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JP4513535B2 - トルテロジンの製造方法 - Google Patents

トルテロジンの製造方法 Download PDF

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本発明は、尿失禁治療薬として有用なトルテロジンの製造方法に関する。
トルテロジンの製造方法としては下記スキーム1に示した方法が知られている(例えば、特許文献1参照)。ケイ皮酸とp−クレゾールから得られたラクトンを開環、メチル化後、エステル基を還元し、トシル化、ジイソプロピルアミノ化を経て脱メチル化し、トルテロジンを得るというものである。
この方法は工程数も多く、経済的に製造するには問題があった。また、同様な方法(特許文献2参照)も知られているが、工程数が多くトルテロジンの経済的な製造方法としては問題が残されていた。
スキーム1
Figure 0004513535

Figure 0004513535

一方、下記スキーム2に示す、ケイ皮酸とp−クレゾールから得られたラクトンをラクト−ルへと還元した後、ジイソプロピルアミン存在下還元する方法が知られている(特許文献3参照)。この方法は工程数が少なくてすむと言う利点はあるが、還元に10気圧の水素圧が必要であり、必ずしも工業的実施が容易な方法ではなかった。
スキーム2
Figure 0004513535

国際公開第 98/29402号パンフレット 国際公開第 89/06644号パンフレット 国際公開第 03/014060号パンフレット
本発明は、経済的に、短い工程で工業的にトルテロジンを製造する方法を提供することを目的とする。
本発明者らはトルテロジンの製造方法に関して、式(2)
Figure 0004513535
で表される化合物を塩基で処理した後、2−(ジイソプロピルアミノ)エチル化およびそれに続くRで示される基を脱離することにより、短工程でトルテロジンを製造しうることを見出し、本発明を完成した。

