JP4742216B2 - ケイ素化合物 - Google Patents
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[1]式(2)で示される化合物と式(3)で得られる化合物を反応させることによって得られる式(1)で示される構成単位を有するケイ素化合物。
ここに、mは1〜3の整数であり;R0はフェニル、シクロペンチルおよびシクロヘキシルから選択される同一の基であり;R1およびR2は独立してフェニルまたはメチルであり;Xは−OHであり;Zは塩素であり;R 3 は−O−である。
式(1)における好ましいR3は、本発明のケイ素化合物の主鎖が全てSiおよびOから構成されることから、−O−である。
ここに、R0およびR1は式(1)におけるR0およびR1とそれぞれ同様に定義される基であり;Xは−OHである。
ここに、R2およびmは式(1)におけるR2およびmとそれぞれ同様に定義される基であり;Zは塩素である。
これらの式におけるR0、R1およびXは、式(2)におけるそれぞれの記号と同じ意味を有する。なお、Xが−OHである化合物(2)は、Xが水素である化合物(2)を加水分解することによって得ることができる。
分子量の測定は下記の条件で行った。
装置:Waters 996 Potodiod Detecter Array
カラム:Shodex KF806M 300X8.0mm
移動相:THF
流速:1.0ml/min
温度:35℃
分子量標準サンプル:分子量既知のポリスチレン
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Families Citing this family (41)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4826160B2 (ja) * | 2005-07-28 | 2011-11-30 | ナガセケムテックス株式会社 | 光素子封止用樹脂組成物 |
JP2007246880A (ja) * | 2006-02-20 | 2007-09-27 | Matsushita Electric Works Ltd | 半導体光装置及び透明光学部材 |
JP4679388B2 (ja) * | 2006-02-20 | 2011-04-27 | パナック株式会社 | 離型性を有する積層体およびその製造方法 |
TWI411648B (zh) * | 2006-03-27 | 2013-10-11 | Nippon Steel & Sumikin Chem Co | A hardening resin and a hardened resin composition and a molded body thereof |
JPWO2007119627A1 (ja) * | 2006-04-10 | 2009-08-27 | 宇部興産株式会社 | 硬化性組成物、シルセスキオキサン硬化物、及びこれらの製造方法 |
US8299198B2 (en) | 2006-07-21 | 2012-10-30 | Kaneka Corporation | Polysiloxane composition, molded body obtained from the same, and optodevice member |
JP4920364B2 (ja) * | 2006-10-13 | 2012-04-18 | 新日鐵化学株式会社 | 表示装置 |
WO2008065786A1 (en) * | 2006-11-27 | 2008-06-05 | Panasonic Electric Works Co., Ltd. | Optical semiconductor device and transparent optical member |
WO2008065787A1 (fr) * | 2006-11-27 | 2008-06-05 | Panasonic Electric Works Co., Ltd. | Dispositif semi-conducteur optique et élément optique transparent associé |
WO2008065966A1 (en) * | 2006-11-27 | 2008-06-05 | Panasonic Electric Works Co., Ltd. | Semiconductor optical device and transparent optical member |
WO2008065967A1 (en) * | 2006-11-27 | 2008-06-05 | Panasonic Electric Works Co., Ltd. | Semiconductor optical device and transparent optical member |
JP5018065B2 (ja) | 2006-12-15 | 2012-09-05 | Jnc株式会社 | ポリシロキサン化合物とその製造方法 |
US8013077B2 (en) | 2007-03-02 | 2011-09-06 | Fujifilm Corporation | Insulating film forming composition and production method of insulating film |
JP4802120B2 (ja) * | 2007-03-02 | 2011-10-26 | 富士フイルム株式会社 | 絶縁膜形成用組成物および絶縁膜製造方法 |
