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JP4570607B2 - High frequency module package - Google Patents

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JP4570607B2 JP2006323448A JP2006323448A JP4570607B2 JP 4570607 B2 JP4570607 B2 JP 4570607B2 JP 2006323448 A JP2006323448 A JP 2006323448A JP 2006323448 A JP2006323448 A JP 2006323448A JP 4570607 B2 JP4570607 B2 JP 4570607B2
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Description

この発明は高周波モジュール用パッケージに関し、特に伝送特性を向上させた高周波モジュール用パッケージに関する。   The present invention relates to a high-frequency module package, and more particularly to a high-frequency module package with improved transmission characteristics.

従来より、積層構造をとる誘電体パッケージであって、高周波の信号を通過させるものが知られている。   2. Description of the Related Art Conventionally, a dielectric package having a laminated structure that allows high-frequency signals to pass is known.

図15は、積層構造をとる誘電体パッケージの断面図である。例えば周波数5GHz程度以下の周波数の信号が通過する配線(RF信号線)構造として、図15に示すような構造が考えられている。   FIG. 15 is a cross-sectional view of a dielectric package having a stacked structure. For example, a structure as shown in FIG. 15 is considered as a wiring (RF signal line) structure through which a signal having a frequency of about 5 GHz or less passes.

図15を参照して、この誘電体パッケージは第1層〜第5層の導体パターン層と、各層に介在する誘電体層とから構成されている。   Referring to FIG. 15, the dielectric package includes first to fifth conductive pattern layers and dielectric layers interposed between the layers.

図16〜図20は、第5層〜第1層の各層の導体パターンを平面的に見た図である。図16〜図20に関しては、ハッチングにより導体部分を示している。   16 to 20 are plan views of the conductor patterns of the respective layers of the fifth layer to the first layer. 16 to 20, the conductor portion is shown by hatching.

導体パターン層の最下部を構成する第1層は、パッケージ裏面パターン層(6)と呼ばれ、このパターン層により配線構造が外部に電気的に接続される。   The first layer constituting the lowermost part of the conductor pattern layer is called a package back surface pattern layer (6), and the wiring structure is electrically connected to the outside by this pattern layer.

導体パターン層の下から数えて第4層目は、チップ接続用パターン層(5)と呼ばれ、チップが直接接続される層である。第4層および第1層には、それぞれチップ接続用RF信号線(2)とパッケージ裏面RF信号線(4)とが設けられている。チップ接続用RF信号線(2)とパッケージ裏面RF信号線(4)とは、第1層から第4層を貫通するRF信号線ビア(3)によって電気的に接続される。   The fourth layer from the bottom of the conductor pattern layer is called a chip connecting pattern layer (5) and is a layer to which chips are directly connected. In the fourth layer and the first layer, a chip connection RF signal line (2) and a package back surface RF signal line (4) are provided, respectively. The chip connection RF signal line (2) and the package back surface RF signal line (4) are electrically connected by an RF signal line via (3) penetrating from the first layer to the fourth layer.

第1層、第4層および第5層にはGND(グランド)パターン(1)が設けられ、それぞれはGNDビア(7)により電気的に接続される。   A GND (ground) pattern (1) is provided in the first layer, the fourth layer, and the fifth layer, and each is electrically connected by a GND via (7).

しかしながら、さらに高周波化が進み、例えば10GHz程度以上の信号を通過させる場合になると、上述のように構成されたパッケージでは伝送特性が悪化するという問題がある。   However, when the frequency is further increased, for example, when a signal of about 10 GHz or more is passed, there is a problem that the transmission characteristics are deteriorated in the package configured as described above.

この発明は上述の問題点を解決するためになされたものであり、高周波化が進んだ場合においても良好な伝送特性を得ることができる高周波モジュール用パッケージを提供することを目的としている。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a high-frequency module package that can obtain good transmission characteristics even when the frequency is increased.

高周波化が進んだ場合における伝送特性の悪化の原因としては、以下の要素が考えられる。   The following factors can be considered as causes of the deterioration of the transmission characteristics when the frequency increases.

