JP4712426B2 - Semiconductor device - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 121
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims description 93
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 62
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 17
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 16
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 6
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 3
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 claims description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 8
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 8
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 5
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
Images
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/45144—Gold (Au) as principal constituent
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/48227—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/153—Connection portion
- H01L2924/1531—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
- H01L2924/15311—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA
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- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
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Description
本発明は、BGA(Ball Grid Array)型半導体装置に関する。より具体的には、本発明はBGA型半導体装置の実装技術に関する。 The present invention relates to a BGA (Ball Grid Array) type semiconductor device. More specifically, the present invention relates to a mounting technology for a BGA type semiconductor device.
従来、BGA型半導体装置は、半導体チップがワイヤーボンディングまたはフリップチップにより基板に実装され、基板に実装された半導体チップが封止樹脂によりモールドされるとともに、基板裏面に半導体チップと電気的に接続された複数のハンダボールがアレイ状に突設した構造を有する。
従来のBGA型半導体装置では、実装基板への実装状態を確認するためにX線検査装置などの特殊な設備が必要とされていた。X線検査による実装状態の確認は、製造工程の複雑化を招くとともに、製造時間の長期化の要因となっていた。また、検査装置の設置および維持は半導体製造コストを増大させていた。 In the conventional BGA type semiconductor device, special equipment such as an X-ray inspection device is required to confirm the mounting state on the mounting substrate. The confirmation of the mounting state by the X-ray inspection causes the manufacturing process to be complicated and causes a long manufacturing time. Also, the installation and maintenance of the inspection apparatus has increased the semiconductor manufacturing cost.
また、BGAボールの狭ピッチ化にともなうハンダ量の低下により半導体装置の位置決め精度が低下することが懸念されている。 In addition, there is a concern that the positioning accuracy of the semiconductor device may decrease due to a decrease in the amount of solder accompanying the narrowing of the pitch of the BGA balls.
本発明はこうした課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、BGA型半導体装置の実装状態の確認を簡便かつ容易に行うことができる技術の提供にある。本発明の他の目的は、BGAボールの狭ピッチ化にともなってハンダ量の低下した場合にもセルフアライメント効果が期待できる実装技術の提供にある。 The present invention has been made in view of these problems, and an object thereof is to provide a technique capable of simply and easily confirming a mounting state of a BGA type semiconductor device. Another object of the present invention is to provide a mounting technique that can expect a self-alignment effect even when the amount of solder is reduced as the pitch of BGA balls is reduced.
本発明の半導体装置のある態様は、基板と、基板に実装された半導体チップと、半導体チップと電気的に接続され、半導体チップの表面とは反対側の基板の裏面上に突出した複数の外部電極と、基板の端面および基板の裏面に対して凹部となるように形成されたハンダ接合部と、を備えている。 An embodiment of the semiconductor device of the present invention includes a substrate, a semiconductor chip mounted on the substrate, and a plurality of externals that are electrically connected to the semiconductor chip and project on the back surface of the substrate opposite to the surface of the semiconductor chip. An electrode, and a solder joint formed so as to be a recess with respect to the end surface of the substrate and the back surface of the substrate are provided.
この態様によれば、BGA型半導体装置の実装基板への実装状態の検査において、ハンダ接合部に接合するハンダのフィレットの状態を目視で検査することより、BGA型半導体装置の接合の良否を簡便かつ容易に判断することができる。このため、実装状態の検査に特殊な設備が必要なくなるので、BGA型半導体装置の製造コストを抑制することができるとともに、製造時間の短縮を図ることができる。 According to this aspect, in the inspection of the mounting state of the BGA type semiconductor device on the mounting substrate, the quality of the bonding of the BGA type semiconductor device can be easily determined by visually inspecting the state of the solder fillet bonded to the solder bonding portion. And it can be easily judged. For this reason, no special equipment is required for the inspection of the mounting state, so that the manufacturing cost of the BGA type semiconductor device can be suppressed and the manufacturing time can be shortened.