すなわち本発明は、
〔1〕式(2)
Figure 0004513535
(式中、Rは炭素数1〜6のアルキル基を示す。)で表される化合物を、n−BuLi、sec−BuLi、tert−BuLiおよびリチウムジイソプロピルアミドからなる群より選ばれる塩基で処理した後、式(3)
Figure 0004513535
(式中、Xはハロゲン原子、アルキルスルホニルオキシまたはアリルスルホニルオキシを示す。)で表される化合物と反応させて、式(4)
Figure 0004513535
(式中、Rは上記と同義である。)で表される化合物とし、Rで示される基を、臭化水素酸または三臭化ホウ素を脱離剤として用いることにより脱離することを特徴とする式(1)
Figure 0004513535
で表されるトルテロジンまたはその塩の製造方法
〔2〕塩基がn−BuLiまたはsec−BuLiである〔〕に記載の方法、
〕式(3)で表される化合物のXが、塩素原子、臭素原子、メタンスルホニルオキシ、トルエンスルホニルオキシまたはベンゼンスルホニルオキシである〔1〕に記載の方法、
〕式(3)で表される化合物のXが、塩素原子である〔〕に記載の方法に関する。
本発明により、トルテロジンまたはその塩を、経済的に、短い工程で工業的に製造することができる。
以下、本発明を詳細に説明する
式(2)で表される化合物は特許文献 1記載の方法を参考に下記スキームに従って製造することができるが、特に限定されない。
Figure 0004513535
Rで示される基としては、炭素数1〜6のアルキル基、置換基を有していてもよいベンジル基、炭素数3〜18のトリアルキルシリル基または2−テトラヒドロピラニル基等が挙げられる。
炭素数1〜6のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、tert‐ブチル、sec‐ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、イソヘキシルなどが挙げられ、メチルが反応性、経済性の観点より好ましい。
置換基を有していてもよいベンジル基としては、ベンジル基、4−メトキシベンジル基、4−ニトロベンジル基などが挙げられ、ベンジル基が反応性、経済性の観点より好ましい。
炭素数3〜18のトリアルキルシリル基としては、トリメチルシリル基、ジt−ブチルメチルシリル基、t−ブチルジメチルシリル基などが挙げられる。
式(2)から式(4)を製造する反応に使用する塩基としては、n−BuLi, sec−BuLi, tert−BuLiまたはリチウムジイソプロピルアミド等のリチウム化合物が挙げられ、n−BuLiまたはsec−BuLiが安全性、経済性の観点より好ましい。
塩基の使用量は式(2)の化合物1モルに対して、通常1〜2モル量、好ましくは1.2〜1.8モル量である。塩基の使用量が1モルより少ないと原料が未反応のまま残り、収率が低下する虞がある。塩基の使用量が2モル量より多いと、未反応の塩基が反応液内に残り、生成物と反応して不純物を生じるなど、加えた塩基に見合う収率向上がなく、経済的でない。
式(3)のXとしては、ハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ、トルエンスルホニルオキシ、ベンゼンスルホニルオキシ等が挙げられ、ハロゲン原子としては塩素原子または臭素原子などが挙げられ、価格、反応性の観点より塩素原子が好ましい。
式(3)の化合物の使用量は式(2)の化合物1モルに対して、通常1〜2モル量、好ましくは1.2〜1.8モル量である。式(3)の化合物の使用量が1モルより少ないと原料が未反応のまま残り、収率が低下する虞がある。式(3)の化合物の使用量が2モル量より多いと、未反応の式(3)の化合物が反応液内に残るだけで、加えた量に見合う収率向上がなく、経済的でない。
溶媒としてはエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジエトキシメタン、ジオキサン、t−ブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテルからなる群から選ばれる1種、もしくは2種以上のエーテル溶媒、あるいはこれらの溶媒とトルエン、キシレン、ヘプタン、ヘキサンなどの炭化水素溶媒の混合溶媒が使用できる。
溶媒の使用量は、式(2)の化合物1モルに対して、通常0.5〜10L、好ましくは、0.5〜7Lである。溶媒の使用量が式(2)の化合物1モルに対して、0.5L以下の場合は攪拌が十分できなく虞があり、10L以上の場合は反応が遅くなる虞があり、好ましくない。
反応温度は、通常−100〜20℃、好ましくは−80〜10℃である。反応温度が−100℃以下であると工業的に実施が難しくなるのに加え、反応速度が遅くなるので好ましくなく、20℃を超えると副生物が生成する虞があるため好ましくない。
反応時間としては、反応温度にもよるが通常塩基引き抜きに2〜10時間、式(3)の化合物との反応に1〜5時間である。
反応後、反応液に水を加え、有機層を分液後濃縮することで生成物を単離することができる。
Rで示される基の脱離法としては、一般的な方法を用いることにより実施することができる。たとえば、Rで示される基が炭素数1〜6のアルキル基の場合は、グリーン、ウッツ著 ”有機合成における保護基”第三版(ワイリーインターナショナル)「Green, Wuts“Protective Groups in Organic Synthesis. Third Edition”(Wiley International)」249ページから257ページ、265ページから266ページに記載されている方法により実施できる。
Rで示される基がテトラヒドロピラニルの場合は同書261ページ記載の方法で実施でき、シリル基の場合は同書273から276ページの方法で実施できる。
Rで示される基が置換されてもよいベンジル基の場合は、同書266ページから271ページに記載されている方法により実施できる。
反応後の処理方法としては、例えば、反応液を水にあける、もしくは塩酸水で抽出するなどして得た水溶液をアルカリ性とした後、有機溶媒で抽出、濃縮することにより生成物を単離できる。
Rで示される基が炭素数1〜6のアルキル基の場合、脱離剤としては臭化水素酸、三臭化ホウ素などが挙げられ、臭化水素酸が価格、取扱いの観点より好ましい。
臭化水素酸の使用量は、式(4)の化合物1モルに対して、通常2〜10モル量、好ましくは3〜7モル量である。臭化水素酸の使用量が2モルより少ないと原料が未反応のまま残り、収率が低下する虞がある。臭化水素酸の使用量が10モル量より多くても、使用した臭化水素酸に見合う収率向上がなく、経済的でない。
溶媒としては、酢酸などが挙げられるが、必ずしも溶媒の使用は必要ではなく、臭化水素酸を溶媒として使用することもできる。
酢酸を溶媒として使用する場合、式(4)の化合物1モルに対して、通常200mL〜1L 、好ましくは200mL〜500mLであるが、酢酸の使用量は反応の結果にほとんど影響を与えない。
反応温度としては、通常20〜150℃、好ましくは50〜120℃で行われる。
反応後の処理方法としては、例えば、反応液を水にあけ、アルカリ性とした後、有機溶媒で抽出、濃縮することにより生成物を単離できる。