・チップ接続用RF信号線(2)とRF信号線ビア(3)との接続部と、その周囲のGNDパターン(1)との容量結合
・パッケージ裏面RF信号線(4)とRF信号線ビア(3)との接続部と、その周囲のGNDパターン(1)との容量結合
・チップ接続用RF信号線(2)とRF信号線ビア(3)との接続部と、チップ接続用パターン層(5)よりも上層(第5層)のGNDパターン(1)との容量結合
・チップ接続用パターン層(5)とパッケージ裏面パターン層(6)とを結ぶGNDビア(7)の共振
すなわち、図15〜図20に示す例において、チップ接続用RF信号線(2)は、特性インピーダンスが例えば50Ωの、コプレナ線路構造あるいはグランデッドコプレナ線路構造を構成している。また、チップ接続用パターン層(5)とパッケージ裏面パターン層(6)とを結ぶRF信号線ビア(3)は、RF信号線ビア(3)周囲にGNDビア(7)を配置することにより、特性インピーダンスが、例えば同様に50Ωとなるように設計されている。
Capacitive coupling between the connection portion of the chip connection RF signal line (2) and the RF signal line via (3) and the GND pattern (1) around the connection portion. RF signal line via the package back surface (4) and the RF signal line via. Capacitive coupling between the connection portion to (3) and the surrounding GND pattern (1). Connection portion between the RF signal line for chip connection (2) and the RF signal line via (3), and a pattern layer for chip connection. Capacitive coupling with the GND pattern (1) in the upper layer (fifth layer) than (5)-Resonance of the GND via (7) connecting the chip connecting pattern layer (5) and the package back surface pattern layer (6) 15 to 20, the chip connecting RF signal line (2) constitutes a coplanar line structure or a grounded coplanar line structure having a characteristic impedance of 50Ω, for example. Further, the RF signal line via (3) connecting the chip connecting pattern layer (5) and the package back surface pattern layer (6) is arranged by arranging the GND via (7) around the RF signal line via (3). Similarly, the characteristic impedance is designed to be 50Ω, for example.

ところが、図15〜図20に示す従来の構造では、チップ接続用RF信号線(2)とRF信号線ビア(3)との接続部は、周囲のGNDパターン(1)との容量結合が大きい構造となっている。この不要な容量が、特性インピーダンスの不整合を引き起こし、結果として伝送特性が劣化するのである。   However, in the conventional structure shown in FIGS. 15 to 20, the coupling portion between the chip connecting RF signal line (2) and the RF signal line via (3) has a large capacitive coupling with the surrounding GND pattern (1). It has a structure. This unnecessary capacitance causes mismatching in characteristic impedance, resulting in degradation of transmission characteristics.

また、パッケージ裏面RF信号線(4)およびRF信号線ビア(3)の接続部と、その周囲のGNDパターン(1)との容量結合についても同様である。すなわち、図20において、パッケージ裏面RF信号線(4)は、特性インピーダンスが例えば50Ωの、コプレナ線路構造あるいはグランデッドコプレナ線路構造を構成している。また、チップ接続用RF信号線(2)とパッケージ裏面RF信号線(4)とを結ぶRF信号線ビア(3)は、RF信号線ビア(3)の周囲にGNDビア(7)を配置することにより、特性インピーダンスを、例えば同様に50Ωに設計している。   The same applies to the capacitive coupling between the connection part of the RF signal line (4) and the RF signal line via (3) on the back surface of the package and the surrounding GND pattern (1). That is, in FIG. 20, the package back surface RF signal line (4) forms a coplanar line structure or a grounded coplanar line structure with a characteristic impedance of 50Ω, for example. The RF signal line via (3) connecting the chip connection RF signal line (2) and the package back surface RF signal line (4) has the GND via (7) disposed around the RF signal line via (3). Thus, the characteristic impedance is similarly designed to be 50Ω, for example.

ところが、図20に示す従来の構造では、パッケージ裏面RF信号線(4)およびRF信号線ビア(3)の接続部と、その周囲のGNDパターン(1)との容量結合が大きい構造となっており、不要な容量が、特性インピーダンスの不整合を引き起こし、伝送特性が劣化するのである。   However, in the conventional structure shown in FIG. 20, the capacitive coupling between the connection portion of the RF signal line (4) and the RF signal line via (3) on the back surface of the package and the GND pattern (1) around it is large. Unnecessary capacitance causes mismatching of characteristic impedance, and transmission characteristics deteriorate.

また、チップ接続用RF信号線(2)およびRF信号線ビア(3)の接続部と、チップ接続用パターン層(5)よりも上層(例えば図15における第5層)のGNDパターン(1)とについても同様に、容量結合が大きい構造となっているため、不要な容量が特性インピーダンスの不整合を引き起こし、伝送特性が劣化するという問題がある。   Further, the connection portion of the RF signal line for chip connection (2) and the RF signal line via (3), and the GND pattern (1) in the layer above the chip connection pattern layer (5) (for example, the fifth layer in FIG. 15). Similarly, because of the large capacitive coupling structure, there is a problem that unnecessary capacitance causes mismatching in characteristic impedance and transmission characteristics deteriorate.

