JP4636575B2

JP4636575B2 - トンネル・コンタクト・ホール・ソースを有する半導体装置及び方法

Info

Publication number: JP4636575B2
Application number: JP2000504609A
Authority: JP
Inventors: ニックジュニアホロニャック; ジョナサンジェイ．ウィラー; ピーターダブリュ．エバンス
Original assignee: ザボードオブトラスティースオブザユニバーシティオブイリノイ
Priority date: 1997-07-22
Filing date: 1998-07-21
Publication date: 2011-02-23
Anticipated expiration: 2018-07-21
Also published as: JP2001511604A; US5936266A; EP1025593A4; CA2297037C; CA2297037A1; EP1025593A1; WO1999005726A1

Description

【０００１】
本発明は、米国政府の支援を得て、ＡｒｍｙＲｅｓｅａｒｃｈＯｆｆｉｃｅの契約ＤＡＡＨ０４−９６−１−０３３号、ＤＡＲＰＡＣｅｎｔｅｒｏｆＯｐｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓＳｃｉｅｎｃｅａｎｄＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙの契約ＭＤＡ９７２−９４−１−００４号、およびＮａｔｉｏｎａｌＳｃｉｅｎｃｅＦｏｕｎｄａｔｉｏｎの補助金ＳＢＣＵＴＣ−９７−００８０号の下で実施された。米国政府は、本発明に対して一定の権利を有する。
【０００２】
（発明の分野）
本発明は、半導体デバイスおよび方法に関する。本発明は、半導体レーザおよび半導体発光ダイオード（ＬＥＤ）を含むＩＩＩ−Ｖ族半導体発光デバイスに対して特に有利に適用できる。
【０００３】
（発明の背景）
多くの半導体デバイス中には、かなりの量のｎ型半導体材料（すなわちドナー不純物がドープされ、電子が多数キャリヤである半導体）およびｐ型半導体材料（すなわちアクセプタ不純物がドープされ、正孔［価電子の不足］が多数キャリヤである半導体）が存在する。ＩＩＩ−Ｖ族半導体発光デバイス（例えばレーザ、ＬＥＤなど）では、ｎ型半導体領域とｐ型半導体領域の間に活性領域が配置される。電位が印加されると、ｐ型半導体材料から活性領域に入った正孔がｎ型半導体材料から活性領域に入った電子と再結合し、光子が放出される。
【０００４】
ｐ型材料はｎ型材料に比べていくつかの点で作業が困難であり、その動作も、キャリヤの移動度および全体的な電気効率に関して、対応するｎ型材料よりも劣る傾向がある。したがってＩＩＩ−Ｖ族発光デバイスなどの半導体デバイスの製造では、ｎ型半導体材料の使用を選択したほうが望ましい場合が多い。しかし、このようなデバイスの基板および半導体ボリュームの牽引的大半はｎ型半導体またはドープしていない半導体であるかもしれないが、一般的には、さまざまな半導体デバイスの正孔電流ソースとして相当量のｐ型材料が必要であると考えられている。後に詳しく説明するように、あるデバイスでｐ型材料を使用することの不利は、電流がプレーナ・デバイスのｐ型層を横方向に流れなければならないときにいっそう際立つ。
【０００５】
本発明の目的の１つは、ある適用業務に必要なｐ型材料の量を減らすことによって、半導体デバイスおよび方法を改良することにある。
【０００６】
（発明の概要）
本発明は、ｐ型材料の量を最小限に抑えることができ、これに付随して電気的、熱的および光学的性能面での利点、ならびに製造上の利点が得られる半導体デバイスおよび方法を対象とする。
【０００７】
本発明の一形態は、ｐ型半導体材料の層がｎ型半導体材料の層の上に（直接に、または１つまたは複数の層を介して）配置され、電位がｐ型層とｎ型層の間に結合され、デバイス中を流れるこれらの層の面に対して横方向の電流がｐ型層に結合される、一般に平坦な半導体デバイスを対象とする。本発明のこの形態の改良は、ｐ型層に隣接し、横方向の電流を正孔電流に変換するトンネル接合を含む。本発明のこの形態の一実施形態では、トンネル接合が、ｐ＋部分が前記ｐ型層に隣接する向きのｎ＋／ｐ＋接合である。［表記「＋」は従来どおり「濃いドープ」を意味し、本明細書の目的上、ｎ＋ではドナー不純物濃度が一般に少なくとも約１０^１８／ｃｍ^３、ｐ＋では、アクセプタ不純物濃度が少なくとも約１０^１９／ｃｍ^３である。］横方向電流は、前記ｎ＋層の電子流、および／またはトンネル接合の上に配置された別のｎ型材料層の電子流である。
