JP4811844B2 - 過炭酸の製造方法 - Google Patents
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Description
次亜塩素酸、次亜塩素酸ソーダ、亜塩素酸ソーダ、さらし粉などの塩素系の酸化剤を利用する水処理方法は、最も一般的に常用されているが、有害で危険な酸化剤を処理現場に運送、貯蔵しなければならないという安全性の問題があった。オンサイト型の電解装置が市販され、貯蔵及び運搬の問題は解決できるが、次亜塩素酸と有機物との反応の過程でトリハロメタン類に代表される有害な有機塩素化合物が生成する可能性があり、二次汚染の可能性が指摘されている。
これに対し、過炭酸は、酸化能力、殺菌能力、漂白能力は塩素系薬剤には劣るものの、適度な各種能力を有することから、各種洗剤の基礎原料として汎用されている。この過炭酸は、常温で安定なアルカリ性白色粒状固体である過炭酸塩として存在し(3%過炭酸ナトリウム水溶液でpH10〜11を示す)、環境に無害な成分を使用し、常温で水に良く溶け比較的強い酸化作用を有する等の特徴から、家庭用及び業務用の漂白剤、洗浄剤として広く使用されている。具体的には、衣料用漂白剤、クリーニング用漂白剤、合成洗剤、風呂釜用洗浄剤、台所排水パイプ洗浄剤、食器洗浄剤、義歯洗浄剤、シミ除去剤等の用途であり、シミ除去や臭気除去が必要とされる家庭内外の任意の箇所で使用される。市販されている過炭酸を使用する洗剤の代表的な組成は、過炭酸ナトリウム30〜75%、炭酸塩25〜50%で、及びそれら以外に酵素や界面活性剤を含む。
従来は、下式に示すように、炭酸カリウム等の炭酸塩の濃厚水溶液を低温で電解酸化して過炭酸塩を沈殿として得ている。
2CO3 2- → C2O6 2- + 2e-
更に特許文献1にはアルカリ金属炭酸塩を、酸素拡散カソードを使用して酸素還元して過炭酸を製造することが開示されている。また非特許文献1にも電解法による過炭酸塩(ペルオクソ二炭酸塩)の電解による製造方法が開示されている。
これ以外に過酸化水素と炭酸ナトリウム等の炭酸塩、あるいは過酸化ナトリウムと二酸化炭素を作用させて合成する方法も知られ、T.S.プライスらも過炭酸の調製法を提案している("Per-Acids and Their Salts"p65, 1912)。
このように、過炭酸化合物の安全かつ高効率での合成方法は殆ど見出されていない。
このような従来技術の問題点に鑑み、本発明は、入手が容易な二酸化炭素ガスを原料として電解により過炭酸を安全かつ比較的高効率で合成できる方法を提供することを目的とする。
本発明における過炭酸とは、過炭酸(H2CO4)そのものと、過炭酸化合物、例えば過炭酸ナトリウム(Na2CO4、Na2C2O6)、過炭酸カリウム等の過炭酸塩、それらの水和物及び/又は過酸化水素付加物(Na2CO4・H2O2・0.5H2O、Na2CO4・0.5H2O、Na2CO4・H2O2)、あるいは過炭酸イオン(CO4 2-、C2O6 2-)等を総称する。
本発明の過炭酸製造では二酸化炭素を原料として使用する。この二酸化炭素は電解液に溶解させて液相として電解槽に供給し、陽極酸化により過炭酸を製造しても、二酸化炭素ガスを気相のまま、ガス拡散電極を電極として有する電解槽に供給し、陽極酸化により過炭酸を製造しても良い。二酸化炭素を溶解させるか否かにかかわらず、電解液は導電性を有することが必要でそのためには好ましくは0.1〜2Mの、より好ましくは1から2Mの電解質、例えば水酸化ナトリウムや水酸化カリウムを電解液に溶解させることが必要になる。本発明の電解液のpHは高いことが望ましく、例えばpH7〜14、より好ましくは10〜12、最も好ましくは12とすることが望ましい。アルカリ性の電解液を所定のpHに維持するために、炭酸塩や炭酸水素塩等の緩衝液を使用できる。
