＩＩＩ）は本発明に従う方法（ａ）において出発材料としてさらに用いられるべきチエニル（アミノ）スルホニルイソシアナートの一般的定義を与える。式（ＩＩＩ）において、Ｑ、Ｒ⁴及びＲ⁵はそれぞれ好ましくは又は特に、式（Ｉ）の化合物の記載と関連して、Ｑ、Ｒ⁴及びＲ⁵のために好ましい又は特に好ましいとして上記ですでに挙げた意味を有する。
【０１２４】
式（ＩＩＩ）の出発材料は既知であるか及び／又はそれ自体既知の方法により製造することができる（ＥＰ ３０１４２／ＵＳ−Ａ−４４８１０２９／ＵＳ−Ａ−４５９９１０３／ＵＳ−Ａ−４７０１５３５を参照されたい）。
【０１２５】
式（ＩＩＩ）のチエニル（アミノ）スルホニルイソシアナートは、一般式（Ｖ）−上記−のチオフェン誘導体を適宜アルキルイソシアナート、例えばブチルイソシアナートの存在下に、適宜反応助剤、例えばジアザビシクロ［２．２．２］オクタンの存在下に、且つ例えばトルエン、キシレン又はクロロベンゼンのような希釈剤の存在下に、８０℃〜１５０℃の温度でホスゲン又はチオホスゲンと反応させ、反応が終了した後に揮発性成分を減圧下で蒸留する場合に得られる。
【０１２６】
式（ＩＶ）は式（Ｉ）の化合物の製造のための本発明に従う方法（ｂ）において出発材料として用いられるべき置換アミノアジンの一般的定義を与える。式（ＩＶ）において、Ａ、Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ好ましくは又は特に、式（Ｉ）の化合物の記載と関連して、Ａ、Ｒ¹及びＲ²のために好ましい、又は特に好ましいとしてすでに上記で挙げた意味を有し；Ｚは好ましくはフッ素、塩素、臭素、Ｃ₁−Ｃ₄−アルコキシ又はフェノキシ、特に塩素、メトキシ、エトキシ又はフェノキシを示す。
【０１２７】
式（ＩＶ）の出発材料は既知であるか及び／又はそれ自体既知の方法により製造することができる（ＵＳ ４ ６９０ ７０７、ＤＥ １９ ５０１ １７４を参照されたい）。
【０１２８】
式（Ｖ）は本発明に従う方法（ｂ）において出発材料としてさらに用いられるべきチオフェン誘導体の一般的定義を与える。式（Ｖ）において、Ｑ、Ｒ⁴及びＲ⁵はそれぞれ好ましくは又は特に、式（Ｉ）の化合物の記載と関連して、Ｑ、Ｒ⁴及びＲ⁵のために好ましい又は特に好ましいとして上記ですでに挙げた意味を有する。
【０１２９】
式（Ｖ）の出発材料は既知であるか及び／又はそれ自体既知の方法により製造することができる（ＥＰ ３０ １４２／ＵＳ−Ａ−４ ４８１ ０２９／ＵＳ−Ａ−４ ５９９ １０３／ＵＳ−Ａ−４ ７０１ ５３５、製造実施例を参照されたい）。
【０１３０】
式（ＶＩ）は式（Ｉ）の化合物の製造のための本発明に従う方法（Ｃ）において出発材料として用いられるべき置換チオフェン誘導体の一般的定義を与える。式（ＶＩ）において、Ｑ、Ｒ⁴及びＲ⁵はそれぞれ好ましくは又は特に、式（Ｉ）の化合物の記載と関連して、Ｑ、Ｒ⁴及びＲ⁵のために好ましい又は特に好ましいとして上記ですでに挙げた意味を有し；Ｚは好ましくはフッ素、塩素、臭素、Ｃ₁−Ｃ₄−アルコキシ又はフェノキシ、特に塩素、メトキシ、エトキシ又はフェノキシを示す。
【０１３１】
式（ＶＩ）の出発材料は既知であるか及び／又はそれ自体既知の方法により製造することができる。
【０１３２】
式（ＶＩＩＩ）は一般式（Ｉ）の化合物の製造のための本発明に従う方法（ｄ）において出発材料として用いられるべき置換アミノチオフェンの一般的定義を与える。一般式（ＶＩＩＩ）において、Ｒ⁴及びＲ⁵はそれぞれ好ましくは又は特に、本発明に従う一般式（Ｉ）の化合物の記載と関連して、Ｒ⁴及びＲ⁵のために好ましい又は特に好ましいとして上記ですでに挙げた意味を有する。
【０１３３】
一般式（ＶＩＩＩ）の出発材料は既知であるか及び／又はそれ自体既知の方法により製造することができる（Ａｕｓｔ．Ｊ．Ｃｈｅｍ．，４８（１９９５），１９０７−１９１６を参照されたい）。
【０１３４】