上記態様において、基板の表面の形状が四角形であり、ハンダ接合部が、基板の少なくとも2カ所に設けられていることが好ましい。この場合、2カ所のハンダ接合部が基板の対角の隅部に設けられていることがより好ましい。 In the above aspect, it is preferable that the shape of the surface of the substrate is a quadrangle, and the solder joints are provided in at least two places of the substrate. In this case, it is more preferable that the two solder joints are provided at the diagonal corners of the substrate.
この態様によれば、BGA型半導体装置をセルフアライメント効果によってより精度よく位置決めすることができる。 According to this aspect, the BGA type semiconductor device can be positioned more accurately by the self-alignment effect.
上記態様において、基板の表面の形状が四角形であり、ハンダ接合部が、基板の少なくとも3辺の各辺に1カ所以上設けられいることが好ましい。 In the above aspect, it is preferable that the shape of the surface of the substrate is a quadrangle, and one or more solder joints are provided on each of at least three sides of the substrate.
この態様によれば、BGA型半導体装置を実装基板に実装した場合に、BGAボールのばらつきによるBGA型半導体装置の傾きの有無を各ハンダ接合部のフィレットの状態により判定することができる。 According to this aspect, when the BGA type semiconductor device is mounted on the mounting substrate, the presence or absence of the inclination of the BGA type semiconductor device due to the variation of the BGA balls can be determined based on the fillet state of each solder joint.
上記態様において、ハンダ接合部が半導体チップと電気的に接続されていなくてもよい。 In the above aspect, the solder joint may not be electrically connected to the semiconductor chip.
この態様によれば、BGAボールの狭ピッチ化にともなってハンダ量が低下した場合であっても、BGA型半導体装置のセルフアライメント効果を十分に得ることができる。 According to this aspect, the self-alignment effect of the BGA type semiconductor device can be sufficiently obtained even when the amount of solder is reduced as the pitch of the BGA balls is reduced.
なお、上述した各要素を適宜組み合わせたものも、本件特許出願によって特許による保護を求める発明の範囲に含まれうる。 A combination of the above-described elements as appropriate can also be included in the scope of the invention for which protection by patent is sought by this patent application.
本発明の装置によれば、BGA型半導体装置の実装状態の確認を簡便かつ容易に実施することができる。 According to the apparatus of the present invention, it is possible to easily and easily check the mounting state of the BGA type semiconductor device.
(実施形態1)
図1は、実施形態1にかかる半導体装置の裏面に設けられた外部電極およびハンダ接合部の配列を示す図である。図2は、図1のA−A’線上における半導体装置の断面図である。
(Embodiment 1)
FIG. 1 is a diagram illustrating an arrangement of external electrodes and solder joints provided on the back surface of the semiconductor device according to the first embodiment. FIG. 2 is a cross-sectional view of the semiconductor device taken along the line AA ′ in FIG.
