JP4641266B2 - Deaeration and foreign substance removal device - Google Patents
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Description
本発明は、被処理液中から気体を脱気すると共に、被処理液中の異物を除去する脱気兼異物除去装置に関する。 The present invention relates to a degassing / foreign substance removing apparatus for degassing a gas from a liquid to be treated and removing foreign substances in the liquid to be treated.
精密部品等の被洗浄物を洗浄する際に、超音波洗浄法が用いられる。
洗浄液に超音波振動を与えると液内に疎密波が形成される。疎密波の「疎」の状態において、液体が蒸気圧以下まで減圧され、それによりこの液体が気化した泡が生じる(キャビテーション)。次に、泡のある部分が「密」の状態になると、この泡が周囲の液体に押されることより液化を伴いつつ急激に圧縮され、この時に液体内での音速よりも速い速度で液体が移動することにより衝撃波が発生する。この衝撃波により、被洗浄物の表面の汚れが落とされる。
When cleaning an object to be cleaned such as a precision part, an ultrasonic cleaning method is used.
When ultrasonic vibration is applied to the cleaning liquid, a dense wave is formed in the liquid. In the “sparse” state of the sparse / dense wave, the liquid is depressurized to a vapor pressure or less, thereby generating bubbles in which the liquid is vaporized (cavitation). Next, when the part with bubbles becomes “dense”, the bubbles are compressed rapidly while being liquefied by being pushed by the surrounding liquid, and at this time the liquid is at a speed higher than the speed of sound in the liquid. A shock wave is generated by the movement. Due to this shock wave, the surface of the object to be cleaned is cleaned.
洗浄液中に酸素等の気体が溶解していると、「疎」の状態において生じる泡に、液体が気化した気体のみならずこの溶解気体も混入する。この場合、「密」の状態において泡が圧縮されても溶解気体は液化せずに残り、疎密波による振動を溶解気体が吸収してしまう。そのため、衝撃波が生成され難くなり、被洗浄物の洗浄効率が低下する。
そこで、従来より、超音波洗浄による洗浄効率を高めるために、洗浄液中の気体を除去すること(脱気)が行われている。
When a gas such as oxygen is dissolved in the cleaning liquid, not only the gas in which the liquid is vaporized but also this dissolved gas is mixed in the bubbles generated in the “sparse” state. In this case, even if the bubbles are compressed in the “dense” state, the dissolved gas remains without being liquefied, and the dissolved gas absorbs vibration due to the dense wave. Therefore, it becomes difficult to generate shock waves, and the cleaning efficiency of the object to be cleaned decreases.
Therefore, conventionally, removal of gas in the cleaning liquid (degassing) has been performed in order to increase the cleaning efficiency by ultrasonic cleaning.
また、一般に洗浄液は使い捨てではなく、繰り返し使用される。しかし、繰り返し使用された洗浄液には被洗浄物の表面から離脱した異物が混入しているため、異物が再付着して被洗浄物を汚染するおそれがある。そこで、使用済みの洗浄液を再使用する前に、洗浄液から異物を除去する必要がある。 In general, the cleaning liquid is not disposable but is used repeatedly. However, since the foreign matter separated from the surface of the object to be cleaned is mixed in the cleaning liquid that has been used repeatedly, the foreign object may reattach and contaminate the object to be cleaned. Therefore, it is necessary to remove foreign substances from the cleaning liquid before reusing the used cleaning liquid.
特許文献1には、洗浄液を貯留する洗浄槽と、洗浄液を循環させるためのポンプと、洗浄液を脱気するための脱気タンクと、洗浄液中の異物を除去するためのフィルタを備える、脱気兼異物除去装置付の洗浄装置が記載されている。この装置は、洗浄液が洗浄槽から、ポンプ、脱気タンク、フィルタの順でこれらを通過して洗浄槽に戻る流路を有する。しかし、この装置では、ポンプを通過する洗浄液は未だフィルタを通過しておらず異物を含んだままであるため、この異物の影響によりポンプが故障する恐れがある。
フィルタをポンプよりも上流側に設ければ、異物によるポンプの故障は防ぐことができる。しかし、その場合には、ポンプはフィルタの抵抗に抗して被処理液を吸引しなければならないことから、吸引力の大きいポンプを使用する必要があるため、コストが上昇してしまう。
Patent Document 1 includes a cleaning tank for storing cleaning liquid, a pump for circulating the cleaning liquid, a degassing tank for degassing the cleaning liquid, and a filter for removing foreign substances in the cleaning liquid. A cleaning device with a foreign substance removing device is described. This apparatus has a flow path in which the cleaning liquid passes through the cleaning tank, the pump, the degassing tank, and the filter in this order and returns to the cleaning tank. However, in this apparatus, since the cleaning liquid that passes through the pump has not yet passed through the filter and contains foreign substances, the pump may be damaged due to the influence of the foreign substances.
