JP4729320B2

JP4729320B2 - 液晶表示装置

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Publication number: JP4729320B2
Application number: JP2005088467A
Authority: JP
Inventors: 亮中村
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2005-03-25
Filing date: 2005-03-25
Publication date: 2011-07-20
Anticipated expiration: 2025-03-25
Also published as: JP2006267851A; US7435456B2; US20060216435A1

Description

本発明は光学補償フィルム、これを用いた偏光板に関する。

液晶表示装置は、液晶セルおよび偏光板を備えてなる。偏光板は保護膜と偏光膜からなり、ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光膜をヨウ素にて染色し、延伸を行い、その両面を保護膜にて積層して得られる。透過型液晶表示装置では、この偏光板を液晶セルの両側に取り付け、さらには一枚以上の光学補償フィルムを配置することもある。反射型液晶表示装置では、反射板、液晶セル、一枚以上の光学補償フィルム、偏光板の順に配置する。液晶セルは、液晶性分子、それを封入するための二枚の基板および液晶性分子に電圧を加えるための電極層からなる。液晶セルは、液晶性分子の配向状態の違いで、ＯＮ・ＯＦＦ表示を行い、透過および反射型いずれにも適用できる、TN(Twisted Nematic)、IPS(In-Plane Switching)、OCB(Optically Compensatory Bend)、VA(Vertically Aligned)、ECB(Electrically Controlled Birefringence)のような表示モードが提案されている。

光学補償フィルムは、画像着色を解消したり、視野角を拡大するために、様々な液晶表示装置で用いられている。光学補償フィルムとしては、延伸複屈折ポリマーフィルムが従来から使用されている。また、延伸複屈折フィルムからなる光学補償フィルムに代えて、透明支持体上に低分子もしくは高分子液晶性分子から形成された光学補償層を有する光学補償フィルムを使用することが提案されている。液晶性分子には多様な配向形態があるため、液晶性分子を用いることで、従来の延伸複屈折ポリマーフィルムでは得ることができない光学的性質を実現することができる。さらに、偏光板の保護膜に複屈折性を付加することで、保護膜と光学補償フィルムを兼ねる構成も提案されている。

光学補償フィルムの光学的性質は、液晶セルの光学的性質、具体的には上記のような表示モードの違いに応じて決定する。液晶性分子を用いると、液晶セルの様々な表示モードに対応する様々な光学的性質を有する光学補償フィルムを製造することができる。液晶性分子を用いた光学補償フィルムでは、様々な表示モードに対応するものが既に提案されている。
例えば、平行配向液晶セル用光学補償フィルムは、電圧無印状態の黒表示時において、基板面に平行配向した液晶性分子の光学補償および偏光板の直交透過率の視野角特性向上を兼ねている（特許文献１参照）。
特許３３４２４１７号公報

しかし、光学補償フィルムを用いても液晶セルを問題なく完全に光学的に補償することは非常に難しい。例えば、液晶セルを補償しただけでは十分でなく、偏光板の透過軸から45度方向の光漏れをも補償する必要がある。また複数枚の位相差フィルムを用いると、貼り合わせ工程が増えるなど生産性が著しく低下する。
本発明は前記諸問題に鑑みなされたものであって、簡易な構成で生産性が高く、かつ表示品位および視野角特性の大幅な向上が可能な光学補償フィルム、および該光学補償フィルムを具備した偏光板を提供することを課題とする。

本発明は、以下のとおりである。
＜１＞
第１光学異方性層および第２光学異方性層を備えてなる光学補償フィルムを有するＥＣＢモードである液晶表示装置であって、前記第１光学異方性層がディスコティック液晶からなり、前記第１光学異方性層のＲｅ（５５０）が１０〜１００ｎｍであり、かつ前記第１光学異方性層のＲｔｈ（５５０）が５０〜２００ｎｍであり、前記第２光学異方性層のＲｅ（５５０）が３０〜１３０ｎｍであり、かつ前記第２光学異方性層のＲｔｈ（５５０）が−４０〜１０ｎｍであり、前記ＥＣＢモードである液晶表示装置の液晶セルのΔｎ・ｄが０．１５〜０.５μｍであることを特徴とするＥＣＢモードである液晶表示装置。
［式中、Ｒｅ(λ)は波長λｎｍにおける面内のレターデーション（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ(λ)は波長λｎｍにおける厚さ方向のレターデーション（単位：ｎｍ）である。］
＜２＞
前記第２光学異方性層がセルロースアシレートから構成されていることを特徴とする上記＜１＞に記載の液晶表示装置。
＜３＞
前記光学補償フィルムが、ロール状の長尺フィルムから、ロール長手方向に対して平行または垂直に切り出されたことを特徴とする上記＜１＞または＜２＞に記載の液晶表示装置。
＜４＞
前記液晶表示装置が偏光膜を含み、さらに
前記偏光膜の透過軸と、前記第２光学異方性層の遅相軸とが平行であり、
前記第２光学異方性層の遅相軸と、前記第１光学異方性層の遅相軸とのなす角が４５度であり、かつ前記第１光学異方性層の遅相軸と液晶セルの遅相軸とが直交していることを特徴とする上記＜１＞〜＜３＞のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
なお、本発明は、上記＜１＞〜＜４＞に関するものであるが、参考のため、その他の事項（例えば下記（１）〜（６）に記載の事項等）についても記載した。
（１）第１光学異方性層および第２光学異方性層を備えてなる光学補償フィルムであって、前記第１光学異方性層がディスコティック液晶からなり、前記第２光学異方性層のＲｅ（５５０）が15〜150ｎｍであり、かつＲｔｈ（５５０）が-40〜10ｎｍであることを特徴とする光学補償フィルム。
［式中、Ｒｅ(λ)は波長λｎｍにおける面内のレターデーション（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ(λ)は波長λｎｍにおける厚さ方向のレターデーション（単位：ｎｍ）である。］
（２）前記第２光学異方性層がセルロースアシレートから構成されていることを特徴とする前記（１）に記載の光学補償フィルム。
（３）前記光学補償フィルムが、ロール状の長尺フィルムから、ロール長手方向に対して平行または垂直に切り出されたこと特徴とする前記（１）または（２）に記載の光学補償フィルム。
（４）偏光膜と、前記（１）〜（３）のいずれかに記載の光学補償フィルムとを少なくとも有することを特徴とする偏光板。
（５）ＥＣＢモードである液晶表示装置に用いられることを特徴とする前記（１）〜（３）のいずれかに記載の光学補償フィルム。
（６）ＥＣＢモードである液晶表示装置に用いられることを特徴とする上記（１）〜（３）のいずれかに記載の光学補償フィルムであって、該液晶表示装置が偏光膜およびＥＣＢモードの駆動液晶セルを含み、さらに
前記偏光膜の透過軸と、前記第２光学異方性層の遅相軸とが平行であり、
前記第２光学異方性層の遅相軸と、前記第１光学異方性層の遅相軸とのなす角が４５度であり、かつ前記第１光学異方性層の遅相軸と液晶セルの遅相軸とが直交した状態で液晶表示装置に用いられることを特徴とする光学補償フィルム。

