JP4582325B2 - Optical substrate manufacturing method - Google Patents
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Description
本発明は、光配線を有する光基板の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing an optical substrate having optical wiring.
光基板の製造は、多種の方法が提案されている。その中で、簡単にコア部を設ける方法として、コアパターン部を形成した成形型を用い、この成形型のコアパターン部にコア材を充填してコア部を成形する製造方法が提案されている(例えば、特許文献1から3参照)。
このようにして成形されたコア部をクラッド層で覆い光配線層とするものである。
このように光配線を有する光基板を作成後、この光基板の外形を、例えば、レーザー加工およびダイシング加工により外形寸法を合わせる形成する手法がとられている。
Various methods for manufacturing an optical substrate have been proposed. Among them, as a method for easily providing the core portion, a manufacturing method has been proposed in which a molding die in which a core pattern portion is formed is used, and a core material is filled into the core pattern portion of the molding die to mold the core portion. (For example, see Patent Documents 1 to 3).
The core portion thus molded is covered with a clad layer to form an optical wiring layer.
After producing an optical substrate having an optical wiring in this way, a method is adopted in which the outer shape of the optical substrate is adjusted to match the outer dimensions by, for example, laser processing and dicing processing.
このように、一旦、光配線を有する光基板を作成後、この光基板の外形を加工すると、光基板の外形加工精度がばらつき、この状態で光基板に光コネクタを設置すると光接続損失が発生する問題があった。
特にフィルム状の光基板に光コネクタを設置する場合、光基板の外形加工精度がばらつきがあった場合、光接続位置がずれ光接続損失が増加する問題があった。
In this way, once the optical substrate having the optical wiring is created and then the outer shape of the optical substrate is processed, the optical substrate outer shape processing accuracy varies, and if an optical connector is installed on the optical substrate in this state, an optical connection loss occurs. There was a problem to do.
In particular, when an optical connector is installed on a film-like optical substrate, there is a problem in that the optical connection position is shifted and the optical connection loss is increased if the outer shape processing accuracy of the optical substrate varies.
光基板の外形加工をレーザー加工で行った場合は、加工精度が数十ミクロン程度ばらつく問題がある。また、前述の加工精度の問題以外に、加工時に発生する炭化物除去、大量生産時の加工時間、加工コストなど、多くの課題があった。 When the external processing of the optical substrate is performed by laser processing, there is a problem that processing accuracy varies by several tens of microns. In addition to the above-described problems of processing accuracy, there are many problems such as removal of carbides generated during processing, processing time during mass production, processing costs, and the like.
また、レーザー加工に代えてダイシング加工では、加工精度が十数ミクロン程度ばらつく問題があるうえ、加工時の水洗による吸湿、複雑な加工形状への適応不能など、多くの課題があった。
本発明は、かかる従来技術の欠点に鑑みてなされたもので、コアパターン部を形成した成形型を用い、この成形型のコアパターン部にコア材を充填してコア部を成形する製造方法で、コア部を成形と外形の成形を位置精度よく行うことが可能な光基板の製造方法を提供する。 The present invention has been made in view of the disadvantages of the prior art, and is a manufacturing method in which a core mold is formed by filling a core material into the core pattern portion of the mold using a mold having a core pattern portion formed thereon. An optical substrate manufacturing method capable of forming a core part and forming an outer shape with high positional accuracy is provided.
本発明において上記課題を達成するために、まず請求項1に記載の発明は、少なくともアンダークラッド層と、コア材を硬化したコアパターン部と、オーバークラッド層とを含む光基板の製造方法において、
外形パターン部を有する支持基板上に、前記外形パターン部間にアンダークラッドを塗布形成するアンダークラッド形成工程と、
コアパターン形成部および前記外形パターン部の凸部に対応する凹部を有する成形型の該コアパターン形成部にコア材を充填成形するコア成形工程と、
前記コア成形工程により得られた成形型を、前記アンダークラッド層上に押し付け、該アンダークラッド層を硬化した後、該成形型をコア材とアンダークラッド層とから剥離し、該コア材を硬化したコアパターン部をアンダークラッド層上に形成する成形型剥離工程と、
前記アンダークラッド層、およびコア材を硬化したコアパターン部上に、オーバークラッド層を形成するオーバークラッド層形成工程と、
前記支持基板を剥離する支持基板剥離工程と、
を有することを特徴とする光基板の製造方法である。
In order to achieve the above object in the present invention, first, the invention described in claim 1 is a method of manufacturing an optical substrate including at least an under cladding layer, a core pattern portion obtained by curing a core material, and an over cladding layer.