If the filter is provided on the upstream side of the pump, the failure of the pump due to foreign matter can be prevented. However, in that case, since the pump must suck the liquid to be treated against the resistance of the filter, it is necessary to use a pump having a large suction force, which increases the cost.
一方、特許文献2には、洗浄槽と、洗浄液を貯留して内部を減圧することにより洗浄液を脱気する脱気槽と、前記減圧に用いるエゼクタを備える脱気装置付の洗浄装置が記載されている。ここで、脱気槽は、その内部に貯留される洗浄液の液面の下限が洗浄槽の液面の上限よりも高い位置になるように設けられる。また、この装置は、洗浄槽から脱気槽を経て洗浄槽に戻る流路を有する。なお、この装置には洗浄液中の異物を除去する装置は設けられていない。
この装置ではまず、エゼクタを用いて脱気槽内を減圧することにより、洗浄槽内の洗浄液を脱気槽内に導入する。脱気槽内の洗浄液が所定の量になった時、脱気槽内が大気圧に開放される。この時、脱気槽内の液面が洗浄槽の液面よりも高い位置にあるため、脱気槽内の洗浄液は洗浄槽に返送される。この装置では異物の除去は行わないが、流路中にポンプがないため、異物の影響によりポンプが故障するという問題は生じない。
しかし、この装置では、脱気槽から洗浄槽へ洗浄液を返送する時に洗浄液を大気に晒すため、洗浄液に再度気体が混入してしまう、という問題が生じる。また、返送中は脱気処理を行わないため、脱気の効率が低い、という欠点もある。
On the other hand, Patent Literature 2 describes a cleaning tank, a deaeration tank that stores the cleaning liquid and degass the inside by depressurizing the inside, and a cleaning device with a deaerator equipped with an ejector used for the depressurization. ing. Here, the deaeration tank is provided such that the lower limit of the liquid level of the cleaning liquid stored therein is higher than the upper limit of the liquid level of the cleaning tank. Further, this apparatus has a flow path that returns from the cleaning tank to the cleaning tank through the deaeration tank. Note that this apparatus is not provided with an apparatus for removing foreign substances in the cleaning liquid.
In this apparatus, first, the inside of the deaeration tank is decompressed using an ejector, thereby introducing the cleaning liquid in the cleaning tank into the deaeration tank. When the cleaning liquid in the deaeration tank reaches a predetermined amount, the inside of the deaeration tank is opened to atmospheric pressure. At this time, since the liquid level in the deaeration tank is higher than the liquid level in the cleaning tank, the cleaning liquid in the deaeration tank is returned to the cleaning tank. Although this apparatus does not remove foreign matter, there is no pump in the flow path, so there is no problem of pump failure due to the influence of foreign matter.
However, in this apparatus, since the cleaning liquid is exposed to the atmosphere when returning the cleaning liquid from the deaeration tank to the cleaning tank, there arises a problem that gas is mixed into the cleaning liquid again. Moreover, since the deaeration process is not performed during the return, there is a disadvantage that the efficiency of the deaeration is low.
本発明が解決しようとする課題は、被処理液の脱気を効率よく行うことができると共に、被処理液中の異物を除去することができ、それによりポンプの故障を防ぐことができる脱気兼異物除去装置を提供することにある。 The problem to be solved by the present invention is that the liquid to be treated can be efficiently degassed and foreign matters in the liquid to be treated can be removed, thereby preventing the pump from being broken. Another object is to provide a foreign matter removing apparatus.