さらに、チップ接続用パターン層(5)とパッケージ裏面パターン層(6)とを結ぶGNDビア(7)に関して、図15〜図20に示す従来の構造では、周波数がより高周波になってくると、チップ接続用パターン層(5)とパッケージ裏面パターン層(6)とを結ぶGNDビア(7)のビア長がおよそλ/2(λ:波長)に等しいとき、共振が発生するという問題がある。共振は、特定の周波数の信号が通過しない(信号の特定の部分に特異点が生じる)という問題発生の原因となる。   Further, regarding the GND via (7) connecting the chip connecting pattern layer (5) and the package back surface pattern layer (6), in the conventional structure shown in FIGS. 15 to 20, when the frequency becomes higher, There is a problem that resonance occurs when the via length of the GND via (7) connecting the chip connecting pattern layer (5) and the package back surface pattern layer (6) is approximately equal to λ / 2 (λ: wavelength). Resonance causes a problem that a signal having a specific frequency does not pass (a singular point is generated in a specific portion of the signal).

上記課題を解決するため、本発明は以下の構成を備えている。
すなわちこの発明のある局面に従うと、高周波モジュール用パッケージは、積層構造をとる誘電体パッケージのチップ接続用パターン層とパッケージ裏面パターン層とを、RF信号線およびGNDそれぞれに対してビアで接続した高周波モジュールパッケージであって、チップ接続用パターン層のRF信号線とパッケージ裏面パターン層のRF信号線とを接続するRF信号線ビアを、2段以上にずらした構造を備えたことを特徴とする。
In order to solve the above problems, the present invention has the following configuration.
In other words, according to one aspect of the present invention, a high frequency module package includes a high frequency module in which a chip connecting pattern layer and a package back surface pattern layer of a dielectric package having a laminated structure are connected to an RF signal line and a GND respectively by vias. The module package is characterized in that the RF signal line via for connecting the RF signal line of the chip connecting pattern layer and the RF signal line of the package back surface pattern layer is shifted in two or more stages .

好ましくは高周波モジュール用パッケージは、RF信号線に流れる信号の波長がλであるときに、各層のGNDパターン間の距離がλ/2以下になるようにされていることを特徴とする。   Preferably, the high frequency module package is characterized in that when the wavelength of the signal flowing through the RF signal line is λ, the distance between the GND patterns of each layer is λ / 2 or less.

[第1の実施の形態]
図1は、本発明の第1の実施の形態における積層構造をとる誘電体パッケージの断面図であり、図15に対応する図である。また、図2〜図6は、各層の導体パターンを平面的に見た図である。図2〜図6に関しては、ハッチングにより導体部分を示している。
[First Embodiment]
FIG. 1 is a cross-sectional view of a dielectric package having a laminated structure according to the first embodiment of the present invention, and corresponds to FIG. 2 to 6 are diagrams in which the conductor patterns of the respective layers are seen in a plan view. 2 to 6, the conductor portion is indicated by hatching.

以下に、本実施の形態における誘電体パッケージが従来技術と異なる部分について説明する。   In the following, portions of the dielectric package in the present embodiment that are different from the prior art will be described.

まず、図1を参照して、本実施の形態においては第4層(チップ接続用パターン層(5))の右部分のGNDパターン(1)が削除されている。すなわち図17の従来例の構造と図3の本実施の形態の構造とを比較して、本実施の形態においては、チップ接続用RF信号線(2)およびRF信号線ビア(3)の接続部と、その周囲のGNDパターン(1)との容量を低減させるために、チップ接続用RF信号線(2)およびRF信号線ビア(3)の接続部周辺におけるGNDパターンが削除されている。より詳しくは、図3に示されるようにチップ接続用RF信号線(2)はRF信号線ビア(3)に向かうにつれパターンが細くなる形状を示しており、導体部分が形成されていない部分(図中白抜きで示される部分)は、チップ接続用RF信号線(2)が存在する方向からRF信号線ビア(3)が存在する方向に進むにつれて太くなっている。   First, referring to FIG. 1, in the present embodiment, the GND pattern (1) on the right side of the fourth layer (chip connection pattern layer (5)) is deleted. That is, comparing the structure of the conventional example of FIG. 17 and the structure of the present embodiment of FIG. 3, in this embodiment, the connection of the RF signal line for chip connection (2) and the RF signal line via (3) is connected. In order to reduce the capacitance between the portion and the surrounding GND pattern (1), the GND pattern around the connection portion of the chip connecting RF signal line (2) and the RF signal line via (3) is deleted. More specifically, as shown in FIG. 3, the chip connecting RF signal line (2) has a shape in which the pattern becomes narrower toward the RF signal line via (3), and a portion where no conductor portion is formed ( The portion shown in white in the figure becomes thicker as it proceeds from the direction in which the chip connecting RF signal line (2) exists to the direction in which the RF signal line via (3) exists.