CO2 + OH- → HCO3 - (1)
HCO3 - + OH- → CO3 - + H2O (2)
次いでこの炭酸イオンや炭酸水素イオンが水酸ラジカルのような活性ラジカルと反応して式(3)に示すように過炭酸イオンに変換される。この水酸ラジカルは例えば硼素をドープした導電性ダイヤモンド陽極表面で式(4)に従って生成する。
2HCO3 - + 2OH* → C2O6 2- + 2H2O (3)
H2O → OH* + H+ + e- (4)
これらの電極物質を使用して、二酸化炭素からの過炭酸化合物の電解合成を行っても、水の分解が優先して過炭酸の生成は実質的に進行しない。
ダイヤモンドは熱伝導性、光学的透過性、高温耐久性及び酸化耐久性に優れている。優れた機械的及び化学的安定性に加えて、ドーピングにより良好な電気伝導性が付与可能な導電性ダイヤモンドは、二酸化炭素から炭酸イオン及び/又は重炭酸イオンを経て過炭酸を電解合成するための有用な陽極物質である。
導電性ダイヤモンド以外の電極物質を使用する場合にも、ほぼ同様の反応機構で過炭酸が生成すると推測できる。
(酸素供給なしの場合)
Cathode: 2H2O + 2e- → H2 + 2OH- (5)
(酸素供給の場合)
Cathode: O2 + H2O + 2e- → HO2 - + OH- (6)
Cathode: O2 + H2O + 4e- → 4OH- (7)
二酸化炭素を電解槽に供給する際には、電極構造に応じて適切な供給方式を採用する。
つまり陽極として通常の金属電極やダイヤモンド電極を使用する場合には、二酸化炭素ガスを電解液中にバブリング等により溶解し、この電解液を電解槽に供給し、電解液中の二酸化炭素を陽極表面に接触させて上述の反応に従って過炭酸を製造する。この供給方式の場合、二酸化炭素を飽和するよう溶解させることが望ましく、前記した二酸化炭素溶解時に電解液を冷却して飽和溶解度を上昇させることが好ましい。更に圧力を高くして二酸化炭素飽和溶解度を高めることも望ましい。
他方陽極がガス拡散電極である場合には、二酸化炭素ガスをそのまま陽極ガス室に供給して二酸化炭素をガス拡散陽極表面に接触させて上述の反応に従って過炭酸を製造する。
1〜100kPaの圧力下で、炭素源である有機化合物を含み更に水素、ホウ素(或いは窒素)等の原料からなる混合ガスを、1800〜2600℃に加熱したホットフィラメント上で活性化し、炭素ラジカル、水素ラジカルを発生させる。この際、水素と炭素ガス原料の体積比率は0.05〜1程度に制御されるようにすることが望ましい。
炭素源としてメタンを、ホウ素源としてジボランを使用でき、その他にそれぞれアルコール類や酸化ホウ素を使用することができ、後者は製造現場での安全性の観点から好ましい。ホウ素等のドープ量は100ppmから10000ppm程度であり、その抵抗率はドープ量にほぼ反比例して減少して10〜0.01Ωm程度である。
基体温度を600〜900℃程度に保持すると、基体表面で炭素ラジカルの析出が開始される。このとき非ダイヤモンド成分は水素ラジカルでエッチングされるため、実質的にダイヤモンド層のみが成長する。析出速度は通常0.1〜5μm/Hである。この析出条件下で基体上に生成する安定なカーバイド層が接合強度の向上に寄与していると推測できる。
SIMS分析では、供給ガスと生成層のB/C比率はほぼ同等となることが確認されている。CVD法により形成した被覆層がダイヤモンドであることはラマンスペクトルで確認できる。SEM写真による観察では、粒径0.1〜10μm程度の多結晶ダイヤモンドの析出が確認できる。