上記課題を解決するために成された本発明に係る脱気兼異物除去装置は、被処理液を脱気処理すると共に、被処理液中の異物を除去する脱気兼異物除去装置において、
a) 被処理液を貯留する被処理液貯留槽と、
b) 内部に被処理液を導入して該内部を減圧にすることにより被処理液を脱気する脱気槽と、
c) 前記脱気槽内を減圧するエゼクタと、
d) 前記被処理液貯留槽から前記脱気槽に被処理液を送液する第1流路と前記脱気槽から前記被処理液貯留槽に被処理液を戻す第2流路から成る被処理液循環流路と、
e) 前記第1流路中に設けた被処理液の濾過装置と、
f) 前記第2流路中に設けた、前記エゼクタによる減圧に抗して前記脱気槽から被処理液を吸引可能な送液ポンプと、
を備え、被処理液は、前記被処理液貯留槽から脱気槽までは前記エゼクタを用いて脱気槽内を減圧することにより送液され、前記脱気槽から被処理液貯留槽までは前記送液ポンプを用いることにより送液されることを特徴とする。
In order to solve the above problems, the deaeration and foreign matter removal apparatus according to the present invention is a deaeration and foreign matter removal apparatus that removes foreign matter in a liquid to be treated while degassing a liquid to be treated.
a) A liquid storage tank for storing the liquid to be processed;
b) a degassing tank for degassing the liquid to be treated by introducing the liquid to be treated and depressurizing the inside;
c) an ejector for decompressing the inside of the deaeration tank;
d) A first flow path for feeding a liquid to be treated from the liquid tank to be treated to the deaeration tank and a second flow path for returning the liquid to be treated from the deaeration tank to the liquid tank to be treated. A treatment liquid circulation channel;
e) an apparatus for filtering a liquid to be treated provided in the first flow path;
f) a liquid feed pump provided in the second flow path, capable of sucking the liquid to be treated from the deaeration tank against pressure reduction by the ejector;
The liquid to be processed is fed from the liquid storage tank to the degassing tank by depressurizing the inside of the degassing tank using the ejector, and from the degassing tank to the liquid storage tank to be processed. Liquid feeding is performed by using the liquid feeding pump .
この脱気兼異物除去装置は更に、
前記エゼクタを作動させるための作動用液を貯留する作動用液貯留槽と、
前記作動用液貯留槽からエゼクタを経て該作動用液貯留槽に戻る作動用液循環流路と、
前記作動用液循環流路中に設けた作動用液循環ポンプと、
前記第2流路と前記作動用液貯留槽を接続する作動用液補充流路と、
前記作動用液貯留槽内の作動用液が所定の残量以下になった時に、被処理液を作動用液として液補充流路から作動用液貯留槽に供給する液補充制御部と、
から成る作動用液循環装置を備えることができる。
This deaeration and foreign matter removal device further includes
An operating liquid storage tank for storing an operating liquid for operating the ejector;
A working fluid circulation channel that returns from the working fluid reservoir to the working fluid reservoir via an ejector;
A working fluid circulation pump provided in the working fluid circulation channel;
A working liquid replenishing flow path connecting the second flow path and the working liquid storage tank;
A liquid replenishment control unit that supplies the liquid to be treated from the liquid replenishment channel to the working liquid storage tank as the working liquid when the working liquid in the working liquid storage tank becomes a predetermined remaining amount or less;
An operating fluid circulation device can be provided.
本発明に係る脱気兼異物除去装置では、被処理液は被処理液貯留槽から第1流路(及びその途中にある濾過装置)、脱気槽、第2流路(及びその途中にある送液ポンプ)を通って被処理液貯留槽に戻る被処理液循環流路を流れる。その間に、濾過装置で異物除去処理が行われ、脱気槽で脱気処理が行われる。 In the degassing / foreign substance removing apparatus according to the present invention, the liquid to be processed is from the liquid storage tank to the first flow path (and the filtration device in the middle), the degassing tank, and the second flow path (and in the middle). It flows through the liquid circulation path to be processed and returns to the liquid storage tank through the liquid feed pump. In the meantime, the foreign substance removal process is performed in the filtration device, and the deaeration process is performed in the deaeration tank.
