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JP4579275B2 - 樹脂モールド金型 - Google Patents

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Description

本発明は、半導体装置を樹脂封止する樹脂モールド金型の構成に関する。特に、薄型の半導体装置を樹脂封止するための樹脂モールド金型の構成に関する。
近年の技術の発展に伴い、半導体装置の薄型小型化が進み、基板の片面のみを樹脂封止された半導体装置が実用化されている。特に薄型化においては、より薄い基板の適用、半導体素子の薄化技術、低いボンディングワイヤ技術とあわせて、半導体素子を保護する樹脂も薄肉化の傾向にある。この様な薄い被成形物を樹脂封止する場合、樹脂封止する際の被成形物である基板の反りが成形時に障害となり、樹脂漏れ等の不具合を生じさせる。
このような不具合に対して、特許文献1には、被成形物をセットする部分を多孔質材で構成し、多孔質材を通じて被成形物をエア吸着しその反りを矯正させる技術が開示されている。特許文献1の多孔質材を使用した樹脂モールド金型(図1、図3の一部)に示された図を、樹脂モールド金型の下型の平面図(図8)、そのキャビティインサートの平面図(図9A)および側面図(図9B)としてそれぞれ示す。また特許文献2には、モールド成形時の気泡、ヒケおよびレジンのバリ発生防止のため多孔質材を使用したモールド装置が開示されている。
特開2001−277306号公報(図1、図3) 特開平8−192438号公報
しかしながら、特許文献1に開示された樹脂モールド金型では、被成形物である基板がより薄くなるとその反りを充分矯正し切れない場合が生じることが、本願発明者の実験から明らかになった。薄い基板の場合にはその反りを充分矯正し切れないため、樹脂漏れが発生し、多孔質材の孔に樹脂が充填してしまい、エア吸着に問題が生じた。この第1の原因は、被成形物をクランプする部分まで剛性の落ちる多孔質材にしたため、クランプ力が落ちて被成形物を充分クランプできず、樹脂が漏れることによる。第2の原因は、エア吸着のみでは被成形物である基板の反りを矯正しきれない場合が生じることによる。
これは、近年リードフレームを使用して薄型の半導体装置を製造する場合、このリードフレームの下に封止樹脂の漏れ止めとして樹脂基板を貼り付ける事が一般的となってきている。このように被成形物が金属であるリードフレームと樹脂基板の複合体で基板を構成する場合、エア吸着により樹脂基板を吸着できる。しかし、その上に貼り付けられたリードフレームが熱による反りのため前述の樹脂基板と剥がれてしまい、リードフレームと樹脂基板の間に封止樹脂が漏れてしまう現象が発生する。特にリードフレームの厚みが100マイクロメートル以下の薄いリードフレームでは、その剛性が極端に落ちるため、このような熱による不具合が顕著になり、大きな問題となる。また、特許文献2は、本発明と課題が異なり、またその具体的構成が示されておらず、本発明における課題の解決手段を示唆するものではない。
本発明の目的は、多孔質材を使用して被成形物である基板の熱による反りを矯正しながら、被成形物のクランプ力を高め、多孔質材部分への封止樹脂の樹脂漏れを防止できる樹脂モールド金型を提供することにある。
本発明の樹脂モールド金型は、基板と前記基板の一方の面に搭載された半導体素子とを含む被形成物を樹脂封止する上型と下型とを備え、その上型ないし下型の一方には第一のクランプ部を備え、上型ないし下型のもう一方には基板の他方の面を支持する平面のセット部を備え、前記第一のクランプ部は、樹脂が圧送される樹脂流動部の周縁部に凸状の潰しを備え、前記セット部は前記平面と前記平面と反対の面とを貫通する孔を持つ多孔質材で構成された吸着部と、非多孔質の金属体で構成された第二のクランプ部とを備え、前記第一のクランプ部と前記第二のクランプ部とで、前記基板をクランプするよう構成されていることを特徴とする。
このように樹脂モールド金型のクランプ部分を金属体で構成することで樹脂モールド金型の剛性を上げ、被成形物である基板を僅かに押しつぶす位のクランプ力を印加できる。また、クランプ力を向上させたことで被成形物の樹脂成形部分に対して樹脂漏れを完全に防ぐことができ、多孔質材を保護できてエア吸着を確実にでき被成形物の反りの完全な矯正が可能となる。また、セット部分は多孔質材で構成するために、被成形物の樹脂成形部を概全面に渡り樹脂モールド金型の支持面に吸着できる。
次に本発明の実施の形態例について、実施例として図面を参照して詳細に説明する。
第1の実施例として、図1〜3を参照して詳細に説明する。図1には実施例1における樹脂モールド金型の下型100の構成を示す平面図を示す。図2および図3には、図1のA−A’線およびB−B’線に沿ったそれぞれの金型断面図を示す。本実施例の樹脂モールド金型は、薄い基板14の一方の面にマトリックス状に多数個の半導体素子を搭載した被成形物を樹脂モールドするものである。
図1に示す下型100は、ポット16からの樹脂が通る樹脂流動ブロック2、樹脂成形エリア4を包括したキャビティブロック5、キャビティブロック5の両端に配置したサイドブロック3、基板位置決めピン8を設置したガイドブロック6から構成されている。基板は、基板位置決めピン8により基板搭載エリア7(二点鎖線で示す)にセットされる。その基板の半導体素子を含む樹脂成形エリア4(破線で示す)において、ポット16からの樹脂は樹脂流動エリア1(一点鎖線で示す)を通って、被成形物を樹脂モールドする。
樹脂流動ブロック2は、ポット16から樹脂成形エリア4との間に設けられている。被成形物を支持する平面領域である基板搭載エリア7の被成形物の端面に沿った位置に、幅2mm程度の剛性のある金属体で構成され、樹脂モールドする際には被成形物をクランプする。樹脂流動ブロック2は必ずしも幅2mmに限定する必要はないが、被成形物を確実にクランプするための領域を確保する幅が必要である。
キャビティブロック5は、樹脂成形エリア4の位置に設けるものであり、被成形物を平坦状に支持するため上面を平坦面に形成している。樹脂流動ブロック2およびガイドブロック6の基板搭載エリア7の上面も、キャビティブロック5の上面と同一高さの平坦面に形成されている。サイドブロック3およびガイドブロック6は、下型100の剛性を持たせるために金属体で構成されている。ガイドブロック6には、被成形物である基板14の搭載位置のズレを防止するために基板位置決めピン8を設けている。
キャビティブロック5は、その表面全体で被成形物をエア吸引して支持するため、エア吸引用の空孔が多数形成された多孔質材(キャビティブロック5a)によって構成する。なお、多孔質材は被成形物をエア吸引できる空孔が形成されたものであれば材質を特に限定するものではない。空孔の大きさ(直径)としては、数マイクロメートルから数十マイクロメートル程度のものが適しており、耐熱温度が200℃程度必要である。以下の説明においては、平面図においてはキャビティブロックを総称して単にキャビティブロック5と表記し、断面図においては例えばキャビティブロック5aとして添え字付きで表記するものとする。
図2に図1のA−A’線に沿った金型の断面図を示す。本図には樹脂モールド金型の下型100、上型101を図示している。下型100は、被成形物である基板14を位置決めピン8を介し、前述したようにキャビティブロック5aと樹脂流動ブロック2およびガイドブロック6の上面の平坦面に平坦状に支持するように構成されている。基板14は、基板搭載エリア7をセット部として、セット部に平坦にセットされる。このセット部を構成する樹脂流動ブロック2、キャビティブロック5aおよびガイドブロック6の上面は、同一高さの平坦面として形成され、基板を平坦に支持することができる。
キャビティブロック5aは、被成形物を搭載する上面の反対面である下面より、図示していないエア吸引機構により多孔質材の多数の空孔を通気して吸引する。このようにキャビティブロック5aが吸着部となり、エア吸引により被成形物である基板14を支持することができる。また、ポット16の下方にはプランジャ18を有し、プランジャ18によりポット16内の封止樹脂を射出する。
上型101は、樹脂を樹脂成形エリア4に流し込むためのカル部17、樹脂流動部11および樹脂成形部12と、基板をクランプするための潰し13を有している。これらのカル部17、樹脂流動部11、樹脂成形部12、潰し13は金属体により構成されている。ランナーと呼ばれる樹脂流動部11が基板14を介して樹脂流動エリア1と対向し、樹脂成形部12が樹脂成形エリア4と対向するように設けられている。さらにカル部17がポット16と対向するように設けられている。