本発明に従う方法（ａ）、（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）を行うために適した希釈剤は特に不活性有機溶媒である。これらには特に脂肪族、脂環式もしくは芳香族の場合によりハロゲン化されていることができる炭化水素、例えばベンジン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、石油エーテル、ヘキサン、シクロヘキサン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素；エーテル類、例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン又はエチレングリコールジメチルエーテルもしくはエチレングリコールジエチルエーテル；ケトン類、例えばアセトン、ブタノン又はメチルイソブチルケトン；ニトリル類、例えばアセトニトリル、プロピオニトリル又はブチロニトリル；アミド類、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルピロリドン又はヘキサメチルリン酸トリアミド；エステル類、例えば酢酸メチル又は酢酸エチルならびにスルホキシド類、例えばジメチルスルホキシドが含まれる。
【０１３５】
本発明に従う方法（ａ）、（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）は好ましくは適した反応助剤の存在下で行われる。適した反応助剤はすべての通常の無機もしくは有機塩基である。これらには例えばアルカリ土類金属もしくはアルカリ金属水素化物、水酸化物、アミド、アルコキシド、酢酸塩、炭酸塩又は重炭酸塩、例えば水素化ナトリウム、ナトリウムアミド、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化アンモニウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸カルシウム、酢酸アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重炭酸カリウム、重炭酸ナトリウム又は炭酸アンモニウム、ならびに又、第３級アミン類、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、ピリジン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、ジアザビシクロオクタン（ＤＡＢＣＯ）、ジアザビシクロノネン（ＤＢＮ）又はジアザビシクロウンデセン（ＤＢＵ）が含まれる。
【０１３６】
本発明に従う方法（ａ）、（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）を行う場合、比較的広い範囲内で反応温度を変えることができる。一般に、該方法は−２０℃〜＋１５０℃、好ましくは−１０℃〜＋１２０℃の温度で行われる。
【０１３７】
本発明に従う方法（ａ）、（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）は一般に大気圧下で行われる。しかしながら、加圧下もしくは減圧下−一般に０．１バール〜１０バール−において本発明に従う方法を行うこともできる。
【０１３８】
本発明に従う方法（ａ）、（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）を行うために、出発材料は一般に大体等モル量で用いられる。しかしながら、比較的大過剰の成分の１つを用いることもできる。反応は一般に適した希釈剤中で、反応助剤の存在下において行われ、反応混合物は一般に必要な温度で数時間撹拌される。仕上げは通常の方法により行われる（製造実施例を参照されたい）。
【０１３９】
適宜、本発明に従う一般式（Ｉ）の化合物から塩を製造することができる。そのような塩は、塩の形成のための通常の方法により簡単なやり方で、例えば式（Ｉ）の化合物を適した溶媒、例えば、塩化メチレン、アセトン、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル又はトルエン中に溶解するか又は分散させ、適した塩基を加えることにより得られる。次いで塩を−適宜長時間の撹拌の後に−濃縮又は吸引濾過により単離することができる。
【０１４０】
本発明に従う活性化合物を落葉剤（ｄｅｆｏｌｉａｎｔｓ）、乾燥剤（ｄｅｓｉｃｃａｎｔｓ）、殺茎剤（ｈａｕｌｍ ｋｉｌｌｅｒｓ）及び特に殺雑草剤（ｗｅｅｄ ｋｉｌｌｅｒｓ）として用いることができる。雑草により、最も広い意味において、それらが望まれていない場所で生育するすべての植物が理解されるべきである。本発明に従う物質が全体的除草剤として作用するか又は選択的除草剤として作用するかは、本質的に用いられる量に依存する。
【０１４１】