Rで示される基がシリル基の場合は、フッ化水素酸、フッ化カリウム、フッ化テトラブチルアンモニウムなどのフッ化物、塩酸、臭化水素酸などの鉱酸が挙げられ、塩酸が経済性、試剤の安全性の観点より好ましい。
フッ化物、酸の使用量としては、式(4)の化合物1モルに対して、通常0.01モル〜2モルである。
Rで示される基が2‐テトラヒドロピラニル基の場合は、鉱酸が使用され、鉱酸としては、塩酸などが挙げられる。鉱酸の使用量としては、式(4)の化合物1モルに対して、通常0.001モル〜1モルである。
反応後の処理方法としては、例えば、反応液を水にあける、もしくは塩酸水で抽出するなどして得た水溶液をアルカリ性とした後、有機溶媒で抽出、濃縮することにより生成物を単離できる。
Rで示される基が、置換されてもよいベンジル基の場合は、Rで示される基が炭素数1〜6のアルキル基の場合と同様な方法、もしくはパラジウム等の還元触媒存在下で還元する方法が挙げられる。還元触媒としてはパラジウム炭素、水酸化パラジウム炭素、塩化パラジウム、パラジウム黒などがあげられ、パラジウム炭素が経済性、試剤の安全性の観点より好ましい。

トルテロジンは例えば、光学活性の酸による光学分割などの方法により光学活性トルテロジンとすることができる。
次に参考例および実施例をあげて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら参考例、実施例になんら限定されるものではない。

参考例
2−ベンジル−4−メチルアニソール
WO 89/06644 実施例4 l)を参考に実施した。
4−メチルアニソール(200g, 1.64mole)、ベンジルアルコール(40.0g, 0.37mole)、p−トルエンスルホン酸一水和物(8.0g, 0.042 mole)の混合物を、反応で生じる水を除去しながら160〜175℃で2時間撹拌した。過剰の4−メチルアニソールを減圧下留去(内温132℃/25mmHg(3.3kPa))後、残渣をトルエン(50mL)に溶解し、有機層を水(20mL)、10%苛性ソーダ水(20mL)ついで水(20mL)で洗浄した。有機層を濃縮後、残渣を減圧蒸留し、沸点120〜138℃/0.7mmHg(0.09kPa)で留出する成分を主留として得た(52.75g, 67.2%)。
NMRの分析により2−ベンジル−4−メチルアニソールと3−ベンジル−4−メチルアニソールの2.7:1の混合物であった。
2−ベンジル−4−メチルアニソール 1H NMR (400MHz, CDCl3);δ=2.23 (3H, s), 3.77 (3H, s), 3.93 (2H, s), 6.76 (1H, d, J=8 Hz), 6.87 (1H, d, J=1.6 Hz), 6.98 (1H, dd, J=8, 1.6 Hz), 7.10−7.30 (5H, m).
3−ベンジル−4−メチルアニソール 1H NMR (400MHz, CDCl3);δ=2.17 (3H, s), 3.74 (3H, s), 3.93 (2H, s), 6.62−7.45 (8H, m)
実施例1
N,N−ジイソプロピル−3−(2−メトキシ−5−メチルフェニル)−3−フェニルプロパナミンの製造
アルゴン雰囲気下、THF(300ml)に2−ベンジル−4−メチルアニソールと3−ベンジル−4−メチルアニソールの混合物(2.7:1、10.0g、47.1 mmol)を溶解し、−78℃まで冷却した。
この溶液に13% n−ブチルリチウム(34.8g、 70.7 mmol)を滴下後0℃まで昇温して6時間攪拌した。再度−78℃まで冷却し、2−(ジイソプロピルアミノ)エチルクロリド(11.6g, 70.9 mmol)を滴下し、室温まで昇温して2時間攪拌した。水(20ml)を滴下後、有機層にトルエン(100ml)を加え10%塩酸(200ml)で2度抽出した。水層を合わせて苛性ソーダ(31g)を加え、トルエンで2度(300ml、200ml)抽出した。有機層を合わせて5%食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮(14.65g)した。得られた濃縮物にキシレン(120ml)を入れて濃縮する操作を3度繰り返し、残渣12.5gを得た。
NMRの分析の結果、N,N−ジイソプロピル−3−(2−メトキシ−5−メチルフェニル)−3−フェニルプロパナミンとN,N−ジイソプロピル−3−(5−メトキシ−2−メチルフェニル)−3−フェニルプロパナミンの約10:1の混合物だった。(N,N−ジイソプロピル−3−(2−メトキシ−5−メチルフェニル)−3−フェニルプロパナミンの収率は2−ベンジル−4−メチルアニソールから98.5%であった。
(N,N−ジイソプロピル−3−(2−メトキシ−5−メチルフェニル)−3−フェニルプロパナミン 1H NMR (400MHz, CDCl3);δ=0.93 (d, J=1.2Hz, 6H), 0.92 (d, J=1.2Hz, 6H), 2.09−2,15 (m, 2H), 2.25 (s, 3H) 2.32−2.35 (m, 2H), 2.94−3.00 (m, 2H), 3.73 (s, 3H), 4.34 (t, J=7.6Hz, 1H), 6.70 (d, J=12Hz, 1H), 6.92 (d, J=8Hz, 1H), 7.05 (br, 1H), 7.10−7.18 (m, 2H) ,7.21−7.28 (m, 3H)
実施例2
N,N−ジイソプロピル−3−(2−メトキシ−5−メチルフェニル)−3−フェニルプロパナミンの製造
アルゴン雰囲気下、THF(50ml)に2−ベンジル−4−メチルアニソールと3−ベンジル−4−メチルアニソールの混合物(2.7:1、10.0g、47.1 mmol)を溶解し、−78℃まで冷却した。
この溶液に13.9% n−ブチルリチウム(32.46g、 70.5 mmol)を滴下後0℃まで昇温して4時間攪拌した。再度−78℃まで冷却し、2−(ジイソプロピルアミノ)エチルクロリド(11.6g, 70.7mmol)を滴下し、0℃まで昇温して2時間攪拌した。水(20ml)を滴下後、10%塩酸で2度(25mL、15mL)抽出した。水層を合一し苛性ソーダ(4.9g)を加え、トルエンで2度(30ml、20ml)抽出した。有機層を合わせて5%食塩水(15mL)で2回洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。得られた反応混合物の濃縮物にキシレン(100ml)を入れて濃縮する操作を3度繰り返し、残渣を13.7g得た。
