JP4686010B2 - 研磨パッド - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体、電子部品等の被研磨部材の研磨加工に使用される研磨パッドに関し、詳しくは半導体ウエハ等の被研磨部材の研磨加工において、研磨対象物の平坦性を高め、かつ長寿命化を図ることができる研磨パッドに関する。
【0002】
【従来の技術】
一般にウエハの研磨は、研磨パッドを下定盤側に保持し、研磨対象物であるウエハを上定盤側に保持して、研磨スラリーを供給しながら、ウエハと研磨パッドを加圧した状態で相対的に摺動させることによって行われる。
【0003】
ところで、従来の研磨パッドは、図5に示すように、パッド本体10と、該パッド本体10に感圧接着剤層15を介して積層された下地層11と、両面接着テープ14とを有している。このような研磨パッド20を製造する場合には、図6に示すように、下地層11とパッド本体10とを両面接着テープ15を介して張り合わせ、この積層体を研磨パッド形状に打ち抜くことで研磨パッド20を得ている。
【0004】
ところが、この研磨パッド20を用いて、ウエハの研磨を行うと、スラリーが、下地層11の周側面から内部に浸透し、その結果、スラリーの浸透により下地層の圧縮率等の物性が変化して研磨性能が低下するという欠点があり、またスラリーの浸透により接着剤層と下地層間の剥離等の不良が起こるという欠点がある。
【0005】
さらに、ウエハの研磨をしながらウエハ表面の研磨レートを測定するために、レーザー光又は可視光が通過するための透明な窓部材を設けた研磨パッドにおいては、スラリーが、その測定用窓へしみ込むために検出不良になるという欠点もある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記の欠点を解消するためになされたものであって、その目的とするところは、下地層内にスラリーが浸透することを防止して、研磨特性に悪影響を及ぼさず、また研磨レートの検出精度を上げることができる研磨パッドを提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】
請求項1記載の研磨パッドは、下地層と該下地層の表面に積層されたパッド本体とを有する研磨パッドであって、該下地層の周辺部において、該下地層の定盤側の面に溝部が下地層の周囲に沿って形成されており、そのことにより上記目的が達成される。
【0012】
一つの実施態様では、前記溝部が、前記下地層の一部を切欠することにより形成されている。
【0013】
一つの実施態様では、前記溝部内にシール部材が配置されている。
【0014】
本発明の作用は次の通りである。
【0015】
研磨パッドに優れた研磨特性を付与するために、下地層は一般に弾性を有する多孔質のもので形成されており、従って、この下地層の周端面よりスラリーが内部へ浸透し易いのであるが、本発明では、下地層の周辺部において、該下地層の定盤側の面に溝部が下地層の周囲に沿って形成されていることにより、スラリーが下地層内部へ浸透することを防止して、研磨特性(ユニフォーミティ)の変化を和らげることができ、それによって歩留まりの向上、生産性向上および品質安定化を図ることができる。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下本発明を詳細に説明する。
研磨パッド1は、弾性を有する多孔質な下地層11と該下地層11の表面に感圧接着剤層(両面接着テープ)15を介して積層されたパッド本体10とを有する。
【0017】
パッド本体10は、通常は微細な気泡を有する樹脂層にて形成されている。下地層11は、パッド本体10に比べて弾性を有する合成樹脂の発泡層や不織布等から形成されている。この下地層11の裏面に感圧接着剤層(両面接着テープ)14を介して離型シート(図示せず)が積層されており、離型シートを剥がして感圧接着剤層14を定盤に貼付けることにより研磨パッド1は使用される。
【0018】
パッド本体10は、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリエステル等の一種または2種以上から、公知の注型法、押し出し成形法等によって製造することができる。通常は、熱可塑性樹脂を用い、注型法、押し出し成形法によって製造されるが、熱硬化性樹脂を用いて加熱硬化させることで製造して得てもよい。
【0019】
下地層11は、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリエステル等の一種または2種以上から、公知の注型法、押し出し成形法等によって製造することができる。通常は、熱可塑性樹脂を用い、注型法、押し出し成形法によって製造される。また、不織布等のように通気性を有する材料で形成することもできる。
【0029】
(実施形態)
図1に示す実施形態は、下地層11の周辺部に形成した防水層12として、下地層11の周辺部の下面に溝部13を形成したものである。
【0030】
この溝部13は、下地層11の定盤側の面において、下地層11の周囲に沿って形成され、下地層11の下面側から見るとリング状となっている。溝ウエハbの幅は1から4mmが好ましく、また下地層11の周端面からの寸法は1〜4mmが好ましい。特に好ましくはそれぞれ、2〜3mm程度である。溝部13は複数同心状に形成してもよい。
【0031】
下地層11の下面に溝部13を形成するには、公知の方法が採用でき、例えば、切断刃によって下地層11の裏面側に切り目を入れて剥離すればよい。
【0032】
このようにして作製された研磨パッド1は図2に示すように、下定盤2に貼り付けられ、研磨パッド1とウエハとの間に供給されるスラリーが、下地層11内にその周側面から浸透しようとする場合、溝部13において遮断され、下方へ流下するため、下定盤2上にある下地層11内へスラリーが浸透することはない。
【0033】
また、図3に示すように、研磨パッド1を下定盤2上に貼付ける場合には、溝部13内にシール部材17を配設するのがよい。シール部材17としては、例えば、Oリング、シーリング剤等を使用することができる。この場合には、下地層11の周端面から浸透するスラリーが、シール部材17によって遮断され、それ以上、下地層11の内部へ浸入することがない。
【0034】
なお、研磨パッド1は、その一部に透明な窓部材が形成されたものでもよい。この場合、下地層11には、窓部材に相当する位置において開口部が形成される。
【0041】
【実施例】
以下、本発明を実施例により詳細に説明する。
(実施例)
図4に示すように、下地層の上に第2の両面接着テープを介してパッド本体を積層し、下地層の外周部の下面側に溝部を形成し、この下地層を第1の両面接着テープを介して下定盤2上に貼着して、キャリアに何もつけないで、研磨機を稼動させ、スラリーの浸透性を目視にて観察した。
【0042】
試験条件は以下の通りである。
研磨機: Strasbaugh製
Down force:4.3(psi)
プラテン速度:30(rpm)
キャリア速度:27(rpm)
キャリア径:230(mm)
使用液体:スラリー
スラリー流量:300(ml/min)循環方式
稼動時間:480(min)
試験の結果、下地層の端部からのスラリーの浸透は見られなかった。さらに、下地層とパッド本体との間に剥離は全く見られなかった。
【0043】
実施例と同様の条件で従来の研磨パッドについて試験を行ったところ、下地層の端部からのスラリーの浸透(20mmほど)が見られた。
【0044】
【発明の効果】
本発明によれば、下地層内にスラリーが浸透することが防止できるので、研磨特性に悪影響を及ぼさず、また研磨レートの検出精度を上げることができる。従って、研磨特性(ユニフォーミティ)の変化を和らげることができ、それによって歩留まりの向上、生産性向上および品質安定化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1(a)は本発明の研磨パッドの実施形態の要部断面図である。図1(b)はその研磨パッドの平面図である。