【０００８】
ＧａＡｓのｎ＋／ｐ＋接合でのトンネリングはよく知られており（例えば、Ｎ．Ｈｏｌｏｎｙａｋ，Ｊｒ．ａｎｄＩ．Ａ．Ｌｅｓｋ，Ｐｒｏｃ．ＩＲＥ４８，１４０５，１９６０参照）、一般にその負性抵抗に関心が寄せられている。ＧａＡｓのトンネリングはＩｎＧａＡｓ遷移領域を用いると強化され（例えばＴ．Ａ．Ｒｉｃｈａｒｄ，Ｅ．Ｉ．Ｃｈｅｎ，Ａ．Ｒ．Ｓｕｇｇ，Ｇ．Ｅ．Ｈｏｆｌｅｒ，ａｎｄＮ．Ｈｏｌｏｎｙａｋ，Ｊｒ．，Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．６３，３６１３，１９９３参照）、その負性抵抗的ふるまいの他に、逆方向バイアスで「オーム」コンタクトとして使用することができる。これによって例えば、ｎ型ＧａＡｓ基板上に成長させるＡｌ_ｘＧａ_１−ｘＡｓ−ＧａＡｓ量子井戸ヘテロ構造レーザのドーピング順序の逆転（ｎ→ｐをｐ→ｎに）が可能となる（例えば、Ａ．Ｒ．Ｓｕｇｇ，Ｅ．Ｉ．Ｃｈｅｎ，Ｔ．Ａ．Ｒｉｃｈａｒｄ，Ｓ．Ａ．Ｍａｒａｎｏｗｓｋｉ，ａｎｄＮ．Ｈｏｌｏｎｙａｋ，Ｊｒ．，Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．６２，２５１０，１９９３参照）本発明の一形態は、ｐ型の第１の半導体層とｎ型の第２の半導体層の間に配置された半導体活性領域、前記第１の半導体層の上に配置されたトンネル接合手段、前記トンネル接合手段と前記第２の半導体層の間に電位を結合する手段、および前記トンネル接合手段中に横方向の電子流を生じさせる手段を備える半導体発光デバイス（例えば半導体レーザ、半導体発光ダイオードなど）を対象とする。
【０００９】
トンネル・コンタクト接合は、発光半導体デバイス中で正孔ソースとして使用することができ、これによって横方向のバイアス電流（電子流）で量子井戸ヘテロ構造（ＱＷＨ：ｑｕａｎｔｕｍｗｅｌｌｈｅｔｅｒｏｓｔｒｕｃｔｕｒｅ）レーザを駆動させることができ、薄いｐ型層中での横方向伝導の低い移動度および大きな抵抗電圧降下に対する妥協をせまられることがない。このことは、横方向バイアス電流を必要とする（例えばＰ．Ｗ．Ｅｖａｎｓ，Ｎ．Ｈｏｌｏｎｙａｋ，Ｊｒ．，Ｓ．Ａ．Ｍａｒａｎｏｗｓｋｉ，Ｍ．Ｊ．Ｒｉｅｓ，ａｎｄＥ．Ｉ．Ｃｈｅｎ，Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．６７，３１６８，１９９５参照）、上部および／または下部自然酸化物閉込め層を使用したＱＷＨレーザ構造（例えば、Ｍ．Ｄａｌｌｅｓａｓｓｅ，Ｎ．Ｈｏｌｏｎｙａｋ，Ｊｒ．，Ａ．Ｒ．Ｓｕｇｇ，Ｔ．Ａ．Ｒｉｃｈａｒｄ，ａｎｄＮ．ＥｌＺｅｉｎ，Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．５７，２８４４，１９９０；Ａ．Ｒ．Ｓｕｇｇ，Ｅ．Ｉ．Ｃｈｅｎ，Ｔ．Ａ．Ｒｉｃｈａｒｄ，Ｎ．Ｈｏｌｏｎｙａｋ，Ｊｒ．，ａｎｄＫ．Ｃ．Ｈｓｉｅｈ，Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．６２，１２５９，１９９３参照）、または、横方向正孔電流を使用した垂直共振器型面発光レーザ（ＶＣＳＥＬ：ｖｅｒｔｉｃａｌｃａｖｉｔｙｓｕｒｆａｃｅｅｍｉｔｔｉｎｇｌａｓｅｒ）などのデバイス（例えばＤ．Ｌ．Ｈｕｆｆｋｅｒ，Ｄ．Ｇ．Ｄｅｐｐｅ，ａｎｄＫ．Ｋｕｍａｒ，Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．６５，９７，１９９４参照）に特に有用である。層に沿った正孔伝導は、ＧａＡｓ中での低い正孔移動度のために大きなデバイス直列抵抗をもたらし、しきい電圧およびデバイスの加熱を増大させる。酸化物によって閉じ込められたＱＷＨのｐ側のトンネル・コンタクト接合を使用して、横方向の正孔励起電流を変位させることができる。正孔注入は横方向の電子流によって支えられ、これによって電圧降下および直列抵抗が小さくなる。本発明の目的は、ｐ型材料の量を最小限に抑え、可能な範囲で、ｎ型層（電子伝導）だけを使用してデバイス電流を流すことにある。損失の大きいｐ型材料の量を減らすことによる電気的および熱的性能上の利点に加えて、一般に同じ導電率であればｐ型材料はｎ型材料よりも、半導体発光デバイスで発生した光をよく吸収するため、光学的利点も生じる。反対に、トンネル・コンタクト接合は高濃度にドープされるため、過度の光吸収を避けるために比較的に薄くしなければならない。
【００１０】
本発明の他の特徴および利点は、以下の詳細な説明を添付図面と関連させて読むことによっていっそう容易に明らかとなろう。
【００１１】
（詳細な説明）