樹脂流動部11の周縁部には、下型側へ突き出した凸状の潰し13が設けられている。潰し13の幅は前記樹脂流動ブロック2と同一とし、突き出し量は1から10マイクロメートル程度の金属体で構成されている。潰し13は、樹脂モールドする際には被成形物である基板14を僅かに潰すことで確実にクランプする。基板14をクランプする場合には、潰し13を第1のクランプ部とし、樹脂流動ブロック2を第2のクランプ部として、基板14を上下からクランプする。このとき第1のクランプ部と第2のクランプ部の離間距離は、基板の膜厚より潰し13の突き出し量だけ短くなる。従って、この突き出し量の分だけ、基板を潰し、基板をクランプすることになる。潰し13の突き出し量は必ずしも1から10マイクロメートルにする必要はないが、被成形物を異常変形させずに確実にクランプするための突き出し量を確保する必要がある。
図3に図1のB−B’断面図を示す。下型100は、樹脂流動ブロック2のみ図示され、被成形物である基板14が樹脂流動ブロック2の上面の平坦面に平坦状に支持するように構成されている。上型101は、樹脂流動部11と、その周縁部に下型側へ突き出した凸状の潰し13が図示され、樹脂流動部11の側面と潰し13の凸部側面は同一平面に形成され、金属体で構成されている。
ここでの金属体とは、金型用途として一般的に使用される剛性のある金属を意味しており、前述の通気可能な多孔質材ではない。また被成形物である基板14は、特に限定されるものではない。例えば、薄い樹脂フィルム状基板や、薄いリジット基板および薄い金属性のリードフレームにバックテープを貼り付けた基板などに適用することができる。また前記記載の基板以外でも、基板のクランプを確実に行う必要のある基板への適用は可能である。このように基板は特に限定されないが、特に本発明は、樹脂モールド金型にセットした時に反りや位置ズレが発生しやすい場合に、有効である。
例えば100マイクロメートル以下の薄い基板の場合には、基板は熱の影響で変形しやすく、反りや位置ズレが発生しやすい。そのため本発明の樹脂モールド金型により基板クランプを確実に行うことで、大きな効果が得られる。さらに基板に形成されたリードフレームの厚さが薄く、100マイクロメートル以下の場合には、リードフレームの剛性が低下し、反りや位置ズレがより発生しやすい。そのため本発明の基板のクランプを適用した場合には、さらに大きな効果が得られることになる。
次に、上述した構造の樹脂モールド金型を用い、樹脂成形工程フローを説明する。まず、一方の面にマトリックス状に多数個の半導体素子を搭載した被成形物である基板14を下型100に半導体素子が上向きになるように配置する。基板14を基板位置決めピン8により所定の位置に配置する。多孔質材のキャビティブロック5aの下面からエア吸引機構により基板14を基板搭載エリア7の平坦面にエア吸引することで平坦に支持する。従来の金属体で構成されたキャビティブロックの場合と比較すると、多孔質材で構成されエア吸引する本構造は、基板14とキャビティブロック5の隙間には空気の溜りをなくすことができる。そのため基板14とキャビティブロック5の隙間における空気の熱膨張による基板の浮きをなくすことが可能となる。また、エア吸引により基板14の反りを矯正することができる。
次に、下型のポット16にタブレット状の封止樹脂を投入し型締めを行う。型締めは、はじめに潰し13が基板14に当りクランプを行う。上型の潰し13と下型の樹脂流動ブロック2は金属体で構成され剛性が強く、基板14の樹脂流動部11にあたる周縁部を僅かに潰すことにより確実にクランプすることができる。潰し13の突き出し量の型締めが終わると樹脂成形部を含む樹脂流動部11以外の他の樹脂充填部周囲にあたる部位の基板をクランプする。このクランプは、潰し13にあたる部位ほど強いクランプ力ではないが、上型と基板の隙間はほとんどなく、樹脂モールドの成形中に封止樹脂が流れ出すことはない。また、型締めを行っている時もキャビティブロック5aのエア吸引は行っている。