本実施形態の半導体装置10は、BGA型の半導体装置であり、配線基板20と、配線基板20にワイヤボンディング実装された半導体チップ30と、半導体チップ30と電気的に接続され、半導体チップ30の表面とは反対側の配線基板20の裏面上に突出した複数の外部電極と、配線基板20の側面および配線基板20の裏面に対して凹部となるように形成されたハンダ接合部60とを備えている。
The
配線基板20は、その表面が長方形あるいは正方形であり、エポキシ樹脂、ポリイミドなどの絶縁材料により形成されている。
The
配線基板20の上には半導体チップ30が銀ペーストなどの接着材料により固着されている。
A
配線基板20に設けられたランド22と半導体チップ30の表面に設けられたボンディングパッド31とは、金線などのボンディングワイヤ32により電気的に接続されている。配線基板20に実装された半導体チップ30は、封止樹脂36によりモールドされている。
The
配線基板20には、複数の電極用スルーホール24が設けられている。電極用スルーホール24の内面に銅などのメッキ層が形成されているとともに、メッキ層の内側に銅などの導電材料が埋め込まれ、外部電極用の配線が形成されている。電極用スルーホール24に形成された配線はランド22と電気的に接続されている。
The
配線基板20の裏面には、各電極用スルーホール24に対応した下層配線26が設けられている。各下層配線26の上に、ハンダボールと呼ばれる複数の外部電極40がアレイ状に突出するように配設されている。
On the back surface of the
図3の斜視図に示すように、ハンダ接合部60は、配線基板20の端部に設けられ、配線基板20の裏面および端面に対して凹んだ形状を有する。
As shown in the perspective view of FIG. 3, the solder
より具体的には、配線基板20の端部には、端面スルーホール50が設けられている。端面スルーホール50によって、配線基板20の端面および裏面に対して凹部が形成されている。端面スルーホール50の幅は、たとえば200μmであり、端面スルーホール50の高さは、たとえば60μmである。なお、図2に示す半導体装置10の断面図は、厚み方向を強調してあるため、縦横比が実寸と異なっている。端面スルーホール50の側面には、メッキ被覆層52が形成されている。また、端面スルーホール50の上部には、銅などで形成された蓋材54が設けられている。メッキ被覆層52および蓋材54が、ハンダ接合部60を構成している。
More specifically, an end face through
ハンダ接合部60は、半導体チップ30と電気的に接続されない、いわゆるダミーランドでもよく、半導体チップ30と電気的に接続されてもよい。
The
図4は、実施形態1の半導体装置10を実装基板100に搭載する工程を示す図である。実装基板100の表面には、半導体装置10の各外部電極40に対応するランド110が設けられている。また、実装基板100の表面には、半導体装置10の各ハンダ接合部60に対応するランド120が設けられ、ランド120の上にハンダ130が載置されている。
FIG. 4 is a diagram illustrating a process of mounting the
ハンダ接合部60とハンダ130とそれぞれ位置合わせすることにより、半導体装置10のアライメントを確実かつ容易に行うことができる。半導体装置10のアライメントをより確実かつ容易に行うためには、ハンダ接合部60が半導体装置10に2カ所以上設けられていることが好ましい。
By aligning the
ハンダ接合部60とハンダ130とをそれぞれ位置合わせした状態で、ハンダを溶融して半導体装置10を実装基板100に固着することにより、半導体装置10の位置のずれがセルフアライメント効果により修正されるので、半導体装置10を実装基板100に精度良く実装することができる。
Since the position of the
図5は、実施形態1の半導体装置10を実装基板100に装着した状態のハンダ接合部60の拡大図である。
FIG. 5 is an enlarged view of the
ハンダ接合部60とランド120とがハンダ130により適切に接合されると、ハンダ130の底部にフィレット132が形成される。ハンダ接合部60は、配線基板20の端面に設けられているので、フィレット132は、配線基板20の外側にはみ出る。このため、フィレット132が半導体装置10の上方から視認されるようになる。半導体装置10の実装状態を確認するにあたり、各ハンダ接合部60において所定の大きさまたは形状のフィレット132が形成されているか否かを目視により観察することで実装状態の良否を簡便かつ容易に判定することができる。このため、従来のBGA型半導体装置の製造において必要とされていたX線検査装置のような特殊な設備が必要となくなるので、製造時間の短縮や製造コストの低減を図ることができる。
When the
また、ハンダ接合部60をダミーランドとして用いることにより、外部電極40の狭ピッチ化によってハンダ量が低下した場合に接合強度の低下が抑制されるとともに、セルフアライメント効果を十分発揮させることができる。
In addition, by using the solder
なお、ハンダ接合部60は、配線基板20の少なくとも3辺の各辺に1カ所以上設けられていることが好ましい。上記構成によれば、外部電極40の大きさにバラツキがあると、半導体装置10が傾くため、ハンダ接合部60のいずかにおいてフィレット132が正常に形成されなくなる。したがって、フィレット132の状態を検査することにより、外部電極40の接合状態の良否を判定することができる。
Note that it is preferable that one or
(ハンダ接合部の形成方法)
図6は、実施形態1の半導体装置におけるハンダ接合部の形成方法を示す図である。図6は、複数の半導体チップ30が配線基板20アレイ状に実装された状態を示す。図6では、ハンダ接合部の形成方法の説明のため、半導体チップ30の結線に必要なボンディングワイヤ32等が省略されている。切断線X1〜X3および切断線Y1〜Y3は、各半導体装置10を切り出すべき線を示す。