本発明に従う活性化合物を例えば以下の植物と関連して用いることができる：
以下の属の双子葉雑草：イチビ、ヒユ、ブタクサ、アノダ（Ａｎｏｄａ）、アンテミス（Ａｎｔｈｅｍｉｓ）、アファネス（Ａｐｈａｎｅｓ）、アトリプレクス（Ａｔｒｉｐｌｅｘ）、ヒナギク、センダングサ、ナズナ、カルデゥウス（Ｃａｒｄｕｕｓ）、カシヤ、ヤグルマギク、アカザ、ノアザミ、コンボルブルス（Ｃｏｎｖｏｌｖｕｌｕｓ）、チョウセンアサガオ、フジカンゾウ、エメクス（Ｅｍｅｘ）、エリシムム（Ｅｒｙｓｉｍｕｍ）、ハナキリン、チシマオドリコ、ガリンソガ（Ｇａｌｉｎｓｏｇａ）、ヤエムグラ、フヨウ、サツマイモ、ホウキギ、オドリコソウ、マメグンバイナズナ、リンデルニア（Ｌｉｎｄｅｒｎｉａ）、マツリカリア（Ｍａｔｒｉｃａｒｉａ）、ハッカ、ヤマアイ、ムルゴ（Ｍｕｌｌｕｇｏ）、ワスレナグサ、ケシ、ファルビチス（Ｐｈａｒｂｉｔｉｓ）、オオバコ、ミチヤナギ、スベリヒユ、キンポウゲ、ダイコン、イヌガラシ、ロタラ（Ｒｏｔａｌａ）、スイバ、オカヒジキ、ハンゴンソウ、セスバニア（Ｓｅｓｂａｎｉａ）、キンゴジカ、カラシ、ナス、ノゲシ、スフェノクレア（Ｓｐｈｅｎｏｃｌｅａ）、ハコベ、タンポポ、トラスピ（Ｔｈｌａｓｐｉ）、シロツメクサ、イラクサ、クワガタソウ、スミレ、オナモミ。
以下の属の双子葉作物：ナンキンマメ、フダンソウ、アブラナ、キウリ、カボチャ、ヒマワリ、ニンジン、ダイズ、ワタ、サツマイモ、アキノノゲシ、アマ、トマト、タバコ、インゲンマメ、エンドウ、ナス、ソラマメ。
以下の属の単子葉雑草：タルホコムギ、カモジグサ、ヌカボ、スズメノテッポウ、アペラ（Ａｐｅｒａ）、カラスムギ、ブラキアリア（Ｂｒａｃｈｉａｒｉａ）、キツネガヤ、センクルス（Ｃｅｎｃｈｒｕｓ）、ツユクサ、シノドン（Ｃｙｎｏｄｏｎ）、カヤツリグサ、ダクチロクテニウム（Ｄａｃｔｙｌｏｃｔｅｎｉｕｍ）、ヒメシバ、ヒエ、ハリイ、オヒシバ、カゼクサ、エリオクロア（Ｅｒｉｏｃｈｌｏａ）、ウシノケグサ、テンツキ、ヘテランテラ（Ｈｅｔｅｒａｎｔｈｅｒａ）、チガヤ、カモノハシ、レプトクロア（Ｌｅｐｔｏｃｈｌｏａ）、ドクムギ、コナギ、キビ、スズメノヒエ、クサヨシ、アワガエリ、イチゴツナギ、ロトボエリア（Ｒｏｔｔｂｏｅｌｌｉａ）、オモダカ、ホタルイ、エノコロ、モロコシ。
以下の属の単子葉作物：ネギ、パイナップル、アスパラガス、カラスムギ、オオムギ、イネ、キビ、サトウキビ、ライムギ、モロコシ、ツリチカレ（Ｔｒｉｔｉｃａｌｅ）、コムギ、トウモロコシ。
【０１４２】
しかしながら、本発明に従う活性化合物の使用はこれらの属に何ら制限されるものではなく、他の植物にも同じ様に拡張される。
【０１４３】
濃度に依存して、本発明に従う活性化合物は例えば工業地域及び線路上ならびに木が立っているかもしくは立っていない道及び広場上の雑草の全体的抑制に適している。同様に、本発明に従う活性化合物を多年生作物、例えば森林、装飾用植物栽培、果樹園、ブドウ園、柑橘果樹園、ナッツ園（ｎｕｔ ｏｒｃｈａｒｄｓ）、バナナプランテーション、コーヒープランテーション、茶プランテーション、ゴムプランテーション、油ヤシプランテーション、ココアプランテーション、液果（ｓｏｆｔ ｆｒｕｉｔ）栽培及びホップ畑中、芝生、芝地及び牧草地上の雑草の抑制ならびに一年生作物中における選択的雑草抑制に用いることができる。
【０１４４】
本発明に従う式（Ｉ）の化合物は、土壌及び植物の地上部分に用いた場合、強い除草活性及び広い活性範囲を有する。それらは発芽−前及び発芽−後の両方により、単子葉及び双子葉作物中の単子葉及び双子葉雑草の選択的抑制にもある程度まで適している。
【０１４５】
活性化合物を通常の調剤、例えば溶液、乳剤、水和性粉剤、懸濁剤、粉剤、微粉剤、塗布剤、可溶性粉剤、顆粒剤、懸濁乳剤濃厚液（ｓｕｓｐｏ−ｅｍｕｌｓｉｏｎ ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｅｓ）、活性化合物が含浸された天然及び合成物質ならびにポリマー性物質中の非常に微細なカプセルに転換することができる。
【０１４６】
これらの調剤は既知の方法で、例えば活性化合物を伸展剤、すなわち液体溶媒及び／又は固体担体と、場合により界面活性剤、すなわち乳化剤及び／又は分散剤及び／又は発泡剤を使用して混合することにより調製される。
【０１４７】