被処理液は、被処理液貯留槽から脱気槽まではエゼクタを用いて脱気槽内を減圧することにより、脱気槽から被処理液貯留槽までは送液ポンプを用いることにより、それぞれ送液される。送液ポンプは、エゼクタにより減圧された脱気槽から被処理液を吸引することができるだけの能力を有するものを用いる。これらエゼクタ及び送液ポンプはいずれも安価であるため、脱気兼異物除去装置のコストが抑えられる。送液ポンプには濾過装置により異物除去処理がなされた後の被処理液しか通過しないため、異物による故障を防ぐことができる。また、本発明の脱気兼異物除去装置では、脱気槽中で脱気処理がなされた被処理液は送液ポンプにより連続的に取り出されるため、脱気処理を中断することなく効率よく行うことができる。 The liquid to be processed is reduced from the liquid tank to be processed to the deaeration tank by depressurizing the inside of the deaeration tank using an ejector, and from the deaeration tank to the liquid storage tank to be processed by using a liquid feed pump, The liquid is sent. A liquid feed pump having a capacity capable of sucking the liquid to be processed from the deaeration tank decompressed by the ejector is used. Since both the ejector and the liquid feed pump are inexpensive, the cost of the deaeration and foreign matter removing apparatus can be reduced. Since only the liquid to be processed after the foreign substance removal process is performed by the filtration device passes through the liquid feed pump, it is possible to prevent a failure due to the foreign substance. Further, in the degassing / foreign substance removing apparatus of the present invention, the liquid to be treated that has been degassed in the degassing tank is continuously taken out by the liquid feed pump, so that the degassing process is efficiently performed without interruption. be able to.
本発明の脱気兼異物除去装置には更に、前記送液ポンプの下流側に吐出される被処理液の圧力を調整する吐出圧調整部を設けることができる。吐出圧を調整することにより、被処理液が十分に脱気がされないまま脱気槽から送出されることを防ぐことができる。吐出圧の大きさは予備実験により求めておくことができる。 The degassing / foreign substance removing apparatus of the present invention may further include a discharge pressure adjusting unit that adjusts the pressure of the liquid to be processed discharged downstream of the liquid feed pump. By adjusting the discharge pressure, the liquid to be treated can be prevented from being sent out from the deaeration tank without being sufficiently deaerated. The magnitude of the discharge pressure can be obtained by a preliminary experiment.
前記作動用液循環装置はエゼクタを作動させるための装置である。この作動用液循環装置では、作動用液貯留槽内の作動用液が所定の量以下になると、前記第2流路から被処理液の一部を取り出して、液補充流路から作動用液貯留槽に供給することにより、被処理液を作動用液として補充する。ここで第2流路から取り出される被処理液は既に異物が除去された後の液であるため、作動用液を循環させるための作動用液循環ポンプが異物により故障することはない。この作動用液循環装置を用いることにより、作動用液が蒸発等により減少しても、作動用液を自動的に補充することができる。 The operating fluid circulation device is a device for operating the ejector. In this working liquid circulation device, when the working liquid in the working liquid storage tank becomes a predetermined amount or less, a part of the liquid to be treated is taken out from the second flow path, and the working liquid is taken out from the liquid replenishing flow path. By supplying it to the storage tank, the liquid to be treated is replenished as a working liquid. Here, since the liquid to be treated taken out from the second flow path is the liquid after the foreign matters have been removed, the working liquid circulation pump for circulating the working liquid does not break down due to the foreign matters. By using this working fluid circulation device, the working fluid can be automatically replenished even if the working fluid is reduced by evaporation or the like.
本発明に係る脱気兼異物除去装置の一実施例を、図1を用いて説明する。この装置は、被処理液貯留槽11に貯留された洗浄液(被処理液)の脱気処理及び異物除去処理を行うためのものである。なお、図1では、液体の流路を太線で、気体の流路を二重線で、それぞれ示した。