KR101433815B1 (ko) * | 2007-03-26 | 2014-08-27 | 신닛테츠 수미킨 가가쿠 가부시키가이샤 | 렌즈 |
EP3656778A1 (en) | 2007-04-17 | 2020-05-27 | Kaneka Corporation | Polyhedral polysiloxane modified product and composition using the modified product |
JP5246679B2 (ja) * | 2007-05-09 | 2013-07-24 | Jnc株式会社 | 架橋性シロキサンポリマー、シロキサン系の架橋性組成物及びシリコーン膜 |
JP5101930B2 (ja) | 2007-06-08 | 2012-12-19 | マブチモーター株式会社 | 多角形状外形の小型モータ |
JP5211059B2 (ja) * | 2007-08-17 | 2013-06-12 | パナソニック株式会社 | 半導体光装置及び透明光学部材 |
JP5403730B2 (ja) * | 2008-03-07 | 2014-01-29 | 株式会社Adeka | 低誘電性絶縁膜、プラズマディスプレイおよびその製造方法 |
JPWO2009139462A1 (ja) | 2008-05-16 | 2011-09-22 | 日本電気株式会社 | 有機シリコン化合物およびシリカ系微粒子形成用材料 |
JPWO2009139463A1 (ja) | 2008-05-16 | 2011-09-22 | 日本電気株式会社 | 金属酸化物系微粒子およびその製造方法、並びに樹脂組成物 |
JP5369629B2 (ja) * | 2008-11-12 | 2013-12-18 | Jnc株式会社 | 架橋性ケイ素化合物、その製造方法、架橋性組成物、シロキサンポリマー、シリコーン膜、該架橋性ケイ素化合物の原料となるケイ素化合物、及びその製造方法 |
JP5610379B2 (ja) * | 2008-11-12 | 2014-10-22 | Jnc株式会社 | シロキサンポリマー、シロキサン系の架橋性組成物及びシリコーン膜 |
JP5793824B2 (ja) * | 2009-06-02 | 2015-10-14 | Jnc株式会社 | 有機ケイ素化合物、該有機ケイ素化合物を含む熱硬化性組成物、および光半導体用封止材料 |
JP5704168B2 (ja) * | 2010-05-18 | 2015-04-22 | Jnc株式会社 | 新規有機ケイ素化合物、該有機ケイ素化合物を含む熱硬化性樹脂組成物、硬化樹脂および光半導体用封止材料 |
WO2011148896A1 (ja) | 2010-05-28 | 2011-12-01 | 株式会社カネカ | ポリシロキサン系組成物、硬化物、及び、光学デバイス |
CN103201317B (zh) * | 2010-09-22 | 2015-05-27 | 道康宁公司 | 含有树脂-线型有机硅氧烷嵌段共聚物的热稳定组合物 |
WO2012039322A1 (ja) | 2010-09-22 | 2012-03-29 | 株式会社カネカ | 多面体構造ポリシロキサン変性体、多面体構造ポリシロキサン系組成物、硬化物、及び、光半導体デバイス |
KR101807190B1 (ko) | 2010-09-22 | 2017-12-08 | 다우 코닝 코포레이션 | 수지-선형 유기실록산 블록 공중합체의 제조 방법 |
US9045668B2 (en) | 2010-09-22 | 2015-06-02 | Dow Corning Corporation | Organosiloxane block copolymer |
JP5674948B2 (ja) | 2010-09-22 | 2015-02-25 | ダウ コーニング コーポレーションDow Corning Corporation | 樹脂−直鎖状オルガノシロキサンブロックコポリマーを含有する高屈折率組成物 |
JP5857039B2 (ja) * | 2011-03-30 | 2016-02-10 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | オルガノポリシロキサン、その製造方法、及びオルガノポリシロキサンを含有する硬化性樹脂組成物 |
WO2012133432A1 (ja) * | 2011-03-30 | 2012-10-04 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | オルガノポリシロキサン、その製造方法、及びオルガノポリシロキサンを含有する硬化性樹脂組成物 |
TWI598416B (zh) * | 2012-12-26 | 2017-09-11 | 財團法人工業技術研究院 | 塗佈組合物、所形成之膜層、及該塗佈組合物的製備方法 |
JP2015155541A (ja) * | 2015-02-25 | 2015-08-27 | 国立大学法人 熊本大学 | シロキサンポリマー架橋硬化物 |
CN105860018B (zh) * | 2016-04-14 | 2018-09-21 | 江南大学 | 一种双层笼型倍半硅氧烷改性植物油基聚氨酯复合材料的制备方法 |
JP6967185B2 (ja) * | 2017-09-05 | 2021-11-17 | 国立大学法人 熊本大学 | ホットメルト型ポリシロキサン接着剤 |
