JP4701818B2 - トリアジン化合物および有機エレクトロルミネッセンス素子用組成物並びに有機エレクトロルミネッセンス素子 - Google Patents
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Description
このような有機EL素子としては、陽極と陰極との間に有機材料よりなる発光層が形成された単層構造のもの、陽極と発光層との間に正孔輸送層を有する構造のもの、陰極と発光層との間に電子輸送層を有するものなどの多層構造のものが知られている。これらの有機EL素子は、いずれも、陰極から注入された電子と、陽極から注入された正孔とが、発光層において再結合することによって発光するものである。
具体的に、このような構成を有する有機EL素子によれば、従来から有機EL素子の外部量子効率の限界値と考えられていた5%を超え、8%の外部量子効率が得られることが報告されている(例えば、非特許文献1および非特許文献2参照。)。
しかしながら、この有機EL素子は、低分子量の材料で構成され、また、例えば蒸着法などの乾式法によって形成されているものであり、この乾式法によっては面積の大きい層を形成するには限界があることから、特に、例えば大画面のディスプレイ装置などに適用することが難しい、という問題がある。
本発明の他の目的は、発光特性に優れた有機エレクトロルミネッセンス素子が得られる有機エレクトロルミネッセンス素子用組成物および、有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することにある。
本発明のトリアジン化合物は、上記一般式(1)で表されるトリアジン化合物(以下、「特定トリアジン化合物」ともいう。)であって、有機エレクトロルミネッセンス素子用材料として有用なものである。
また、基R1 および基R2 を示す複素環基としては、ピリジニル基が好ましい。
ここに、基R9 および基R10を示すアリール基としては、フェニル基、シアノフェニル基、アルキルフェニル基が好ましい。
また、基R9 および基R10を示す複素環基としては、ピリジニル基が好ましい。
また、基R3 および基R4 を示す複素環基としては、例えばピリジニル基などが挙げられる。
ここに、式(A−1)〜式(A−10)で表される化合物および式(B−1)〜式(B−10)で表される化合物は、各々、一般式(1)におけるR1 およびR2 が共にアルコキシル基であるものであり、式(C−1)〜式(C−14)で表される化合物および式(D−1)〜式(D−10)で表される化合物は、各々、一般式(1)におけるR1 およびR2 が共に一般式(1−A)で表される基または一般式(1−B)で表される基であるものであり、また、式(E−1)〜式(E−10)で表される化合物は、各々、一般式(1)におけるR1 が一般式(1−C)で表される基であってR2 がアルコキシル基であるものであり、式(F−1)〜式(F−14)で表される化合物は、各々、一般式(1)におけるR1 が一般式(1−C)で表される基であってR2 が一般式(1−A)で表される基または一般式(1−B)で表される基であるものであり、また、式(G−1)〜式(G−4)で表される化合物は、各々、一般式(1)におけるR1 およびR2 が共に一般式(1−C)で表される基である化合物である。
具体的には、不活性ガス雰囲気下において、溶媒中で原料カルバゾール化合物に等量の有機金属などを、例えば反応温度−78〜30℃、反応時間0.1〜10時間の反応条件によって反応させた後、原料トリアジン化合物を溶媒に溶解させた溶液を滴下し、例えば反応温度0〜80℃、反応時間0.5〜24時間の反応条件によって行うことができる。
また、有機金属としては、例えばn−ブチルリチウム、s−ブチルリチウム、t−ブチルリチウムを用いることができ、その使用量は、例えば原料カルバゾール化合物1モルに対して0.5〜1.2質量部である。
また、一般式(1)において、R1 およびR2 が同一の一般式(1−A)で表される基であり、R3 およびR4 が同一のアリール基である特定トリアジン化合物は、下記反応式(2)で示される反応工程によって得られた原料カルバゾール化合物と、下記反応式(4)で示される反応工程によって得られた原料トリアジン化合物とを反応させることによって製造することができる。
また、一般式(1)において、R1 およびR2 が同一の一般式(1−B)で表される基であり、R3 およびR4 が同一のアリール基である特定トリアジン化合物は、下記反応式(2)で示される反応工程によって得られた原料カルバゾール化合物と、下記反応式(5)で示される反応工程によって得られた原料トリアジン化合物とを反応させることによって製造することができる。
本発明の有機EL素子用組成物は、上記の特定トリアジン化合物よりなる成分(以下、「トリアジン成分」ともいう。)と、三重項発光性金属錯体化合物よりなる成分(以下、「錯体成分」ともいう。)とを含有してなるものである。
このようなイリジウム錯体化合物の具体例としては、例えば下記一般式(2)〜下記一般式(4)で表される化合物を挙げることができる。
アリール基の具体例としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、ビフェニル基、ナフチル基などを挙げることができる。
これらの中では、均一な厚みを有する薄膜が得られる点で、適当な蒸発速度を有するもの、具体的には沸点が70〜200℃程度の有機溶剤を用いることが好ましい。
また、組成物溶液を塗布する手段としては、例えばスピンコート法、ディッピング法、ロールコート法、インクジェット法、印刷法などを利用することができる。
形成される発光層の厚みは、特に限定されるものではないが、通常、10〜200nm、好ましくは30〜100nmの範囲で選択される。
図1は、本発明の有機EL素子の構成の一例を示す説明用断面図である。
この例の有機EL素子は、透明基板1上に、正孔を供給する電極である陽極2が例えば透明導電膜により設けられ、この陽極2上に正孔注入輸送層3が設けられ、この正孔注入輸送層3上に発光層4が設けられ、この発光層4上にホールブロック層8が設けられ、このホールブロック層8上に電子注入層5が設けられ、この電子注入層5上に電子を供給する電極である陰極6が設けられている。そして、陽極2および陰極6は、直流電源7に電気的に接続される。
陽極2を構成する材料としては、好ましくは、仕事関数の大きい例えば4eV以上の透明性材料が用いられる。ここで、仕事関数とは、固体から真空中に電子を取り出すのに要する最小限の仕事の大きさをいう。陽極2としては、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)膜、酸化スズ(SnO2 )膜、酸化銅(CuO)膜、酸化亜鉛(ZnO)膜などを用いることができる。
また、ホールブロック層8の厚みは、例えば10〜30nmである。
陰極6の厚みは、材料の種類によって異なるが、通常、10〜1000nm、好ましくは50〜200nmである。
先ず、透明基板1上に、陽極2を形成する。
陽極2を形成する方法としては、真空蒸着法またはスパッタ法などを利用することができる。また、ガラス基板などの透明基板の表面に例えばITO膜などの透明導電膜が形成されてなる市販の材料を用いることもできる。
正孔注入輸送層3を形成する方法としては、具体的に、電荷注入輸送材料を適宜の溶剤に溶解することによって正孔注入輸送層形成液を調製し、この正孔注入輸送層形成液を、陽極2の表面に塗布し、得られた塗布膜に対して溶剤の除去処理を行うことによって正孔注入輸送層3を形成する手法を用いることができる。
発光層形成液を塗布する方法としては、スピンコート法、ディップ法、インクジェット法、印刷法などを利用することができる。
このような構成の有機EL素子によれば、発光層4が上記の有機EL素子用組成物によって形成されているため、高い発光輝度および発光効率が得られる。
〈特定トリアジン化合物の合成例1〉
容積500mlの三口フラスコに、1−ブロモ−4−n−オクチルベンゼン25gを仕込み、脱気処理した後に窒素置換処理し、テトラヒドロフラン200mlを加えて撹拌し、この反応系をドライアイス−アセトン浴で冷却した後、濃度1.56mol/Lのn−ブチルリチウムヘキサン溶液66mlを加えて2時間攪拌し、その後、2−イソプロポキシ−4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン19.0gを加えた。
そして、得られた反応溶液を徐々に室温に戻し、更に24時間撹拌した後、この反応溶液を分液ろうとに移して激しく振盪することによって有機相を得た。得られた有機相を飽和食塩水300mlで洗浄した後、無水硫酸マグネシウム上において30分間乾燥処理し、エバポレーターにより濃縮し、その後、シリカゲル−ヘキサンカラムで精製処理することにより、下記式(3)で示される、2−(4−n−オクチルフェニル)−4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン(以下、「中間生成物(1)」ともいう。)26.4gを得た。この中間生成物(1)の純度をHPLC(高速液体クロマトグラフィー)によって確認したところ、100%であった。
得られた反応溶液を室温に戻し、還流下で4時間加熱撹拌した後、この反応溶液を分液ろうとに移し、この分液ろうと内にクロロホルム300mlとm超純水200mlとを加えて振盪することによって有機相を得た。得られた有機相を飽和食塩水200mlで洗浄した後、無水硫酸マグネシウム上において30分間乾燥処理し、エバポレーターにより濃縮し、その後、シリカゲル−ヘキサンカラムで精製処理することにより、下記式(5)で示される、2,4,6−トリス( 3,6−ジ(4−n−オクチルフェニル)カルバゾール−9−イル)−1,3,5−トリアジン(以下、「トリアジン化合物(1)」ともいう。)4.0gを得た。このトリアジン化合物(1)の純度をHPLCによって確認したところ、100%であった。
更に、トリアジン化合物(1)のLUMOのエネルギーレベルEL を、下記式(I)により算出したところ、−2.48eVであった。
式(I)において、EG は、下記式(II)から算出されるエネルギーギャップ(単位:eV)である。
式(II)において、hは、プランク定数であり、cは、光速(単位:m/sec)であって、λlは、石英基板上に、トリアジン化合物(1)を溶剤(具体的には、シクロヘキサノン)に溶解させた重合体溶液をスピンコート法によって塗布し、得られた塗膜をホットプレートによって150℃で10分間加熱することによって溶剤を除去した、厚さ20〜50nmの薄膜が積層された測定用基板を紫外可視分光光度計「U−2010」(日立製作所製)によって測定した吸収スペクトルの長波長側の吸収端(単位:nm)である。
透明基板上にITO膜が形成されてなるITO基板を用意し、このITO基板を、中性洗剤、超純水、イソプロピルアルコール、超純水、アセトンをこの順に用いて超音波洗浄した後、更に紫外線−オゾン(UV/O3 )洗浄した。
洗浄を行ったITO基板上に、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)−ポリスチレンスルホネート(PEDOT/PSS)溶液をスピンコート法によって塗布し、その後、得られた厚さ65nmの塗布膜を窒素雰囲気下において250℃で30分間乾燥処理することにより、正孔注入輸送層を形成した。
次いで、ITO基板上に正孔注入輸送層および発光層がこの順に積層されてなる積層体を真空装置内に固定し、その後、当該真空装置内を1×10-4Pa以下にまで減圧し、1,3,5−トリ(フェニル−2−ベンゾイミダゾリル)ベンゼン(TPBI)を30nm蒸着し、TPBI膜よりなるホールブロック層を形成した。次いで、フッ化リチウムを0.5nm蒸着することによってフッ化リチウム膜よりなる電子注入層を形成した後、カルシウム30nmおよびアルミニウム100nmを、この順で蒸着することによりカルシウム・アルミニウム膜よりなる陰極を形成した。その後、ガラス材料によって封止することにより、有機EL素子(以下、「有機EL素子(1)」ともいう。)を製造した。
得られた有機EL素子(1)に対し、ITO膜を陽極とし、カルシウム・アルミニウム膜を陰極として発光層を発光させたところ、当該有機EL素子(1)からは、特定のイリジウム錯体に由来する波長515nm付近の発光が得られた。
また、有機EL素子(1)について、発光層を発光させ、その最高発光輝度および発光効率を測定した。結果を表1に示す。
実施例1の有機EL素子の作製例において、組成物溶液(1)に対して、式(イ−4)で表される電荷輸送性化合物が、トリアジン化合物(1)のカルバゾール基に対して30mol%の割合で任意成分として添加されてなるものよりなる有機EL素子組成物溶液を用いたこと以外は実施例1と同様の手法によって有機EL素子(以下、「有機EL素子(2)」ともいう。)を製造した。
得られた有機EL素子(2)について、実施例1と同様の手法によって最高発光輝度および発光効率を測定した。結果を表1に示す。
2 陽極
3 正孔注入輸送層
4 発光層
5 電子注入層
6 陰極
7 直流電源
8 ホールブロック層
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