本発明の作業の初期の段階では、まず、標準的な量子井戸ヘテロ構造（ＱＷＨ）レーザの導波路活性領域の近くに濃くドープした領域、トンネル・コンタクト接合を導入する効果を調べるために、結晶を成長させた。結晶は、ｎ型ドーパントとしてＳｉ、ｐ型ドーパントとしてＣを用いたｎ型基板への金属有機化学蒸着（ＭＯＣＶＤ：ｍｅｔａｌｏｒｇａｎｉｃｃｈｅｍｉｃａｌｖａｐｏｒｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）によって成長させた［ＭＯＣＶＤの背景については、例えばＣ．Ｍ．Ｗｏｌｆｅ編「ＰｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓｏｆｔｈｅＩｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌＳｙｍｐｏｓｉｕｍｏｎＧａＡｓａｎｄＲｅｌａｔｅｄＣｏｍｐｏｕｎｄｓ」，ＩｎｓｔｉｔｕｔｅｏｆＰｈｙｓｉｃｓ，Ｌｏｎｄｏｎ，１９７９のｐｐ．１−９、Ｒ．Ｄ．Ｄｕｐｕｉｓ，Ｌ．Ａ．Ｍｏｕｄｙ，ａｎｄＰ．Ｄ．Ｄａｐｋｕｓ、およびＭ．Ｊ．Ｌｕｄｏｗｉｓｅ，Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．５８，Ｒ３１，１９８５を参照されたい］。最初にｎ＋ＧａＡｓバッファ層、次いで０．８μｍのｎ型Ａｌ_０．８５Ｇａ_０．１５Ａｓ層を成長させた。次に、Ｉｎ_１−ｙＧａ_ｙＡｓ（−９８０ｎｍ、ｙ＝−０．２）量子井戸（ＱＷ：ｑｕａｎｔｕｍｗｅｌｌ）を中心に有するドープしていないＧａＡｓ導波路領域（２４００Å）を成長させた。次いで、主にＡｌ_０．８５Ｇａ_０．１５Ａｓから成る０．８μｍの上部クラッド結晶を、導波路からの距離を変化させた（０．２、０．４、および０．８μｍ。図１の挿入部分参照）トンネル接合（ＴＪ：ｔｕｎｎｅｌｊｕｎｃｔｉｏｎ）を挿入して成長させた。ＴＪの直下のＱＷＨ結晶はｐ型、ＴＪの直上はｎ型である。底部から上部に向かってＴＪは、−３００Åのｐ＋（−１０^２０ｃｍ^−３）ＧａＡｓ、−１００Åのｎ＋（＞１０^１９ｃｍ^−３）Ｉｎ_０．１０Ｇａ_０．９０Ａｓ、および−３００Åのｎ＋（−１０^１９ｃｍ^−３）ＧａＡｓを含む。最後に、この結晶を１５００Åのｎ＋ＧａＡｓで覆った。クラッド層は７４０℃、導波路（ＷＧ：ｗａｖｅｇｕｉｄｅ）は６４０℃、ＴＪのｎ＋領域は５７０℃、ＴＪのｐ＋領域は５４０℃で成長させた。Ｖ／ＩＩＩ比は全て−４０であった。
【００１２】
ＱＷＨ結晶の表面に付着させたＳｉ_３Ｎ_４中に１５０μｍのストライプを画定し、次いで、エピタキシャル層側にＧｅ／Ａｕ／Ｎｉ／Ａｕ、基板側にＧｅ／Ａｕを蒸着、合金化（３７５℃、１０秒）することによって、ブロード・エリア・レーザを製作した。この結晶を、切断し、ダイシングし、パルス（２マイクロ秒、１％デューティ・サイクル）動作条件下（３００Ｋ）でプローブした。共振器長の逆数（１／Ｌ）に対するしきい値電流密度（Ｊ_ｔｈ）を測定し、図１に示した。予想されたとおり、ＴＪをＷＧおよびＱＷに近づけた場合、吸収損の増大および導波路構造の非対称性のために、しきい値電流密度は増大した。標準的なＱＷＨレーザ導波路に０．２μｍまで近づけたＴＪでは、０．８μｍ離れたところに位置するＴＪに比べ、しきい値電流密度は２倍に増大しただけであった。ＴＪコンタクトに起因する電流しきい値に対する妥協は比較的に小さいものであった。
【００１３】
加工して埋込み酸化物アパーチャおよび酸化物クラッドを形成することができる別の結晶を成長させた。図２および３を参照する。図３は詳細に、図２は動作の説明を容易にするために単純化して示されている。基板層およびバッファ層（それぞれ図３の１０２および１０３）は、先に説明したとおり、ｎ型ＧａＡｓ層とすることができる。ｎ型の下部閉込め層は、３０００ÅのＡｌ_０．６Ｇａ_０．４Ａｓ（層１０５）、１５００ÅのＡｌ_０．９８Ｇａ_０．０２Ａｓ（層１０７。下部酸化物クラッド層）、および２０００ÅのＡｌ_０．６Ｇａ_０．４Ａｓ（層１１０）を含む。両側の１２００ÅのＧａＡｓの間にＩｎ_ｙＧａ_１−ｙＡｓのＱＷ（−９８０ｎｍ、ｙ＝−０．２）を挟み込んだドープしていない導波路（ＷＧ）領域（１１５）を成長させた。後に埋込み酸化物アパーチャに変換するｐ型層をこの活性領域の上に成長させた。この層は、−６００ÅのＡｌ_０．９５Ｇａ_０．０５Ａｓ（層１２２。後段の変換用）から成り、両側に−１００ÅのＡｌ_０．６Ｇａ_０．４Ａｓ（層１１９および１２６）およびＡｌ_０．３Ｇａ_０．７Ａｓ（層１１７および１２８）を有する。次に、−１００Åのｐ＋ＧａＡｓ（層１３１）、−１００Åのｎ＋Ｉｎ_０．１０Ｇａ_０．９０Ａｓ（層１３２）および−１００Åのｎ＋ＧａＡｓ（層１３３）を含む正孔注入用のＴＪを成長させた。続いて、−３００ÅのＡｌ_０．３Ｇａ_０．７Ａｓ（層１４１）、−３００ÅのＡｌ_０．６Ｇａ_０．４Ａｓ（層１４３）および２０００ÅのＡｌ_０．８５Ｇａ_０．１５Ａｓ（層１４６。上部酸化物クラッド）を含むｎ型上部閉込め層を成長させた。この結晶を、１５００Åのｎ＋ＧａＡｓ（層１５０）で覆った。
【００１４】
図２および３の酸化物画定ＱＷＨレーザとするため、レーザ製造を、Ｓｉ_３Ｎ_４の付着から再度開始し、次いでこれを、−１１μｍ（中心−中心）離れた幅−４μｍの２本のストライプにパターン形成する。フォトリソグラフィおよび湿式エッチング（Ｈ_２ＳＯ_４：Ｈ_２Ｏ_２：Ｈ_２０，１：８：８０）を用いて、横方向に酸化する異なる層を、外縁およびＳｉ_３Ｎ_４ストライプの間に露出させる。一方の外縁は、アパーチャの深さをちょうど超える深さまでエッチングし、もう一方の縁は、下部酸化物クラッド層を超える深さまでエッチングする。ストライプの間は、１５００ÅのＧａＡｓキャップ層のみを除去（エッチング）し、上部のＡｌ_０．８５Ｇａ_０．１５Ａｓを酸化のために露出させる。この結晶を次いで、Ｈ_２０蒸気を含むＮキャリヤ・ガスが供給された開管炉中で酸化させる（４３０℃、３５分）。［例えば、Ｍ．Ｄａｌｌｅｓａｓｓｅ，Ｎ．Ｈｏｌｏｎｙａｋ，Ｊｒ．，Ａ．Ｒ．Ｓｕｇｇ，Ｔ．Ａ．Ｒｉｃｈａｒｄ，ａｎｄＮ．Ｅｌ−Ｚｅｉｎ，Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．５７，２８４４（１９９０）を参照されたい。］
【００１５】
酸化後のデバイスの断面の走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）像を図４に示す。図４の矢印は、層に沿った酸化方向を示すために傾斜している。アパーチャ層は、両方の外縁から横方向に酸化され、活性領域（ＷＧ＋ＱＷ）の直上に−３．５μｍの電流アパーチャが形成される（例えば、Ｓ．Ａ．Ｍａｒａｎｏｗｓｋｉ，Ａ．Ｒ．Ｓｕｇｇ，Ｅ．Ｉ．Ｃｈｅｎ，ａｎｄＮ．Ｈｏｌｏｎｙａｋ，Ｊｒ．，Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．６３，１６６０，１９９３参照）。下部クラッドは一方の縁（図４の右側）からのみ横方向に酸化され、一方、上部Ｓｉ_３Ｎ_４画定ストライプの縁間のＡｌ_０．８５Ｇａ_０．１５Ａｓ層（１４６）は、表面から下方に、Ｓｉ_３Ｎ_４ストライプおよびキャップ層の下側にわずかに回り込んで酸化される。この酸化パターンによって、酸化物によって画定された電流アパーチャならびに上部および下部酸化物クラッドが形成され、レーザ動作が横方向の電流に依存するデバイスが得られる。励起に必要なのは、移動度の高いｎ型層中の横方向電子流（Ｉ_ｎ，図２および図３）だけである。これは、ＴＪを駆動する電流を含み、駆動されたＴＪは、活性領域の直上の少量のｐ型結晶に対して正孔を供給する。比較のために、下部酸化物クラッドがない他は同じ別のデバイスを同様に製作した。これによって、横方向の電子バイアス電流でのＴＪのふるまいのみを見ることができる。
【００１６】
酸化物画定レーザの製造を完了させるため、まず２本のＳｉ_３Ｎ_４ストライプを除去し、次いでキャップ層およびその間の空間をフォトレジストで覆った。次に１５００ÅのＳｉＯ_２をこの結晶の上に電子ビーム蒸着し、フォトレジストの上のＳｉＯ_２をリフトオフした。これによって浅い側のメサ（ＴＪの上）が埋められ、デバイスの短絡が防止される。Ｓｉ_３Ｎ_４を除去し、メサおよび浅くエッチングした側の縁の上の結晶のエピタキシャル側の上にＧｅ／Ａｕ／Ｎｉ／Ａｕを蒸着し、基板側の上にＧｅ／Ａｕを蒸着させた。両方のコンタクト（１６８、１６２）を３７５℃で１０秒間、合金化した。ダイオードを、ウェーハから切り離し、ダイシングして、パルス動作でプローブするか、または、インコート銅ヒート・シンクの上に取り付けて（エピタキシャル層側）、連続（ＣＷ）動作させる。
【００１７】
図５に、室温でのパルス条件下での３セットのデバイスの１／Ｌに対するＱＷＨレーザしきい値電流密度Ｊ_ｔｈを示す。全てのデバイスは同じ結晶を基にしたものであり、（ａ）は幅１５０μｍのブロード・エリア・レーザ（酸化なし）を表し、（ｂ）は、上部クラッドだけを酸化した酸化物アパーチャ・レーザ（幅＝３．８μｍ）、（ｃ）は、両方のクラッドを酸化した酸化物アパーチャ・レーザである。ブロード・エリア・レーザの性能（低しきい値）は、結晶の品質が良好であることを示す。酸化物画定電流アパーチャを作成し、上部クラッド層を酸化させる（ｂ）ことによる、しきい値電流の増大は、（ａ）に比べ−１００Ａ／ｃｍ^２に過ぎなかった。このことは、大きな追加直列抵抗、電圧降下、加熱またはしきい値電流の増大というペナルティを生じさせずに正孔注入を実施するのに横方向電子流およびＴＪが有効であることを指示している。また、下部酸化物クラッドを追加することによってしきい値電流はさらに増大したが、その量は比較的に小さかった。