被処理液貯留槽11内の底付近には、内部の被処理液を取り出すための吸引口111と、脱気及び異物除去処理がなされた被処理液を被処理液貯留槽11に戻すための吐出口112が、互いに対向するように配置されている。吸引口111は異物を除去するためのフィルタ12の流入口に接続され、フィルタ12の流出口は脱気槽13の流入口に接続される。脱気槽13の流出口は送液ポンプ14に接続されている。送液ポンプ14の出口側には圧力調整バルブ151、圧力計152及びフローメータ153から成る吐出圧調整部15が設けられている。吐出圧調整部15の出口側は被処理液貯留槽11内の吐出口112と接続される送出管161と脱気槽13に接続される還流管162に分岐しており、送出管161には送出バルブ171が、還流管162側には還流バルブ172が、それぞれ接続される。
An embodiment of the deaeration and foreign matter removing apparatus according to the present invention will be described with reference to FIG. This apparatus is for performing deaeration processing and foreign matter removal processing of the cleaning liquid (processing liquid) stored in the processing
Near the bottom of the
脱気槽13は逆止弁18を介してエゼクタ21に接続される。エゼクタ21は後述の作動用液循環装置20内に設けられており、作動用液体が通過することにより脱気槽13内の気体を吸引するものである。また、脱気槽13の流入口には、脱気槽13内の被処理液の液面を所定の高さになるように調整するボールタップ131が設けられている。
The
本実施例の脱気兼異物除去装置の動作を説明する。まず、準備段階として、以下のようにして脱気槽13内に被処理液を貯留させる。
後述のように作動用液循環装置20を動作させることにより脱気槽13内の気体をエゼクタ21により吸引する。これにより、被処理液貯留槽11中の被処理液は吸引口111からフィルタを通過して脱気槽13内に導入される。脱気槽13内の被処理液の液面が所定の高さに達すると、ボールタップ131の動作により脱気槽13の流入口は閉鎖され、脱気槽13内への被処理液の流入は一旦停止する。また、脱気槽13と逆止弁18の間に設けた脱気吸引バルブ132を閉鎖して、脱気槽13に設けたリークバルブ133を開放することにより、脱気槽13内の圧力を一旦大気圧に戻す。
The operation of the deaeration and foreign matter removal apparatus of this embodiment will be described. First, as a preparation stage, the liquid to be treated is stored in the
The gas in the
次に、送出バルブ171を閉鎖した状態で還流バルブ172を開放し、送液ポンプ14を作動させる。そして、圧力計152の指針を確認しながら圧力調整バルブ151の開度を変更することにより、送液ポンプ14から吐出される被処理液の吐出圧を調整する。本実施例では吐出圧は、エゼクタによる圧力の減少分である0.10MPaよりもやや大きい、0.15MPaに設定した。
Next, with the
次に、リークバルブ133を閉鎖して脱気吸引バルブ132を開放すると共に、還流バルブ172を閉鎖して送出バルブ171を開放する。これにより、エゼクタ21によって脱気槽13内が減圧され、処理液が脱気される。また被処理液は、エゼクタ21による減圧のため被処理液貯留槽11からフィルタ12を通って脱気槽13内に導入されると共に、送液ポンプ14により脱気槽13内から排出されて被処理液貯留槽11に返送される。その際、被処理液貯留槽11内では、被処理液が吐出口112からそれに対向した吸引口111に向かって吐出されることにより、被処理液貯留槽11の底に沈澱した異物は吸引口111側に移動するため、被処理液貯留槽11からの異物除去の効率は更に高まる。
こうして被処理液はフィルタ12及び脱気槽13を通る流路を循環し、フィルタ12において被処理液内の異物が除去されると共に、脱気槽13において脱気処理がなされる。
Next, the
In this way, the liquid to be treated circulates in the flow path passing through the
エゼクタ21及び送液ポンプ14の動作により、脱気槽13においては被処理液が連続的に供給及び排出される。そのため、脱気処理が中断されることがなく、脱気処理の効率が高い。また、送液ポンプ14から吐出される被処理液の吐出圧が前述のように吐出圧調整部15により設定されているため、被処理液が十分に脱気がされないまま脱気槽13から送出されることを防ぐことができる。
By the operation of the
次に、作動用液循環装置20について説明する。作動用液循環装置20は、作動用液循環流路24中にエゼクタ21、作動用液貯留槽22及び作動用液循環ポンプ23を設けたものである。作動用液循環ポンプ23を動作させて作動用液循環流路24に作動用液を循環させることにより、エゼクタ21を作動用液が通過し、それによりエゼクタ21は脱気槽13内の気体を吸引する。作動用液には被処理液と同じものを用いる。
Next, the working
また、作動用液貯留槽22には、作動用液貯留槽22と送出管161を結ぶ作動用液補充管25が設けられると共に、作動用液貯留槽22内に作動用液ボールタップ26が設けられている。そのため、作動用液の蒸発等により作動用液が減少したとしても、作動用液ボールタップ26が動作し、送出管161内を流れる被処理液が自動的に作動用液として作動用液貯留槽22内に補充される。
The working
11…被処理液貯留槽
111…吸引口
112…吐出口
12…フィルタ
13…脱気槽
131…ボールタップ
132…脱気吸引バルブ
133…リークバルブ
14…送液ポンプ
15…吐出圧調整部
151…圧力調整バルブ
152…圧力計
153…フローメータ
161…送出管
162…還流管
171…送出バルブ
172…還流バルブ
18…逆止弁
20…作動用液循環装置
21…エゼクタ
22…作動用液貯留槽
23…作動用液循環ポンプ
24…作動用液循環流路
25…作動用液補充管
26…作動用液ボールタップ
DESCRIPTION OF
Claims (3)
a) 被処理液を貯留する被処理液貯留槽と、
b) 内部に被処理液を導入して該内部を減圧にすることにより被処理液を脱気する脱気槽と、
c) 前記脱気槽内を減圧するエゼクタと、
d) 前記被処理液貯留槽から前記脱気槽に被処理液を送液する第1流路と前記脱気槽から前記被処理液貯留槽に被処理液を戻す第2流路から成る被処理液循環流路と、
e) 前記第1流路中に設けた被処理液の濾過装置と、
f) 前記第2流路中に設けた、前記エゼクタによる減圧に抗して前記脱気槽から被処理液を吸引可能な送液ポンプと、
を備え、被処理液は、前記被処理液貯留槽から脱気槽までは前記エゼクタを用いて脱気槽内を減圧することにより送液され、前記脱気槽から被処理液貯留槽までは前記送液ポンプを用いることにより送液されることを特徴とする脱気兼異物除去装置。 In the deaeration and foreign matter removing apparatus for removing the foreign matter in the liquid to be treated while degassing the liquid to be treated,
a) A liquid storage tank for storing the liquid to be processed;