用いられる伸展剤が水の場合、例えば補助溶媒として有機溶媒を用いることもできる。適した液体溶媒は本質的に以下のものである：芳香族化合物、例えば、キシレン、トルエン又はアルキルナフタレン、塩素化芳香族化合物及び塩素化脂肪族炭化水素、例えばクロロベンゼン、クロロエチレン又は塩化メチレン、脂肪族炭化水素、例えばシクロヘキサン又はパラフィン類、例えば石油留分、鉱油及び植物油、アルコール類、例えばブタノール又はグリコールならびに又それらのエーテル類及びエステル類、ケトン類、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン又はシクロヘキサノン、強力に極性の溶媒、例えばジメチルホルムアミド及びジメチルスルホキシドならびに又、水。
【０１４８】
適した固体担体は：例えばアンモニウム塩及びカオリン、クレー、タルク、チョーク、石英、アタパルジャイト、モントモリロナイト又はケイソウ土のような粉砕された天然鉱石ならびに微粉砕されたシリカ、アルミナ及びケイ酸塩のような粉砕された合成鉱石であり；顆粒剤のための適した固体担体は：例えば方解石、大理石、軽石、海泡石及び白雲石のような粉砕されて分別された天然岩石ならびにまた、無機及び有機粉末の合成顆粒ならびにおが屑、ココヤシの殻、とうもろこしの穂軸及びタバコの茎のような有機材料の顆粒であり；適した乳化剤及び／又は発泡剤は：例えば非イオン性及びアニオン性乳化剤、例えばポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪族アルコールエーテル、例えばアルキルアリールポリグリコールエーテル、アルキルスルホネート、アルキルサルフェート、アリールスルホネートならびにタンパク質加水分解産物であり；適した分散剤は：例えばリグニン−サルファイト廃液及びメチルセルロースである。
【０１４９】
粘着付与剤、例えばカルボキシメチルセルロースならびに粉末、顆粒もしくはラテックスの形態の天然及び合成ポリマー、例えばアラビアゴム、ポリビニルアルコール及びポリ酢酸ビニル、ならびにセファリン及びレシチンのような天然リン脂質ならびに合成リン脂質を調剤中で用いることができる。他の可能な添加剤は鉱油及び植物油である。
【０１５０】
着色剤、例えば無機顔料、例えば酸化鉄、酸化チタン及びプルシアンブルーならびにアリザリン染料、アゾ染料及び金属フタロシアニン染料のような有機染料ならびに鉄、マンガン、ほう素、銅、コバルト、モリブデン及び亜鉛の塩のような微量栄養素を使用することができる。
【０１５１】
調剤は一般に０．１〜９５重量パーセントの活性化合物、好ましくは０．５〜９０％の活性化合物を含有する。
【０１５２】
雑草の抑制のために、そのままのもしくはそれらの調剤における本発明に従う活性化合物を、既知の除草剤との混合物として用いることもでき、完成調剤又はタンク混合が可能である。
【０１５３】
混合物のための可能な成分は既知の除草剤、例えば
アセトクロル、アシフルオルフェン（−ナトリウム）、アクロニフェン、アラクロル、アロキシジム（−ナトリウム）、アメツリン、アミドクロル、アミドスルフロン、アニロフォス、アスラム、アトラジン、アザフェニジン、アジムスルフロン、ベナゾリン（−エチル）、ベンフレセート、ベンスルフロン（−メチル）、ベンタゾン、ベンゾビサイクロン、ベンゾフェナプ、ベンゾイルプロプ（−エチル）、ビアラフォス、ビフェノクス、ビスピリバク（−ナトリウム）、ブロモブチド、ブロモフェノキシム、ブロモキシニル、ブタクロル、ブトロキシジム、ブチレート、カフェンストロール、カロキシジム、カルベタミド、カルフェントラゾン（−エチル）、クロメトキシフェン、クロラムベン、クロリダゾン、クロリムロン（−エチル）、クロルニトロフェン、クロルスルフロン、クロルトルロン、シニドン（−エチル）、シンメチリン、シノスルフロン、クレフォキシジム、クレトジム、クロジナフォプ（−プロパルギル）、クロマゾン、クロメプロプ、クロピラリド、クロピラスルフロン（−メチル）、クロランスラム（−メチル）、クミルロン、シアナジン、シブツリン、シクロエート、シクロスルファロムン、シクロキシジム、シハロフォプ（−ブチル）、２，４−Ｄ、２，４−ＤＢ、２，４−ＤＰ、デスメジファム、ジアレート、ジカンバ、ジクロホプ（−メチル）、ジクロスラム、ジエタチル（−エチル）、ジフェンゾクアト、ジフルフェニカン、ジフルフェンゾピル、ジメフロン、ジメピペレート、ジメタクロル、ジメタメツリン、ジメテナミド、ジメキシフラム、ジニトラミン、ジフェナミド、ジクアト、ジチオピル、ジウロン、ジムロン、エポプロダン、ＥＰＴＣ、エスプロカルブ、エタルフルラリン、エタメツルフロン（−メチル）、エトフメセート、エトキシフェン、エトキシスルフロン、エトベンザニド、フェノキサプロプ（−Ｐ−エチル）、フェントラザミド、フラムプロプ（−イソプロピル）、フラムプロプ（−イソプロピル−Ｌ）、フラムプロプ（−メチル）、フラザスルフロン、フロラスラム、フルアジホプ（−Ｐ−ブチル）、フルアゾレート、フルカルバゾン、フルフェナセト、フルメツラム、フルミクロラク（−ペンチル）、フルミオキサジン、フルミプロピン、フルメツラム、フルオメツロン、フルオロクロリドン、フルオログリコフェン（−エチル）、フルポキサム、フルプロパシル、フルルピルスルフロン（−メチル、−ナトリウム）、フルレノル（−ブチル）、フルリドン、フルロキシピル（−メチル）、フルルプリミドル、フルルタモン、フルチアセト（−メチル）、フルチアミド、フォメサフェン、グルフォシネート（−アンモニウム）、グリフォセート（−イソプロピルアンモニウム）、ハロサフェン、ハロキシフォプ（−エトキシエチル）、ハロキシフォプ（−Ｐ−メチル）、ヘキサジノン、イマザメタベンズ−（−メチル）、イマザメタピル、イマザモクス、イマザピク、イマザピル、イマザクイン、イマゼタピル、イマゾスルフロン、イオドスルフロン（−メチル、−ナトリウム）、イオキシニル、イソプロパリン、イソプロツロン、イソウロン、イソキサベン、イソキサクロルトレ、イソキサフルトレ、イソキサピリフォプ、ラクトフェン、レナシル、リヌロン、ＭＣＰＡ、ＭＣＰＰ、メフェナセト、メソツリオン、メタミツロン、メタザクロル、メタベンズチアズロン、メトベンズロン、メトブロムロン、（アルファ−）メトラクロル、メトスラム、メトクスロン、メツリブジン、メツルフロン（−メチル）、モリネート、モノリヌロン、ナプロアニリド、ナプロパミド、ネブロン、ニコスルフロン、ノルフルラゾン、オルベンカルブ、オリザリン、オキサジアルギル、オキサジアゾン、オキサスルフロン、オキサジクロメフォン、オキシフルオルフェン、パラクアト、ペラルゴン酸、ペンジメタリン、ペンドラリン、ペントキサゾン、フェンメジファム、ピペロフォス、プレチラクロル、プリミスルフロン（−メチル）、プロメツリン、プロパクロル、プロパニル、プロパクイザフォプ、プロピソクロル、プロピザミド、プロスルフォカルブ、プロスルフロン、ピラフルフェン（−エチル）、ピラゾレート、ピラゾスルフロン（−エチル）、ピラゾキシフェン、ピリベンゾキシム、ピリブチカルブ、ピリデート、ピリミノバク−（−メチル）、ピリチオバク（−ナトリウム）、クインクロラク、クインメラク、クイノクラミン、クイザロフォプ（−Ｐ−エチル）、クイザロフォプ（−Ｐ−テフリル）、リムスルフロン、セトキシジム、シマジン、シメツリン、スルコトリオン、スルフェントラゾン、スルホメツロン（−メチル）、スルフォセート、スルホスルフロン、テブタム、テブチウロン、テプラロキシジム、テルブチラジン、テルブツリン、テニルクロル、チアフルアミド、チアゾピル、チジアジミン、チフェンスルフロン（−メチル）、チオベンカルブ、チオカルバジル、トラルコキシジム、トリアレート、トリアスルフロン、トリベヌロン（−メチル）、トリクロピル、トリジファン、トリフルラリン及びトリフルスルフロン
である。
【０１５４】
他の既知の活性化合物、例えば殺菌・殺カビ剤（ｆｕｎｇｉｃｉｄｅｓ）、殺虫剤（ｉｎｓｅｃｔｉｃｉｄｅｓ）、殺ダニ剤（ａｃａｒｉｃｉｄｅｓ）、殺線虫剤（ｎｅｍａｔｉｃｉｄｅｓ）、鳥類忌避剤、植物栄養及び土壌構造を改良する薬剤との混合物も可能である。
【０１５５】
活性化合物はそのままで、それらの調剤の形態で又はさらに希釈することによりそれらから調製される使用形態、例えば調製済み溶液、懸濁剤、乳剤、粉剤、塗布剤及び顆粒剤において用いることができる。それらは通常の方法で、例えば散水、スプレー噴霧、噴霧又は散布により用いられる。
【０１５６】
本発明に従う活性化合物を植物の発芽の前及又は後に適用することができる。播種の前に土壌中にそれらを入れることもできる。
【０１５７】
用いられる活性化合物の量は比較的広い範囲内で変わり得る。それは本質的に所望の効果の性質に依存する。一般に用いられる量は土壌表面のヘクタール当たりに１ｇ〜１０ｋｇの活性化合物、好ましくはヘクタール当たりに５ｇ〜５ｋｇである。
【０１５８】
本発明に従う活性化合物の製造及び使用を、続く下記の実施例から知ることができる。
製造実施例：
実施例１
【０１５９】
【化５０】