本発明によれば、簡易な構成で生産性が高く、かつ表示品位および視野角特性の大幅な向上が可能な光学補償フィルム、および該光学補償フィルムを具備した偏光板を提供することができる。本発明の光学補償フィルムは、特にＥＣＢモードの液晶表示装置への適用が好適である。更に本発明の偏光板の製造では、従来のような１枚もしくは複数の位相差フィルムと偏光板の角度を厳密に調整しながら積層する工程が不要になり、ロールｔｏロールでの製造が可能となった。

以下、図面を用いて本発明をさらに説明する。
図１に、本発明の光学補償フィルムを用いた液晶表示装置の構成例の模式図を示す。但し、本発明の光学補償フィルムを適用可能な液晶表示装置は、この構成に限定されるものではない。
図１に示すＥＣＢモードの液晶表示装置は、液晶分子5を含む液晶層とそれを挟む基板4及び6からなる液晶セルを有する。上側基板4と下側基板6は、それぞれ、配向膜（図示せず）と電極層（図示せず）を有する。液晶セルを挟持して偏光膜１及び9が配置されている。偏光膜１及び9と液晶セルとの間には、第１光学異方性層3および7、第２光学異方性層2および8がそれぞれ配置されている。なお、第１〜２光学異方性層に加えて、さらに（第3、第4の）光学異方性層を設けてもよい。第１〜２光学異方性層と偏光板を一体化し、楕円偏光板として用いることが好ましい。
また、第１〜第２光学異方性層を一体化した部材として液晶表示装置に組み込んでもよいし、それぞれ個別の部材として組み込むこともできる。また、第１〜第２光学異方性層は、液晶セルと表示面側の偏光膜との間に配置されていても、液晶セルとバックライド側の偏光膜との間に配置されていてもよい。

偏光膜１及び9の透過軸１ａ及び9ａは、互いに直交で、且つ第２光学異方性層2および8の遅相軸2ａおよび8ａとそれぞれ平行になるように配置される。第２光学異方性層2および8の遅相軸2ａおよび8ａは、第1の光学異方性層3および7の遅相軸3aと7aの方向と45度になるように配置されている。第１光学異方性層3および7の遅相軸3aと7aは、基板4および6の配向制御方向4aおよび6aと直交になるように配置される。

液晶セルは、上側基板4及び下側基板6と、これらに挟持される液晶分子5から形成される液晶層からなる。基板4及び6の液晶分子5に接触する表面（以下、「内面」という場合がある）には、配向膜（不図示）が形成されている。配向膜はラビング処理等を行うことにより液晶分子5を配向させる機能を有する。上側基板4のラビング方向4aと、下側基板6のラビング方向6aは平行に設定してあり、液晶分子5はツイスト構造を持たない平行配向となっている。また、基板4及び6の内面には、液晶分子5からなる液晶層に電圧を印加可能な透明電極（不図示）が形成されている。透明電極は液晶分子5に電圧を印加する機能を有する。透明電極は通常透明なインジウムチンオキサイド（ＩＴＯ）からなる。
用いる液晶材料については特に制限されないが、誘電率異方性が正の液晶材料を使用するのが好ましい。
本発明では、液晶層の厚さｄ（ミクロン）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄは、０．１〜１．５ミクロンとするのが好ましく、さらに、０．１２〜０．９ミクロンとするのがより好ましく、０．１５〜０.５ミクロンとするのがさらにより好ましい。これらの範囲では白表示輝度が高く、黒表示輝度が小さいことから、明るくコントラストの高い表示装置が得られる。
なお、これらの最適値は透過モードの値であり、反射モードでは液晶セル内の光路が２倍になることから、最適Δｎ・ｄの値は上記の１／２程度の値になる。

上記構成の液晶表示装置は電圧無印加状態で白表示、高電圧印加状態で透過率が低下して黒表示となるノーマリホワイト表示となる。黒表示は光学補償フィルムのＲｅ値と電圧印加状態の液晶層のレターデーション値が一致した時に得られる。

基板4および6のそれぞれの透明電極（不図示）に駆動電圧を印加しない非駆動状態では、液晶層中の液晶分子5は、基板4および6の面に対して概略平行に配向し、その結果通過する光は液晶分子5の複屈折効果により偏光状態を変化し、偏光膜１を通過する。この時透過光が最大となるように液晶層のΔｎ・ｄの値を上記範囲に設定する。これに対し、透明電極（不図示）に駆動電圧を印加した駆動状態では、印加した電圧の大きさに依存して液晶分子5は基板4および6の面に垂直に配向しようとする。しかし基板間の中央付近厚さでは基板面に対して概略垂直となるが、基板界面近傍では平行な方向に配向し、中央厚さに向かい連続的傾斜配向している。このような状態では完全な黒表示を得ることはむずかしい。また基板界面近傍の傾斜した液晶性分子の平均配向は観察する角度により変わり、視野角により透過率、明るさが変化する視野角依存性が生じる。そこで、まず基板界面近傍の液晶層の残留位相差を補償する光学補償フィルムを配置することで、完全な黒表示が得られ、正面コントラスト比が向上する。