型締め完了後、下型のポット16の下方よりプランジャ18が動作しポット内の封止樹脂を射出する。封止樹脂は、上型のカル部17より樹脂流動部11を通って樹脂成形部12に充填される。樹脂流動部11の周縁部の基板14は、潰し13により僅かに潰され確実にクランプされており、基板14の樹脂流動部11の周縁部にあたる端面からの封止樹脂の漏れは防止できる。このようにすることで、基板14の支持面である下型平坦領域の樹脂流動ブロック2およびキャビティブロック5aへの樹脂流れ出しの発生はない。また、封止樹脂の成形が完了するまではキャビティブロック5aのエア吸引は行っている。封止樹脂の成形を終え、金型内での樹脂硬化時間を経て金型を開き、封止樹脂を形成された基板14を取り出して樹脂成形工程フローが完了する。
本実施例においては、エア吸引することにより被成形物を下型に支持させている。しかし、必ずしもエア吸引を行う必要はない。例えば基板とキャビティブロックの隙間の空気が多孔質材から外部へ逃げることにより基板の浮きがなく、かつ基板の反りがほとんどない被成形物である場合には、エア吸引を行う必要はない。また、前記エア吸引の開始と停止時期は最良な例であり、不具合の発生がない場合は前述以外の時期とすることもできる。
上述したように、被成形物をセットする時は下型の位置決めピンにより位置ズレなく搭載され、かつキャビティブロック部のエア吸引により平坦面に平坦状に支持することが可能である。さらに、下型には剛性のある金属体で形成した樹脂流動ブロック、対向した上型には樹脂流動部の周縁部に下型側に突き出した剛性のある金属体で形成した凸状の潰しを設けている。この下型の樹脂流動ブロックと上型の凸状の潰しにより、樹脂流動部にあたる被成形物を僅かな潰しにより確実にクランプすることが可能となる。樹脂流動ブロック以外の樹脂が充填される周辺部においても、潰しによる影響はなくクランプすることが可能である。また、潰しによる被成形物の変形や反りの発生はなく後工程への悪影響を与えることもない。
このように、基板14がセットされるセット部の金型は、樹脂流動ブロック2、キャビティブロック5a、ガイドブロック6から構成される。このセット部の上面は、同じ高さの平坦面として形成され、基板を平坦状に支持する。セット部に平坦にセットされた基板は、吸着部であるキャビティブロック5aによりエア吸引され、セット部に吸着される。さらに金属体で形成した潰し13を第1のクランプ部として、金属体で形成した樹脂流動ブロック2を第2のクランプ部として、基板をクランプする。このように基板をクランプすることで、樹脂漏れを防止可能とする。
本発明においては、多孔質材に比べ剛性の高い金属体で構成された樹脂流動ブロックと、対向した樹脂流動部の周縁部に設けた凸状の潰しを設ける。この樹脂流動ブロックと、対向した凸状の潰しにより、樹脂流動部にあたる被成形物を僅かに潰し、確実なクランプを可能とする。被成形物を確実にクランプすることで、樹脂漏れを完全に防止することが可能である。しかも、樹脂流動ブロックエリアを金属体にすることにより、高価な多孔質材の使用面積を減らすことができ、樹脂モールド金型の価格低減という効果も得られる。
本発明の第2の実施例を、図4、5を参照して説明する。図4には、実施例2における樹脂モールド金型の下型200の構成を示す平面図を示す。図5には、図4のA−A’線に沿った金型断面図を示す。本実施例の樹脂モールド金型は、薄い基板14の一方の面にマトリックス状に多数個の半導体素子を搭載した被成形物を樹脂モールドするものである。実施例1は基板の周辺部である樹脂流動エリアをクランプした実施例である。本実施例は、さらに半導体素子を樹脂封止する樹脂成形エリアである樹脂成形部の周辺においてもクランプする実施例である。また、実施例1と同じ構成要素は、同じ符号を付している。
図4を参照すると、下型200は実施例1と同様に、ポット16からの樹脂が通る樹脂流動ブロック2、樹脂成形エリア4を包括したキャビティブロック5、キャビティブロック5の両端に配置したサイドブロック3、基板位置決めピン8を設置したガイドブロック6から構成されている。実施例1との違いは、キャビティブロック5が、樹脂成形エリア4の領域のみを多孔質材とし、その周囲は剛性のある金属体(インサートブロック)で構成されていることである。
樹脂流動ブロック2は、ポット16から樹脂成形エリア4との間に設けられている。被成形物を支持する平面領域である基板搭載エリア7の被成形物の端面に沿った位置に金属体で構成され、樹脂モールドする際には被成形物をクランプする。キャビティブロック5は、樹脂成形エリア4の位置に設けるものであり、被成形物を平坦状に支持するため上面を平坦面に形成している。