【０１６０】
（方法（ｂ））
０．７５ｇ（２．９ミリモル）の２−フェノキシカルボニルアミノ−４−メトキシ−６−メチル−１，３，５−トリアジンを４０ｍｌのアセトニトリル中に溶解し、０．７５ｇ（３．２ミリモル）の２−メチル−３−スルファモイル−チオフェン−４−カルボン酸メチル及び０．４９ｇ（３．２ミリモル）のジアザビシクロウンデセン（ＤＢＵ）と連続的に混合する。反応混合物を室温（約２０℃）で１２時間撹拌し、次いで水流ポンプ真空下で濃縮する。残留物を塩化メチレン中に取り上げ、混合物を２Ｎ塩酸及び水で洗浄し、硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、濾過する。濾液を水流ポンプ真空下で濃縮し、残留物をジエチルエーテルを用いて温浸し、得られる結晶生成物を吸引濾過により単離する。
【０１６１】
これは融点が１９５℃のＮ−（４−メトキシ−６−メチル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−Ｎ’−（４−メトキシカルボニル−２−メチル−チエン−３−イル−スルホニル）−ウレアを０．６０ｇ（理論値の５２％）与える。
実施例２
【０１６２】
【化５１】

【０１６３】
（方法（ｄ））
１．０５ｇ（７．５ミリモル）のクロロスルホニルイソシアナートを最初に７５ｍｌの塩化メチレン中に入れる。−１０℃に冷却した後、３０ｍｌの塩化メチレン中の１．１６ｇ（７．５ミリモル）の２−アミノ−４，６−ジメトキシ−ピリミジンの溶液を撹拌しながらこの混合物に滴下し、混合物を−１０℃で３０分間撹拌する。次いで０℃において５０ｍｌの塩化メチレン中の１．２８ｇ（７．５ミリモル）の３−アミノ−２−メチル−チオフェン−４−カルボン酸メチル及び０．７５ｇ（７．５ミリモル）のトリエチルアミンの溶液を滴下し、反応混合物を室温（約２０℃）で１２時間撹拌する。次いで１００ｍｌの２Ｎ塩酸中の１００ｍｌの水を加え、有機相を分離し、５０ｍｌの水で洗浄し、硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、濾過する。濾液を水流ポンプ真空下で濃縮し、残留物をエタノールから結晶化する。
【０１６４】
これは融点が１７４℃のＮ−（４，６−ジメトキシ−ピリミジン−２−イル）−Ｎ’−（４−メトキシカルボニル−２−メチル−チエン−３−イル−アミノ−スルホニル）−ウレアを２．１ｇ（理論値の６６％）与える。
【０１６５】
実施例１及び２に類似して、且つ本発明に従う製造法の一般的記載に従って、例えば、下記の表１に挙げる一般式（Ｉ）の化合物を製造することもできる。
【０１６６】
【化５２】