本発明における液晶表示装置は、図１に示す構成に限定されず、他の部材を含んでいてもよい。例えば、液晶セルと偏光膜との間にカラーフィルターを配置してもよい。また、液晶セルと偏光板との間に、別途光学補償フィルムを配置することもできる。また、透過型として使用する場合は、冷陰極あるいは熱陰極蛍光管、あるいは発光ダイオード、フィールドエミッション素子、エレクトロルミネッセント素子を光源とするバックライトを背面に配置することができる。また、本発明における液晶表示装置は、反射型であってもよく、かかる場合は、偏光板は観察側に１枚配置したのみでよく、液晶セル背面あるいは液晶セルの下側基板の内面に反射膜を設置する。もちろん前記光源を用いたフロントライトを液晶セル観察側に設けることも可能である。

本発明における液晶表示装置には、画像直視型、画像投影型や光変調型が含まれる。本発明は、ＴＦＴやＭＩＭのような３端子または２端子半導体素子を用いたアクティブマトリックス液晶表示装置に適用した態様が特に有効である。勿論、時分割駆動と呼ばれるＳＴＮ型に代表されるパッシブマトリックス液晶表示装置に適用した態様も有効である。

本明細書において、例えば、「４５°」や「平行」あるいは「垂直」、「直交」とは、厳密な角度±５°未満の範囲内であることを意味する。厳密な角度との誤差は、４°未満であることが好ましく、３°未満であることがより好ましい。

本明細書において「偏光板」とは、特に断らない限り、長尺の偏光板および液晶装置に組み込まれる大きさに裁断された（本明細書において、「裁断」には「打ち抜き」および「切り出し」等も含むものとする）偏光板の両者を含む意味で用いられる。また、本明細書では、「偏光膜」及び「偏光板」を区別して用いるが、「偏光板」は「偏光膜」の少なくとも片面に該偏光膜を保護する保護膜を有する積層体のことを意味するものとする。さらに、光学補償フィルムを含むこともあり、この場合、保護膜が光学補償フィルムを兼ねる構成であってもよい。さらに、本発明の偏光板は支持体を含んでいても良い。

また、本明細書において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレターデーションおよび厚さ方向のレターデーションを表す。本発明では、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて、ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）を用いて測定される値とする。また、Ｒｔｈ（λ）は、前記Ｒｅ（λ）、遅相軸（ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、および遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値を基にＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨによって算出された値とする。ここで平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
これら平均屈折率の仮定値および膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。
レターデーションおよび屈折率の測定波長は特別な記述がない限り、λ＝５５０ｎｍでの値である。

以下、本発明の光学補償フィルムと該フィルムを導入した偏光板及び液晶表示装置に使用可能な、種々の部材に用いられる材料、それらの製造方法等について、詳細に説明する。

［第１光学異方性層］
本発明の光学補償フィルムは、材料について制限はないが、液晶性化合物からなることが好ましい。前記第１光学異方性層は、透明フィルムの表面に直接形成してもよいし、透明フィルム上に配向膜を形成し、該配向膜上に形成してもよい。また、別の基材に形成した液晶性化合物層を、粘着剤、接着剤等を用いて、透明フィルム上に転写することで、本発明の光学補償フィルムを作製することも可能である。

前記第１光学異方性層は、円盤状化合物（以下、「ディスコティック化合物」という場合がある）を少なくとも一種含有する組成物を用いて形成される。円盤状化合物は、液晶性化合物であるのが好ましいが、最終的に光学異方性層に含まれる化合物は、もはや液晶性を示す必要はなく、例えば、光学異方性層の作製に低分子液晶性化合物を用いた場合、光学異方性層を形成される過程で、該化合物が架橋され液晶性を示さなくなった態様であってもよい。

ディスコティック液晶性化合物には、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体及びＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルが含まれる。

前記ディスコティック液晶性化合物には、分子中心の母核に対して、直鎖のアルキル基、アルコキシ基又は置換ベンゾイルオキシ基が母核の側鎖として放射線状に置換した構造の、液晶性を示す化合物も含まれる。分子又は分子の集合体が、回転対称性を有し、一定の配向を付与できる化合物であることが好ましい。

上記した様に、液晶性化合物から光学異方性層を形成した場合、最終的に光学異方性層に含まれる化合物は、もはや液晶性を示す必要はない。例えば、低分子のディスコティック液晶性化合物が熱又は光で反応する基を有しており、熱又は光によって該基が反応して、重合又は架橋し、高分子量化することによって光学異方性層が形成される場合などは、光学異方性層中に含まれる化合物は、もはや液晶性を失っていてもよい。ディスコティック液晶性化合物の好ましい例は、特開平８−５０２０６号公報に記載されている。また、ディスコティック液晶性化合物の重合については、特開平８−２７２８４号公報に記載がある。

ディスコティック液晶性化合物を重合により固定するためには、ディスコティック液晶性化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入する。従って、重合性基を有するディスコティック液晶性化合物は、下記式（ＩＩＩ）で表わされる化合物であることが好ましい。

式（ＩＩＩ）
Ｄ（−Ｌ−Ｑ）ｎ
式中、Ｄは円盤状コアであり、Ｌは二価の連結基であり、Ｑは重合性基であり、ｎは４〜１２の整数である。

円盤状コア（Ｄ）の例を以下に示す。以下の各例において、ＬＱ（又はＱＬ）は、二価の連結基（Ｌ）と重合性基（Ｑ）との組み合わせを意味する。

式（ＩＩＩ）において、二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アルケニレン基、アリ−レン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アリ−レン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−及び−Ｓ−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることがさらに好ましい。二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アリ−レン基、−ＣＯ−及びＯ−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることが最も好ましい。前記アルキレン基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。前記アルケニレン基の炭素原子数は、２〜１２であることが好ましい。前記アリ−レン基の炭素原子数は、６〜１０であることが好ましい。