【００１８】
酸化物クラッドおよび酸化物画定電流を導入すること、したがって横方向のバイアス電流を強制することによってこれらのデバイスに追加される直列抵抗を調べるため、（ａ）１５０μｍブロード・エリア・レーザ、（ｂ）酸化物画定アパーチャおよび上部酸化物クラッドを有するＱＷＨレーザ、（ｃ）上部および下部酸化物クラッドを有する他は（ｂ）と同じＱＷＨレーザの電流−電圧（Ｉ−Ｖ）特性を比較し、その結果を図６に示した。ブロード・エリア・レーザ（横方向電流なし）は１．０Ｖでターンオンし、直列抵抗はＲ_ｓ＝１０Ωであった。（ｂ）のダイオードはこれよりもわずかに高く１．２Ｖでターンオンし、その直列抵抗は（幅が小さいにも関わらず）−１５Ωだけであり、（ｃ）のターンオン電圧もほぼ同じで、Ｒ_ｓ＝２０Ωとわずかに大きい直列抵抗を示した。このことから、横方向電流によって追加される直列抵抗および追加電圧降下は小さいこと、および、ＴＪが、横方向電流動作（すなわち電流の広がりの達成）に有効であることが分かった。
【００１９】
Ｉ−Ｖ特性を図６（ｃ）に示したダイオードは、しきい値電流１０ｍＡ（データは示さず）、出力１６ｍＷ（デバイスに損傷なし）で連続動作した。全体の外部微分量子効率はη_ｔ＝−５９％であり、電界の極性は、トランスバース・エレクトリック（ＴＥ）であった。ハーフマキシマムで測定した近視野幅は、アパーチャの幅と合致した３．４μｍ（１１ｍＡ）であった。このダイオードの横方向の遠視野パターンはシングル・ローブであり、ハーフパワーでのフル・アングルは結晶面で２１゜、垂直方向で４２゜であった。
【００２０】
以上のことから、ｐ＋／ｎ＋トンネル接合（これらの例ではＧａＡｓ−ＩｎＧａＡｓ）を使用して、ＡｌＧａＡｓ−ＧａＡｓ−ＩｎＧａＡｓＱＷＨレーザのｐ領域を（内部的に）接触させることによって、ＱＷＨレーザを埋込み酸化物層で囲み、（低移動度の正孔伝導ではなく）高移動度のｎ層電子伝導を介して励起電流を横方向に導入することができることが分かる。達成された目的は、ＱＷＨレーザのｐ型材料の低減、および横方向電流として電子流を内部的におよび端子で使用して、従来のＱＷＨレーザ・ダイオードのｐ型材料で遭遇する抵抗の増大という比較的に大きなペナルティなしにデバイスを励振させることである。お分かりのようにＴＪをＱＷに近づけて成長させた場合、吸収損によってしきい値電流は増大するが、それは許容される範囲にとどまる。
【００２１】
本発明の実施形態に基づく垂直共振器型面発光レーザを図７および８に示す。図８では詳細に、図７では動作の理解を容易にするために単純化して示した。先と同じように、例示的なデバイスに使用した結晶は、ｎ型ＧａＡｓ基板（層８０２）およびバッファ（層８０４）の上に金属有機化学蒸着（ＭＯＣＶＤ）によって成長させた。結晶の成長は、酸化後の厚さが（Ａｌ_０．７５Ｇａ_０．２５Ａｓのバッファ層８１３を含めて）それぞれ−λ／４となる６．５周期のｎ型Ａｌ_０．９８Ｇａ_０．０２Ａｓ／ＧａＡｓのスタック（それぞれ層８１２および８１５）の形成から開始し、次いでｎ型Ａｌ_０．８５Ｇａ_０．１５Ａｓのλ／４層（８１６）を成長させた。厚さλ／４のｎ型ＧａＡｓ（最上位層８１５）およびＡｌ_０．８５Ｇａ_０．１５Ａｓ層（８１６）は下部側の横方向電子伝導用である。次に、ドープしていない厚さλの共振器を成長させた。両側の５００ÅのＧａＡｓと８６０ÅのＡｌ_０．５Ｇａ_０．５Ａｓの間に挟まれた−５０ÅのＧａＡｓによって分離された−７０Åの２つのＩｎＧａＡｓ量子井戸を有する活性領域共振器（８３０）を形成した。次いで、後に部分的に酸化して、電流アパーチャを形成する厚さλ／４のｐ型Ａｌ_０．９４Ｇａ_０．０６Ａｓ上部閉込め層（８４０）を（ｐ型のＡｌ_０．７５Ｇａ_０．２５Ａｓバッファ層８４３および８４５とともに）成長させた。以上に説明した構造を、横方向電子流が、ｐ型アパーチャを介した活性領域への正孔注入を供給することを可能とする厚さλ／４のｐ＋／ｎ＋ＧａＡｓトンネル・コンタクト接合８６０で覆った。この例のトンネル接合は、−１５０Åのｐ＋ＧａＡｓ（層８６２）および−５５０Åのｎ＋ＧａＡｓ（層８６３）を含む。
【００２２】
フォトリソグラフィおよび湿式エッチング（Ｈ_２ＳＯ_４：Ｈ_２Ｏ_２：Ｈ_２Ｏ，１：８：４０）を用いて製造を続行し、酸化のために下部ＤＢＲを露出させる幅−４６μｍのトレンチを形成した（図９の２重矢印「Ｏｘ」）。第２のフォトリソグラフィ・プロセスおよびより浅い湿式エッチング段階によって、トレンチの縁から−８μｍのところに径−２０μｍのディスクを画定し、Ａｌ_０．９４Ｇａ_０．０６Ａｓアパーチャ層（８４０）だけを露出させた。このサンプルを次いで、Ｈ_２Ｏ蒸気を含むＮ_２キャリヤ・ガスが供給された開管炉中で、４３０℃、合計４５分間、酸化させた（例えば、Ｊ．Ｍ．Ｄａｌｌｅｓａｓｓｅ，Ｎ．Ｈｏｌｏｎｙａｋ，Ｊｒ．，Ａ．Ｒ．Ｓｕｇｇ，Ｔ．Ａ．Ｒｉｃｈａｒｄ，ａｎｄＮ．ｅｌ−Ｚｅｉｎ，Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．５７，２８４４，１９９０参照）。
【００２３】
図９は、説明したトンネル・コンタクト接合ＶＣＳＥＬの結晶酸化直後の光学顕微鏡像（上面図）である。アパーチャ層は、径−２０μｍのディスクの縁から横方向に−５μｍ酸化され、径−１０μｍの電流アパーチャが画定される（図９のラベルのない水平矢印）。下部ＤＢＲは、トレンチの縁（二重の矢印）からアパーチャの下に総距離−２２μｍ酸化する。上部の矢印は、下部ＤＢＲの酸化の終わりを示す。この酸化によって、酸化物アパーチャおよびＡｌ_ｘＯ_ｙ／ＧａＡｓ下部ＤＢＲが画定される。
【００２４】
酸化手順の後、径２０μｍのディスクをフォトレジストで覆い、１５００ÅのＳｉＯ_２を結晶上に電子ビーム蒸着した。フォトレジストをリフトオフし、後段の金属被覆による短絡を防ぐＳｉＯ_２コーティング（８７０）を残した。−１０μｍのレーザ・アパーチャの上に中心を持つ径−１２μｍの開口を残し、上部金属コンタクト（８７２）用のＴｉ／Ａｕを蒸着した。次いでこの結晶をラッピングし、厚さ１２５μｍまで研磨した。基板の上にＧｅ／Ａｕを蒸着し、３７５℃で１０秒間、合金化して、コンタクト８７５を得た。次いで、それぞれの層の厚さがλ／４の５周期のＳｉＯ_２／Ｓｉ（それぞれ層８８１および８８３）を上部ＤＢＲ用に電子ビーム蒸着した。ダイオードを、インコート銅ヒート・シンク上にエピタキシャル層側を上にして装着し、室温（３００Ｋ）で連続（ｃｗ）レーザ動作させた。
【００２５】
ＳｉＯ_２とＳｉの互層８８１および８８３を有する上部ＤＢＲの付着によって、垂直（基板に垂直な）方向のコンパクトな高Ｑ共振器を構成する構造が完成した。電流は、下部Ａｌ_ｘＯ_ｙ／ＧａＡｓＤＢＲを迂回して基板に流れる。ＶＣＳＥＬの上面から、横方向電子流がトンネル・コンタクト接合（ＴＪ、ｎ＋／ｐ＋）を駆動し、駆動されたトンネル・コンタクト接合は正孔（ｈ）を供給して、活性領域および活性領域の上の少量のｐ型結晶を順方向バイアスする。トンネル・コンタクト接合によって、横方向正孔伝導の必要性が排除され、ｐ型材料の量および正孔伝導が最小限に抑えられる。全ての横方向伝導には電子流が関与し、したがってデバイスの抵抗、電圧降下および加熱は低下する。
【００２６】
図１０に、説明したトンネル・コンタクト接合ＶＣＳＥＬの（ａ）光対電流（Ｌ−Ｉ）挙動および（ｂ）電流対電圧（Ｉ−Ｖ）特性を示す。全ての測定は室温でのｃｗ条件下で実施した。Ｌ−Ｉ曲線はしきい値の前に、増幅された自然放出（ＡＳＥ）の特性である急な傾きを有する（Ｐ．Ｗ．Ｅｖａｎｓ，Ｎ．Ｈｏｌｏｎｙａｋ，Ｊｒ．，Ｓ．Ａ．Ｍａｒａｎｏｗｓｋｉ，Ｍ．Ｊ．Ｒｉｅｓ，ａｎｄＥ．Ｉ．Ｃｈｅｎ，Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．６７，３１６８，１９９５参照）。しきい値電流は−０．５５ｍＡ（Ｊ_ｔｈ＝−７００Ａ／ｃｍ^２）、放出波長は−９８６ｎｍであった。外部微分量子効率は−３５％、全体の電力効率（埋込みコンセント）は１ｍＡで−１２％であった。このダイオードは−１Ｖでシャープにターンオンした。このデバイスのトンネル接合コンタクトは最適化されていない。これは、同じように設計された結晶から製作したその他の比較ダイオードが、−１００Ωの直列抵抗でよりシャープなＩ−Ｖ特性は示したが、共振器の離調のためにレージングしなかったためである。このことは、横方向電子流を介して正孔を供給するトンネル・コンタクト接合を有するＶＣＳＥＬが過大な電圧降下なしに動作することを示している。
【００２７】
図１１に、同様の方法で製作した別のトンネル・コンタクト接合ＶＣＳＥＬのスペクトルおよびＬ−Ｉ曲線（挿入部分）を示す。このデバイスも、増幅された自然放出（ＡＳＥ）の領域およびしきい値１ｍＡの前の急なＬ−Ｉ勾配を有する。スペクトルによれば、ＡＳＥは狭く（４５Å）、おそらくは横方向のディスク・モードのためにいくらかのリンギングが発生している（Ｍ．Ｄｅｎｇ，Ｑ．Ｄｅｎｇ，ａｎｄＤ．Ｇ．Ｄｅｐｐｅ，Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．６９，３１２０，１９９６参照）。１．５ｍＡでスペクトルは−１Åと狭く、中心は９９０ｎｍにあった。図１０のダイオードと比較したときの波長の差は、しきい値がより高いこと（わずかな離調）、および外部微分量子効率がより低いこと（−１７％）に関係する可能性がある。この別のデバイスの最大電力出力は０．５５ｍＷであった。
【００２８】
トンネル・コンタクト接合は、ＶＣＳＥＬ構造中のｐ型材料の低減を可能とし、横方向電子流を介した活性領域への正孔注入を提供する。トンネル接合は、先に説明したハイブリッドＶＣＳＥＬおよび自然酸化物ベースの層を有する端面発光体に使用できるだけでなく、例えば、励起に横方向電流を必要とする、またはｐ型材料の低減を必要とする他の形態のＶＣＳＥＬ、端面放出レーザおよび発光ダイオードにも使用できることを理解されたい。
【００２９】
図１２に、本発明の実施形態に基づく発光ダイオード（ＬＥＤ）を示す。ｎ型基板１２０５は、その上にｎ型閉込め層１２１５を有する。基板１２０５は、例えばＧａＡｓまたはＧａＰとすることができ、下部閉込め層１２１５は例えばｎ型ＡｌＧａＡｓとすることができる。追加の層、例えばバッファ層が存在してもよいことを理解されたい。活性領域を１２３０に示す。活性領域はやはり、望ましい光波長が得られるものを選択する。一例として、活性領域をバルクＡｌＧａＩｎＰとすること、またはＡｌＧａＩｎＰ層の間に１つまたは複数のＧａＡｓまたはＩｎＧａＰの量子井戸を含めることができる。上部閉込め層１２４０はｐ型層、例えばｐ型のＡｌＧａＡｓまたはＡｌＩｎＰである。ｐ型の上部閉込め層１２４０の上にはｐ＋層１２５２およびｎ＋層１２５４が配置される。ここでもやはり、これらの両方の層を濃くドープしたＧａＡｓとすること、または、例えば、ｎ＋部分に、ｎ＋ＩｎＧａＡｓ層の上にｎ＋ＧａＡｓ層を重ねたものなどの２層のｎ＋層を含めることができる。トンネル接合を１２５０に示す。例えばＴｉ／ＡｕまたはＧｅ／Ａｕとすることができる金属コンタクト１２６１および１２６５をそれぞれ、発光ダイオードの上面および下面に適用する。これらのコンタクトを介して図示のように正電位を印加することができる。図１２の実施形態では上部電極が環状電極であり、環状電極の内側のデバイスの上面のかなりの部分が、発生した光を放出することができるアパーチャとなっている。例えば図１３に示すように、中心に位置する（例えば円形の）コンタクト１３６１を使用し、ＬＥＤからの光が電極領域の外側から放出される代替電極構成を使用することもできる。いずれにせよ、電流がコンタクトから最終的に、コンタクトが覆っている面積よりも大きい活性領域に流れるときに横方向電流が流れる。この電流の横断がｐ型材料を通る従来技術のデバイスでは、ｐ型材料の厚さを十分に大きくして、過度の損失を生じさせずに横方向電流を流すことが一般に必要である。これは、ｐ型材料の正孔伝導の移動度が比較的に低いためである。先に述べたように本発明の有利な特徴は、ｐ型層を大幅に薄くすることができ（これに付随して電気的および光学的な損失が低減する）、電子流を正孔電流に変換するように動作するトンネル接合を用いて、電子流をより効率的な方法で、必要ならば横方向に流すのにｎ型半導体材料を使用することができることにある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態に基づくブロード・エリア量子井戸ヘテロ構造（ＱＷＨ）レーザの共振器長の逆数（１／Ｌ）に対するしきい値電流密度（Ｊ_ｔｈ）を示す図であり、このレーザは、図の挿入部分に示すように量子井戸（ＱＷ）および導波路活性領域からの距離ｚがさまざまに異なる逆方向バイアスされたトンネル接合コンタクトをｐ型クラッド中に含む。
【図２】本発明の手法に基づいて製作された本発明の実施形態に基づく端面放出半導体レーザ・デバイスの断面図（縮尺は一定ではない）である。動作の理解を容易にするために単純化して示されている。
【図３】本発明の手法に基づいて製作された本発明の実施形態に基づく端面放出半導体レーザ・デバイスの詳細な断面図（縮尺は一定ではない）である。
【図４】図２および図３のトンネル・コンタクトＱＷＨレーザの走査型電子顕微鏡像（断面）である。横方向の酸化（中央の「Ｏｘ」層）が−３．５μｍの電流アパーチャを画定し、上部および下部酸化物層とともに横方向電子流Ｉ_ｎを図２および図３に示すように強制する。「Ｏｘ」を示す矢印は、層に沿った酸化方向を示すために傾斜している。トンネル・コンタクト接合（ｎ＋／ｐ＋）は上部酸化物クラッドの直下、電流アパーチャの直上にある。