【０１６７】
【表３】

【０１６８】
式（Ｖ）の出発材料：
実施例（Ｖ−１）
【０１６９】
【化５３】

【０１７０】
段階１
【０１７１】
【化５４】

【０１７２】
０℃〜５℃において、６０ｍｌの水中の１９．９ｇ（０．２９モル）の亜硝酸ナトリウムの溶液を７５ｍｌの１０％濃度塩酸水溶液中の４２．７ｇ（０．２５モル）の３−アミノ−２−メチル−チオフェン−４−カルボン酸メチルの溶液に撹拌しながら滴下する。反応混合物を０℃〜５℃で６０分間撹拌する。続いてアミドスルホン酸を用いて過剰の亜硝酸塩を破壊する。次いで０℃〜５℃において、混合物を撹拌しながら３００ｍｌの塩化メチレン中の３５ｇ（０．５５モル）の二酸化硫黄の溶液に滴下する。１．５ｇの塩化銅（Ｉ）及び１．５ｇのドデシル−トリメチルアンモニウムブロミドの添加の後、反応混合物を４０℃で６０分間、及び次いで２０℃で１２時間撹拌する。次いで１８ｍｌの３５％濃度塩酸水溶液を加え、混合物を２０℃で４時間撹拌し、次いで相を分離する。水相を塩化メチレンで再−抽出し、合わせた有機相を水で洗浄し、硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、濾過する。濾液を水流ポンプ真空下で濃縮し、残留物をヘキサンから結晶化する。
【０１７３】
これは５１．７ｇ（理論値の８１％）の塩化４−メトキシカルボニル−２−メチル−チオフェン−３−スルホニルを与える。
段階２
【０１７４】
【化５５】

【０１７５】
４５ｇ（１７７ミリモル）の塩化４−メトキシカルボニル−２−メチル−チオフェン−３−スルホニル、３４ｇ（３５４ミリモル）の炭酸アンモニウム及び４００ｍｌの塩化メチレンの混合物を室温（約２０℃）で１２時間撹拌する。混合物を濾過し、水流ポンプ真空下で濾液から溶媒を蒸留し、残留物をジエチルエーテルを用いて温浸し、結晶生成物を吸引濾過により単離する。
【０１７６】
これは２１．５ｇ（理論値の５２％）の４−メトキシカルボニル−２−メチル−チオフェン−３−スルホンアミドを与える。
使用実施例：
実施例Ａ
発芽−前試験
溶媒：５重量部のアセトン
乳化剤：１重量部のアルキルアリールポリグリコールエーテル
活性化合物の適した調製物を作るために、１重量部の活性化合物を上記の量の溶媒と混合し、上記の量の乳化剤を加え、水を用いて濃厚液を所望の濃度に希釈する。
【０１７７】
試験植物の種子を通常の土壌中に撒く。約２４時間後、単位面積当たりに所望の特定の量の活性化合物が適用されるように、土壌に活性化合物の調製物をスプレー噴霧する。ヘクタール当たり１０００リットルの水において、所望の特定の量の活性化合物が適用されるようにスプレー液の濃度を選ぶ。
【０１７８】
３週間後、植物に対する損傷の程度を未処理標準の生育への比較における％損傷として評価する。
【０１７９】
数字は：
０％＝効果なし（未処理標準と同じ）
１００％＝全体的破壊
を示す。
【０１８０】
この試験で、例えば、製造実施例１、２、３、４、５及び６の化合物は雑草に対する非常に強い活性を示し、それらのいくつかは例えば綿、トウモロコシ及び大豆のような作物植物により十分に許容される。
【０１８１】
【表４】

【０１８２】
【表５】

【０１８３】
【表６】

【０１８４】
【表７】

【０１８５】
【表８】

【０１８６】
【表９】

【０１８７】
実施例Ｂ
発芽−後試験
溶媒：５重量部のアセトン
乳化剤：１重量部のアルキルアリールポリグリコールエーテル
活性化合物の適した調製物を作るために、１重量部の活性化合物を上記の量の溶媒と混合し、上記の量の乳化剤を加え、水を用いて濃厚液を所望の濃度に希釈する。
【０１８８】
５〜１５ｃｍの高さを有する試験植物に、単位面積当たりに所望の特定の量の活性化合物が適用されるように、活性化合物の調製物をスプレー噴霧する。ヘクタール当たり１０００リットルの水において、所望の特定の量の活性化合物が適用されるようにスプレー液の濃度を選ぶ。
【０１８９】
３週間後、植物に対する損傷の程度を未処理標準の生育への比較における％損傷として評価する。
【０１９０】
数字は：
０％＝効果なし（未処理標準と同じ）
１００％＝全体的破壊
を示す。
【０１９１】
この試験で、例えば製造実施例１、２、５及び６の化合物は雑草に対する非常に強い活性を示し、それらのいくつかは例えば大麦及び小麦のような作物植物により十分に許容される。
【０１９２】
【表１０】