樹脂流動ブロック2およびガイドブロック6の基板搭載エリア7の上面も、キャビティブロック5の上面と同一高さの平坦面に形成されている。サイドブロック3およびガイドブロック6は、下型200の剛性を持たせるために金属体で構成されている。ガイドブロック6には、被成形物である基板14の搭載位置のズレを防止するために基板位置決めピン8を設けている。また、樹脂流動ブロック2は、サイドブロック3またはキャビティブロック5の金属体部と同一ブロックとして構成することもできる。
キャビティブロック5の樹脂成形エリア4に対応した領域は、その表面全体で被成形物をエア吸引して支持するため、エア吸引用の空孔が多数形成された多孔質材(キャビティブロック5b)によって構成する。その周囲は剛性のある金属体(インサートブロック5c)で構成されている。なお、多孔質材は被成形物をエア吸引できる空孔が形成されたものであれば材質を特に限定するものではない。空孔の大きさとしては、数マイクロメートルから数十マイクロメートル程度のものが適しており、耐熱温度が200℃程度必要である。
図5に図4のA−A’断面図を示す。本図には樹脂モールド金型の下型200、上型201を図示している。下型200は、被成形物である基板14を位置決めピン8を介し、前述したようにキャビティブロック5と樹脂流動ブロック2およびガイドブロック6の上面の平坦面に平坦状に支持するように構成されている。また、キャビティブロック5は、樹脂成形エリア4に対応した多孔質材のキャビティブロック5bと、樹脂成形エリア4以外の領域に対応した金属体のインサートブロック5cで構成されている。
基板14は、基板搭載エリア7をセット部として、セット部に平坦にセットされる。このセット部を構成する樹脂流動ブロック2、キャビティブロック5b、インサートブロック5cおよびガイドブロック6の上面は、同一高さの平坦面として形成され、基板14を平坦に支持することができる。キャビティブロック5bは、被成形物を搭載する上面の反対面である下面より、図示していないエア吸引機構により多孔質材の多数の空孔を通気して吸引する。このようにキャビティブロック5bが吸着部となり、エア吸引により被成形物である基板14を支持することができる。
上型201は、樹脂を樹脂成形エリア4に流し込むためのカル部17、樹脂流動部11および樹脂成形部12と、基板をクランプするための潰し13を有している。これらのカル部17、樹脂流動部11、樹脂成形部12、潰し13は金属体により構成されている。ランナーと呼ばれる樹脂流動部11が基板14を介して樹脂流動エリア1と対向し、樹脂成形部12が樹脂成形エリア4と対向するように設けられている。さらにカル部17がポット16と対向するように設けられている。
樹脂流動部11と樹脂成形部12を含む封止樹脂が流動充填される部位の周縁部には、下型側へ突き出した凸状の潰し13が設けられている。潰し13の突き出し量は1から10マイクロメートル程度の金属体で構成され、樹脂モールドする際には被成形物である基板14を僅かに潰すことで確実にクランプする。基板14をクランプする場合には、潰し13を第1のクランプ部とし、樹脂流動ブロック2とインサートブロック5cとを第2のクランプ部として、基板を上下からクランプする。潰し13の突き出し量は必ずしも1から10マイクロメートルにする必要はないが、被成形物を異常変形させずに確実にクランプするための突き出し量を確保する必要がある。また、樹脂の流動充填部の側面と潰し13の凸部側面は同一平面に形成され、金属体で構成されている。
このように、基板14がセットされるセット部の金型は、樹脂流動ブロック2、キャビティブロック5b、インサートブロック5c、ガイドブロック6から構成される。キャビティブロック5bは多孔質材により形成され、インサートブロック5cは金属体により形成されている。このセット部の上面は、同じ高さの同一平坦面として形成され、基板を平坦状に支持する。セット部に平坦にセットされた基板は、吸着部であるキャビティブロック5bによりエア吸引され、セット部に吸着される。さらに金属体で形成した潰し13を第1のクランプ部として、金属体で形成した樹脂流動ブロック2とインサートブロック5cとを第2のクランプ部として、基板を広い領域においてクランプする。このように基板をクランプすることで、樹脂漏れを防止可能とする。