WO2022030354A1 (ja) | 2020-08-06 | 2022-02-10 | Jnc株式会社 | シロキサンポリマー、シロキサンポリマー組成物および成形体 |
KR102739430B1 (ko) | 2022-02-08 | 2024-12-06 | 주식회사 파이오셀 | 신규한 구조의 POSS (polyhedral oligomeric silsesquioxane)-변성체 폴리실록산계 화합물 |
KR102739431B1 (ko) | 2022-07-26 | 2024-12-06 | 주식회사 파이오셀 | 신규한 구조의 POSS (polyhedral oligomeric silsesquioxane)-변성체 폴리실록산계 화합물, 이의 제조방법, 및 이의 제조방법으로 제조된 신규한 구조의 POSS (polyhedral oligomeric silsesquioxane)-변성체 폴리실록산계 화합물을 포함하는 조성물 |
Citations (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60258517A (ja) * | 1984-06-06 | 1985-12-20 | Dainippon Ink & Chem Inc | 液晶表示素子 |
US5412053A (en) * | 1993-08-12 | 1995-05-02 | The University Of Dayton | Polymers containing alternating silsesquioxane and bridging group segments and process for their preparation |
US5484867A (en) * | 1993-08-12 | 1996-01-16 | The University Of Dayton | Process for preparation of polyhedral oligomeric silsesquioxanes and systhesis of polymers containing polyhedral oligomeric silsesqioxane group segments |
JP2000265065A (ja) * | 1999-03-17 | 2000-09-26 | Dow Corning Asia Ltd | 有機溶剤可溶性の水素化オクタシルセスキオキサン−ビニル基含有化合物共重合体の製造方法 |
JP2000334881A (ja) * | 1999-05-28 | 2000-12-05 | Konica Corp | かご状シルセスキオキサン含有皮膜 |
JP2002069191A (ja) * | 2000-08-31 | 2002-03-08 | Dow Corning Asia Ltd | 水素化オクタシルセスキオキサン−水酸基含有化合物共重合体の製造方法 |
JP2002327062A (ja) * | 2001-04-27 | 2002-11-15 | Asahi Kasei Corp | 籠状シルセスキオキサン類含有ポリカーボネート系樹脂組成物 |
JP2003510337A (ja) * | 1999-08-04 | 2003-03-18 | ハイブリッド・プラスチックス | 多面体オリゴマーシルセスキオキサンの形成方法 |
WO2003024870A1 (fr) * | 2001-09-18 | 2003-03-27 | Chisso Corporation | Derives silsesquioxane et procede de fabrication |
JP2004051847A (ja) * | 2002-07-22 | 2004-02-19 | Asahi Kasei Corp | シルセスキオキサン化合物の製造方法 |
JP2004083757A (ja) * | 2002-08-27 | 2004-03-18 | Chisso Corp | ケイ素化合物含有複合材料および記録素子 |
WO2004081084A1 (ja) * | 2003-03-12 | 2004-09-23 | Chisso Corporation | シルセスキオキサン誘導体を用いて得られる重合体 |
WO2004081085A1 (ja) * | 2003-03-11 | 2004-09-23 | Chisso Petrochemial Corporation | シルセスキオキサン誘導体を用いて得られる重合体 |
JP2004323665A (ja) * | 2003-04-24 | 2004-11-18 | Chisso Corp | 液晶配向膜形成用ワニス、液晶配向膜および液晶表示素子 |
JP2004331647A (ja) * | 2003-03-13 | 2004-11-25 | Chisso Corp | シルセスキオキサン骨格を有する重合体および化合物 |
JP2005002159A (ja) * | 2003-06-10 | 2005-01-06 | Chisso Corp | 有機ケイ素化合物を含有する電解質 |
JP2005015738A (ja) * | 2002-09-13 | 2005-01-20 | Chisso Corp | 官能基を有するシルセスキオキサン誘導体の製造方法およびシルセスキオキサン誘導体 |
JP2005029800A (ja) * | 2003-07-11 | 2005-02-03 | Degussa Ag | 熱硬化性粉末塗料組成物、その使用、その製造方法、被覆系の製法及びかかる被覆系 |