【０１９３】
【表１１】

【０１９４】
【表１２】

【０１９５】
【表１３】

Claims (7)

1. 一般式（Ｉ）
   

   

   ［式中、
   Ａは窒素又はＣＨ基を示し、
   Ｑは単結合を示すか、あるいはＮＨを示し、
   Ｒ¹はＣ ₁ −Ｃ ₄ アルキル又はＣ ₁ −Ｃ ₄ アルコキシを示し、
   Ｒ²はＣ ₁ −Ｃ ₄ アルキル又はＣ ₁ −Ｃ ₄ アルコキシを示し、
   Ｒ³は水素を示し、
   Ｒ⁴はハロゲンあるいはＣ ₁ −Ｃ ₆ アルキルを示し、
   Ｒ⁵は水素あるいはＣ ₁ −Ｃ ₆ アルキルを示す］
   の化合物又は式（Ｉ）の化合物の塩。
2. 一般式（ＩＩ）
   

   

   ［式中、
   Ａ、Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ請求項１で定義した通りである］
   のアミノアジンを一般式（ＩＩＩ）
   

   

   ［式中、
   Ｑ、Ｒ⁴及びＲ⁵はそれぞれ請求項１で定義した通りである］
   のチエニル（アミノ）スルホニルイソシアナートと、適宜反応助剤の存在下に且つ適宜希釈剤の存在下において反応させ、得られる式（Ｉ）の化合物を適宜通常の方法により塩に転換することを特徴とする請求項１に記載の化合物の製造法。
3. 一般式（ＩＶ）
   

   

   ［式中、
   Ａ、Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ請求項１で定義した通りであり、
   Ｚはハロゲン、アルコキシ又はアリールオキシを示し、
   Ｒは請求項１においてＲ³に関して示した意味を有するか、あるいは基−Ｃ（Ｏ）−Ｚを示す］
   の置換アミノアジンを一般式（Ｖ）
   

   

   ［式中、
   Ｑ、Ｒ⁴及びＲ⁵はそれぞれ請求項１で定義した通りである］
   のチオフェン誘導体と、適宜反応助剤の存在下に且つ適宜希釈剤の存在下において反応させ、得られる式（Ｉ）の化合物を適宜通常の方法により塩に転換することを特徴とする請求項１に記載の化合物の製造法。
4. 一般式（ＩＩ）
   

   

   ［式中、
   Ａ、Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ請求項１で定義した通りである］
   のアミノアジンを一般式（ＶＩ）
   

   

   ［式中、
   Ｑ、Ｒ⁴及びＲ⁵はそれぞれ請求項１で定義した通りであり、
   Ｚはハロゲン、アルコキシ又はアリールオキシを示す］
   のチオフェン誘導体と、適宜反応助剤の存在下に且つ適宜希釈剤の存在下において反応させ、得られる式（Ｉ）の化合物を適宜通常の方法により塩に転換することを特徴とする請求項１に記載の化合物の製造法。
5. 一般式（ＩＩ）
   

   

   ［式中、
   Ａ、Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ請求項１で定義した通りである］
   のアミノアジンを、適宜希釈剤の存在下で、クロロスルホニルイソシアナートと反応させ、得られる一般式（ＶＩＩ）
   

   

   ［式中、
   Ａ、Ｒ¹及びＲ²はそれぞれ請求項１で定義した通りである］
   のクロロスルホニルアミノカルボニルアミノ−アジンを
   −中間体の単離の後又はその場で−、
   一般式（ＶＩＩＩ）
   

   

   ［式中、
   Ｒ⁴及びＲ⁵はそれぞれ請求項１で定義した通りである］
   の置換アミノチオフェンと、適宜反応助剤の存在下に且つ適宜希釈剤の存在下において反応させ、得られる式（Ｉ）の化合物を適宜通常の方法により塩に転換することを特徴とする請求項１に記載の化合物の製造法。
6. 請求項１に記載の化合物の少なくとも１種を望ましくない植物及び／又はそれらの自生地に作用させることを特徴とする望ましくない植生の抑制法。
7. 請求項１に記載の化合物ならびに通常の伸展剤及び／又は界面活性剤を含むことを特徴とする除草剤組成物。