JP4662042B2 - シリル基で保護されたアミノ基を有するビスオルガノキシシラン化合物及びその製造方法 - Google Patents
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で示されるシリル基で保護されたアミノ基を有するビスオルガノキシシラン化合物が、高分子変性剤として用いた場合、フィラーとの相互作用がより強くなり、接着剤添加剤として用いた場合、接着性、補強性がより向上することを知見し、本発明を完成するに至ったものである。
(I)下記一般式(1)
で示されるシリル基で保護されたアミノ基を有するビスオルガノキシシラン化合物。
(II)下記一般式(2)
で示される化合物と、下記一般式(3)
HSi(CH3)n(OR4)3-n (3)
(式中、R4、nは(I)に記載された通りの意味を有する。)
で示されるハイドロジェンシラン化合物とを白金触媒下で反応させることを特徴とする(I)記載のシリル基で保護されたアミノ基を有するビスオルガノキシシラン化合物の製造方法。
(III)一般式(2)で示される化合物1モルに対し、一般式(3)で示される化合物1〜4モル、白金触媒0.000001〜0.01モルを用いて、反応温度20〜100℃、反応時間1〜20時間で反応させる(II)記載の製造方法。
で示されるシリル基で保護されたアミノ基を有するビスオルガノキシシラン化合物である。
ビス[3−(トリメトキシシリル)プロピル]トリメチルシリルアミン、ビス[3−(メチルジメトキシシリル)プロピル]トリメチルシリルアミン、ビス[3−(ジメチルメトキシシリル)プロピル]トリメチルシリルアミン、ビス[3−(トリエトキシシリル)プロピル]トリメチルシリルアミン、ビス[3−(メチルジエトキシシリル)プロピル]トリメチルシリルアミン、ビス[3−(ジメチルエトキシシリル)プロピル]トリメチルシリルアミン、ビス[3−(トリメトキシシリル)プロピル]トリエチルシリルアミン、ビス[3−(メチルジメトキシシリル)プロピル]トリエチルシリルアミン、ビス[3−(ジメチルメトキシシリル)プロピル]トリエチルシリルアミン、ビス[3−(トリエトキシシリル)プロピル]トリエチルシリルアミン、ビス[3−(メチルジエトキシシリル)プロピル]トリエチルシリルアミン、ビス[3−(ジメチルエトキシシリル)プロピル]トリエチルシリルアミン、ビス[3−(トリメトキシシリル)プロピル]t−ブチルジメチルシリルアミン、ビス[3−(メチルジメトキシシリル)プロピル]t−ブチルジメチルシリルアミン、ビス[3−(ジメチルメトキシシリル)プロピル]t−ブチルジメチルシリルアミン、ビス[3−(トリエトキシシリル)プロピル]t−ブチルジメチルシリルアミン、ビス[3−(メチルジエトキシシリル)プロピル]t−ブチルジメチルシリルアミン、ビス[3−(ジメチルエトキシシリル)プロピル]t−ブチルジメチルシリルアミン、ビス[3−(トリメトキシシリル)プロピル]トリイソプロピルシリルアミン、ビス[3−(メチルジメトキシシリル)プロピル]トリイソプロピルシリルアミン、ビス[3−(ジメチルメトキシシリル)プロピル]トリイソプロピルシリルアミン、ビス[3−(トリエトキシシリル)プロピル]トリイソプロピルシリルアミン、ビス[3−(メチルジエトキシシリル)プロピル]トリイソプロピルシリルアミン、ビス[3−(ジメチルエトキシシリル)プロピル]トリイソプロピルシリルアミン、ビス[3−(トリメトキシシリル)ブチル]トリメチルシリルアミン、ビス[3−(メチルジメトキシシリル)ブチル]トリメチルシリルアミン、ビス[3−(ジメチルメトキシシリル)ブチル]トリメチルシリルアミン、ビス[3−(トリエトキシシリル)ブチル]トリメチルシリルアミン、ビス[3−(メチルジエトキシシリル)ブチル]トリメチルシリルアミン、ビス[3−(ジメチルエトキシシリル)ブチル]トリメチルシリルアミン、ビス[3−(トリメトキシシリル)ブチル]トリエチルシリルアミン、ビス[3−(メチルジメトキシシリル)ブチル]トリエチルシリルアミン、ビス[3−(ジメチルメトキシシリル)ブチル]トリエチルシリルアミン、ビス[3−(トリエトキシシリル)ブチル]トリエチルシリルアミン、ビス[3−(メチルジエトキシシリル)ブチル]トリエチルシリルアミン、ビス[3−(ジメチルエトキシシリル)ブチル]トリエチルシリルアミン、ビス[3−(トリメトキシシリル)ブチル]t−ブチルジメチルシリルアミン、ビス[3−(メチルジメトキシシリル)ブチル]t−ブチルジメチルシリルアミン、ビス[3−(ジメチルメトキシシリル)ブチル]t−ブチルジメチルシリルアミン、ビス[3−(トリエトキシシリル)ブチル]t−ブチルジメチルシリルアミン、ビス[3−(メチルジエトキシシリル)ブチル]t−ブチルジメチルシリルアミン、ビス[3−(ジメチルエトキシシリル)ブチル]t−ブチルジメチルシリルアミン、ビス[3−(トリメトキシシリル)ブチル]トリイソプロピルシリルアミン、ビス[3−(メチルジメトキシシリル)ブチル]トリイソプロピルシリルアミン、ビス[3−(ジメチルメトキシシリル)ブチル]トリイソプロピルシリルアミン、ビス[3−(トリエトキシシリル)ブチル]トリイソプロピルシリルアミン、ビス[3−(メチルジエトキシシリル)ブチル]トリイソプロピルシリルアミン、ビス[3−(ジメチルエトキシシリル)ブチル]トリイソプロピルシリルアミン、ビス[3−(トリメトキシシリル)−2−メチルプロピル]トリメチルシリルアミン、ビス[3−(メチルジメトキシシリル)−2−メチルプロピル]トリメチルシリルアミン、ビス[3−(ジメチルメトキシシリル)−2−メチルプロピル]トリメチルシリルアミン