(Method for forming solder joints)
FIG. 6 is a diagram illustrating a method of forming a solder joint in the semiconductor device of the first embodiment. FIG. 6 shows a state in which a plurality of
まず、隣接する半導体チップ30の境界線となる切断線をまたぐ形で端面スルーホール50を形成すべき領域上に銅などの導電材料で形成された蓋材54が載置される。本実施形態では、隣接する半導体装置10の2つの端面スルーホール50が一度に形成される。各蓋材54は後述する工程で形成される2つの端面スルーホール50の開口を塞ぐのに十分な大きさを有する。本実施形態では、各半導体装置10の各辺に2カ所づつ蓋材54が載置される。本実施形態の蓋材54の形状は端面スルーホール50の形状に合わせて四角形となっているが、端面スルーホール50の形状が、他の形状、たとえば円形あるいは楕円形である場合には、それに合わせた形状とすることができる。
First, a
次に、図7(A)に示すように、レーザ照射またはエッチングにより配線基板20の所定の領域を配線基板20の裏面側から徐々に選択的に除去して蓋材54の裏面を露出させることにより、最終的に端面スルーホール50を形成する。続いて、図7(B)に示すように、たとえば、無電解メッキ処理により端面スルーホール50の内周および蓋材54の裏面を被覆する銅を主成分とする第1のメッキ層55を形成する。さらに、図7(C)に示すように、第1のメッキ層55の上に、無電解 Ni−Auメッキ処理によりNiAuメッキ層からなる第2のメッキ層56を形成する。以上のように形成された第1のメッキ層55および第2のメッキ層56がメッキ被覆層52を構成する。NiAuメッキ層からなる第2のメッキ層56を露出させることにより、ハンダとのなじみ性が向上し、ハンダの接合強度が高めることができる。
Next, as shown in FIG. 7A, a predetermined region of the
次に、封止樹脂36により各半導体チップ30をモールドする。この際、蓋材54により封止樹脂36が端面スルーホール50に入り込むことが防止される。
Next, each
次に、ダイシング加工により切断線X1〜X3および切断線Y1〜Y3に沿って配線基板20を切り離す。このように、端面スルーホール50を切断線をまたいで形成し、切断線に沿って配線基板20を切り離すことにより、端面スルーホール50を効率的に形成することができる。
Next, the
以上の工程により、ハンダ接合部60を有する半導体装置10が得られる。
Through the above steps, the
(実施形態2)
図8は、実施形態2にかかる半導体装置の裏面に設けられた外部電極およびハンダ接合部の配列を示す図である。実施形態2の半導体装置210の説明において、実施形態1と同様な構成については同じ符号を用いて適宜説明を省略する。図9は、実施形態2にかかる半導体装置に設けられたハンダ接合部の斜視図である。
(Embodiment 2)
FIG. 8 is a diagram illustrating an arrangement of external electrodes and solder joints provided on the back surface of the semiconductor device according to the second embodiment. In the description of the
図8および図9に示すように、実施形態2の半導体装置210は、配線基板20の四隅にハンダ接合部260a、ハンダ接合部260b、ハンダ接合部260cおよびハンダ接合部260dが設けられている。
As shown in FIGS. 8 and 9, the
既に述べたように、半導体装置210のアライメントのためには、ハンダ接合部が2カ所以上設けられていることが好ましい。さらに、そのうち一対のハンダ接合部は配線基板20において対角の隅部に設けられていることがより好ましい。
As already described, it is preferable that two or more solder joints are provided for alignment of the
実施形態2の半導体装置210では、ハンダ接合部260aとハンダ接合部260cとが対となって配線基板20の対角の隅部に設けられ、ハンダ接合部260bとハンダ接合部260cとが対となって配線基板20の対角の隅部に設けられている。
In the
この構成によれば、半導体装置210をリフローにより実装する際に、より精度よく位置決めすることが可能となる。
According to this configuration, when the
(ハンダ接合部の形成方法)
図10は、実施形態2の半導体装置におけるハンダ接合部の形成方法を示す図である。実施形態2のハンダ接合部の形成方法は、実施形態1と基本的には同様である。ただし、本実施形態では、切断線が交差する箇所において隅部が隣接する4つの半導体装置10に対応して4つの端面スルーホール250が一度に形成される。このように、端面スルーホール250を切断線が交差する領域に形成し、切断線に沿って配線基板20を切り離すことにより、端面スルーホール250をさらに効率的に形成することができる。
(Method for forming solder joints)
FIG. 10 is a diagram illustrating a method of forming a solder joint in the semiconductor device of the second embodiment. The method for forming the solder joint of the second embodiment is basically the same as that of the first embodiment. However, in the present embodiment, four end face through
本発明は、上述の各実施の形態に限定されるものではなく、当業者の知識に基づいて各種の設計変更等の変形を加えることも可能であり、そのような変形が加えられた実施の形態も本発明の範囲に含まれうるものである。 The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications such as design changes can be added based on the knowledge of those skilled in the art. The form can also be included in the scope of the present invention.
例えば、上述の各実施の形態では、半導体チップが基板にワイヤボンディング実装されているが、半導体チップをフリップチップ実装により基板に搭載することも可能である。 For example, in each of the above-described embodiments, the semiconductor chip is mounted on the substrate by wire bonding. However, the semiconductor chip can be mounted on the substrate by flip chip mounting.
また、上述の各実施形態では、実装基板側にハンダ接合部に接合するハンダが予め形成されているが、図11に示すように、ハンダ130をハンダ接合部60に予め形成されていてもよい。その場合、実装基板100に設けられるランド120にハンダ130の位置決め用の凹部を形成することが好ましい。
Further, in each of the above-described embodiments, the solder to be bonded to the solder bonding portion is formed in advance on the mounting substrate side, but the
この他、図12に示す変形例では、実装基板100に設けられたランド110およびランド110より面積が大きいランド120の上に、高さが揃ったハンダペースト112およびハンダペースト122がそれぞれ印刷されている。ハンダペースト122とハンダ接合部60とを位置合わせすることにより、アライメントを確実かつ容易に行うことができる。ランド120の面積をランド110の面積より大きくすることにより、ランド120の上に印刷されるハンダペースト122の量を増やすことができる。これにより、ランド120におけるハンダの濡れ上がりが容易となり、ハンダ接合部60におけるハンダ接合がより確実となり、ハンダ接合によるフィレット形成の確実性を高めることができる。
In addition, in the modification shown in FIG. 12, the
上述の各実施形態では、ハンダ接合部の断面形状は四角形となっているが、ハンダ接合部の断面形状は四角形に限定されず、円形、楕円形、半円形、半楕円系などの他の形状であってもよい。たとえば、図6に示す切断線を介して隣接する2つの端面スルーホール50の形状を全体で円形にしてもよい。図13は、切断線に沿って切り離されたときの半導体装置10の斜視図である。本変形例では、端面スルーホール50は半円形となっている。
In each of the embodiments described above, the cross-sectional shape of the solder joint portion is a quadrangle, but the cross-sectional shape of the solder joint portion is not limited to a quadrangle, and other shapes such as a circle, an ellipse, a semicircle, and a semielliptic system It may be. For example, the shape of the two end face through
また、図10に示す切断線が交差する箇所において形成される4つの端面スルーホール250の形状を全体で円形にしてもよい。図14は、切断線に沿って切り離されたときの半導体装置10の斜視図である。本変形例では、端面スルーホール250は4分の1円形となっている。
Further, the shape of the four end face through-
10 半導体装置、20 配線基板、22 ランド、24 電極用スルーホール、30 半導体チップ、31 ボンディングパッド、32 ボンディングワイヤ、36 封止樹脂、40 外部電極、50 端面スルーホール、52 メッキ被覆層、54 蓋材、60 ハンダ接合部。
DESCRIPTION OF
Claims (25)
前記基板に実装された半導体チップと、
前記半導体チップと電気的に接続され、前記半導体チップの実装された前記基板の表面とは反対側の、前記基板の裏面上に突出した複数の外部電極と、
前記外部電極とは異なる位置にある前記基板の外周縁に、前記基板の端面および前記基板の裏面に対して凹部となるように形成されたハンダ接合部と、
を備え、
前記ハンダ接合部は、前記基板の端面に形成されている凹部の側面に設けられているメッキ被覆層と当該凹部の上部に設けられている蓋材を含むことを特徴とする半導体装置。 A substrate,
A semiconductor chip mounted on the substrate;
A plurality of external electrodes electrically connected to the semiconductor chip and projecting on the back surface of the substrate opposite to the surface of the substrate on which the semiconductor chip is mounted;