二価の連結基（Ｌ）の例を以下に示す。左側が円盤状コア（Ｄ）に結合し、右側が重合性基（Ｑ）に結合する。ＡＬはアルキレン基又はアルケニレン基、ＡＲはアリ−レン基を意味する。なお、アルキレン基、アルケニレン基及びアリ−レン基は、置換基（例、アルキル基）を有していてもよい。
Ｌ１：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ２：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ３：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ４：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ５：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ６：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ７：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ８：−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−
Ｌ９：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ１０：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−

Ｌ１１：−Ｏ−ＡＬ−
Ｌ１２：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ１３：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ１４：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−
Ｌ１５：−Ｏ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ１６：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−
Ｌ１７：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ１８：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ１９：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ２０：−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ２１：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−
Ｌ２２：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ２３：−Ｓ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−
Ｌ２４：−Ｓ−ＡＲ−ＡＬ−

式（ＩＩＩ）の重合性基（Ｑ）は、重合反応の種類に応じて決定する。重合性基（Ｑ）は、不飽和重合性基又はエポキシ基であることが好ましく、不飽和重合性基であることがさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基であることが最も好ましい。
式（ＩＩＩ）において、ｎは４〜１２の整数である。具体的な数字は、円盤状コア（Ｄ）の種類に応じて決定される。なお、複数のＬとＱの組み合わせは、異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。

液晶性化合物の分子対称軸の配向平均方向は、一般に液晶性化合物もしくは配向膜の材料を選択することにより、又はラビング処理方法を選択することにより、調整することができる。本発明では、例えば、光学異方性層形成用配向膜をラビング処理によって作製する場合は、透明フィルムの遅相軸に対して４５°の方向にラビング処理することで、液晶性化合物の分子対称軸の、少なくとも透明フィルム界面における配向平均方向が、透明フィルムの遅相軸に対して４５°である光学異方性層を形成することができる。例えば、本発明の光学補償フィルムは、遅相軸が長手方向と平行なロール状の長尺状の透明フィルムを用いると連続的に作製できる。具体的には、長尺状の透明フィルムの表面に連続的に配向膜形成用塗布液を塗布して膜を作製し、次に該膜の表面を連続的に長手方向に４５°の方向にラビング処理して配向膜を作製し、次に作製した配向膜上に連続的に液晶性化合物を含有する光学異方性層形成用塗布液を塗布して、液晶性化合物の分子を配向させて、その状態に固定することで光学異方性層を作製して、長尺状の光学補償フィルムを連続的に作製することができる。長尺状に作製された光学補償フィルムは、液晶表示装置内に組み込まれる前に、所望の形状に裁断される。長手方向に垂直または平行に切り出されることが好ましい。

液晶性化合物と共に使用する可塑剤、界面活性剤及び重合性モノマ−は、ディスコティック液晶性化合物と相溶性を有し、液晶性化合物の傾斜角の変化を与えられるか、あるいは配向を阻害しないことが好ましい。重合性モノマ−（例、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基及びメタクリロイル基を有する化合物）が好ましい。上記化合物の添加量は、液晶性化合物に対して一般に１〜５０質量％の範囲にあり、５〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。なお、重合性の反応性官能基数が４以上のモノマ−を混合して用いると、配向膜と光学異方性層間の密着性を高めることが出来る。

液晶性化合物としてディスコティック液晶性化合物を用いる場合には、ディスコティック液晶性化合物とある程度の相溶性を有し、ディスコティック液晶性化合物に傾斜角の変化を与えられるポリマーを用いるのが好ましい。
ポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロ−ス及びセルロースアセテートブチレ−トを挙げることができる。ディスコティック液晶性化合物の配向を阻害しないように、上記ポリマーの添加量は、ディスコティック液晶性化合物に対して０．１〜１０質量％の範囲にあることが好ましく、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましく、０．１〜５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。
ディスコティック液晶性化合物のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、７０〜３００℃が好ましく、７０〜１７０℃がさらに好ましい。

本発明において、前記第１光学異方性層は、少なくとも面内光学異方性を有する。前記光学異方性層の、面内レターデーションＲｅは３〜３００ｎｍであるのが好ましく、５〜２００ｎｍであるのがより好ましく、１０〜１００ｎｍであるのがさらに好ましい。前記光学異方性層の厚さ方向のレターデーションＲｔｈについては、２０〜４００ｎｍであるのが好ましく、５０〜２００ｎｍであるのがより好ましい。また、前記光学異方性層の厚さは、０．１〜２０ミクロンであることが好ましく、０．５〜１５ミクロンであることがさらに好ましく、１〜１０ミクロンであることが最も好ましい。

［配向膜］
前記第１光学異方性層を形成する際は、配向膜を利用してもよい。配向膜は最終的に本発明の光学補償フィルムに含まれていてもよいし、前記第１光学異方性層を形成する際にのみ用い、最終的には本発明の光学補償フィルムに含まれていなくてもよい。
本発明において、前記配向膜は、架橋されたポリマーからなる層であるのが好ましい。配向膜に使用されるポリマーは、それ自体架橋可能なポリマーであっても、架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができる。上記配向膜は、官能基を有するポリマーあるいはポリマーに官能基を導入したものを、光、熱又はＰＨ変化等により、ポリマー間で反応させて形成する；又は、反応活性の高い化合物である架橋剤を用いてポリマー間に架橋剤に由来する結合基を導入して、ポリマー間を架橋することにより形成することができる。

架橋されたポリマーからなる配向膜は、通常、上記ポリマー又はポリマーと架橋剤との混合物を含む塗布液を、支持体上に塗布した後、加熱等を行なうことにより形成することができる。
後述のラビング工程において、配向膜の発塵を抑制するために、架橋度を上げておくことが好ましい。前記塗布液中に添加する架橋剤の量（Ｍｂ）に対して、架橋後に残存している架橋剤の量（Ｍａ）の比率（Ｍａ／Ｍｂ）を１から引いた値（１−（Ｍａ／Ｍｂ））を架橋度と定義した場合、架橋度は５０％〜１００％が好ましく、６５％〜１００％が更に好ましく、７５％〜１００％が最も好ましい。