前記基体の材質及び形状は材質が導電性であれば特に限定されず、導電性シリコン(単結晶、多結晶、アモルファス状等)、炭化珪素、チタン、ニオブ、タンタル、ジルコニウム、カーボン、ニッケル等から成る板状、棒状、メッシュ状、棒状、パイプ状、ビーズ等の球状、或いは例えばビビリ繊維焼結体である多孔性板等が使用できる。しかし熱膨張率の整合性、水素雰囲気での安定性の観点からシリコンを基体として使用することが望ましい。但しシリコンは半導性材料であるため、ホウ素などをドープして良電導性とすることが必要である。基体表面は機械的強度を得るため及び導電性ダイヤモンドとの密着性を向上させるために凹凸を付すことが好ましい。更にダイヤモンドの析出を促進させるために、ダイヤモンド粒子による研磨や核付けが重要になることがある。
又陰極の形状も制限がなく、板状、棒状、メッシュ状あるいは、例えばビビリ繊維燒結体である多孔性板等が使用できる。
過酸化水素生成用の特定の触媒として、白金族金属、それらの酸化物、或いは黒鉛や導電性ダイヤモンド等のカーボンが好ましく使用できる。その他にポリアニリンやチオール(SH含有有機物)などの有機材料も使用できる。これらの触媒はそのまま板状として使用するか、ステンレス、カーボン等の耐食性を有する板、金網、粉末焼結体、金属繊維焼結体上に、熱分解法や樹脂による固着法、複合めっき法等により1〜1000g/cm2となるように被覆形成する。
酸素の供給量は理論値の1.1〜10倍程度が良い。酸素源として、空気、空気を分離濃縮した酸素、ボンベ中の酸素等が利用できる。酸素は陰極室にガス室がある場合はこのガス室に供給するが、陰極液に前もって吹き込み吸収させておいても良い。
得られる過炭酸、特にその塩は外部の反応容器に電解液を入れて冷却することにより効率良く析出させかつ分離できる。
使用可能な隔膜は化学的に安定であれば特に制限されない。イオン交換膜としては、フッ素樹脂系、炭化水素樹脂系があり、耐食性の面で前者が好ましい。化学的耐性の優れた樹脂として、スルホン酸基をイオン交換基として有するフッ素化樹脂[市販品としてナフィオン(登録商標)]がある。ナフィオンは、テトラフルオロエチレンと、ペルフルオロ[2−(フルオロスルホニルエトキシ)−プロピル]ビニルエーテルのコポリマーから製造される。
電解槽材料としては、電解液に対する耐久性や過酸化水素の安定性の観点から、ガラスライニング材料、カーボン、耐食性の優れたチタン、ステンレス及びPTFE樹脂などが好ましく使用できる。
電極間距離は抵抗損を低下させるためになるべく小さくすべきであるが、電解液供給の場合はポンプの圧力損失を小さくし、圧力分布を均一に保つために1〜50mmとすることが望ましい。
生成する過炭酸のうちその化合物はその溶解度を越えると沈殿として得られ、これを分離することで効率良く精製できる。しかし洗浄や殺菌用としては、溶液として使用することが多いため、溶解度の範囲内で過炭酸又はその化合物を生成させ、その溶液をそのまま使用することもできる。過炭酸及び過酸化水素の生成量は、水量と電流密度を調節することにより連続的に制御可能である。
過炭酸を効率良く合成するために、原料である二酸化炭素ガスを高圧に、また後述する電解液貯留槽及び各電解室も同様に高圧に維持することが好ましい。最適な圧力範囲としては0.1〜2MPaである。
安価な二酸化炭素を原料として有用な過炭酸を確実に製造することができる。
図1は、本発明による過炭酸製造に使用できる電解槽を含む電解ラインの一実施形態例を示すフローチャート、図2は同じく他の実施形態例を示すフローチャートである。