本実施例は、実施例1に比べ、広範囲に潰し13を設け、より確実にクランプする構成の樹脂モールド金型となっている。この構成により基板の封止樹脂を形成する表面側の樹脂成形エリアを含んだ樹脂流動部と樹脂充填部の周縁部を僅かに潰すことで、確実にクランプすることができる。従って実施例1と同様に、樹脂流動部からの樹脂漏れを完全に防止することが可能である。更に、樹脂成形エリアからの樹脂漏れも完全に防止することが可能となる。しかも、樹脂成形エリア以外の領域を金属体にすることにより、実施例1の金型よりも高価な多孔質材の使用面積を減らすことができる。従って樹脂モールド金型の価格低減という効果も得られ、さらに金型全体の剛性もあがる効果が得られる。
本発明の第3の実施例を、図6、7を参照して説明する。図6には、実施例3における樹脂モールド金型の下型300の構成を示す平面図を示す。図7には、図6のA−A’線に沿った金型断面図を示す。本実施例の樹脂モールド金型は、薄い基板14の一方の面にマトリックス状に多数個の半導体素子を搭載した被成形物を樹脂モールドするものである。また、実施例1と同じ構成要素は、同じ符号を付している。
図6に示す下型300には、ポット16からの樹脂が通る樹脂流動エリア1に金属体で構成された金属ブロックの入子10が挿入され、基板搭載エリア7を包括したキャビティブロック5、キャビティブロック5を囲うように配置した囲いブロック9、基板位置決めピン8から構成されている。キャビティブロック5は、基板搭載エリア7以上の領域があり多孔質材(キャビティブロック5d)で構成されている。入子10の幅は、下型300の樹脂流動ブロック2の幅より片側0.5ミリメートル以上広い形状を有したものである。また入子10は、ブロック構成ではなく実施例1と同じように、サイドブロック3の端面までの長さや基板と同等の長さの樹脂流動ブロックとして構成したものでもよい。
入子10は、ポット16から樹脂成形エリア4との間に設けるものであり、被成形物を支持する平面領域である基板搭載エリア7の被成形物の端面に沿った位置に金属体で構成される。樹脂モールドする際には被成形物をクランプするものである。キャビティブロック5は、基板搭載エリア7以上の領域に設けられてあり、被成形物を平坦状に支持するため上面を平坦面に形成している。また、キャビティブロック5には被成形物である基板14の搭載位置のズレを防止するために、基板位置決めピン8を設けている。入子10の上面もキャビティブロック5の上面と同一高さの平坦面に形成されている。囲いブロック9は、下型300の剛性を持たせるために金属体で構成されている。
キャビティブロック5は、その表面全体で被成形物をエア吸引して支持するため、エア吸引用の空孔が多数形成された多孔質材(キャビティブロック5d)によって構成されている。なお、多孔質材は被成形物をエア吸引できる空孔が形成されたものであれば材質を特に限定するものではない。空孔の大きさとしては、数マイクロメートルから数十マイクロメートル程度のものが適しており、耐熱温度が200℃程度必要である。
図7に図6のA−A’断面図を示す。本図には樹脂モールド金型の下型300、上型301を示している。下型300は、被成形物である基板14を位置決めピン8を介し、前述したようにキャビティブロック5dの上面と入子10の上面の平坦面に平坦状に支持するように構成されている。入子10は下方の樹脂流動ブロック2に固定ネジ15で固定されている。基板14は、基板搭載エリア7をセット部として、セット部に平坦にセットされる。このセット部を構成する入子10およびキャビティブロック5dの上面は、同一高さの平坦面として形成され、基板を平坦に支持することができる。キャビティブロック5dは、被成形物を搭載する上面の反対面である下面より、図示していないエア吸引機構により多孔質材の多数の空孔を通気して基板14をエア吸引する。このようにキャビティブロック5dが吸着部となり、エア吸引により被成形物である基板14を支持することができる。
上型301は、樹脂を樹脂成形エリア4に流し込むためのカル部17、樹脂流動部11および樹脂成形部12と、基板をクランプするための潰し13を有している。これらのカル部17、樹脂流動部11、樹脂成形部12、潰し13は金属体により構成されている。ランナーと呼ばれる樹脂流動部11が基板14を介して樹脂流動エリア1と対向し、樹脂成形部12が樹脂成形エリア4と対向するように設けられている。さらにカル部17がポット16と対向するように設けられている。