An under clad forming step of applying and forming an under clad between the external pattern portions on a support substrate having an external pattern portion;
A core molding step of filling and molding a core material in the core pattern forming portion of a molding die having a recess corresponding to the convex portion of the core pattern forming portion and the outer shape pattern portion;
The molding die obtained by the core molding step was pressed onto the under cladding layer, and after the under cladding layer was cured, the molding die was peeled from the core material and the under cladding layer, and the core material was cured. A mold peeling process for forming the core pattern part on the under cladding layer,
An over clad layer forming step of forming an over clad layer on the core pattern portion obtained by curing the under clad layer and the core material;
A support substrate peeling step for peeling the support substrate;
It is a manufacturing method of the optical board | substrate characterized by having.
請求項2に記載の発明は、前記成形型は、支持基板に設けられた外形パターン部と位置あわせ可能な位置あわせ凹部を有することを特徴とする請求項1に記載の光基板の製造方法である。 The invention according to claim 2, wherein the mold is a method for producing an optical substrate according to claim 1, characterized in that it comprises a positioning recess can be aligned with the outer shape pattern portion provided on the support substrate is there.
第1に、光配線パターンに対して外形パターン部の加工精度が向上する効果がある。これにより、光コネクタ接続や光基板実装時の光接続性能が向上する。 First, there is an effect of improving the processing accuracy of the outer pattern portion with respect to the optical wiring pattern. Thereby, the optical connection performance at the time of optical connector connection or optical substrate mounting is improved.
第2に、光基板製造プロセス中に、コアパターン形成と外形パターン形成を同時実施することが可能となる。これにより製造プロセスが簡略化し、製造コストを削減できる効果がある。 Second, during the optical substrate manufacturing process, it is possible to simultaneously perform core pattern formation and external pattern formation. As a result, the manufacturing process can be simplified and the manufacturing cost can be reduced.
本発明の光基板の製造方法について、図1を用いて説明する。
本発明の光基板の製造方法は、まず、図1(a)に示すように支持基板10上に、アンダークラッド層20を形成し、次に、図1(b)に示すように、前記アンダークラッド層20に、コアパターン形成部60aと外形パターン形成部60bを有する成形型60を押しつけることで、コアパターン部30、および外形パターン部40を形成する。
図1(c)に示すように、前記コアパターン部30中にコア材35を充填、固化後、図1(d)に示すように、最後にオーバークラッド層50を形成する工程を経て、光基板が製造される。
A method for manufacturing an optical substrate of the present invention will be described with reference to FIG.
In the method of manufacturing an optical substrate according to the present invention, first, an undercladding layer 20 is formed on a support substrate 10 as shown in FIG. 1A, and then the undercladding layer 20 is formed as shown in FIG. The core pattern portion 30 and the outer shape pattern portion 40 are formed by pressing the mold 60 having the core pattern forming portion 60 a and the outer shape pattern forming portion 60 b against the clad layer 20.
As shown in FIG. 1C, after filling and solidifying the core material 35 in the core pattern portion 30, and finally forming an overcladding layer 50 as shown in FIG. A substrate is manufactured.
ここで、支持基板10は、光基板を製造する支持基板となる。支持基板10は、目的に応じ任意の材料を使用することができる。具体的には、シリコーン基板、ガラス基板、セラミック基板、金属金型、有機材料型、プリント配線基板、有機材料基材などが使用できるが、これに限定されるものではない。 Here, the support substrate 10 is a support substrate for manufacturing an optical substrate. Any material can be used for the support substrate 10 according to the purpose. Specifically, a silicone substrate, a glass substrate, a ceramic substrate, a metal mold, an organic material mold, a printed wiring board, an organic material base material, or the like can be used, but is not limited thereto.
また、支持基板10上の任意の位置に、外形パターン形成部60bの凸型を形成する。この外形パターン形成部60bは、任意の形状を取ることができる。具体的には、円形ピンタイプ、四角柱タイプ、微小角度傾斜した反射減衰タイプ、任意角度傾斜した光路変換構造タイプ、自由構造タイプなどが使用できるが、これに限定されるものではない。 Further, the convex shape of the outer shape pattern forming part 60b is formed at an arbitrary position on the support substrate 10. The outer shape pattern forming portion 60b can take an arbitrary shape. Specifically, a circular pin type, a quadrangular prism type, a reflection attenuation type tilted at a minute angle, an optical path conversion structure type tilted at an arbitrary angle, a free structure type, and the like can be used, but are not limited thereto.
