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JP4585258B2 - Plasma display device - Google Patents

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JP4585258B2
JP4585258B2 JP2004284923A JP2004284923A JP4585258B2 JP 4585258 B2 JP4585258 B2 JP 4585258B2 JP 2004284923 A JP2004284923 A JP 2004284923A JP 2004284923 A JP2004284923 A JP 2004284923A JP 4585258 B2 JP4585258 B2 JP 4585258B2
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Panasonic Holdings Corp
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Description

本発明は、プラズマディスプレイパネルを用いたプラズマディスプレイ装置に関する。   The present invention relates to a plasma display device using a plasma display panel.

かかるマトリクス表示方式のディスプレイパネルの一つとしてAC(交流放電)型のPDPが知られている。AC型のPDPは、複数の列電極(アドレス電極)と、これら列電極と直交して配列されておりかつ一対にて1走査ラインを形成する複数の行電極対とを備えている。これら各行電極対及び列電極は、放電空間に対して誘電体層で被覆されており、行電極対と列電極との交点にて1画素に対応した放電セルが形成される構造となっている。   As one of such matrix display type display panels, an AC (alternating discharge) type PDP is known. The AC-type PDP includes a plurality of column electrodes (address electrodes) and a plurality of row electrode pairs that are arranged orthogonally to the column electrodes and form one scan line as a pair. Each of these row electrode pairs and column electrodes is covered with a dielectric layer with respect to the discharge space, and a discharge cell corresponding to one pixel is formed at the intersection of the row electrode pair and the column electrode. .

ここで、かかるPDPに対して中間調表示を実施させる方法の一つとして、1フィールド期間を、Nビットの画素データの各ビット桁の重み付けに対応した時間だけ発光するN個のサブフィールドに分割して表示する、いわゆるサブフィールド法が知られている。図1は、かかるサブフィールド法による1フィールド期間中での発光駆動フォーマットを示す図である。   Here, as one method for performing halftone display on such a PDP, one field period is divided into N subfields that emit light for a time corresponding to the weighting of each bit digit of N-bit pixel data. A so-called subfield method is known. FIG. 1 is a diagram showing a light emission drive format in one field period according to the subfield method.

図1に示される一例においては、供給される画素データが6ビットの場合を想定し、1フィールドの期間をSF1、SF2...、SF6なる6個のサブフィールドに分割して発光駆動を行う。これら6個のサブフィールドによる発光を1通り実行することにより、1フィールド分の画像に対する64階調表現が可能となるのである。   In the example shown in FIG. 1, assuming that the supplied pixel data is 6 bits, light emission driving is performed by dividing one field period into six subfields SF1, SF2,. . By executing one light emission by these six subfields, it is possible to express 64 gradations for an image for one field.

各サブフィールドは、リセット行程Rc、アドレス行程Wc、及びサスティン行程Icにて構成される。リセット行程Rcでは、上記PDPの全放電セルを一斉に放電励起(リセット放電)せしめることにより、全放電セル内に一様に壁電荷を形成させる。次のアドレス行程Wcでは、各放電セル毎に、画素データに応じた選択的な消去放電を励起せしめる。この際、かかる消去放電が実施された放電セル内の壁電荷は消滅して"消灯セル"となる。一方、消去放電が実施されなかった放電セルは壁電荷が残留したままとなっているので"点灯セル"となる。サスティン行程Icでは、上記点灯セルに対してのみ各サブフィールドの重み付けに対応した時間だけ放電発光状態を継続させる。これにより、各サブフィールドSF1〜SF6では、順に1:2:4:8:16:32なる発光期間比にて維持発光が行われるのである。   Each subfield includes a reset process Rc, an address process Wc, and a sustain process Ic. In the reset process Rc, all the discharge cells of the PDP are simultaneously discharged and excited (reset discharge), so that wall charges are uniformly formed in all the discharge cells. In the next address process Wc, selective erasure discharge corresponding to pixel data is excited for each discharge cell. At this time, the wall charges in the discharge cells subjected to such erasing discharge disappear and become “light-off cells”. On the other hand, the discharge cells that have not been subjected to the erasing discharge remain “lit cells” because the wall charges remain. In the sustain process Ic, the discharge light emission state is continued only for the lighting cells for the time corresponding to the weighting of each subfield. Thus, in each of the subfields SF1 to SF6, the sustain light emission is performed in the light emission period ratio of 1: 2: 4: 8: 16: 32 in order.

上記アドレス行程Wcにおいて、上述した如き各放電セル内に形成されている壁電荷を選択的に消去せしめるという選択消去アドレス法を採用した場合には、各サブフィールドの先頭部において図1の斜線部にて示されるリセット行程Rcを実施することが必須となる。ところが、かかるリセット行程Rcにて全放電セルに対して実施されるリセット放電は、比較的強い放電、すなわち輝度レベルの高い発光を伴うものである。よって、図1の斜線にて示される6箇所にて、画素データとは何等関与しない発光が起こるので、画像のコントラストを低下させてしまうという問題があった。   In the addressing process Wc, when the selective erasing addressing method of selectively erasing the wall charges formed in each discharge cell as described above is adopted, the hatched portion of FIG. It is essential to carry out the reset process Rc indicated by. However, the reset discharge performed on all the discharge cells in the reset process Rc is accompanied by a relatively strong discharge, that is, light emission with a high luminance level. Therefore, there is a problem that the contrast of the image is lowered because light emission which is not related to the pixel data occurs at the six positions indicated by the oblique lines in FIG.

そこで、特許文献1に示されたように1フィールドの先頭でのみ全セルに壁電荷を形成するリセット放電を生じさせ、いずれか1のSFでのみ選択消去アドレスを行うことにより、コントラストを向上させるシーケンスが提案されている。   Therefore, as shown in Patent Document 1, a reset discharge that forms wall charges in all the cells is generated only at the head of one field, and the selective erasure address is performed only in any one of the SFs, thereby improving the contrast. A sequence has been proposed.

このシーケンスでは、リセット放電によるプライミング効果が低下し、各駆動パルスの印加による放電を確実に生起させるために、各駆動パルスのパルス幅を広くすることが必要となる。   In this sequence, the priming effect due to the reset discharge is reduced, and it is necessary to widen the pulse width of each drive pulse in order to surely cause the discharge due to the application of each drive pulse.

本発明が解決しようとする課題には、上記の欠点が一例として挙げられ、誤放電を抑制しつつコントラストを向上させることができるプラズマディスプレイ装置を提供することが本発明の目的である。   The problems to be solved by the present invention include the above-mentioned drawbacks as an example, and it is an object of the present invention to provide a plasma display device capable of improving contrast while suppressing erroneous discharge.