Said outer peripheral edge of the substrate, before Symbol end face and the solder joint formed so as to be concave with respect to the back surface of the substrate of the substrate in a position different from the external electrode,
With
The solder joint includes a plating coating layer provided on a side surface of a recess formed on an end face of the substrate and a lid provided on an upper portion of the recess .
前記ハンダ接合部が、前記基板の少なくとも2カ所に設けられていることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。 The shape of the surface of the substrate is square,
The semiconductor device according to claim 1, wherein the solder joint portion is provided at at least two places on the substrate.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005120142A JP4712426B2 (en) | 2005-04-18 | 2005-04-18 | Semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005120142A JP4712426B2 (en) | 2005-04-18 | 2005-04-18 | Semiconductor device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006303035A JP2006303035A (en) | 2006-11-02 |
JP4712426B2 true JP4712426B2 (en) | 2011-06-29 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2005120142A Active JP4712426B2 (en) | 2005-04-18 | 2005-04-18 | Semiconductor device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4712426B2 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4918823B2 (en) * | 2006-08-11 | 2012-04-18 | セイコーエプソン株式会社 | Method for manufacturing liquid container |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002359320A (en) * | 2001-06-01 | 2002-12-13 | Toyo Commun Equip Co Ltd | Outer electrode pattern of electronic component |
JP2003168758A (en) * | 2001-11-30 | 2003-06-13 | Toshiba Corp | Semiconductor device |
JP2003197813A (en) * | 2001-12-28 | 2003-07-11 | Mitsubishi Electric Corp | Electronic device |
JP2004200416A (en) * | 2002-12-18 | 2004-07-15 | Kyocera Corp | Wiring board |
-
2005
- 2005-04-18 JP JP2005120142A patent/JP4712426B2/en active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2002359320A (en) * | 2001-06-01 | 2002-12-13 | Toyo Commun Equip Co Ltd | Outer electrode pattern of electronic component |
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JP2004200416A (en) * | 2002-12-18 | 2004-07-15 | Kyocera Corp | Wiring board |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006303035A (en) | 2006-11-02 |
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A621 | Written request for application examination |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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A521 | Written amendment |
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|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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