樹脂流動部11の周縁部には、下型側へ突き出した凸状の潰し13が設けられている。その潰し13の幅は入子10と対向した形状とし、突き出し量は1から10マイクロメートル程度の金属体で構成されている。樹脂モールドする際には被成形物である基板14の樹脂流動エリア1の周縁部を、潰し13により僅かに潰すことにより確実にクランプする。基板14をクランプする場合には、潰し13を第1のクランプ部とし、入子10を第2のクランプ部として、基板を上下からクランプする。潰し13の突き出し量は必ずしも1から10マイクロメートルにする必要はないが、被成形物を異常変形させずに確実にクランプするための突き出し量を確保する必要がある。また、樹脂の流動充填部の側面と潰し13の凸部側面は同一平面に形成され、金属体で構成されている。
このように、基板14がセットされるセット部の金型は、入子10、キャビティブロック5dから構成されている。キャビティブロック5dは多孔質材により形成され、入子10は金属体により形成されている。このセット部の上面は、同じ高さの同一平坦面として形成され、基板を平坦状に支持する。セット部に平坦にセットされた基板は、吸着部であるキャビティブロック5dによりエア吸引され、セット部に吸着される。さらに金属体で形成した潰し13を第1のクランプ部として、金属体で形成した入子10を第2のクランプ部として、基板をクランプする。このように基板をクランプすることで、樹脂漏れを防止可能とする。
本実施例は、多孔質材に比べ剛性の高い金属体で構成された入子と、対向した樹脂流動部の周縁部に設けた凸状の潰しを設ける。この入子と対向した凸状の潰しにより、被成形物を僅かに潰し、確実なクランプを可能とする。被成形物を確実にクランプすることで、実施例1と同様に、樹脂流動部からの樹脂漏れを完全に防止することが可能である。また、従来の樹脂モールド金型の大部分をそのまま使用できるため、新たに金型を製作する必要がなく投資金額を削減できる。
本発明の樹脂モールド金型は、被成形物を支持する平面領域を含むセット部の少なくとも被成形物の樹脂成形部を、被成形物のセット面から反対の面に多数の貫通孔で形成された多孔質材で構成する。かつ被成形物を支持する平面領域のうちの被成形物を上型と下型でクランプする部分を金属体とした構造とする。
こうすることで、クランプ部分の樹脂モールド金型の剛性を上げ、確実に被成形物をクランプできる。また、この多孔質材部分は被成形物の樹脂成形部をエアで確実に吸着させるため、金型外に設けたエア吸引機構と連通させた構造を有することが好ましい。更に、上型と下型で被成形物をクランプする部分である被成形物の周縁部の樹脂モールド金型構造は、被成形物を僅かに押しつぶすようにして多孔質材部分への樹脂漏れを防ぐことが好ましい。このため、この部分の樹脂充填時の上型と下型との離間距離は、前記被成形物の厚みに対して1から10マイクロメートル短い様に構成すると良い。
このように樹脂モールド金型のクランプ部分を金属体で構成することで樹脂モールド金型の剛性を上げ、被成形物である基板を僅かに押しつぶす位のクランプ力を印加できる。また、クランプ力を向上させたことで被成形物の樹脂成形部分に対して樹脂漏れを完全に防ぐことができ、多孔質材を保護できてエア吸着を確実にでき被成形物の反りの完全な矯正が可能となる。また、この部分を多孔質材で構成するために、被成形物の樹脂成形部を概全面に渡り樹脂モールド金型の支持面に吸着できる。
本発明の樹脂モールド金型は、被成形物の樹脂成形部を多孔質材で構成し、クランプする部分を金属体により構成する。この構成により、多孔質材を使用して被成型物の浮きや反りを矯正しながら、樹脂流動部を剛性のある金属体で潰して被成形物を確実にクランプすることができる。被成形物を確実にクランプすることで、封止樹脂の漏れを確実に防止することができる。本発明によれば、封止樹脂の漏れを確実に防止することができる樹脂モールド金型が得られる。
以上、実施例に基づき本発明を具体的に説明したが、本発明は上述の実施例に限定されるものではない。本願の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更を施すことができ、これらの変更例も本願に含まれることはいうまでもない。例えば、本実施例においては第1のクランプである潰しを樹脂モールド金型の上型に、第2のクランプを樹脂モールド金型の下型に設けた。しかし逆に第1、第2のクランプを下型、上型に設けることもできる。このように各種の応用例に適用することができるものである。