アンダークラッド層20、コア層35およびオーバークラッド層50には、一般に用いられている高分子材料を用いることができる。具体的には、カーボネート樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、イミド樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、無機フィラー混入有機材料などが使用できるが、これに限定されるものではない。ただし、屈折率を制御した光学材料を用いることが望ましい。 For the under-cladding layer 20, the core layer 35, and the over-cladding layer 50, generally used polymer materials can be used. Specifically, a carbonate resin, an epoxy resin, an acrylic resin, an imide resin, a urethane resin, a silicone resin, an organic material mixed with an inorganic filler, and the like can be used, but the present invention is not limited thereto. However, it is desirable to use an optical material with a controlled refractive index.
成形型60には、任意の有機材料および無機材料を使用することができる。具体的には、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、シリコンウェハ、金属材料、硝子材料などが使用できるが、これに限定されるものではない。
なお、支持基板10からアンダークラッド層20の離型性を高めるため、前記成形型60の表面に離型/剥離層を設けることもできる。
Arbitrary organic materials and inorganic materials can be used for the mold 60. Specifically, an acrylic resin, a silicone resin, a silicon wafer, a metal material, a glass material, or the like can be used, but is not limited thereto.
In order to improve the releasability of the under cladding layer 20 from the support substrate 10, a release / release layer can be provided on the surface of the mold 60.
成形型60は、コアパターン形成部60aおよび外形パターン形成部60bの凹凸を有し、前記アンダークラッド層20に、前記コアパターン形成部60aおよび外形パターン形成部60bの凹凸とは逆の凹凸形成することができる。
前記両パターンを有する成形型60を使用することにより、両パターンを位置精度よく、同時に形成することができる。
The molding die 60 has irregularities of the core pattern forming part 60a and the outer pattern forming part 60b, and the irregularities opposite to the irregularities of the core pattern forming part 60a and the outer pattern forming part 60b are formed on the under cladding layer 20. be able to.
By using the mold 60 having the both patterns, both patterns can be formed simultaneously with high positional accuracy.
前記成形型60にコアパターン形成部60aおよび外形パターン形成部60bを形成する際、アンダークラッド層20に各パターンを形成する場合は、凸形状を用いる。これにより、アンダークラッド層20に各凹パターンが形成される。 When the core pattern forming portion 60a and the outer pattern forming portion 60b are formed on the mold 60, when forming each pattern on the under cladding layer 20, a convex shape is used. Thereby, each concave pattern is formed in the under clad layer 20.
支持基板10に外形パターン形成部60aの凸型を形成する場合、成形型60に同様の凹型を形成することにより、外形加工パターンの凹凸型をアライメント基準とすることができる。外形パターン形成部が微細で凹凸を合わせることが困難な場合、別にピンアライメントパターンを作成し、これを基準にアライメントすることができる。 When the convex pattern of the outer shape pattern forming part 60a is formed on the support substrate 10, the concave / convex pattern of the outer shape pattern can be used as an alignment reference by forming a similar concave mold on the molding die 60. When the outer shape pattern forming portion is fine and it is difficult to match the unevenness, a pin alignment pattern can be created separately and aligned based on this.
次に、オーバークラッド層50は、光配線パターン上の任意の箇所に形成することができる。
このオーバークラッド層50は、溶液を塗布硬化することも可能であり、フィルム状材料をラミネートすることも可能である。 また、フィルム状材料を外形パターン形成部以外の上にラミネートすることで、各ピースに分割した光基板フィルムを容易に作成することができる。
Next, the over clad layer 50 can be formed at any location on the optical wiring pattern.
The overcladding layer 50 can be applied and cured with a solution, and a film-like material can be laminated. Moreover, the optical substrate film divided | segmented into each piece can be easily produced by laminating | stacking film-form material on other than an external shape pattern formation part.