請求項1に係る発明のプラズマディスプレイ装置は、複数の行電極対と、その行電極対に対して交差する方向に延びて行電極対との各交差部分に各々放電セルを形成する複数の列電極と、電子線の照射によって励起されて波長域200〜300nm内にピークを有するカソードルミネッセンス発光を行う酸化マグネシウム結晶体が、前記表示セル各々内の前記放電空間に接する面において形成された酸化マグネシウム層が設けられているプラズマディスプレイパネルと、前記複数の行電極対各々の対をなす行電極間にリセットパルスを印加して前記放電セル中に壁電荷を形成するリセット放電を生起せしめるリセット手段と、前記行電極対の一方の行電極に走査パルスを印加すると共に映像信号に基づく表示データに応じて列電極にデータパルスを印加して前記放電セル各々に形成されている前記壁電荷を選択的に消去させる選択消去放電を生起せしめるアドレス手段と、前記対をなす行電極間にサスティンパルスを印加して前記放電セル内で前記壁電荷が形成されている放電セルのみに維持放電を生起せしめるサスティン手段と、を備え、前記映像信号の1フィールドの表示期間をアドレス期間とサスティン期間とからなる複数のサブフィールドで構成し、前記リセット手段は、前記1フィールドの表示期間の先頭サブフィールドのアドレス期間に先立って前記リセットパルスを1つのみ印加することを特徴としている。 A plasma display device according to a first aspect of the present invention includes a plurality of row electrode pairs and a plurality of columns extending in a direction intersecting the row electrode pairs and forming discharge cells at respective intersections with the row electrode pairs. Magnesium oxide formed on a surface in contact with the discharge space in each of the display cells, the electrode and a magnesium oxide crystal that is excited by electron beam irradiation and emits cathodoluminescence having a peak in a wavelength range of 200 to 300 nm A plasma display panel provided with a layer; and reset means for generating a reset discharge that applies a reset pulse between the row electrodes of each of the plurality of row electrode pairs to form wall charges in the discharge cells; In addition, a scan pulse is applied to one row electrode of the row electrode pair, and a data pattern is applied to the column electrode according to display data based on the video signal. Address cells for selectively erasing the wall charges formed in each of the discharge cells by applying a scan, and applying a sustain pulse between the pair of row electrodes to apply the sustain pulse to the discharge cells. A sustain means for generating a sustain discharge only in the discharge cells in which the wall charges are formed, and a display period of one field of the video signal is composed of a plurality of subfields consisting of an address period and a sustain period The reset means applies only one reset pulse prior to the address period of the first subfield of the display period of the one field.

以下、本発明の実施例を図面を参照しつつ詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

図2は、本発明によるプラズマディスプレイ装置の概略構成を示す図である。   FIG. 2 is a diagram showing a schematic configuration of a plasma display device according to the present invention.

図2に示す如く、かかるプラズマディスプレイ装置は、プラズマディスプレイパネルとしてのPDP50、X行電極駆動回路51、Y行電極駆動回路53、列電極駆動回路55、及び駆動制御回路56から構成される。   As shown in FIG. 2, the plasma display device includes a PDP 50 as a plasma display panel, an X row electrode drive circuit 51, a Y row electrode drive circuit 53, a column electrode drive circuit 55, and a drive control circuit 56.

PDP50には、2次元表示画面の縦方向(垂直方向)に各々伸張して配列された列電極D1〜Dm、横方向(水平方向)に各々伸張して配列された行電極X1〜Xn及び行電極Y1〜Ynが形成されている。この際、互いに隣接するもの同士で対を為す行電極対(Y1,X1)、(Y2,X2)、(Y3,X3)、・・・、(Yn,Xn)が各々、PDP50における第1表示ライン〜第n表示ラインを担う。各表示ラインと列電極D1〜Dm各々との各交叉部(図2中の一点鎖線にて囲まれた領域)には、画素を担う放電セルPCが形成されている。すなわち、PDP50には、第1表示ラインに属する放電セルPC1、1〜PC1、m、第2表示ラインに属する放電セルPC2、1〜PC2、m、・・・・、第n表示ラインに属する放電セルPCn、1〜PCnmの各々がマトリクス状に配列されているのである。 The PDP 50 includes column electrodes D 1 to D m arranged to extend in the vertical direction (vertical direction) of the two-dimensional display screen, and row electrodes X 1 to X m arranged to extend in the horizontal direction (horizontal direction). X n and row electrodes Y 1 to Y n are formed. In this case, row electrode pairs (Y 1 , X 1 ), (Y 2 , X 2 ), (Y 3 , X 3 ),..., (Y n , X n ) that form pairs between adjacent ones. Are responsible for the first display line to the nth display line in the PDP 50, respectively. Discharge cells PC serving as pixels are formed at intersections between the display lines and the column electrodes D 1 to D m (regions surrounded by a one-dot chain line in FIG. 2). That is, the PDP 50 belongs to the discharge cells PC1, 1 to PC1, m belonging to the first display line, the discharge cells PC2, 1 to PC2, m , ... belonging to the second display line, to the nth display line. discharge cells PC n, 1~PC n, is the respective m are arranged in a matrix.

PDP50の列電極D1〜Dm各々は列電極駆動回路55に接続され、行電極X1〜Xn各々はX行電極駆動回路51に接続され、行電極Y1〜Yn各々はY行電極駆動回路53に接続されている。 Each of the column electrodes D 1 to D m of the PDP 50 is connected to a column electrode drive circuit 55, each of the row electrodes X 1 to X n is connected to an X row electrode drive circuit 51, and each of the row electrodes Y 1 to Y n is connected to a Y row. It is connected to the electrode drive circuit 53.

図3は、表示面側から眺めたPDP50の内部構造を模式的に示す正面図である。図3においては、PDP50の列電極D1〜D3各々と、第1表示ライン(Y1,X1)及び第2表示ライン(Y2,X2)との各交叉部を抜粋して示すものである。図4は、図3のV3−V3線におけるPDP50の断面を示す図であり、図5は、図3のW2−W2線におけるPDP50の断面を示す図である。 FIG. 3 is a front view schematically showing the internal structure of the PDP 50 as viewed from the display surface side. In FIG. 3, each crossing part of each of the column electrodes D 1 to D 3 of the PDP 50 and the first display line (Y 1 , X 1 ) and the second display line (Y 2 , X 2 ) is extracted and shown. Is. 4 is a view showing a cross section of the PDP 50 taken along the line V3-V3 in FIG. 3, and FIG. 5 is a view showing a cross section of the PDP 50 taken along the line W2-W2 in FIG.

図3に示すように、各行電極Xは、2次元表示画面の水平方向に伸張するバス電極Xbと、かかるバス電極Xb上の各放電セルPCに対応した位置に各々接触して設けられたT字形状の透明電極Xaと、から構成される。各行電極Yは、2次元表示画面の水平方向に伸張するバス電極Ybと、かかるバス電極Yb上の各放電セルPCに対応した位置に各々接触して設けられたT字形状の透明電極Yaと、から構成される。透明電極Xa及びYaは例えばITO等の透明導電膜からなり、バス電極Xb及びYbは例えば金属膜からなる。透明電極Xa及バス電極Xbからなる行電極X、並びに透明電極Ya及バス電極Ybからなる行電極Yは、図4に示す如く、その前面側がPDP50の表示面となる前面透明基板10の背面側に形成されている。この際、各行電極対(X、Y)における透明電極Xa及びYaは、互いに対となる相手の行電極側に伸張しており、その幅広部の頂辺同士が所定幅の放電ギャップg1を介して互いに対向している。又、前面透明基板10の背面側には、1対の行電極対(X1、Y1)とこの行電極対に隣接する行電極対(X2、Y2)との間に、2次元表示画面の水平方向に伸張する黒色または暗色の光吸収層(遮光層)11が形成されている。さらに、前面透明基板10の背面側には、行電極対(X,Y)を被覆するように誘電体層12が形成されている。この誘電体層12の背面側(行電極対が接触する面とは反対側の面)には、図4に示す如く、光吸収層11とこの光吸収層11に隣接するバス電極Xb及びYbとが形成されている領域に対応した部分に、嵩上げ誘電体層12Aが形成されている。この誘電体層12及び嵩上げ誘電体層12Aの表面上には、後述するような気相法酸化マグネシウム(MgO)単結晶体粉末を含む酸化マグネシウム層13が形成されている。 As shown in FIG. 3, each row electrode X has a bus electrode Xb extending in the horizontal direction of the two-dimensional display screen and a T provided in contact with a position corresponding to each discharge cell PC on the bus electrode Xb. And a transparent electrode Xa having a letter shape. Each row electrode Y includes a bus electrode Yb extending in the horizontal direction of the two-dimensional display screen, and a T-shaped transparent electrode Ya provided in contact with a position corresponding to each discharge cell PC on the bus electrode Yb. Is composed of. The transparent electrodes Xa and Ya are made of a transparent conductive film such as ITO, and the bus electrodes Xb and Yb are made of a metal film, for example. The row electrode X composed of the transparent electrode Xa and the bus electrode Xb, and the row electrode Y composed of the transparent electrode Ya and the bus electrode Yb, as shown in FIG. Is formed. At this time, the transparent electrodes Xa and Ya in each row electrode pair (X, Y) extend to the paired row electrode side, and the top sides of the wide portions pass through the discharge gap g1 having a predetermined width. Facing each other. On the back side of the front transparent substrate 10, there is a two-dimensional space between a pair of row electrodes (X 1 , Y 1 ) and a row electrode pair (X 2 , Y 2 ) adjacent to the row electrode pair. A black or dark light absorbing layer (light shielding layer) 11 extending in the horizontal direction of the display screen is formed. Further, a dielectric layer 12 is formed on the back side of the front transparent substrate 10 so as to cover the row electrode pair (X, Y). On the back side of the dielectric layer 12 (the surface opposite to the surface where the row electrode pair contacts), as shown in FIG. 4, the light absorbing layer 11 and bus electrodes Xb and Yb adjacent to the light absorbing layer 11 are provided. A raised dielectric layer 12A is formed in a portion corresponding to the region where the and are formed. On the surfaces of the dielectric layer 12 and the raised dielectric layer 12A, a magnesium oxide layer 13 containing a vapor phase magnesium oxide (MgO) single crystal powder as described later is formed.

一方、前面透明基板10と平行に配置された背面基板14上には、列電極Dの各々が、各行電極対(X,Y)における透明電極Xa及びYaに対向する位置において行電極対(X,Y)と直交する方向に伸張して形成されている。背面基板14上には、更に列電極Dを被覆する白色の列電極保護層15が形成されている。この列電極保護層15上には隔壁16が形成されている。隔壁16は、各行電極対(X,Y)のバス電極Xb及びYbに対応した位置において各々2次元表示画面の横方向に伸張している横壁16Aと、互いに隣接する列電極D間の各中間位置において2次元表示画面の縦方向に伸張している縦壁16Bとによって梯子形状に形成されている。なお、PDP50の各表示ライン毎に、図3に示す如き梯子形状の隔壁16が各々形成されており、互いに隣接する隔壁16の間には、図3に示す如き隙間SLが存在する。又、梯子状の隔壁16によって、各々独立した放電空間S、透明電極Xa及びYaを含む放電セルPCが区画されている。放電空間S内には、キセノンガスを含む放電ガスが封入されている。各放電セルPC内における横壁16Aの側面、縦壁16Bの側面、及び列電極保護層15の表面には、図4に示す如くこれらの面を全て覆うように蛍光体層17が形成されている。この蛍光体層17は、実際には、赤色発光を為す蛍光体、緑色発光を為す蛍光体、及び青色発光を為す蛍光体の3種類からなる。各放電セルPCの放電空間Sと隙間SLとの間は、図4に示す如く酸化マグネシウム層13が横壁16Aに当接されることによって互いに閉じられている。一方、図5に示す如く、縦壁16Bは酸化マグネシウム層13に当接されていないので、その間に隙間r1が存在する。すなわち、2次元表示画面の横方向において互いに隣接する放電セルPC各々の放電空間Sは、この隙間r1を介して互いに連通しているのである。   On the other hand, on the rear substrate 14 arranged in parallel with the front transparent substrate 10, each of the column electrodes D is disposed at a position facing the transparent electrodes Xa and Ya in each row electrode pair (X, Y). , Y). On the back substrate 14, a white column electrode protective layer 15 that covers the column electrode D is further formed. A partition wall 16 is formed on the column electrode protective layer 15. The partition wall 16 includes a horizontal wall 16A extending in the horizontal direction of the two-dimensional display screen at a position corresponding to the bus electrodes Xb and Yb of each row electrode pair (X, Y), and intermediate portions between the column electrodes D adjacent to each other. A ladder wall is formed by the vertical wall 16B extending in the vertical direction of the two-dimensional display screen at the position. A ladder-shaped partition wall 16 as shown in FIG. 3 is formed for each display line of the PDP 50, and a gap SL as shown in FIG. 3 exists between the partition walls 16 adjacent to each other. Further, the ladder-shaped partition 16 partitions the discharge cell PC including the independent discharge space S and the transparent electrodes Xa and Ya. In the discharge space S, a discharge gas containing xenon gas is enclosed. A phosphor layer 17 is formed on the side surface of the horizontal wall 16A, the side surface of the vertical wall 16B, and the surface of the column electrode protection layer 15 in each discharge cell PC so as to cover all of these surfaces as shown in FIG. . The phosphor layer 17 is actually composed of three types: a phosphor that emits red light, a phosphor that emits green light, and a phosphor that emits blue light. As shown in FIG. 4, the magnesium oxide layer 13 is closed between the discharge space S and the gap SL of each discharge cell PC by contacting the lateral wall 16A. On the other hand, as shown in FIG. 5, since the vertical wall 16B is not in contact with the magnesium oxide layer 13, there is a gap r1 therebetween. That is, the discharge spaces S of the discharge cells PC adjacent to each other in the horizontal direction of the two-dimensional display screen communicate with each other through the gap r1.

ここで、上記酸化マグネシウム層13を形成する酸化マグネシウム結晶体は、マグネシウムを加熱して発生するマグネシウム蒸気を気相酸化して得られる単結晶体、例えば電子線の照射により励起されて波長域200〜300nm内(特に、230〜250nm内の235nm付近)にピークを有するCL発光を行う気相法酸化マグネシウム結晶体を含んでいる。この気相法酸化マグネシウム結晶体には、図6のSEM写真像に示す如き立方体の結晶体が互いに嵌り込んだ多重結晶構造、あるいは図7のSEM写真像に示す如き立方体の単結晶構造を有する、2000オングストローム以上の粒径のマグネシウム単結晶体が含まれている。このようなマグネシウム単結晶体は、他の方法によって生成された酸化マグネシウムと比較すると高純度であると共に微粒子であり、粒子の凝集が少ない等の特徴を備えており、後述するように放電遅れ等の放電特性の改善に寄与する。なお、本実施例においては、BET法によって測定した平均粒径が500オングストローム以上、好ましくは2000オングストローム以上の気相酸化マグネシウム単結晶体を用いている。そして、このような酸化マグネシウム単結晶体を、スプレー法や静電塗布法等により、図8に示す如く誘電体層12の表面に付着させることにより酸化マグネシウム層13を形成させるのである。尚、誘電体層12及び嵩上げ誘電体層12Aの表面に蒸着又はスパッタ法により薄膜酸化マグネシウム層を形成し、その上に気相法酸化マグネシウム単結晶体を付着させて酸化マグネシウム層13を形成するようにしても良い。   Here, the magnesium oxide crystal forming the magnesium oxide layer 13 is a single crystal obtained by vapor phase oxidation of magnesium vapor generated by heating magnesium, for example, a wavelength region 200 excited by irradiation with an electron beam. It includes a vapor phase magnesium oxide crystal that performs CL emission having a peak within ˜300 nm (particularly, around 235 nm within 230 to 250 nm). This vapor-phase-processed magnesium oxide crystal has a multiple crystal structure in which cubic crystals as shown in the SEM photograph image of FIG. 6 are fitted with each other, or a cubic single crystal structure as shown in the SEM photograph image of FIG. , A magnesium single crystal having a particle size of 2000 angstroms or more is included. Such a magnesium single crystal is characterized by high purity and fine particles compared to magnesium oxide produced by other methods, and less aggregation of the particles, as will be described later. This contributes to the improvement of the discharge characteristics. In this example, a vapor phase magnesium oxide single crystal having an average particle size measured by the BET method of 500 angstroms or more, preferably 2000 angstroms or more is used. Then, the magnesium oxide layer 13 is formed by adhering such a magnesium oxide single crystal to the surface of the dielectric layer 12 as shown in FIG. 8 by spraying or electrostatic coating. A thin film magnesium oxide layer is formed on the surfaces of the dielectric layer 12 and the raised dielectric layer 12A by vapor deposition or sputtering, and a magnesium oxide single crystal is deposited thereon to form a magnesium oxide layer 13. You may do it.

駆動制御回路56は、上記構造を有するPDP50を図9に示す如きサブフィールド法(サブフレーム法)を採用した発光駆動シーケンスに従って駆動させるべき各種制御信号をX行電極駆動回路51、Y行電極駆動回路53、及び列電極駆動回路55の各々に供給する。X行電極駆動回路51、Y行電極駆動回路53、及び列電極駆動回路55は、図9に示す発光駆動シーケンスに従ってPDP50を駆動すべき各種駆動パルスを生成してPDP50に供給する。X行電極駆動回路51はリセットパルス発生回路51a及びサスティンパルス発生回路51bとを有している。Y行電極駆動回路53はリセットパルス発生回路53a、スキャンパルス発生回路53b及びサスティンパルス発生回路53cを有している。   The drive control circuit 56 supplies various control signals to drive the PDP 50 having the above structure in accordance with a light emission drive sequence employing a subfield method (subframe method) as shown in FIG. This is supplied to each of the circuit 53 and the column electrode drive circuit 55. The X row electrode drive circuit 51, the Y row electrode drive circuit 53, and the column electrode drive circuit 55 generate various drive pulses for driving the PDP 50 according to the light emission drive sequence shown in FIG. The X-row electrode drive circuit 51 has a reset pulse generation circuit 51a and a sustain pulse generation circuit 51b. The Y row electrode drive circuit 53 has a reset pulse generation circuit 53a, a scan pulse generation circuit 53b, and a sustain pulse generation circuit 53c.

図9に示す発光駆動シーケンスにおいては、1フィールド(1フレーム)の表示期間内のサブフィールドSF1〜SFN各々において、アドレス行程W及びサスティン行程Iを各々実行する。また、先頭のサブフィールドSF1に限り、アドレス行程Wに先立ちリセット行程Rを実行する。   In the light emission drive sequence shown in FIG. 9, the address process W and the sustain process I are executed in each of the subfields SF1 to SFN within the display period of one field (one frame). Further, the reset process R is executed prior to the address process W only in the first subfield SF1.

図10は、サブフィールドSF1〜SFNの内からSF1及びSF2を抜粋して、PDP50の列電極D、行電極X及びYに印加される各種駆動パルスの印加タイミングを示す図である。   FIG. 10 is a diagram showing application timings of various drive pulses applied to the column electrodes D and the row electrodes X and Y of the PDP 50 by extracting SF1 and SF2 from the subfields SF1 to SFN.

先頭のサブフィールドSF1においてのみアドレス行程Wに先立ち実施されるリセット行程Rでは、X行電極駆動回路51のリセットパルス発生回路51aが図10に示す如き負極性のリセットパルスRPXを行電極X1〜Xnに一斉に印加する。リセットパルスRPXは急峻な立ち上がり及び立ち上がり波形を有している。更に、かかるリセットパルスRPXの印加と同時に、Y行電極駆動回路53のリセットパルス発生回路53aは、図10に示す如き、時間経過に伴い緩やかに電圧値が上昇してピーク電圧値V1に至るパルス波形を有する正極性のリセットパルスRPYを行電極Y1〜Ynに一斉に印加する。リセットパルスRPYのピーク電圧値は、後述のサスティンパルスIPX及びIPYのピーク電圧値よりも大である。リセットパルスRPY及びリセットパルスRPxの同時印加により、全ての放電セルPC1、1〜PCnm各々内の行電極X及びY間においてリセット放電が生起される。かかるリセット放電の終息後、各放電セルPCの放電空間S内における酸化マグネシウム層13の表面に所定量の壁電荷が形成される。具体的には酸化マグネシウム層13の表面上における行電極Xの近傍には正極性の電荷が形成され、行電極Yの近傍には負極性の電荷が形成される、いわゆる壁電荷の形成された状態となる。その後、Y行電極駆動回路53は、リセットパルスRPYの立ち下がり時に緩やかに電圧変化させる。すなわち、図10に示すように、リセットパルスRPYを走査パルスと接地電位との間の中間電位V2までアンダーシュートさせる。これにより、リセットパルスRPYの立ち下がり時に壁電荷を消去してしまう強い消去放電が生じないようにしていると共に次のアドレス行程での選択的な消去放電が良好に行われるように壁電荷量を調整している。 In the reset process R performed prior to the address process W only in the first subfield SF1, the reset pulse generation circuit 51a of the X row electrode drive circuit 51 applies a negative reset pulse RP X as shown in FIG. 10 to the row electrode X 1. Apply simultaneously to ~ Xn . The reset pulse RP X has a steep rise and rising waveform. Furthermore, simultaneously with the application of the reset pulse RP X, the reset pulse generation circuit 53a of the Y-row electrode drive circuit 53, as shown in FIG. 10, reaches the peak voltage value V1 gently voltage value rises with the lapse of time simultaneously applies a positive reset pulse RP Y having a pulse waveform to the row electrodes Y 1 to Y n. The peak voltage value of the reset pulse RP Y is larger than the peak voltage values of sustain pulses IP X and IP Y described later. The simultaneous application of the reset pulse RP Y and the reset pulse RPx, all the discharge cells PC1, 1 ~PC n, reset discharge is generated between the row electrodes X and Y in the m each. After the end of the reset discharge, a predetermined amount of wall charges is formed on the surface of the magnesium oxide layer 13 in the discharge space S of each discharge cell PC. Specifically, a positive charge is formed in the vicinity of the row electrode X on the surface of the magnesium oxide layer 13, and a negative charge is formed in the vicinity of the row electrode Y, so-called wall charge is formed. It becomes a state. Then, Y-row electrode drive circuit 53, gradually to the voltage change at the fall of the reset pulse RP Y. That is, as shown in FIG. 10, to undershoot the reset pulse RP Y to the intermediate potential V2 between the scan pulse ground potential. This prevents a strong erasing discharge that erases the wall charges at the falling edge of the reset pulse RP Y , and ensures that the selective erasing discharge in the next address process is performed satisfactorily. Is adjusted.

保護層として気相法酸化マグネシウム層13を設けたパネルでは、放電確率が著しく高いため、微弱なリセット放電が安定して生じる。突起電極、特にT字形状の先端幅広電極との組み合わせにより、放電ギャップ近傍にリセット放電が局所化され、行電極全体で放電が生じるような強い突発的なリセット放電が生じる可能性が一層抑制される。よって、列電極と行電極との間で強い放電が生じ難く、短時間に安定した微弱リセット放電を生じさせることが可能である。   In the panel provided with the vapor phase magnesium oxide layer 13 as a protective layer, the discharge probability is extremely high, so that a weak reset discharge is stably generated. The combination with the protruding electrode, particularly the T-shaped wide tip electrode, further suppresses the possibility of the occurrence of a strong sudden reset discharge in which the reset discharge is localized near the discharge gap and the entire row electrode generates a discharge. The Therefore, it is difficult to generate a strong discharge between the column electrode and the row electrode, and it is possible to generate a stable weak reset discharge in a short time.

また、気相法酸化マグネシウム層13を設けた構成では、放電確率が著しく向上しているので、1つのリセットパルスの印加、すなわち1回のリセット放電であってもプライミング効果が持続する。よって、リセット動作及び選択消去動作をより安定化することができる。また、リセット放電の回数を最小にすることによりコントラストが向上する。   In the configuration in which the vapor phase magnesium oxide layer 13 is provided, the discharge probability is remarkably improved, so that the priming effect is maintained even when one reset pulse is applied, that is, one reset discharge. Therefore, the reset operation and the selective erase operation can be further stabilized. Further, the contrast is improved by minimizing the number of reset discharges.

なお、気相法酸化マグネシウム層13を設けた場合の作用については更に後述する。   The operation when the vapor phase magnesium oxide layer 13 is provided will be described later.

次に、サブフィールドSF1〜SF15各々のアドレス行程Wでは、Y行電極駆動回路53のスキャンパルス発生回路53bが正極性の電圧を全ての行電極Y1〜Ynに印加しつつ、それに重畳して負極性の電圧を有する走査パルスSPを行電極Y2〜Yn各々に順次印加して行く。この間、X電極駆動回路51は、行電極X1〜Xn各々を0Vにさせる。列電極駆動回路55は、このサブフィールドSF1に対応した画素駆動データビット群DB1における各データビットをその論理レベルに応じたパルス電圧を有する画素データパルスDPに変換する。例えば、列電極駆動回路55は、論理レベル0の画素駆動データビットを正極性の高電圧の画素データパルスDPに変換する一方、論理レベル1の画素駆動データビットを低電圧(0ボルト)の画素データパルスDPに変換する。そして、かかる画素データパルスDPを走査パルスSPの印加タイミングに同期して1表示ライン分(m個)ずつ列電極D1〜Dmに印加して行く。つまり、列電極駆動回路55は、先ず、第1表示ラインに対応したm個の画素データパルスDPからなる画素データパルス群DP1を列電極D1〜Dmに印加し、次に、第2表示ラインに対応したm個の画素データパルスDPからなる画素データパルス群DP2を列電極D1〜Dmに印加して行くのである。負極性の電圧を有する走査パルスSPと高電圧の画素データパルスDPとが同時に印加された放電セルPC内の列電極D及び行電極Y間において選択消去放電が生起され、放電セルPC内に形成されていた壁電荷が消滅する。一方、走査パルスSPが印加されたものの低電圧(0ボルト)の画素データパルスDPが印加された放電セルPC内では上記の如き選択消去放電は生起されない。よって、放電セルPC内の壁電荷の形成状態が維持される。すなわち、放電セルPC内に壁電荷が存在する場合にはそれがそのまま残留し、壁電荷が存在しない場合には壁電荷の非形成状態が維持される。 Next, in subfields SF1~SF15 each address step W, while the scan pulse generation circuit 53b of the Y-row electrode drive circuit 53 applies a positive voltage to all the row electrodes Y 1 to Y n, superimposed on it Then, the scanning pulse SP having a negative voltage is sequentially applied to each of the row electrodes Y 2 to Y n . During this time, the X electrode drive circuit 51 sets each of the row electrodes X 1 to X n to 0V. The column electrode drive circuit 55 converts each data bit in the pixel drive data bit group DB1 corresponding to the subfield SF1 into a pixel data pulse DP having a pulse voltage corresponding to the logic level. For example, the column electrode drive circuit 55 converts a pixel drive data bit at a logic level 0 into a positive high voltage pixel data pulse DP, while converting a pixel drive data bit at a logic level 1 into a low voltage (0 volt) pixel. Convert to data pulse DP. Then, the pixel data pulse DP is applied to the column electrodes D 1 to D m by one display line (m) in synchronization with the application timing of the scanning pulse SP. In other words, the column electrode drive circuit 55 first applies a pixel data pulse group DP 1 composed of m pixel data pulses DP corresponding to the first display line to the column electrodes D 1 to D m , and then the second it is going to apply the pixel data pulse group DP 2 comprised of m pixel data pulses DP corresponding to the display line to the column electrodes D 1 to D m. A selective erasing discharge is generated between the column electrode D and the row electrode Y in the discharge cell PC to which the scanning pulse SP having a negative voltage and the high-voltage pixel data pulse DP are simultaneously applied, and is formed in the discharge cell PC. The wall charge that was made disappears. On the other hand, the selective erasure discharge as described above is not generated in the discharge cell PC to which the pixel data pulse DP of the low voltage (0 volt) is applied although the scan pulse SP is applied. Therefore, the wall charge formation state in the discharge cell PC is maintained. That is, if there is wall charge in the discharge cell PC, it remains as it is, and if there is no wall charge, the wall charge is not formed.

このように、選択消去アドレス法に基づくアドレス行程Wでは、サブフィールドに対応した画素駆動データビット群の各データビットに応じて選択的に放電セルPC各々内に選択消去アドレス放電を生起させて壁電荷を消去させる。これにより、壁電荷の残留する放電セルPCを点灯セル状態、壁電荷が消去された放電セルPCを消灯セル状態に設定するのである。   As described above, in the address process W based on the selective erasure address method, a selective erasure address discharge is selectively generated in each discharge cell PC according to each data bit of the pixel drive data bit group corresponding to the subfield. Erase the charge. As a result, the discharge cells PC in which the wall charges remain are set in the lighted cell state, and the discharge cells PC from which the wall charges have been erased are set in the extinguished cell state.

次に、各サブフィールドのサスティン行程Iでは、X行電極駆動回路51のサスティンパルス発生回路51b及びY行電極駆動回路53のサスティンパルス発生回路53cの各々が、交互に繰り返し正極性のサスティンパルスIPX及びIPYを行電極X1〜Xn及びY1〜Ynに印加する。サスティンパルスIPX及びIPYを印加する回数は、各サブフィールドにおける輝度の重み付けに依存する。この際、これらサスティンパルスIPX及びIPYが印加される度に、所定量の壁電荷が形成されている上記点灯セル状態にある放電セルPCのみがサスティン放電し、この放電に伴い蛍光体層17が発光してパネル面に画像が形成される。 Next, in the sustain process I of each subfield, the sustain pulse generation circuit 51b of the X-row electrode drive circuit 51 and the sustain pulse generation circuit 53c of the Y-row electrode drive circuit 53 are alternately repeated in a positive polarity sustain pulse IP. X and IP Y are applied to the row electrodes X 1 to X n and Y 1 to Y n . The number of times that the sustain pulses IP X and IP Y are applied depends on the luminance weighting in each subfield. At this time, each time the sustain pulses IP X and IP Y are applied, only the discharge cells PC in the above-mentioned lighted cell state in which a predetermined amount of wall charges are formed undergo a sustain discharge, and the phosphor layer accompanies this discharge. 17 emits light and an image is formed on the panel surface.

ここで、前述した如く、各放電セルPC内に形成されている酸化マグネシウム層13に含まれている気相酸化マグネシウム単結晶体は、電子線の照射により励起されて図11に示す如き波長域200〜300nm内(特に、230〜250nm内の235nm付近)にピークを有するCL発光を行う。この際、図12に示す如く、気相法酸化マグネシウム結晶体の粒径が大なるほどCL発光のピーク強度が大となる。すなわち、気相法酸化マグネシウム結晶体を生成する際に、通常よりも高い温度でマグネシウムを加熱すると、平均粒径500オングストロームの気相酸化マグネシウム単結晶体と共に、図6或いは図7の如き粒径2000オングストローム以上の比較的大なる単結晶体が形成される。この際、マグネシウムを加熱する際の温度が通常よりも高温であるので、マグネシウムと酸素が反応する火炎の長さも長くなる。従って、かかる火炎と周囲との温度差が大になり、それ故に、粒径が大なる気相酸化マグネシウム単結晶体のグループほど、200〜300nm(特に235nm付近)に対応したエネルギー準位の高い単結晶体が多く含まれることになると推測される。   Here, as described above, the vapor-phase magnesium oxide single crystal contained in the magnesium oxide layer 13 formed in each discharge cell PC is excited by electron beam irradiation and has a wavelength region as shown in FIG. CL light emission having a peak within 200 to 300 nm (particularly, around 235 nm within 230 to 250 nm) is performed. At this time, as shown in FIG. 12, the peak intensity of CL emission increases as the particle diameter of the vapor-phase-process magnesium oxide crystal increases. That is, when forming a vapor phase magnesium oxide crystal, when magnesium is heated at a temperature higher than usual, the particle size as shown in FIG. 6 or FIG. 7 is obtained together with the vapor phase magnesium oxide single crystal having an average particle size of 500 angstroms. A relatively large single crystal of 2000 angstroms or more is formed. At this time, since the temperature at which magnesium is heated is higher than usual, the length of the flame in which magnesium and oxygen react with each other also becomes longer. Therefore, the temperature difference between the flame and the surroundings becomes large, and therefore, the group of vapor-phase magnesium oxide single crystals having a large particle size has a higher energy level corresponding to 200 to 300 nm (especially around 235 nm). It is presumed that many single crystals are contained.

図13は、放電セルPC内に酸化マグネシウム層を設けなかった場合の放電確率、従来の蒸着法によって酸化マグネシウム層を構築した場合の放電確率、電子線の照射により200〜300nm(特に230〜250nm内の235nm付近)にピークを有するCL発光を生起する気相酸化マグネシウム単結晶体を含む酸化マグネシウム層を設けた場合各々での放電確率を示す図である。尚、図13中において横軸は、放電の休止時間、つまり放電が生起されてから次の放電が生起されるまでの時間間隔を表すものである。   FIG. 13 shows a discharge probability when a magnesium oxide layer is not provided in the discharge cell PC, a discharge probability when a magnesium oxide layer is constructed by a conventional vapor deposition method, and 200 to 300 nm (particularly 230 to 250 nm) by electron beam irradiation. It is a figure which shows the discharge probability in each case when the magnesium oxide layer containing the gaseous-phase magnesium oxide single crystal which produces CL light emission which has a peak in the vicinity of 235 nm is provided. In FIG. 13, the horizontal axis represents the discharge rest time, that is, the time interval from when the discharge is generated until the next discharge is generated.

このように、各放電セルPCの放電空間Sに、図6又は図7に示す如き電子線の照射により200〜300nm(特に230〜250nm内の235nm付近)にピークを有するCL発光を行う気相酸化マグネシウム単結晶体を含む酸化マグネシウム層13を形成すると、従来の蒸着法によって酸化マグネシウム層を形成させた場合に比して放電確率が高まるのである。尚、図14に示す如く、上記気相酸化マグネシウム単結晶体としては、電子線を照射した際の特に235nmにピークを有するCL発光の強度が大なるものほど、放電空間S内において生起される放電遅れを短縮させることができる。   In this way, in the discharge space S of each discharge cell PC, a gas phase that emits CL having a peak at 200 to 300 nm (particularly around 235 nm within 230 to 250 nm) by irradiation with an electron beam as shown in FIG. 6 or FIG. When the magnesium oxide layer 13 including the magnesium oxide single crystal is formed, the discharge probability is increased as compared with the case where the magnesium oxide layer is formed by a conventional vapor deposition method. As shown in FIG. 14, the vapor phase magnesium oxide single crystal is generated in the discharge space S as the intensity of CL emission having a peak particularly at 235 nm when irradiated with an electron beam increases. The discharge delay can be shortened.

従って、表示画像には関与しないリセット放電に伴う発光を抑えてコントラスト向上を図るべく、行電極Yに印加するリセットパルスRPYの電圧推移を図10に示す如く緩やかにしてリセット放電を微弱化させても、この微弱なリセット放電を短時間に安定して生起させることが可能となる。特に、各放電セルPCは、T字形状の透明電極Xa及びYa間の放電ギャップ近傍で局所的に放電を生起させる構造を採用しているので、行電極全体で放電してしまうような強い突発的なリセット放電が抑制されると共に、列電極及び行電極間での強い誤放電も阻止される。   Therefore, in order to suppress the light emission associated with the reset discharge that is not related to the display image and to improve the contrast, the voltage transition of the reset pulse RPY applied to the row electrode Y is made gentle as shown in FIG. 10 to weaken the reset discharge. However, this weak reset discharge can be stably generated in a short time. In particular, each discharge cell PC employs a structure in which a discharge is locally generated in the vicinity of the discharge gap between the T-shaped transparent electrodes Xa and Ya. Reset discharge is suppressed and strong erroneous discharge between the column electrode and the row electrode is also prevented.

また、放電確率が高くなる(放電遅れが少なくなる)ことにより、上記リセット行程Rでのリセット放電によるプライミング効果が長く持続することになるので、アドレス行程Wにおいて生起されるアドレス放電、並びにサスティン行程Iにおいて生起されるサスティン放電が高速化する。これにより、アドレス放電を生起させるべく列電極D及び行電極Yに夫々印加される図10に示す如き画素データパルスDP及び走査パルスSP各々のパルス幅Waを短くすることができるようになり、その分だけ、アドレス行程Wに費やす処理時間を短縮させることが可能となる。更に、サスティン放電を生起させるべく行電極Yに印加される図10に示す如きサスティンパルスIPYのパルス幅Wbを短くすることができるようになり、その分だけ、サスティン行程Iに費やす処理時間を短縮させることが可能となる。 Further, since the discharge probability is increased (the discharge delay is reduced), the priming effect due to the reset discharge in the reset process R is maintained for a long time. Therefore, the address discharge generated in the address process W and the sustain process are performed. The sustain discharge generated in I is accelerated. As a result, the pulse width Wa of each of the pixel data pulse DP and the scanning pulse SP as shown in FIG. 10 applied to the column electrode D and the row electrode Y to cause the address discharge can be shortened. It is possible to shorten the processing time spent in the address process W by the amount. Further, it becomes possible to shorten the pulse width Wb of such sustain pulse IP Y shown in FIG. 10 to be applied to the row electrode Y in order to generate sustain discharge, correspondingly, the processing time required to sustain stage I It can be shortened.

従って、アドレス行程W及びサスティン行程I各々に費やされる処理時間を短縮した分だけ、1フィールド(又は1フレーム)表示期間内において設けるべきサブフィールドの数を増加させることが可能となり、階調数の増加を図ることができるようになる。   Therefore, it is possible to increase the number of subfields to be provided in one field (or one frame) display period by the amount of reduction in the processing time spent in each of the address process W and the sustain process I. Increase can be achieved.

また、上記した実施例におけるPDP50としては、行電極対(X1,Y1)、(X2,Y2)、(X3,Y3)、・・・、(Xn,Yn)の如き互いに対を為す行電極Xと行電極Yとの間に放電セルPCが形成される構造を採用しているが、互いに隣接する全ての行電極間に放電セルPCが形成された構造を採用しても良い。要するに、行電極X1及びY1の間、行電極Y1及びX2間、行電極X2及びY2の間、・・・、行電極Yn-1及びXnの間、行電極Xn及びYnの間、に夫々放電セルPCが形成された構造を採用しても良いのである。 Further, as the PDP 50 in the above-described embodiment, the row electrode pairs (X 1 , Y 1 ), (X 2 , Y 2 ), (X 3 , Y 3 ),..., (X n , Y n ) A structure in which the discharge cell PC is formed between the row electrode X and the row electrode Y that are paired with each other is employed, but a structure in which the discharge cell PC is formed between all the adjacent row electrodes is employed. You may do it. In short, between the row electrodes X 1 and Y 1 , between the row electrodes Y 1 and X 2, between the row electrodes X 2 and Y 2 ,..., Between the row electrodes Y n−1 and X n , the row electrode X A structure in which a discharge cell PC is formed between n and Y n may be employed.

更に、上記した実施例におけるPDP50としては、前面透明基板10に行電極X及びY、背面基板14に列電極D及び蛍光体層17を夫々形成される構造を採用しているが、前面透明基板10に列電極Dと共に行電極X及びYを形成し、背面基板14に蛍光体層17を形成させた構造を採用しても良い。   Further, the PDP 50 in the above embodiment employs a structure in which the row electrodes X and Y are formed on the front transparent substrate 10 and the column electrode D and the phosphor layer 17 are formed on the rear substrate 14, respectively. A structure in which the row electrodes X and Y are formed together with the column electrodes D on the substrate 10 and the phosphor layer 17 is formed on the back substrate 14 may be adopted.

以上のように、本発明によれば、複数の行電極対と列電極との各交差部分に形成された放電セルに面する部分に電子線によって励起されて波長域200〜300nm内にピークを有するカソードルミネッセンス発光を行う酸化マグネシウム結晶体を含む酸化マグネシウム層が設けられているプラズマディスプレイパネルを備え、複数の行電極対各々の対をなす行電極間にリセットパルスを印加してリセット放電を生起せしめ、行電極対の一方の行電極に走査パルスを印加すると共に映像信号に基づく表示データに応じて列電極にデータパルスを印加して放電セル各々に形成されている壁電荷を選択的に消去させる選択消去放電を生起せしめ、対をなす行電極間にサスティンパルスを印加して壁電荷が形成されている放電セルのみに維持放電を生起せしめる。よって、誤放電を抑制しつつコントラストを向上させることができる。   As described above, according to the present invention, a portion facing a discharge cell formed at each intersection of a plurality of row electrode pairs and column electrodes is excited by an electron beam and has a peak in a wavelength range of 200 to 300 nm. A plasma display panel having a magnesium oxide layer containing a magnesium oxide crystal that emits cathodoluminescence is provided, and a reset pulse is generated by applying a reset pulse between row electrodes of each pair of row electrodes. In addition, a scan pulse is applied to one row electrode of the row electrode pair and a data pulse is applied to the column electrode in accordance with display data based on the video signal to selectively erase the wall charges formed in each discharge cell. A selective erasing discharge is generated, and a sustaining pulse is applied between the pair of row electrodes to generate a sustain discharge only in the discharge cells in which wall charges are formed. Allowed to cause. Therefore, contrast can be improved while suppressing erroneous discharge.