NMRの分析の結果、N,N−ジイソプロピル−3−(2−メトキシ−5−メチルフェニル)−3−フェニルプロパナミンとN,N−ジイソプロピル−3−(5−メトキシ−2−メチルフェニル)−3−フェニルプロパナミンの約10:1の混合物だった。(N,N−ジイソプロピル−3−(2−メトキシ−5−メチルフェニル)−3−フェニルプロパナミンの収率は2−ベンジル−4−メチルアニソールから100%であった。
実施例3
トルテロジンの製造
酢酸(15mL)にN,N−ジイソプロピル−3−(2−メトキシ−5−メチルフェニル)−3−フェニルプロパナミンとN,N−ジイソプロピル−3−(5−メトキシ−2−メチルフェニル)−3−フェニルプロパナミンの約10:1の混合物(11.0g、32.4mmole)を加えて溶解し、47%HBr水溶液(25mL)を加え、3時間加熱還流した(バス温120℃)。反応溶液を室温に冷却し、溶媒を留去後、残渣に水(120mL)とトルエン(110mL)を加え、苛性ソーダ(2.2g)と炭酸ナトリウム(26g)でpH11にした。水層を分液して除去し、有機層を食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下で留去し、ラセミトルテロジン9.04g得た(収率85.7%)。
NMRの分析の結果、トルテロジンとN,N−ジイソプロピル−3−(5−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−3−フェニルプロパナミンの約10:1の混合物だった。
トルテロジン 1H NMR (400MHz, CDCl3);δ=1.06 (d, J=6.8Hz, 6H), 1.11 (d, J=6.8Hz, 6H), 2.11 (s, 3H) 2.03−2.15 (m, 1H), 2.24−2.42 (m, 1H), 2.69−2.73 (m, 1H), 3.17−3.25 (m, 2H), 4.48 (dd, J=3.6, 11.6Hz, 1H), 6.54 (br, 1H), 6.77 (dd, J=2, 7.6Hz, 1H), 7.13−7.27 (m, 1H), 7.29−7.35 (m, 4H)
実施例4
光学活性トルテロジン酒石酸塩
エタノール(10mL)にトルテロジンとN,N−ジイソプロピル−3−(5−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−3−フェニルプロパナミンの約10:1の混合物(4.0g、11.3mmole)を溶解した溶液を40℃に加温し、L−酒石酸(2.55g、17.0mmole)のエタノール(20mL)溶液を滴下した。この溶液を1時間加熱還流した後0℃に冷却し、析出した結晶をろ過、エタノール(3mL)で洗浄し、表題化合物2.33gを得た。トルテロジンから光学活性トルテロジン酒石酸塩の収率は43.9%だった。
1H NMR (400MHz, DMSO−d6); δ=1.02−1.07 (m, 12H), 2.16 (s, 3H) 2.25−2.26 (m, 2H), 2.66 (br, 2H), 3.37−3.43 (m, 2H), 4.00 (s, 2H), 4.48 (t, J=8Hz, 1H), 6.65 (d, J=8.4Hz, 1H), 6.79 (d, J=8.4Hz, 1H), 6.99 (s, 1H), 7.13−7.16 (m, 1H), 7.24−7.31 (m, 4H)
7.24−7.31 (m, 4H)

Claims (4)

  1. 式(2)
    Figure 0004513535
    (式中、Rは炭素数1〜6のアルキル基を示す。)で表される化合物を、n−BuLi、sec−BuLi、tert−BuLiおよびリチウムジイソプロピルアミドからなる群より選ばれる塩基で処理した後、式(3)
    Figure 0004513535
    (式中、Xはハロゲン原子、アルキルスルホニルオキシまたはアリルスルホニルオキシを示す。)で表される化合物と反応させて、式(4)
    Figure 0004513535
    (式中、Rは上記と同義である。)で表される化合物とし、Rで示される基を、臭化水素酸または三臭化ホウ素を脱離剤として用いることにより脱離することを特徴とする式(1)
    Figure 0004513535
    で表されるトルテロジンまたはその塩の製造方法。
  2. 塩基がn−BuLiまたはsec−BuLiである請求項に記載の方法。
  3. 式(3)で表される化合物のXが、塩素原子、臭素原子、メタンスルホニルオキシ、トルエンスルホニルオキシまたはベンゼンスルホニルオキシである請求項1に記載の方法。
  4. 式(3)で表される化合物のXが、塩素原子である請求項に記載の方法。
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