この二酸化炭素ガス溶解電解液12をポンプ15により過炭酸製造用電解槽16の下部導入口17に循環させる。該電解槽16は、硼素をドープした導電性ダイヤモンド粉末を基体に被覆した陽極18と白金板等から成る陰極19を収容する無隔膜型電解槽であり、該電解槽16内の二酸化炭素ガス溶解電解液20が前記陽極18に接触して酸化され、過炭酸が生成する。
陽極18で生成した過炭酸は対極である陰極19に接触すると、還元されて元の二酸化炭素に還元される虞れがあるため、生成した過炭酸を含有する電解液20は迅速に上部取出口21から取り出すことが望ましい。
隔膜型電解槽31は、イオン交換膜等の隔膜32により陽極室と陰極室33に区画され、該陽極室は、触媒であるダイヤモンド粉末とPTFE樹脂との混合し焼成したシート状ガス拡散陽極34により更に陽極液室35と陽極ガス室36に区画されている。前記陰極室33には白金多孔板から成る陰極37が収容されている。
陽極液室35に供給された二酸化炭素は陽極上で(3)式に従い直接電解酸化され、過炭酸を生成する。
この電解槽31では隔膜32により陽極室と陰極室に区画されているため、陽極ガス室で生成した過炭酸が陰極37に接触して分解することがなく、高収率で目的物が得られる。
厚さ1mmの導電性シリコン基体に、エチルアルコールを炭素源とする熱フィラメントCVD法により、5μm厚で、ホウ素ドープ量が500ppmとした導電性ダイヤモンド層を形成して電極面積が1cm2である陽極とした。又陰極として電極面積が1cm2である白金板を使用した。
これらの陽極と陰極を使用して、極間距離が5cmとなるように図1に示した容積100mlの隔膜型電解槽を組立てた。
前記食塩水を前記電解槽に定量供給しながら、定電流を流して電解を行ったところ、結晶状態の過炭酸ナトリウムが単離された。X線粉末回折パターンにより生成物の同定を行ったところ、市販の過炭酸ナトリウムのサンプルは本実施例で得られた過炭酸ナトリウムと同じピークを有していた。
電流密度を0.05A/cm2、0.25A/cm2及び0.50A/cm2と変化させたこと以外は同一条件で過炭酸製造を行ってそれぞれの場合の過炭酸製造の電流効率を測定したところ、順に約54%、約20%及び約13%であった。これらの結果を図3のグラフに示した。最高電流効率は、電流密度0.05A/cm2における54%であり、低電流密度の方が高電流効率で過炭酸が製造できることが分かった。
なお液中の過炭酸濃度は、1mlの試料溶液を、45容量%の硫酸水溶液5mlと混合し、過マンガン酸カリウムで遊離した過酸化水素を滴定することにより測定した。
他の条件は実施例1と同一にして過炭酸製造を行ったところ、最高の電流効率は電流密度が0.05/cm2のときの45%であった。
最高の電流効率は電流密度が0.05A/cm2のときの50%であった。
12 電解液
13 二酸化炭素ガスボンベ
16 過炭酸製造用電解槽
31 隔膜型電解槽
32 隔膜
34 ガス拡散陽極
35 陽極液室
36 陽極ガス室
39 電解液貯留槽
40 電解液
43 二酸化炭素ガスボンベ
Claims (4)
- 二酸化炭素ガスを、導電性ダイヤモンド電極及び/又は導電性ダイヤモンドを触媒として含有する電極よりなるガス拡散陽極及び陰極を有する電解槽の陽極ガス室に供給し、前記二酸化炭素ガスを過炭酸に電解的に変換することを特徴とする過炭酸の製造方法。
- 電解槽が隔膜により陽極室と陰極室に区画されている請求項1に記載の方法。
- 前記変換をpH7以上で行うようにした請求項1又は2に記載の方法。
- 前記変換を30℃未満で行うようにした請求項1又は2に記載の方法。
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