-
2004
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Patent Citations (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60258517A (ja) * | 1984-06-06 | 1985-12-20 | Dainippon Ink & Chem Inc | 液晶表示素子 |
US5412053A (en) * | 1993-08-12 | 1995-05-02 | The University Of Dayton | Polymers containing alternating silsesquioxane and bridging group segments and process for their preparation |
US5484867A (en) * | 1993-08-12 | 1996-01-16 | The University Of Dayton | Process for preparation of polyhedral oligomeric silsesquioxanes and systhesis of polymers containing polyhedral oligomeric silsesqioxane group segments |
US5589562A (en) * | 1993-08-12 | 1996-12-31 | The University Of Dayton | Polymers containing alternating silsesquioxane and bridging group segments and process for their preparation |
JP2000265065A (ja) * | 1999-03-17 | 2000-09-26 | Dow Corning Asia Ltd | 有機溶剤可溶性の水素化オクタシルセスキオキサン−ビニル基含有化合物共重合体の製造方法 |
JP2000334881A (ja) * | 1999-05-28 | 2000-12-05 | Konica Corp | かご状シルセスキオキサン含有皮膜 |
JP2003510337A (ja) * | 1999-08-04 | 2003-03-18 | ハイブリッド・プラスチックス | 多面体オリゴマーシルセスキオキサンの形成方法 |
JP2002069191A (ja) * | 2000-08-31 | 2002-03-08 | Dow Corning Asia Ltd | 水素化オクタシルセスキオキサン−水酸基含有化合物共重合体の製造方法 |
JP2002327062A (ja) * | 2001-04-27 | 2002-11-15 | Asahi Kasei Corp | 籠状シルセスキオキサン類含有ポリカーボネート系樹脂組成物 |
WO2003024870A1 (fr) * | 2001-09-18 | 2003-03-27 | Chisso Corporation | Derives silsesquioxane et procede de fabrication |
JP2004051847A (ja) * | 2002-07-22 | 2004-02-19 | Asahi Kasei Corp | シルセスキオキサン化合物の製造方法 |
JP2004083757A (ja) * | 2002-08-27 | 2004-03-18 | Chisso Corp | ケイ素化合物含有複合材料および記録素子 |
JP2005015738A (ja) * | 2002-09-13 | 2005-01-20 | Chisso Corp | 官能基を有するシルセスキオキサン誘導体の製造方法およびシルセスキオキサン誘導体 |
WO2004081085A1 (ja) * | 2003-03-11 | 2004-09-23 | Chisso Petrochemial Corporation | シルセスキオキサン誘導体を用いて得られる重合体 |
JP2006070049A (ja) * | 2003-03-11 | 2006-03-16 | Chisso Corp | シルセスキオキサン誘導体を用いて得られる重合体 |
WO2004081084A1 (ja) * | 2003-03-12 | 2004-09-23 | Chisso Corporation | シルセスキオキサン誘導体を用いて得られる重合体 |
JP2004331647A (ja) * | 2003-03-13 | 2004-11-25 | Chisso Corp | シルセスキオキサン骨格を有する重合体および化合物 |
JP2004323665A (ja) * | 2003-04-24 | 2004-11-18 | Chisso Corp | 液晶配向膜形成用ワニス、液晶配向膜および液晶表示素子 |
JP2005002159A (ja) * | 2003-06-10 | 2005-01-06 | Chisso Corp | 有機ケイ素化合物を含有する電解質 |
JP2005029800A (ja) * | 2003-07-11 | 2005-02-03 | Degussa Ag | 熱硬化性粉末塗料組成物、その使用、その製造方法、被覆系の製法及びかかる被覆系 |
Also Published As
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