、ビス[3−(トリエトキシシリル)−2−メチルプロピル]トリメチルシリルアミン、ビス[3−(メチルジエトキシシリル)−2−メチルプロピル]トリメチルシリルアミン、ビス[3−(ジメチルエトキシシリル)−2−メチルプロピル]トリメチルシリルアミン、ビス[3−(トリメトキシシリル)−2−メチルプロピル]トリエチルシリルアミン、ビス[3−(メチルジメトキシシリル)−2−メチルプロピル]トリエチルシリルアミン、ビス[3−(ジメチルメトキシシリル)−2−メチルプロピル]トリエチルシリルアミン、ビス[3−(トリエトキシシリル)−2−メチルプロピル]トリエチルシリルアミン、ビス[3−(メチルジエトキシシリル)−2−メチルプロピル]トリエチルシリルアミン、ビス[3−(ジメチルエトキシシリル)−2−メチルプロピル]トリエチルシリルアミン、ビス[3−(トリメトキシシリル)−2−メチルプロピル]t−ブチルジメチルシリルアミン、ビス[3−(メチルジメトキシシリル)−2−メチルプロピル]t−ブチルジメチルシリルアミン、ビス[3−(ジメチルメトキシシリル)−2−メチルプロピル]t−ブチルジメチルシリルアミン、ビス[3−(トリエトキシシリル)−2−メチルプロピル]t−ブチルジメチルシリルアミン、ビス[3−(メチルジエトキシシリル)−2−メチルプロピル]t−ブチルジメチルシリルアミン、ビス[3−(ジメチルエトキシシリル)−2−メチルプロピル]t−ブチルジメチルシリルアミン、ビス[3−(トリメトキシシリル)−2−メチルプロピル]トリイソプロピルシリルアミン、ビス[3−(メチルジメトキシシリル)−2−メチルプロピル]トリイソプロピルシリルアミン、ビス[3−(ジメチルメトキシシリル)−2−メチルプロピル]トリイソプロピルシリルアミン、ビス[3−(トリエトキシシリル)−2−メチルプロピル]トリイソプロピルシリルアミン、ビス[3−(メチルジエトキシシリル)−2−メチルプロピル]トリイソプロピルシリルアミン、ビス[3−(ジメチルエトキシシリル)−2−メチルプロピル]トリイソプロピルシリルアミン。
で示される化合物と、下記一般式(3)
HSi(CH3)n(OR4)3-n (3)
(式中、R4、nは上記と同様である。)
で示されるハイドロジェンシラン化合物とを白金触媒下で反応させる方法が例示される。
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、ジアリルアミン48.6g(0.5モル)、トリエチルアミン55.7g(10.55モル)、ヘキサン250mlを仕込み、トリメチルクロロシラン57.0g(0.52モル)を20〜40℃で2時間かけて滴下し、その温度で2時間撹拌した。生成した塩を濾過により除去し、濾液を蒸留した。ジアリルトリメチルシリルアミンを沸点72℃/5kPaの留分として67.1g得た(収率79%)。
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、ジアリルトリメチルシリルアミン33.9g(0.2モル)、白金−1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液(白金含量3質量%)0.26gを仕込み、70℃に加熱した。内温が安定した後、トリエトキシシラン65.7g(0.4モル)を4時間かけて滴下し、その温度で3時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点132−133℃/0.05kPaの留分を50.0g得た。
質量スペクトル
m/z 497,482,306,163,73
以上の結果より、得られた化合物はビス[3−(トリエトキシシリル)プロピル]トリメチルシリルアミンであることが確認された。
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、ジアリルトリメチルシリルアミン33.9g(0.2モル)、白金−1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液(白金含量3質量%)0.26gを仕込み、70℃に加熱した。内温が安定した後、メチルジエトキシシラン53.7g(0.4モル)を4時間かけて滴下し、その温度で1時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点117−119℃/0.04kPaの留分を58.1g得た。
質量スペクトル
m/z 437,422,276,133,73
以上の結果より、得られた化合物はビス[3−(メチルジエトキシシリル)プロピル]トリメチルシリルアミンであることが確認された。
Claims (3)
- 一般式(2)で示される化合物1モルに対し、一般式(3)で示される化合物1〜4モル、白金触媒0.000001〜0.01モルを用いて、反応温度20〜100℃、反応時間1〜20時間で反応させる請求項2記載の製造方法。
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JPH1017578A (ja) * | 1996-07-01 | 1998-01-20 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 3−アミノプロピルアルコキシシラン化合物の製造方法 |
JP2000302792A (ja) * | 1999-04-19 | 2000-10-31 | Ck Witco Corp | ビス−シリル第3級アミン類 |
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