【図2】図1で示す研磨パッドの使用説明図である。
【図3】本発明の研磨パッドの他の実施形態の概略断面図である。
【図4】実施例の説明図である。
【図5】従来の研磨パッドの断面図である。
【図6】従来の研磨パッドの製造法を示す概略図である。
【符号の説明】
1 研磨パッド
2 研磨機
10 パッド本体
11 下地層
12 防水層
13 溝部
14 第1の両面接着テープ
15 第2の両面接着テープ
Claims (3)
- 下地層と該下地層の表面に積層されたパッド本体とを有する研磨パッドであって、該下地層の周辺部において、該下地層の定盤側面に溝部が下地層の周囲に沿って形成されている研磨パッド。
- 前記溝部が、前記下地層の一部を切欠することにより形成されている請求項1に記載の研磨パッド。
- 前記溝部内にシール部材が配置されている請求項1に記載の研磨パッド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000218112A JP4686010B2 (ja) | 2000-07-18 | 2000-07-18 | 研磨パッド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000218112A JP4686010B2 (ja) | 2000-07-18 | 2000-07-18 | 研磨パッド |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011000835A Division JP5198587B2 (ja) | 2011-01-05 | 2011-01-05 | 研磨パッド |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002036097A JP2002036097A (ja) | 2002-02-05 |
JP4686010B2 true JP4686010B2 (ja) | 2011-05-18 |
Family
ID=18713115
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000218112A Expired - Lifetime JP4686010B2 (ja) | 2000-07-18 | 2000-07-18 | 研磨パッド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4686010B2 (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7201647B2 (en) * | 2002-06-07 | 2007-04-10 | Praxair Technology, Inc. | Subpad having robust, sealed edges |
JP4526778B2 (ja) * | 2003-04-07 | 2010-08-18 | ニッタ・ハース株式会社 | 研磨パッドおよび研磨パッドの製造方法 |
KR100532440B1 (ko) | 2003-06-05 | 2005-11-30 | 삼성전자주식회사 | 윈도로의 유체의 침투를 막는 실링 장벽부를 가지는 화학기계적 연마 장비에 사용되는 연마 패드 |
US7442116B2 (en) | 2003-11-04 | 2008-10-28 | Jsr Corporation | Chemical mechanical polishing pad |
EP1637281B1 (en) | 2004-09-17 | 2008-05-28 | JSR Corporation | Chemical mechanical polishing pad and chemical mechanical polishing process |
JP6074245B2 (ja) * | 2012-12-07 | 2017-02-01 | ニッタ・ハース株式会社 | 研磨パッド |
CN106046313A (zh) * | 2016-06-03 | 2016-10-26 | 湖北鼎龙化学股份有限公司 | 一种化学机械抛光垫、缓冲层及其制备方法 |
JP7026943B2 (ja) * | 2018-05-08 | 2022-03-01 | 丸石産業株式会社 | 研磨パッド及び該研磨パッドによる研磨方法 |
TWI850338B (zh) * | 2019-02-28 | 2024-08-01 | 美商應用材料股份有限公司 | 拋光墊、化學機械拋光系統、及控制拋光墊的背襯層的剛度的方法 |
JP7515279B2 (ja) | 2020-03-26 | 2024-07-12 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 研磨パッド、研磨ユニット、及び研磨パッドの製造方法 |
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JP7518645B2 (ja) | 2020-03-26 | 2024-07-18 | 富士紡ホールディングス株式会社 | 研磨ユニット、研磨装置、及び研磨パッドの製造方法 |
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Family Cites Families (1)
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-
2000
- 2000-07-18 JP JP2000218112A patent/JP4686010B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2002036097A (ja) | 2002-02-05 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070717 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20080905 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20080918 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090114 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100820 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20101014 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101112 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110105 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110204 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110214 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140218 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4686010 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |