[go: up one dir, main page]

JP4495313B2 - 光学活性3−メチル−5−シクロペンタデセン−1−オンの製法および新規中間体 - Google Patents

光学活性3−メチル−5−シクロペンタデセン−1−オンの製法および新規中間体 Download PDF

Info

Publication number
JP4495313B2
JP4495313B2 JP2000212320A JP2000212320A JP4495313B2 JP 4495313 B2 JP4495313 B2 JP 4495313B2 JP 2000212320 A JP2000212320 A JP 2000212320A JP 2000212320 A JP2000212320 A JP 2000212320A JP 4495313 B2 JP4495313 B2 JP 4495313B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
compound
methyl
represented
reaction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2000212320A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2002030022A (ja
Inventor
雅通 伊藤
啓輔 吉川
武 北原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
T Hasegawa Co Ltd
Original Assignee
T Hasegawa Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by T Hasegawa Co Ltd filed Critical T Hasegawa Co Ltd
Priority to JP2000212320A priority Critical patent/JP4495313B2/ja
Publication of JP2002030022A publication Critical patent/JP2002030022A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4495313B2 publication Critical patent/JP4495313B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Fats And Perfumes (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学活性ムスコン(3−メチルシクロペンタデカノン)の合成中間体として重要な、光学活性3−メチル−5−シクロペンタデセン−1−オン、該化合物を高収率、高純度に製造できる新規な製法及び新規中間体に関する。
【0002】
【従来の技術】
ムスコン(3−メチルシクロペンタデカノン)は、その光学異性体である(R)−(−)−体が天然麝香の主要香気成分として存在し、特に、この(R)−(−)−体は、(S)−(+)−体に比べてより強く、拡散性が優れたボリューム感のある香気を有し、重要なムスク系合成香料である。
【0003】
ムスコンの合成法としてはこれまで種々の提案がなされ、例えば、ドデカン−1,12−ジアールを出発原料とする合成法(特開昭55−111438号公報)、ノナジエン酸エステルからの合成法(Tetrahedron Lett.,2257(1979))、シクロドデセンを出発原料とする合成法(J.Org.Chem.,52,3798-3806(1987))などが提案されている。
【0004】
また、光学活性ムスコンの合成法としては、例えば、3−メチル−2−シクロペンタデセン−1−オンにルテニウム−光学活性ホスフィン錯体を触媒として不斉水素化する方法(特開平6−192161号公報)、R体またはS体のシトロネラールと、ハロゲン化不飽和炭化水素を反応する方法(特開2000−26361号公報)などが提案されている。しかしながら、上記の特開平6−192161号公報で提案されている光学活性ムスコンの合成法は、使用されている触媒が再利用可能であること、および高収率であるなど有効な合成法であるが、出発原料が高価であるなどの問題がある。また、上記の特開2000−26361号公報で提案されている合成法は、光学活性シトロネラールとハロゲン化不飽和炭化水素を反応させ、得られる11−ヒドロキシ−13,17−ジメチルオクタデカ−1,16−ジエン誘導体とし、オゾン酸化を行った後、閉環して製造されており必ずしも工業的に有利な合成法とは言い難い。
【0005】
一方、特開平6−192680号公報には3−メチル−5−シクロペンタデセン−1−オンが香料化合物として有用であり、特にシス異性体がトランス異性体より有用であることが示されている。しかしながら、上記特許には該化合物の光学活性体については何ら記載も示唆もされていない。
【0006】
さらに、(S)−(−)−3−メチル−5−シクロペンタデセン−1−オンはそのシス−、トランス−立体配位は記載されていないが、ムスコンの合成中間体として記載されている(Huaxue Xuebao,53(9),909−915,1995参照)。しかしながら、この化合物についての芳香特性については記述されていない。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明は光学活性3−メチル−5−シクロペンタデセン−1−オンおよび該化合物を有効成分として含有するムスク様香気を有する香料組成物を提供することである。