【図５】本発明のトンネル・コンタクト接合ＱＷＨレーザ、すなわち（ａ）ブロード・エリア（幅＝１５０μｍ）レーザ、（ｂ）上部酸化物クラッドおよび酸化物によって画定された３．５μｍの電流アパーチャを有するトンネル・コンタクト・レーザ、および（ｃ）上部および下部酸化物クラッドならびに酸化物によって画定された３．８μｍの電流アパーチャを有するトンネル・コンタクト・レーザの共振器長の逆数（１／Ｌ）に対するしきい値電流密度（Ｊ_ｔｈ）を示す図である。
【図６】本発明のトンネル・コンタクト接合ＱＷＨレーザ、すなわち（ａ）ブロード・エリア（１５０μｍ）レーザ、（ｂ）上部酸化物クラッドおよび３．８μｍの電流アパーチャを有するレーザ、および（ｃ）上部および下部酸化物クラッドならびに３．５μｍの電流アパーチャを有するレーザの電流−電圧（Ｉ−Ｖ）特性を示す図である。これらの３つのレーザの直列抵抗は、（ａ）Ｒ＝−１０オームから、（ｂ）−１５オーム、（ｃ）−２０オームとわずかに増大する。
【図７】本発明の手法に基づいて製作された本発明の実施形態に基づく垂直共振器型面発光レーザ（ＶＣＳＥＬ）デバイスの断面図（縮尺は一定ではない）である。動作の理解を容易にするために単純化して示されている。
【図８】本発明の手法に基づいて製作された本発明の実施形態に基づく垂直共振器型面発光レーザ（ＶＣＳＥＬ）デバイスの詳細な断面図（縮尺は一定ではない）である。
【図９】酸化後の製作途中の本発明のトンネル・コンタクト接合ＶＣＳＥＬの光学的顕微鏡画像（上面図）である。径−２０μｍのディスクの縁から横方向に−５μｍ「湿式」酸化し、−１０μｍの開口を作成することによってアパーチャが形成されている（ラベルのない水平矢印）。ＤＢＲは、トレンチの縁（２重矢印）から横方向に−２２μｍ酸化され（単一矢印のところで終了）、これによってアパーチャの下のＤＢＲが完全に酸化される。
【図１０】図７ないし９のトンネル・コンタクト接合ＶＣＳＥＬの（ａ）光対電流（Ｌ−Ｉ）および（ｂ）電流対電圧（Ｉ−Ｖ）特性を示す図である。レージングしきい値は−０．５５ｍＡ、外部微分量子効率は−３５％である。このダイオードは−１Ｖでターンオンする。
【図１１】（図７ないし９の）トンネル・コンタクト接合ＶＣＳＥＬの光対電流特性（挿入部分）を示す図である。増幅された自然放出光のためにスペクトルは狭く（４５Å、０．５ｍＡ）、電流しきい値は１ｍＡである。レーザ動作の中心波長は９９０ｎｍである。
【図１２】本発明の手法に基づいて製作することができる本発明の実施形態に基づく発光ダイオードの断面図（縮尺は一定ではない）である。
【図１３】図１２のデバイスのバリエーションの一例を示す図である。

Claims

ｐ型の第１の半導体層とｎ型の第２の半導体層との間に配置された半導体活性領域と、
前記第１の半導体層内に配置され、電流が通過することができるアパーチャを備えたアパーチャ層と、
前記第１の半導体層の上に配置されたトンネル接合であって、該第１の半導体層にｐ＋部分が隣接するように向けられたｎ＋／ｐ＋接合を含むトンネル接合と、
前記トンネル接合と前記第２の半導体層との間で電位を結合させる手段であって、該トンネル接合の上に配置されていて前記アパーチャから積層方向に垂直な方向に変位した導電性コンタクトを含み、そのために前記デバイス中を該コンタクトから該アパーチャへ電子流としての電流が積層方向に垂直な方向である横方向に流れる、電位を結合させる手段と、
前記活性領域から放出された光に対して光学的な部分反射器を形成する反射手段と
を備えていることを特徴とする積層半導体面発光デバイス。
前記横方向の電子流の少なくとも一部分が、前記トンネル接合のｎ＋部分にあることを特徴とする、請求項１に記載のデバイス。
前記電位を結合させる手段が、前記トンネル接合に、前記第２の半導体層に対して正となる電位を結合させ、これによって前記トンネル接合に逆方向バイアスをかける手段をさらに備えていることを特徴とする、請求項１に記載のデバイス。
前記光学的な部分反射器は共振器であり、前記放出された光はレーザ光であることを特徴とする、請求項１に記載のデバイス。
前記半導体層、前記半導体活性領域および前記トンネル接合は、ＩＩＩ−Ｖ族半導体材料であることを特徴とする、請求項１に記載のデバイス。
前記アパーチャがｐ型材料を含むことを特徴とする、請求項２に記載のデバイス。
前記デバイスは、垂直共振器型面発光レーザであることを特徴とする、請求項１に記載のデバイス。
前記電位を結合させる手段は、前記導電性コンタクトと、前記トンネル接合のｎ＋部分に隣接するｎ型の層とを含むことを特徴とする、請求項１に記載のデバイス。
前記導電性コンタクトは、金属コンタクトと、ｎ＋キャップ領域とを含むことを特徴とする、請求項８に記載のデバイス。
前記トンネル接合は、前記電位を結合する手段の前記ｎ型の層を積層方向に垂直な方向である横方向に流れる電子流の少なくとも一部を、正孔電流に変換するように作用することを特徴とする、請求項８に記載のデバイス。