また、RF信号線ビア(3)の右部分のGNDパターン(1)は削除されている。
なお、図4および5に示されるように、第3層および第2層においては、4本のGNDビア(7)を接続するためのGNDパターン(1)が面状に形成されている。
Further, the GND pattern (1) in the right part of the RF signal line via (3) is deleted.
4 and 5, in the third layer and the second layer, the GND pattern (1) for connecting the four GND vias (7) is formed in a planar shape.

さらに、図6に示されるように、パッケージ裏面RF信号線(4)およびRF信号線ビア(3)の接続部と、その周囲のGNDパターン(1)との容量を低減させるために、パッケージ裏面RF信号線(4)およびRF信号線ビア(3)の接続部周辺におけるGNDパターン(1)が削除されている。これにより、第1層においてもRF信号線ビア(3)からその周囲のGNDパターン(1)までの距離が長くなっている。   Further, as shown in FIG. 6, in order to reduce the capacitance between the connection portion of the package back surface RF signal line (4) and the RF signal line via (3) and the surrounding GND pattern (1), The GND pattern (1) around the connection portion of the RF signal line (4) and the RF signal line via (3) is deleted. Thereby, also in the first layer, the distance from the RF signal line via (3) to the surrounding GND pattern (1) is long.

このようにして、本実施の形態においては、パッケージにおいて不要な容量を少なくすることができる。これにより、特性インピーダンスの不整合が生じることによる伝送特性の劣化を防ぐことができる。   In this manner, in this embodiment, unnecessary capacity in the package can be reduced. As a result, it is possible to prevent deterioration of transmission characteristics due to characteristic impedance mismatch.

[第2の実施の形態]
図7は、本発明の第2の実施の形態における積層構造をとる誘電体パッケージの断面図である。
[Second Embodiment]
FIG. 7 is a cross-sectional view of a dielectric package having a laminated structure according to the second embodiment of the present invention.

本実施の形態における誘電体パッケージが第1の実施の形態における誘電体パッケージと異なるのは、チップ接続用RF信号線(2)およびRF信号線ビア(3)の接続部と、チップ接続用パターン層(5)よりも上層のGNDパターン(1)との容量を低減させるために、チップ接続用パターン層(5)とチップ接続用パターン層(5)よりも上層のGNDパターン(1)との距離を増大させ、この部分における不要な容量を特性インピーダンスの不整合が生じない程度に小さくした点である。   The dielectric package in the present embodiment is different from the dielectric package in the first embodiment in that the chip connection RF signal line (2) and the RF signal line via (3) are connected to each other and the chip connection pattern. In order to reduce the capacity of the GND pattern (1) above the layer (5), the chip connection pattern layer (5) and the GND pattern (1) above the chip connection pattern layer (5) The distance is increased, and the unnecessary capacitance in this portion is reduced to such an extent that no mismatch in characteristic impedance occurs.

これにより、本実施の形態においては、パッケージにおいて不要な容量を第1の実施の形態よりもさらに少なくすることができる。そして、特性インピーダンスの不整合が生じることによる伝送特性の劣化を防ぐことができる。   Thereby, in the present embodiment, the unnecessary capacity in the package can be further reduced as compared with the first embodiment. Then, it is possible to prevent deterioration of transmission characteristics due to characteristic impedance mismatch.

[第3の実施の形態]
図8は、本発明の第3の実施の形態における積層構造をとる誘電体パッケージの断面図であり、図15に対応する図である。また、図9〜図13は、各層の導体パターンを平面的に見た図である。図9〜図13に関しては、ハッチングにより導体部分を示している。
[Third Embodiment]
FIG. 8 is a cross-sectional view of a dielectric package having a laminated structure according to the third embodiment of the present invention, and corresponds to FIG. Moreover, FIGS. 9-13 is the figure which looked at the conductor pattern of each layer planarly. 9 to 13, the conductor portion is shown by hatching.