従来のプラズマディスプレイ装置において採用される発光駆動シーケンスの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the light emission drive sequence employ | adopted in the conventional plasma display apparatus. 本発明によるプラズマディスプレイ装置の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the plasma display apparatus by this invention. 図3の装置の表示面側から眺めたPDPの内部構造を模式的に示す正面図である。It is a front view which shows typically the internal structure of PDP seen from the display surface side of the apparatus of FIG. 図3に示されるV3−V3線上での断面を示す図である。It is a figure which shows the cross section on the V3-V3 line | wire shown by FIG. 図3に示されるW2−W2線上での断面を示す図である。It is a figure which shows the cross section on the W2-W2 line | wire shown by FIG. 立方体の多重結晶構造を有する酸化マグネシウム単結晶体を示す図である。It is a figure which shows the magnesium oxide single crystal which has a cubic multiple crystal structure. 立方体の多重結晶構造を有する酸化マグネシウム単結晶体を示す図である。It is a figure which shows the magnesium oxide single crystal which has a cubic multiple crystal structure. 酸化マグネシウム単結晶体粉末を誘電体層及び嵩上げ誘電体層の表面に付着させて酸化マグネシウム層を形成させた場合の形態を示す図である。It is a figure which shows the form at the time of making a magnesium oxide single crystal powder adhere to the surface of a dielectric material layer and a raising dielectric material layer, and forming a magnesium oxide layer. 図2に示されるプラズマディスプレイ装置において採用される発光駆動シーケンスの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the light emission drive sequence employ | adopted in the plasma display apparatus shown by FIG. 図9に示す発光駆動シーケンスに従ってPDPに印加される各種駆動パルスとその印加タイミングを示す図である。It is a figure which shows the various drive pulses applied to PDP according to the light emission drive sequence shown in FIG. 9, and its application timing. 酸化マグネシウム単結晶体粉末の粒径とCL発光の波長との関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the particle size of magnesium oxide single crystal powder, and the wavelength of CL light emission. 酸化マグネシウム単結晶体粉末の粒径と235nmのCL発光の強度との関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the particle size of magnesium oxide single crystal powder, and the intensity | strength of CL light emission of 235 nm. 表示セル内に酸化マグネシウム層を設けなかった場合の放電確率、従来の蒸着法によって酸化マグネシウム層を構築した場合の放電確率、多重結晶構造の酸化マグネシウム層を構築した場合の放電確率を各々示す図である。The figure which shows the discharge probability when a magnesium oxide layer is not provided in the display cell, the discharge probability when a magnesium oxide layer is constructed by a conventional vapor deposition method, and the discharge probability when a magnesium oxide layer having a multiple crystal structure is constructed, respectively. It is. 235nmピークのCL発光強度と放電遅れ時間との対応関係を示す図である。It is a figure which shows the correspondence of CL light emission intensity of a 235 nm peak, and discharge delay time.

符号の説明Explanation of symbols

13 酸化マグネシウム層
50 PDP
51 X行電極駆動回路
53 Y行電極駆動回路
55 列電極駆動回路
56 駆動制御回路
13 Magnesium oxide layer 50 PDP
51 X-row electrode drive circuit 53 Y-row electrode drive circuit 55 Column electrode drive circuit 56 Drive control circuit

Claims (3)

複数の行電極対と、その行電極対に対して交差する方向に延びて行電極対との各交差部分に各々放電セルを形成する複数の列電極と、電子線の照射によって励起されて波長域200〜300nm内にピークを有するカソードルミネッセンス発光を行う酸化マグネシウム結晶体が、前記表示セル各々内の前記放電空間に接する面において形成された酸化マグネシウム層が設けられているプラズマディスプレイパネルと、
前記複数の行電極対各々の対をなす行電極間にリセットパルスを印加して前記放電セル中に壁電荷を形成するリセット放電を生起せしめるリセット手段と、
前記行電極対の一方の行電極に走査パルスを印加すると共に映像信号に基づく表示データに応じて列電極にデータパルスを印加して前記放電セル各々に形成されている前記壁電荷を選択的に消去させる選択消去放電を生起せしめるアドレス手段と、
前記対をなす行電極間にサスティンパルスを印加して前記放電セル内で前記壁電荷が形成されている放電セルのみに維持放電を生起せしめるサスティン手段と、を備え、
前記映像信号の1フィールドの表示期間をアドレス期間とサスティン期間とからなる複数のサブフィールドで構成し、前記リセット手段は、前記1フィールドの表示期間の先頭サブフィールドのアドレス期間に先立って前記リセットパルスを1つのみ印加することを特徴とする記載のプラズマディスプレイ装置。
A plurality of column electrode pairs, a plurality of column electrodes extending in a direction intersecting with the row electrode pair and forming discharge cells at each intersection of the row electrode pair, and a wavelength excited by electron beam irradiation A plasma display panel in which a magnesium oxide crystal that performs cathodoluminescence emission having a peak in a region of 200 to 300 nm is provided with a magnesium oxide layer formed on a surface in contact with the discharge space in each of the display cells;
Reset means for generating a reset discharge that applies a reset pulse between the row electrodes of each of the plurality of row electrode pairs to form wall charges in the discharge cells;
A scan pulse is applied to one row electrode of the row electrode pair, and a data pulse is applied to a column electrode in accordance with display data based on a video signal, so that the wall charges formed in each discharge cell are selectively selected. Addressing means for causing selective erasing discharge to be erased; and
Sustaining means for applying a sustain pulse between the pair of row electrodes to cause a sustain discharge only in the discharge cells in which the wall charges are formed in the discharge cells,
The display period of one field of the video signal is composed of a plurality of subfields each consisting of an address period and a sustain period, and the reset means includes the reset pulse prior to the address period of the first subfield of the display period of the one field. The plasma display apparatus according to claim 1, wherein only one is applied .
前記リセットパルスは、時間経過に伴ってその電圧が漸増して第1所定電圧値に到達する前縁部と時間経過に伴ってその電圧が漸減して前記走査パルス印加時における前記行電極の電位と前記走査パルス非印加時における前記行電極の電位との間の第2所定電圧値に到達する後縁部とを有することを特徴とする請求項1記載のプラズマディスプレイ装置。   The reset pulse has a leading edge at which the voltage gradually increases with the passage of time and reaches the first predetermined voltage value, and the voltage of the row electrode at the time of applying the scan pulse by gradually decreasing the voltage with the passage of time. 2. The plasma display device according to claim 1, further comprising a trailing edge that reaches a second predetermined voltage value between the first electrode and the potential of the row electrode when the scan pulse is not applied. 前記第1所定電圧値は、前記サスティンパルスの印加時における前記行電極上の電圧値よりも大であることを特徴とする請求項2記載のプラズマディスプレイ装置。   3. The plasma display apparatus according to claim 2, wherein the first predetermined voltage value is larger than a voltage value on the row electrode when the sustain pulse is applied.
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