本発明において、前記配向膜に使用されるポリマーは、それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができる。勿論双方の機能を有するポリマーを使用することもできる。上記ポリマーの例としては、ポリメチルメタクリレ−ト、アクリル酸／メタクリル酸共重合体、スチレン／マレインイミド共重合体、ポリビニルアルコ−ル及び変性ポリビニルアルコ−ル、ポリ（Ｎ−メチロ−ルアクリルアミド）、スチレン／ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル／塩化ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロ−ス、ゼラチン、ポリエチレン、ポリプロピレン及びポリカーボネート等のポリマー及びシランカップリング剤等の化合物を挙げることができる。好ましいポリマーの例としては、ポリ（Ｎ−メチロ−ルアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロ−ス、ゼラチン、ポリビルアルコール及び変性ポリビニルアルコール等の水溶性ポリマーであり、さらにゼラチン、ポリビルアルコール及び変性ポリビニルアルコールが好ましく、特にポリビルアルコール及び変性ポリビニルアルコールを挙げることができる。

上記ポリマーの中で、ポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールが好ましい。
ポリビニルアルコールとしては、例えば鹸化度７０〜１００％のものがあり、一般には鹸化度８０〜１００％のものが好ましく、鹸化度８２〜９８％のものがより好ましい。重合度としては、１００〜３０００のも範囲が好ましい。
変性ポリビニルアルコールとしては、共重合変性したもの（変性基として、例えば、ＣＯＯＮａ、Ｓｉ（ＯＸ）₃、Ｎ（ＣＨ₃）₃・Ｃｌ、Ｃ₉Ｈ₁₉ＣＯＯ・ＳＯ₃Ｎａ、Ｃ₁₂Ｈ₂₅等が導入される）、連鎖移動により変性したもの（変性基として、例えば、ＣＯＯＮａ、ＳＨ、ＳＣ₁₂Ｈ₂₅等が導入されている）、ブロック重合による変性をしたもの（変性基として、例えば、ＣＯＯＨ、ＣＯＮＨ₂、ＣＯＯＲ、Ｃ₆Ｈ₅等が導入される）等のポリビニルアルコールの変性物を挙げることができる。重合度としては、１００〜３０００の範囲が好ましい。これらの中で、鹸化度８０〜１００％の未変性もしくは変性ポリビニルアルコールが好ましく、より好ましくは鹸化度８５〜９５％の未変性ないしアルキルチオ変性ポリビニルアルコールである。

配向膜に用いる変性ポリビニルアルコールとして、下記一般式（６）で表わされる化合物とポリビニルアルコールとの反応物が好ましい。
一般式（６）：

式中、Ｒ^1dは無置換のアルキル基、又はアクリロリル基、メタクリロイル基もしくはエポキシ基で置換されたアルキル基を表わし、Ｗはハロゲン原子、アルキル基又はアルコキシ基を表わし、Ｘ^1dは活性エステル、酸無水物又は酸ハロゲン化物を形成するために必要な原子群を表わし、ｌは０又は１を表わし、ｎは０〜４の整数を表わす。

また、配向膜に用いる変性ポリビニルアルコールとして、下記一般式（７）で表わされる化合物とポリビニルアルコールとの反応物も好ましい。
一般式（７）：

式中、Ｘ^2dは活性エステル、酸無水物又は酸ハロゲン化物を形成するために必要な原子群を表わし、ｍは２〜２４の整数を表わす。

前記一般式（６）及び一般式（７）により表される化合物と反応させるために用いられるポリビニルアルコ−ルとしては、上記変性されていないポリビニルアルコール及び上記共重合変性したもの、即ち連鎖移動により変性したもの、ブロック重合による変性をしたもの等のポリビニルアルコールの変性物を挙げることができる。上記特定の変性ポリビニルアルコールの好ましい例としては、特開平８−３３８９１３号公報に詳しく記載されている。
配向膜にポリビニルアルコール等の親水性ポリマーを使用する場合、硬膜度の観点から、含水率を制御することが好ましく、０．４％〜２．５％であることが好ましく、０．６％〜１．６％であることが更に好ましい。含水率は、市販のカールフィッシャー法の水分率測定器で測定することができる。
なお、配向膜は、１０ミクロン以下の膜厚であるのが好ましい。

［第２光学異方性層］
本発明の第２光学異方性層は、Reは15〜150nmであり、30〜130nmであるのが好ましく、さらに60〜120nmであるのがもっとも好ましい。
また、Rthは-40〜10nmであり、-30〜8nmであることが好ましく、さらに-25〜5nmであることがもっとも好ましい。
光学的には一軸であっても、二軸であってもよい。

前記第２光学異方性層は、材料についても特に制限はなく、液晶塗布層であってもポリマーフィルムであってもよいが、ポリマーフィルムである方が好ましい。

例えば、ＷＯ００／２６７０５に記載されているものを用いることができる。
その他の具体例として、ノルボルネン系高分子、ポリカーボネート系高分子、ポリアリレート系高分子、ポリエステル系高分子、ポリサルフォン等の芳香族系高分子、トリアセチルセルロースのようなセルロースアシレートなど従来公知のもので溶液流延法や押出し成形方式で製膜できるものが挙げられる。

押出し成形方式や流延製膜方式等の適宜な方式で製造した当該熱可塑性樹脂からなる透明樹脂フィルムを、例えばロールによる縦延伸方式、テンターによる横延伸方式や二軸延伸方式などにより、延伸処理することにより形成することができる。延伸温度は、処理対象のフィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）の近傍、中でもＴｇ以上〜融点未満が好ましい。前記のロールによる縦延伸方式では加熱ロールを用いる方法や雰囲気を加熱する方法、それらを併用する方法等の適宜な加熱方法を採ることができる。またテンターによる二軸延伸方式では全テンター方式による同時二軸延伸方法や、ロール・テンター法による逐次二軸延伸方法などの適宜な方法を採ることができる。