本実施の形態における誘電体パッケージが第1の実施の形態における誘電体パッケージと異なるのは、RF信号線ビア(3)により、チップ接続用パターン層(5)と仲介層(チップ接続用パターン層(5)の下層であり、図8の例では第3層)のRF信号線(10)(図11参照)とを、チップ接続用パターン層(5)の空気に面した位置から接続している点である。また、仲介層のRF信号線(10)とパッケージ裏面パターン層(6)とがビアで接続される。これにより、本実施の形態におけるパッケージは、図8に示されるように2段以上にビアをずらした構造を採ることになる。これにより、チップ接続用RF信号線(2)とチップ接続用パターン層(5)よりも上層のGNDパターン(1)との距離を増大させ、この部分における不要な容量を特性インピーダンスの不整合が生じない程度に小さくすることができる。これにより、伝送特性の劣化を防ぐことができる。   The dielectric package in the present embodiment is different from the dielectric package in the first embodiment in that the RF signal line via (3) causes a chip connection pattern layer (5) and an intermediate layer (chip connection pattern layer). Connect the RF signal line (10) (see FIG. 11) of the lower layer of (5), which is the third layer in the example of FIG. 8 from the position facing the air of the pattern layer for chip connection (5). It is a point. Further, the RF signal line (10) of the mediation layer and the package back surface pattern layer (6) are connected by vias. As a result, the package according to the present embodiment has a structure in which vias are shifted by two or more stages as shown in FIG. As a result, the distance between the RF signal line for chip connection (2) and the GND pattern (1) above the chip connection pattern layer (5) is increased. It can be made small enough not to occur. Thereby, deterioration of transmission characteristics can be prevented.

なお、上記実施の形態においてはビアを2段にずらすこととしたが、2段以上にずらすようにしてもよい。   In the above embodiment, the via is shifted to two stages, but may be shifted to two or more stages.

さらに、上述の実施の形態において、チップ接続用パターン層(5)とパッケージ裏面パターン層(6)とを結ぶGNDビア(7)の共振対策として、各層のGNDパターン間の距離がλ/2以下となるようにGNDパターンを設置することが望ましい(RF信号線に流れる信号の波長がλであるものとする)。   Furthermore, in the above-described embodiment, as a countermeasure against resonance of the GND via (7) connecting the chip connecting pattern layer (5) and the package back surface pattern layer (6), the distance between the GND patterns of each layer is λ / 2 or less. It is desirable to install the GND pattern so that the wavelength of the signal flowing through the RF signal line is λ.

図14は、第3の実施の形態における効果を説明するための図である。
このグラフにおいて、横軸はパッケージを流れる信号の周波数を示し、縦軸は反射を示している。グラフ中、実線で第3の実施の形態のようにビアを2段構造とした場合の特性を示し、点線で第1の実施の形態のようにビアを1段構造とした場合の特性を示している。
FIG. 14 is a diagram for explaining an effect in the third embodiment.
In this graph, the horizontal axis indicates the frequency of the signal flowing through the package, and the vertical axis indicates reflection. In the graph, the solid line indicates the characteristic when the via has a two-stage structure as in the third embodiment, and the dotted line indicates the characteristic when the via has a one-stage structure as in the first embodiment. ing.

図に示されるようにビアを2段にした方が、高周波数領域における反射を抑えることができるという効果があることがわかる。   As shown in the figure, it can be seen that the two-stage via has an effect of suppressing reflection in the high frequency region.

今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。   The embodiment disclosed this time should be considered as illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description above, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.

本発明の第1の実施の形態における半導体パッケージの断面図である。It is sectional drawing of the semiconductor package in the 1st Embodiment of this invention. 図1の半導体パッケージの第5層の導体パターンを平面的に見た図である。It is the figure which looked at the conductor pattern of the 5th layer of the semiconductor package of FIG. 1 planarly. 図1の半導体パッケージの第4層の導体パターンを平面的に見た図である。It is the figure which looked at the conductor pattern of the 4th layer of the semiconductor package of FIG. 1 planarly. 図1の半導体パッケージの第3層の導体パターンを平面的に見た図である。It is the figure which looked at the conductor pattern of the 3rd layer of the semiconductor package of FIG. 1 planarly. 図1の半導体パッケージの第2層の導体パターンを平面的に見た図である。It is the figure which looked at the conductor pattern of the 2nd layer of the semiconductor package of FIG. 1 planarly. 図1の半導体パッケージの第1層の導体パターンを平面的に見た図である。It is the figure which looked at the conductor pattern of the 1st layer of the semiconductor package of FIG. 1 planarly. 本発明の第2の実施の形態における半導体パッケージの断面図である。It is sectional drawing of the semiconductor package in the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施の形態における半導体パッケージの断面図である。It is sectional drawing of the semiconductor package in the 3rd Embodiment of this invention. 図8の半導体パッケージの第5層の導体パターンを平面的に見た図である。It is the figure which looked at the conductor pattern of the 5th layer of the semiconductor package of FIG. 8 planarly. 図8の半導体パッケージの第4層の導体パターンを平面的に見た図である。It is the figure which looked at the conductor pattern of the 4th layer of the semiconductor package of FIG. 8 planarly. 図8の半導体パッケージの第3層の導体パターンを平面的に見た図である。It is the figure which looked at the conductor pattern of the 3rd layer of the semiconductor package of FIG. 8 planarly. 図8の半導体パッケージの第2層の導体パターンを平面的に見た図である。It is the figure which looked at the conductor pattern of the 2nd layer of the semiconductor package of FIG. 8 planarly. 図8の半導体パッケージの第1層の導体パターンを平面的に見た図である。It is the figure which looked at the conductor pattern of the 1st layer of the semiconductor package of FIG. 8 planarly. 第3の実施の形態における効果を示す図である。It is a figure which shows the effect in 3rd Embodiment. 従来技術における半導体パッケージの断面図である。It is sectional drawing of the semiconductor package in a prior art. 図15の半導体パッケージの第5層の導体パターンを平面的に見た図である。It is the figure which looked at the conductor pattern of the 5th layer of the semiconductor package of FIG. 15 planarly. 図15の半導体パッケージの第4層の導体パターンを平面的に見た図である。It is the figure which looked at the conductor pattern of the 4th layer of the semiconductor package of FIG. 15 planarly. 図15の半導体パッケージの第3層の導体パターンを平面的に見た図である。It is the figure which looked at the conductor pattern of the 3rd layer of the semiconductor package of FIG. 15 planarly. 図15の半導体パッケージの第2層の導体パターンを平面的に見た図である。It is the figure which looked at the conductor pattern of the 2nd layer of the semiconductor package of FIG. 15 planarly. 図15の半導体パッケージの第1層の導体パターンを平面的に見た図である。It is the figure which looked at the conductor pattern of the 1st layer of the semiconductor package of FIG. 15 planarly.

符号の説明Explanation of symbols

1 GNDパターン、2 チップ接続用RF信号線、3 RF信号線ビア、4 パッケージ裏面RF信号線、5 チップ接続用パターン層、6 パッケージ裏面パターン層、7 GNDビア、10 仲介層RF信号線。   1 GND pattern, 2 chip connection RF signal line, 3 RF signal line via, 4 package back surface RF signal line, 5 chip connection pattern layer, 6 package back surface pattern layer, 7 GND via, 10 mediation layer RF signal line.

Claims (2)

積層構造をとる誘電体パッケージのチップ接続用パターン層とパッケージ裏面パターン層とを、RF信号線およびGNDそれぞれに対してビアで接続した高周波モジュールパッケージであって、
チップ接続用パターン層のRF信号線とパッケージ裏面パターン層のRF信号線とを接続するRF信号線ビアを、2段以上にずらした構造を備えたことを特徴とする、高周波モジュール用パッケージ。
A high-frequency module package in which a chip connection pattern layer and a package back surface pattern layer of a dielectric package having a laminated structure are connected to an RF signal line and a GND respectively by vias,
A package for a high frequency module comprising a structure in which RF signal line vias for connecting an RF signal line of a chip connecting pattern layer and an RF signal line of a package back surface pattern layer are shifted to two or more stages .
前記RF信号線に流れる信号の波長がλであるときに、各層のGNDパターン間の距離がλ/2以下になるように設計されていることを特徴とする、請求項1に記載の高周波モジュール用パッケージ。 2. The high-frequency module according to claim 1, wherein when the wavelength of a signal flowing through the RF signal line is λ, the distance between the GND patterns of the respective layers is λ / 2 or less. For package.
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