本発明の活用例として、片方の面に樹脂を用いて封止する半導体装置を含む電子装置の樹脂封止用金型が挙げられる。
本発明の実施例1における樹脂モールド金型の下型の平面図である。 図1におけるA−A’線における樹脂モールド金型の断面図である。 図1におけるB−B’線における樹脂モールド金型の断面図である。 本発明の実施例2における樹脂モールド金型の下型の平面図である。 図4におけるA−A’線における樹脂モールド金型の断面図である。 本発明の実施例3における樹脂モールド金型の下型の平面図である。 図6におけるA−A’線における樹脂モールド金型の断面図である。 従来例における樹脂モールド金型の下型の平面図である。 従来例における樹脂モールド金型のキャビティインサートの平面図(A)、側面図(B)である。
符号の説明
1 樹脂流動エリア
2 樹脂流動ブロック
3 サイドブロック
4 樹脂成形エリア
5 キャビティブロック
5a キャビティブロック
5b キャビティブロック
5c インサートブロック
5d キャビティブロック
6 ガイドブロック
7 基板搭載エリア
8 基板位置決めピン
9 囲みブロック
10 入子
11 樹脂流動部
12 樹脂成形部
13 潰し
14 基板
15 固定ネジ
16 ポット
17 カル部
18 プランジャ
100 実施例1における樹脂モールド金型の下型
101 実施例1における樹脂モールド金型の上型
200 実施例2における樹脂モールド金型の下型
201 実施例2における樹脂モールド金型の上型
300 実施例3における樹脂モールド金型の下型
301 実施例3における樹脂モールド金型の上型

Claims (9)

  1. 基板と前記基板の一方の面に搭載された半導体素子とを含む被形成物を樹脂封止する上型と下型とを備えた樹脂モールド金型であって、
    前記上型ないし前記下型の一方には第一のクランプ部を備え、前記上型ないし前記下型のもう一方には前記基板の他方の面を支持する平面のセット部を備え、
    前記第一のクランプ部は、樹脂が圧送される樹脂流動部の周縁部に凸状の潰しを備え、
    前記セット部は、前記平面と前記平面と反対の面とを貫通する孔を持つ多孔質材で構成された吸着部と、非多孔質の金属体で構成された第二のクランプ部とを備え、
    前記第一のクランプ部と前記第二のクランプ部とで、前記基板をクランプするよう構成されていることを特徴とする樹脂モールド金型。
  2. 前記潰しは、前記セット面を設けた型の他方の型にのみ備えることを特徴とする請求項1に記載の樹脂モールド金型。
  3. 前記第一のクランプ部は、非多孔質の金属体で構成されることを特徴とする請求項1または2に記載の樹脂モールド金型。
  4. 前記孔の直径は、数マイクロメートルから数十マイクロメートルであることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の樹脂モールド金型。
  5. 前記吸着部は、金型外に設けたエア吸引機構と連通される構成であることを特徴とする請求項1ないし4のいずれかに記載の樹脂モールド金型。
  6. 前記被形成物を樹脂封止する時に、前記第一のクランプ部の凸状の潰しと前記第二のクランプ部との離間距離が前記基板の厚さに対して1から10マイクロメートル短くなるよう、構成されていることを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記載の樹脂モールド金型。
  7. 前記基板の厚さが、100マイクロメートル以下であることを特徴とする請求項6に記載の樹脂モールド金型。
  8. 前記第一のクランプ部は、前記基板の周辺部をクランプするよう構成されていることを特徴とする請求項1ないし7のいずれかに記載の樹脂モールド金型。
  9. 前記上型は前記半導体素子を樹脂封止するための樹脂形成部を備え、前記第一のクランプ部は前記樹脂形成部の周辺に備えられたことを特徴とする請求項1ないし8のいずれかに記載の樹脂モールド金型。
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