また、配向ムラや位相差ムラの少ないものが好ましい。その厚さは、位相差等により適宜に決定しうるが、一般には薄型化の点より１〜３００μｍ、中でも１０〜２００μｍ、特に２０〜１５０μｍとされる。

ここで、ノルボルネン系高分子としては、ノルボルネン及びその誘導体、テトラシクロドデセン及びその誘導体、ジシクロペンタジエン及びその誘導体、メタノテトラヒドロフルオレン及びその誘導体などのノルボルネン系モノマーの主成分とするモノマーの重合体であり、ノルボルネン系モノマーの開環重合体、ノルボルネン系モノマーとこれと開環共重合可能なその他のモノマーとの開環共重合体、ノルボルネン系モノマーの付加重合体、ノルボルネン系モノマーとこれと共重合可能なその他のモノマーとの付加共重合体、及びの水素添加物などが挙げられる。これらの中でも、耐熱性、機械的強度等の観点から、ノルボルネン系モノマーの開環重合体水素化物が最も好ましい。ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィンの重合体又は環状共役ジエンの重合体の分子量は、使用目的に応じて適宜選択されるが、シクロヘキサン溶液（重合体樹脂が溶解しない場合はトルエン溶液）のゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーで測定したポリイソプレン又はポリスチレン換算の質量平均分子量で、通常５，０００〜５００，０００、好ましくは８，０００〜２００，０００、より好ましくは１０，０００〜１００，０００の範囲であるときに、フィルム（Ａ）の機械的強度、及び成形加工性とが高度にバランスされて好適である。

上記光学異方性層に採用するポリカーボネート系高分子としては、ポリカーボネートおよびその他のポリマーとの混合物があげられる。

上記光学異方性層に採用するポリアリレート系高分子としては、ポリオキシベンゾエート等およびその他のポリマーとの混合物があげられる。

上記光学異方性層に採用するポリエステル系高分子としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリフェニレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン−２．６−ナフタレート等およびその他のポリマーとの混合物があげられる。

上記光学異方性層に採用するポリサルフォン等の芳香族系高分子としては、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリアリルサルフォン等およびその他のポリマーとの混合物が挙げられる。

中でも第２光学異方性層は、セルロースアシレートから構成されていることが好ましい。

セルロースアシレートの原料綿は、公知の原料を用いることができる（例えば、発明協会公開技法２００１−１７４５参照）。また、セルロースアシレートの合成も公知の方法で行なうことができる（例えば、右田他、木材化学１８０〜１９０頁（共立出版、１９６８年）参照）。セルロースアシレートの粘度平均重合度は２００〜７００が好ましく２５０〜５００が更に好ましく２５０〜３５０が最も好ましい。また、本発明に使用するセルロースエステルは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．５〜５．０であることが好ましく、２．０〜４．５であることがさらに好ましく、３．０〜４．０であることが最も好ましい。

該セルロースアシレートフイルムのアシル基は、特に制限はないが、アセチル基、プロピオニル基を用いることが好ましく、特にアセチル基が好ましい。全アシル基の置換度は２．７〜３．０が好ましく、２．８〜２．９５がさらに好ましい。本明細書において、アシル基の置換度とは、ＡＳＴＭＤ８１７に従って算出した値である。アシル基は、アセチル基であることが最も好ましく、アシル基がアセチル基であるセルロースアセテートを用いる場合には、酢化度が５７．０〜６２．５％が好ましく、５８．０〜６１．５％がさらに好ましい。酢化度がこの範囲にあると、流延時の搬送テンションによってＲｅが所望の値より大きくなることもなく、面内ばらつきも少なく、温湿度によってレタデーション値の変化も少ない。また、６位のアシル基の置換度は、Ｒｅ、Ｒｔｈのばらつきを抑制する観点から、０．９以上が好ましい。

第２光学異方性層を形成するための透明樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は、使用目的に応じて適宜選択されればよいが、好ましくは７０℃以上、より好ましくは８０℃〜２５０℃、特に好ましくは９０℃〜２００℃の範囲である。この範囲において、耐熱性と成形加工性とが高度にバランスされ好適である。

透明樹脂をシート又はフィルム状に成形する方法は、例えば、加熱溶融成形法、溶液流延法のいずれも用いることができる。加熱溶融成形法は、さらに詳細に、押出成形法、プレス成形法、インフレーション成形法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法などに分類できるが、これらの方法の中でも、機械的強度、表面精度等に優れたフィルムを得るためには、押出成形法、インフレーション成形法、及びプレス成形法が好ましく、押出成形法が最も好ましい。成形条件は、使用目的や成形方法により適宜選択されるが、加熱溶融成形法による場合は、シリンダー温度が、好ましくは１００〜４００℃、より好ましくは１５０〜３５０℃の範囲で適宜設定される。上記シート又はフィルムの厚みは、好ましくは１０〜３００μｍ、より好ましくは３０〜２００μｍである。

上記シート又はフィルムの延伸は、該透明樹脂のガラス転移温度をＴｇとするとき、好ましくはＴｇ−３０℃からＴｇ＋６０℃の温度範囲、より好ましくはＴｇ−１０℃からＴｇ＋５０℃の温度範囲にて、少なくとも一方向に好ましくは１．０１〜２倍の延伸倍率で行う。延伸方向は少なくとも一方向であればよいが、その方向は、シートが押出成形で得られたものである場合には、樹脂の機械的流れ方向（押出方向）であることが好ましく、延伸方法は自由収縮一軸延伸法、幅固定一軸延伸法、二軸延伸法などが好ましい。