また、図3に示すように、成形型に外形パターン形成部とコアパターン形成部の両者を設けるのではなく、予め、凸部からなる外形パターン形成部62bを支持基板12上に設け、アンダークラッド層22を塗布、形成すると同時に、外形パターン部42を形成してもよい。
以降の工程は、前述と同様に行うことで、コアパターン32に対して外形パターン部42を、位置精度よく形成することができる。
In addition, as shown in FIG. 3, the outer shape pattern forming portion 62b made of a convex portion is provided on the support substrate 12 in advance, instead of providing both the outer shape pattern forming portion and the core pattern forming portion in the mold, and the under cladding. At the same time that the layer 22 is applied and formed, the outer pattern portion 42 may be formed.
By performing the subsequent steps in the same manner as described above, the outer shape pattern portion 42 can be formed with high positional accuracy with respect to the core pattern 32.
また、図4(a)に示すように、コアパターン部にコア材を充填するのではなく、成形型のコアパターン形成部63bに充填成形し、アンダークラッド層23に成形型を押し当てると同時に、アンダークラッド層23上にコアパターン部を形成してもよい。
以降の工程は、前述と同様に行うことで、コアパターン32に対して外形パターン部42を、位置精度よく形成することができる。
Further, as shown in FIG. 4A, the core pattern portion is not filled with the core material, but is filled and molded into the core pattern forming portion 63b of the molding die, and the molding die is pressed against the under cladding layer 23 at the same time. A core pattern portion may be formed on the under cladding layer 23.
By performing the subsequent steps in the same manner as described above, the outer shape pattern portion 42 can be formed with high positional accuracy with respect to the core pattern 32.
以下に本発明を、実施例に従い詳細に説明するが、本発明がそれらに限定解釈されるものではない。
また、以下の記載では、光基板の光配線を1層として説明するが、必ずしも1層である必要はない。また、以下の記載では光配線をマルチモードとして説明するが、必ずしもマルチモードである必要はない。
Hereinafter, the present invention will be described in detail according to examples, but the present invention is not limited thereto.
In the following description, the optical wiring of the optical substrate is described as one layer, but it is not always necessary to have one layer. In the following description, the optical wiring is described as multi-mode, but it is not always necessary to be in multi-mode.
<実施例1>
まず図2(a)に示すように、ガラスウェハからなる支持基板11上、にアンダークラッド層21(NTT−AT製 紫外線硬化型エポキシ導波路材料)を塗布、形成した。
<Example 1>
First, as shown in FIG. 2A, an under cladding layer 21 (an ultraviolet curing epoxy waveguide material made by NTT-AT) was applied and formed on a support substrate 11 made of a glass wafer.
次に、図2(b)に示すように、前記アンダークラッド層21に、パターン形成部61aおよび外形パターン形成部61bを有するシリコーンからなる成形型61を押し当て、成形後、UV照射することでアンダークラッド層21を硬化し、シリコーン製成形型61を剥離した。 Next, as shown in FIG. 2 (b), a mold 61 made of silicone having a pattern forming portion 61a and an external pattern forming portion 61b is pressed against the under cladding layer 21, and after forming, UV irradiation is performed. The undercladding layer 21 was cured, and the silicone mold 61 was peeled off.
次に、図2(c)に示すように、アンダークラッド層21のコアパターン部31と外形パターン部41を形成し、前記コアパターン部31にコア材35(NTT−AT製紫外線硬化型エポキシ光導波路材料)を塗布、UV照射することで、コア材35を硬化した。 Next, as shown in FIG. 2C, the core pattern portion 31 and the outer pattern portion 41 of the under cladding layer 21 are formed, and the core material 35 (NTT-AT UV curable epoxy light guide) is formed on the core pattern portion 31. The core material 35 was cured by applying a waveguide material) and irradiating with UV.
次に、図2(d)に示すように、コアパターン部31と光配線パターン上にオーバークラッド材(住友3M製エポキシフィルムSuper10)を積層し、100℃で、1時間加熱することでオーバークラッド層51を形成した。 Next, as shown in FIG. 2 (d), an over clad material (Sumitomo 3M epoxy film Super10) is laminated on the core pattern portion 31 and the optical wiring pattern, and heated at 100 ° C. for 1 hour to over clad. Layer 51 was formed.
次に、図2(e)に示すように、光基板をガラスウェハからなる支持基板11から剥離し、各ピースに分離加工した。 Next, as shown in FIG.2 (e), the optical substrate was peeled from the support substrate 11 which consists of glass wafers, and it separated into each piece.
光配線パターンに対し、外形工パターン部41が、±5μmの精度で形成されていることが確認できた。 It was confirmed that the external pattern portion 41 was formed with an accuracy of ± 5 μm with respect to the optical wiring pattern.