b) a degassing tank for degassing the liquid to be treated by introducing the liquid to be treated and depressurizing the inside;
c) an ejector for decompressing the inside of the deaeration tank;
d) A first flow path for feeding a liquid to be treated from the liquid tank to be treated to the deaeration tank and a second flow path for returning the liquid to be treated from the deaeration tank to the liquid tank to be treated. A treatment liquid circulation channel;
e) an apparatus for filtering a liquid to be treated provided in the first flow path;
f) a liquid feed pump provided in the second flow path, capable of sucking the liquid to be treated from the deaeration tank against pressure reduction by the ejector;
The liquid to be processed is fed from the liquid storage tank to the degassing tank by depressurizing the inside of the degassing tank using the ejector, and from the degassing tank to the liquid storage tank to be processed. A degassing / foreign matter removing apparatus, wherein liquid is fed by using the liquid feeding pump .
前記作動用液貯留槽からエゼクタを経て該作動用液貯留槽に戻る作動用液循環流路と、
前記作動用液循環流路中に設けた作動用液循環ポンプと、
前記第2流路と前記作動用液貯留槽を接続する作動用液補充流路と、
前記作動用液貯留槽内の作動用液が所定の残量以下になった時に、被処理液を作動用液として液補充流路から作動用液貯留槽に供給する液補充制御部と、
から成る作動用液循環装置を備えることを特徴とする請求項1又は2に記載の脱気兼異物除去装置。 An operating liquid storage tank for storing an operating liquid for operating the ejector;
A working fluid circulation channel that returns from the working fluid reservoir to the working fluid reservoir via an ejector;
A working fluid circulation pump provided in the working fluid circulation channel;
A working liquid replenishing flow path connecting the second flow path and the working liquid storage tank;
A liquid replenishment control unit that supplies the liquid to be treated from the liquid replenishment channel to the working liquid storage tank as the working liquid when the working liquid in the working liquid storage tank becomes a predetermined remaining amount or less;
The degassing / foreign matter removing device according to claim 1, further comprising a working fluid circulation device.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006027834A JP4641266B2 (en) | 2006-02-06 | 2006-02-06 | Deaeration and foreign substance removal device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006027834A JP4641266B2 (en) | 2006-02-06 | 2006-02-06 | Deaeration and foreign substance removal device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007203262A JP2007203262A (en) | 2007-08-16 |
JP4641266B2 true JP4641266B2 (en) | 2011-03-02 |
Family
ID=38483190
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006027834A Active JP4641266B2 (en) | 2006-02-06 | 2006-02-06 | Deaeration and foreign substance removal device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4641266B2 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6858432B1 (en) * | 2020-10-09 | 2021-04-14 | 井上商事株式会社 | How to use the liquid pumping device and the liquid pumping device |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2733552B2 (en) * | 1988-06-21 | 1998-03-30 | オルガノ株式会社 | Boiler water supply |
JPH0721201Y2 (en) * | 1991-07-12 | 1995-05-17 | 東京瓦斯株式会社 | Dissolved air separation and removal device |
-
2006
- 2006-02-06 JP JP2006027834A patent/JP4641266B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007203262A (en) | 2007-08-16 |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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