延伸の具体的な方法は、
（１）シートを、一定温度に加熱されたロール（加熱ロール）に通して所望の温度に調整する。
（２）次いで、温度を調整されたシートを、回転速度の比較的遅い第一ロールから回転速度のより速い第二ロールの順に通過させることにより延伸する。第一ロールの回転速度と第二ロールの回転速度の速度比を制御することにより延伸倍率を１〜４倍の範囲で調整することができる。尚、加熱ロール、第一ロール、及び第二ロールの間に、赤外線ヒータなどを設置して、シートの温度を一定に保持するのが好ましい。
（３）延伸されたフィルムを、冷却ロールに通して冷却する。
（４）冷却された延伸フィルムを巻き取りロールで巻き取って回収する。巻取りによるフィルム同士のブロッキングを防止する目的で、延伸フィルムと同程度の幅のマスキングフィルムを重ねて一緒に巻き取ってもよいし、延伸フィルムの少なくとも一方の端、好ましくは両方の端に、弱い粘着力の幅細のテープ等を貼り付けながら一緒に巻き取ってもよい。

上記方法の工程（１）で、加熱ロールを通過させるシートは、その温度が加熱ロールよりも高い状態、すなわち押出機等によって成形された直後の状態のものであってもよいが、高い延伸倍率にすることができることから、加熱ロールよりも低い温度のもの、好ましくは室温のものが好ましい。該低い温度のシートは、シート成形した後に一旦冷却し、ロールに巻き取り回収することによって得る。また、延伸速度は、好ましくは５〜１０００ｍｍ／秒、より好ましくは１０〜７５０ｍｍ／秒である。延伸速度が上記範囲にあると、延伸制御が容易となり、さらに面精度やレターデーションの面内バラツキ（変動幅）が小さくなる。

［偏光板］
本発明では、偏光膜と該偏光膜を挟持する一対の保護膜とからなる偏光板を用いることができる。例えば、ポリビニルアルコールフィルム等からなる偏光膜をヨウ素にて染色し、延伸を行い、その両面を透明保護膜にて積層して得られる偏光板を用いることができる。該偏光板は液晶セルの外側に配置される。偏光膜と該偏光膜を挟持する一対の保護膜とからなる一対の偏光板を、液晶セルを挟持して配置させるのが好ましい。なお、上記した様に、液晶セル側に配置される保護膜は、本発明の光学補償フィルムを構成しているいずれかの光学異方性層であってもよい。

《偏光膜と透明保護膜の一貫製造工程》
本発明の偏光板の製造では、偏光膜用フィルムを延伸後、収縮させ揮発分率を低下させる乾燥工程を有するが、乾燥後もしくは乾燥中に少なくとも片面に透明保護膜を貼り合わせた後、後加熱工程を有することが好ましい。前記透明保護膜が、透明フィルムとして機能する光学異方性層の支持体を兼ねている態様では、片面に透明保護膜、反対側に光学異方性層を有する透明支持体を貼り合わせた後、後加熱するのが好ましい。具体的な貼り付け方法として、フィルムの乾燥工程中、両端を保持した状態で接着剤を用いて偏光膜に透明保護膜を貼り付け、その後両端を耳きりする、もしくは乾燥後、両端保持部から偏光膜用フィルムを解除し、フィルム両端を耳きりした後、透明保護膜を貼り付けるなどの方法がある。耳きりの方法としては、刃物などのカッターで切る方法、レーザーを用いる方法など、一般的な技術を用いることができる。貼り合わせた後に、接着剤を乾燥させるため、及び偏光性能を良化させるために、加熱することが好ましい。加熱の条件としては、接着剤により異なるが、水系の場合は、３０℃以上が好ましく、さらに好ましくは４０℃〜１００℃、さらに好ましくは５０℃〜９０℃である。これらの工程は一貫のラインで製造されることが、性能上及び生産効率上更に好ましい。

《偏光板の性能》
本発明に関連する透明保護膜、偏光子、透明支持体からなる偏光板の光学的性質及び耐久性（短期、長期での保存性）は、市販のスーパーハイコントラスト品（例えば、株式会社サンリッツ社製ＨＬＣ２−５６１８等）同等以上の性能を有することが好ましい。具体的には、可視光透過率が４２．５％以上で、偏光度｛（Ｔｐ−Ｔｃ）／（Ｔｐ＋Ｔｃ）｝１／２≧０．９９９５（但し、Ｔｐは平行透過率、Ｔｃは直交透過率）であり、６０℃、湿度９０％ＲＨ雰囲気下に５００時間及び８０℃、ドライ雰囲気下に５００時間放置した場合のその前後における光透過率の変化率が絶対値に基づいて３％以下、更には１％以下、偏光度の変化率は絶対値に基づいて１％以下、更には０．１％以下であることが好ましい。

以下、本発明を実施例によってさらに説明するが、本発明は下記例に限定されるものではない。

（実施例１）
［第２光学異方性層の作製］
酢化度６０．７〜６１．１％のセルロースアセテート１００質量部、下記のレターデーション上昇剤２．３５質量部、リン酸トリフェニル２．７５質量部およびリン酸ビフェニルジフェニル２．２０質量部を、塩化メチレン２３２．７５質量部、メタノール４２．５７質量部およびｎ−ブタノール８．５０質量部に溶解した。得られた溶液をドラム流延機を用いて流延し、セルロースアセテートフィルムを作製した。

このフィルムの両面に、一軸延伸ポリエステルフィルム製の熱収縮性フィルムをその遅相軸が直交するようにアクリル系粘着層を介して接着し、これを１６０℃に加熱して熱収縮性フィルムを収縮させながら延伸装置を用いて、幅方向の長さを収縮前の88％にした後、熱収縮性のフィルムを剥がして、第２光学異方性層Ａを200m得た。得られたフィルムの特性値は膜厚90μｍ、Ｒｅ＝105ｎｍ、Ｒｔｈ＝2ｎｍであった。

［第１光学異方性層の作製］
下記の変性ポリビニルアルコール２０質量部、グルタルアルデヒド（架橋剤）1質量部を水３６０質量部、メタノール１２０質量部に溶解し、塗布液を調整した。塗布液を＃１６のワイヤーバーコーターで、上記で作製した第２光学異方性層上に塗布し、６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。次に、作製した膜に、第２光学異方性層の面内遅相軸に対して４５°の方向にラビング処理を実施した。

下記の円盤状液晶性化合物９０質量部、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）１０質量部、メラミンホルムアルデヒド／アクリル酸コポリマー（アルドリッチ試薬）０．６質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製）３．０質量部および光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）１．０質量部を、メチルエチルケトンに溶解して、固形分濃度が３８質量％の塗布液を調製した。

配向膜の上に、塗布液を＃３.４のワイヤーバーで塗布した。これを１２０℃の恒温槽中で３分間加熱し、円盤状液晶性化合物を配向させ、紫外線を照射し、円盤状液晶性化合物を重合させ、配向状態を固定した。作製した第１光学異方性層の厚さは、１．６μｍであった。Ｒｅ（５５０）は33ｎｍであった。このようにして第１光学異方性層を150ｍ作製した。

［偏光板の作製］
偏光膜の片側に鹸化処理した保護膜（富士写真フィルム（株）製フジタック、セルローストリアセテート）を、もう片側に第２光学異方性層、第１光学異方性層をこの順にポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り付けた。このようにして偏光板Ａを120m作製した。

（ＥＣＢモード液晶セルの作製）
液晶セルは、セルギャップ３．５μｍとし、正の誘電率異方層を持つ液晶材料を基板間に滴下注入で封入し、液晶層７のΔｎ・ｄを３００ｎｍとした。液晶材料は誘電異方性が正で、屈折率異方性、Δｎ＝０．０８５４（５８９ｎｍ、２０°Ｃ）、Δε＝＋８．５程度の液晶（メルク社製のＭＬＣ−９１００）を使用した。

作製した液晶セルの両側に図１のように偏光板Ａを貼り合わせ、液晶表示装置に組み込んだ。白表示時に実効値電圧１．２ボルト、黒表示時に実効値電圧３．５ボルトを印加し、ＥＺ-Contrast１６０Ｄ（ＥＬＤＩＭ社製）を用い、透過率の比（白表示／黒表示）であるコントラスト比を測定し、コントラスト比10以上の角度(極角)を評価した。結果を表1に示す。

［実施例２］
［第２光学異方性層の作製］
ビスフェノールＡタイプのポリカーボネート(帝人化成(株)製C1400)を塩化メチレンに溶解させ、固形分濃度18質量％のドープ溶液を作製した。このドープ溶液から溶液流延法により支持体上にフィルム流状物を作製した。これを支持体から剥離し、Tg-20℃まで徐々に昇温することにより乾燥し、フィルムを得た。このフィルムの両面に、一軸延伸ポリエステルフィルム製の熱収縮性フィルムをその遅相軸が直交するようにアクリル系粘着層を介して接着し、これを１６０℃に加熱して熱収縮性フィルムを収縮させながら延伸装置を用いて、幅方向の長さを収縮前の94％にした後、熱収縮性のフィルムを剥がして、第２光学異方性層Ｂを200m得た。得られたフィルムの特性値は膜厚80μｍ、Ｒｅ＝80ｎｍ、Ｒｔｈ＝-8ｎｍであった。

第２光学異方性層の上に、実施例１と同様に第１光学異方性層を120m作製し、また実施例１と同様に偏光板Bを80m作製した。

実施例１と同様にECB液晶セルに図１のように偏光板Bを貼りあわせ、コントラスト比10以上の角度(極角)を評価した。結果を表１に示す。
第２光学異方性層B以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製した。実施例１と同様の方法で光学特性を評価し、結果を１表に示す。

（比較例１）
第２光学異方性層に、ケン化処理した市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）を用いた。また、第１光学異方性層のラビング方向を第２光学異方性層の遅相軸と垂直にした以外は実施例１と同様にして液晶表示装置を作製した。実施例１と同様の方法で光学特性を評価し、結果を表１に示す。

本発明における液晶表示装置の構成例の模式図である。

符号の説明

１，９偏光膜
２，８第２光学異方性層
３，７第１光学異方性層
４上側基板
５液晶分子
６下側基板
１ａ，９ａ透過軸
２ａ，３ａ，７ａ，８ａ遅相軸
４ａ，６ａ配向制御方向

Claims

第１光学異方性層および第２光学異方性層を備えてなる光学補償フィルムを有するＥＣＢモードである液晶表示装置であって、前記第１光学異方性層がディスコティック液晶からなり、前記第１光学異方性層のＲｅ（５５０）が１０〜１００ｎｍであり、かつ前記第１光学異方性層のＲｔｈ（５５０）が５０〜２００ｎｍであり、前記第２光学異方性層のＲｅ（５５０）が３０〜１３０ｎｍであり、かつ前記第２光学異方性層のＲｔｈ（５５０）が−４０〜１０ｎｍであり、前記ＥＣＢモードである液晶表示装置の液晶セルのΔｎ・ｄが０．１５〜０.５μｍであることを特徴とするＥＣＢモードである液晶表示装置。
［式中、Ｒｅ(λ)は波長λｎｍにおける面内のレターデーション（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ(λ)は波長λｎｍにおける厚さ方向のレターデーション（単位：ｎｍ）である。］
前記第２光学異方性層がセルロースアシレートから構成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
前記光学補償フィルムが、ロール状の長尺フィルムから、ロール長手方向に対して平行または垂直に切り出されたことを特徴とする請求項１または２に記載の液晶表示装置。
前記液晶表示装置が偏光膜を含み、さらに
前記偏光膜の透過軸と、前記第２光学異方性層の遅相軸とが平行であり、
前記第２光学異方性層の遅相軸と、前記第１光学異方性層の遅相軸とのなす角が４５度であり、かつ前記第１光学異方性層の遅相軸と液晶セルの遅相軸とが直交していることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の液晶表示装置。