<実施例2>
まず図3(a)に示すように、凸部からなる外形パターン形成部62bを有するガラスウェハからなる支持基板12上にアンダークラッド層22(NTT−AT製紫外線硬化型エポキシ光導波路材料)を塗布、形成すると同時に、外形パターン部42を形成した。
<Example 2>
First, as shown in FIG. 3 (a), an underclad layer 22 (NTT-AT UV-curable epoxy optical waveguide material) is applied on a support substrate 12 made of a glass wafer having an external pattern forming portion 62b made of a convex portion. At the same time as forming, the outer pattern portion 42 was formed.
次に、図3(b)に示すように、外形パターン形成部62bの凸部をアライメント基準として、コアパターン成形部62aおよび前記外形パターン形成部62bの凸部に対応する凹部62cを有するシリコーン製成形型62をアンダークラッド層22に押し当て、UV照射することでアンダークラッド層22を硬化、シリコーン製成形型62を剥離した。 Next, as shown in FIG. 3B, with the convex portion of the outer shape pattern forming portion 62b as an alignment reference, the core pattern forming portion 62a and the concave portion 62c corresponding to the convex portion of the outer shape pattern forming portion 62b are made of silicone. The mold 62 was pressed against the undercladding layer 22 and irradiated with UV to cure the undercladding layer 22 and peel off the silicone mold 62.
次に図3(c)に示すように、アンダークラッド層22のコアパターン部32のコア材35(NTT−AT製紫外線硬化型エポキシ光導波路材料)を塗布、UV照射することでコア材35を硬化した。 Next, as shown in FIG. 3C, the core material 35 of the core pattern portion 32 of the under-cladding layer 22 (NTT-AT UV curable epoxy optical waveguide material) is applied, and the core material 35 is applied by UV irradiation. Cured.
次に図3(d)に示すように、コアパターン部32上にオーバークラッド材(住友3MM製エポキシフィルムSuper10)を積層、100℃で、1時間加熱することでオーバークラッド層52を形成した。 Next, as shown in FIG. 3D, an over clad material (Sumitomo 3MM epoxy film Super10) was laminated on the core pattern portion 32 and heated at 100 ° C. for 1 hour to form an over clad layer 52.
次に図3(e)に示すように、光基板をガラスウェハからなる支持基板12から剥離し、各ピースを分離した。 Next, as shown in FIG.3 (e), the optical board | substrate was peeled from the support substrate 12 which consists of glass wafers, and each piece was isolate | separated.
光配線パターンに対し、外形工パターン部42が、±5μmの精度で形成されていることが確認できた。 It was confirmed that the external pattern portion 42 was formed with an accuracy of ± 5 μm with respect to the optical wiring pattern.
<実施例3>
まず図4(a)に示すように、凸部からなる外形工パターン部63bを有するガラスウェハからなる支持基板13上にアンダークラッド層23(NTT−AT製紫外線硬化型エポキシ光導波路材料)を塗布形成すると同時に、外形パターン部43を形成した。
<Example 3>
First, as shown in FIG. 4 (a), an under cladding layer 23 (NTT-AT UV curable epoxy optical waveguide material) is applied on a support substrate 13 made of a glass wafer having a contour pattern portion 63b made of a convex portion. Simultaneously with the formation, the outer pattern portion 43 was formed.
次に図4(b)に示すように、コアパターン形成部63aおよび前記外形パターン部63bの凸部に対応する凹部63cを有するシリコーン成形型63の、前記コアパターン形成部63aにコア材(NTT−AT製紫外線硬化型エポキシ光導波路材料)を充填、UV照射することでコア材35を硬化した。 Next, as shown in FIG. 4B, a core material (NTT) is formed on the core pattern forming portion 63a of the silicone mold 63 having a concave portion 63c corresponding to the convex portion of the core pattern forming portion 63a and the outer shape pattern portion 63b. -The core material 35 was cured by filling with UV and irradiating UV.
次に図4(c)に示すように、外形パターン形成部63bの凸部をアライメント基準として、シリコーン製成形型63をアンダークラッド層23に押し当て、UV照射することで、前記アンダークラッド層23を硬化、シリコーン製成形型63を剥離した。 Next, as shown in FIG. 4C, the under-cladding layer 23 is formed by pressing the silicone molding die 63 against the under-cladding layer 23 using the convex portion of the outer pattern forming portion 63b as an alignment reference and irradiating with UV. The silicone molding die 63 was peeled off.
次に図3(d)に示すように、前記コア材35を硬化したコアパターン部33上にオーバークラッド材(住友3M製エポキシフィルムSuper10)を積層、100℃で、1時間加熱することでオーバークラッド層53を形成した。 Next, as shown in FIG. 3 (d), an overcladding material (Sumitomo 3M epoxy film Super10) is laminated on the core pattern portion 33 obtained by curing the core material 35, and heated at 100 ° C. for 1 hour. A clad layer 53 was formed.
次に図3(e)に示すように、光基板をガラスウェハからなる支持基板13から剥離し、各ピースを分離した。 Next, as shown in FIG.3 (e), the optical board | substrate was peeled from the support substrate 13 which consists of glass wafers, and each piece was isolate | separated.
光配線パターンに対し、外形パターン部43が、±5μmの精度で形成されていることが確認できた。 It was confirmed that the outer pattern portion 43 was formed with an accuracy of ± 5 μm with respect to the optical wiring pattern.
10、11、21、31・・・ 支持媒体
11、12、13・・・ 支持基板
20、21、22、23・・・アンダークラッド層
30、31、32、33・・・コアパターン形成部
35、36、37、38・・・コア材
40、41、42、43・・・外形パターン形成部
50、51、52、53・・・オーバークラッド層
60、61、62、63・・・成形型
60a、61a、62a、63a・・・コアパターン部
60b、61b、62b、63b・・・外形パターン部
10, 11, 21, 31 ... support medium 11, 12, 13 ... support substrate 20, 21, 22, 23 ... under clad layer 30, 31, 32, 33 ... core pattern forming part 35 , 36, 37, 38 ... Core material 40, 41, 42, 43 ... External pattern forming part 50, 51, 52, 53 ... Over cladding layer 60, 61, 62, 63 ... Mold 60a, 61a, 62a, 63a ... Core pattern part 60b, 61b, 62b, 63b ... Outline pattern part
Claims (2)
外形パターン部を有する支持基板上に、前記外形パターン部間にアンダークラッドを塗布形成するアンダークラッド形成工程と、
コアパターン形成部および前記外形パターン部の凸部に対応する凹部を有する成形型の該コアパターン形成部にコア材を充填成形するコア成形工程と、
前記コア成形工程により得られた成形型を、前記アンダークラッド層上に押し付け、該アンダークラッド層を硬化した後、該成形型をコア材とアンダークラッド層とから剥離し、該コア材を硬化したコアパターン部をアンダークラッド層上に形成する成形型剥離工程と、
前記アンダークラッド層、およびコア材を硬化したコアパターン部上に、オーバークラッド層を形成するオーバークラッド層形成工程と、
前記支持基板を剥離する支持基板剥離工程と、
を有することを特徴とする光基板の製造方法。 In an optical substrate manufacturing method including at least an under cladding layer, a core pattern portion obtained by curing a core material, and an over cladding layer,
An under clad forming step of applying and forming an under clad between the external pattern portions on a support substrate having an external pattern portion;
A core molding step of filling and molding a core material in the core pattern forming portion of a molding die having a recess corresponding to the convex portion of the core pattern forming portion and the outer shape pattern portion;
The molding die obtained by the core molding step was pressed onto the under cladding layer, and after the under cladding layer was cured, the molding die was peeled from the core material and the under cladding layer, and the core material was cured. A mold peeling process for forming the core pattern part on the under cladding layer,
An over clad layer forming step of forming an over clad layer on the core pattern portion obtained by curing the under clad layer and the core material;
A support substrate peeling step for peeling the support substrate;
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---|---|---|---|---|
JPS54100703A (en) * | 1978-01-25 | 1979-08-08 | Mitsubishi Electric Corp | Production of record disc |
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Patent Citations (3)
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---|---|---|---|---|
JPS54100703A (en) * | 1978-01-25 | 1979-08-08 | Mitsubishi Electric Corp | Production of record disc |
JPH03107805A (en) * | 1989-09-22 | 1991-05-08 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Production of optical waveguide |
JP2005043784A (en) * | 2003-07-25 | 2005-02-17 | Fuji Xerox Co Ltd | Master disk for manufacturing polymer optical waveguide and method for magnetic polymer optical waveguide, and aperture conversion type polymer optical waveguide |
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