【0009】
また、本発明は安価な原料を使用して、かつ高収率で、更に簡便な方法により、工業的に有利に光学活性3−メチル−5−シクロペンタデセン−1−オンを製造する方法を提供することである。
さらに、本発明の他の目的は、光学活性3−メチル−5−シクロペンタデセン−1−オンの製造のために有用な新規中間体を提供することである。
【0010】
【課題を解決するための手段】
そこで本発明者らは、上記の課題を解決するため鋭意検討を行った結果、上記式(1)−1および/または上記式(1)−2で表される(R)−(−)または(S)−(+)−3−メチル−5−シクロペンタデセン−1−オンがムスク様の香料として有用であること、また、(R)−(−)−または(S)−(+)−3−メチル−5−ヘキセンニトリルを出発原料として10−ウンデセニル−1−マグネシウムハライドと反応し、閉環するという簡便な方法で、且つ高収率で光学活性3−メチル−5−シクロペンタデセン−1−オンが得られることを見出し本発明を完成した。
【0011】
従って、本発明は下記式(1)−1
【0012】
【化11】
Figure 0004495313
で表される(R)−(−)−3−メチル−5−シクロペンタデセン−1−オンの製法である。式中、波線はシス−、トランス−異性体の存在を示す。
【0013】
また本発明は下記式(1)−1
【化12】
Figure 0004495313
で表される(R)−(−)−3−メチル−5−シクロペンタデセン−1−オンおよび/または下記式(1)−2
【0015】
【化13】
Figure 0004495313
で表される(S)−(+)−3−メチル−5−シクロペンタデセン−1−オンを有効成分として含有することを特徴とする香料組成物の製法である。
【0016】
また本発明は下記式(3)−1
【0017】
【化14】
Figure 0004495313
で表される(R)−(−)−3−メチル−5−ヘキセンニトリルを、有機溶媒中、10−ウンデセニル−1−マグネシウムハライド(C11H21MgX)とカップリング反応せしめて下記式(2)−1
【0018】
【化15】
Figure 0004495313
で表される(R)−(+)−4−メチル−1,16−ヘプタデカジエン−6−オンを形成させ、これを閉環して下記式(1)−1
【0019】
【化16】
Figure 0004495313
で表される(R)−(−)−3−メチル−5−シクロペンタデセン−1−オンの製法である。
【0020】
また本発明は下記式(3)−2
【0021】
【化17】
Figure 0004495313
で表される(S)−(+)−3−メチル−5−ヘキセンニトリルを、有機溶媒中、10−ウンデセニル−1−マグネシウムハライド(C11H21MgX)とカップリング反応せしめて下記式(2)−2
【0022】
【化18】
Figure 0004495313
で表される(S)−(−)−4−メチル−1,16−ヘプタデカジエン−6−オンを形成させ、これを閉環して下記式(1)−2
【0023】
【化19】
Figure 0004495313
で表される(S)−(+)−3−メチル−5−シクロペンタデセン−1−オンの製法である。
【0024】
上記式(2)−1、式(2)−2、式(3)−1および式(3)−2で表される(R)−(+)−4−メチル−1,16−ヘプタデカジエン−6−オン、(S)−(−)−4−メチル−1,16−ヘプタデカジエン−6−オン、(R)−(−)−3−メチル−5−ヘキセンニトリルおよび(S)−(+)−3−メチル−5−ヘキセンニトリルは文献未記載の新規化合物である。
【0025】
【発明の実施の形態】
本発明の製法に従って、式(3)−1の化合物から式(1)−1の化合物を合成する態様を反応行程[以下、(A)製法と称す]で示すと、以下の如くになる。
(A)製法
【0026】
【化20】
Figure 0004495313
また、本発明の製法に従って、式(3)−2の化合物から式(1)−2の化合物を合成する態様を反応行程[以下、(B)製法と称す]で示すと、以下の如くとなる。
(B)製法
【0027】
【化21】
Figure 0004495313
本発明の光学活性3−メチル−5−シクロペンタデセン−1−オンの製法は上記の(A)製法および(B)製法に従って合成することができる。本発明の出発原料である式(3)−1の化合物および式(3)−2の化合物は、特に限定されないが、例えば、式(3)−1の化合物は下記式(9)−1の化合物から容易に合成することができる。式(9)−1の化合物から式(3)−1の化合物を合成する態様を反応行程[以下、(C)製法と称す]で示すと、以下の如くとなる。
(C)製法
【0028】
【化22】
Figure 0004495313
[式中、Tsはトシル基、DIBAHはジイソブチルアルミニウムハイドライドを示す]
また例えば、式(3)−2の化合物は下記式(18)−2の化合物から容易に合成することができる。式(18)−2の化合物から式(3)−2の化合物を合成する態様を反応行程[以下、(D)製法と称す]で示すと、以下の如くとなる。
(D)製法
【0029】
【化23】
Figure 0004495313
[式中、THPはテトラヒドロピラピラニル基、Tsはトシル基、Bnはベンジル基を示す]
以下、上記の(A)製法及び(B)製法に従い、各工程別に詳細に説明する。
(A)製法
(R)−(+)−4−メチル−1,16−ペンタデカジエン−6−オン[式(2)−1の化合物]の合成(第1行程)
式(3)−1の化合物を有機溶媒中、10−ウンデセニル−1−マグネシウムハライドとカップリング反応させる第1行程により式(2)−1の化合物を容易に製造できる。
【0030】
この反応の反応温度および反応時間は、例えば、約−20℃〜約70℃程度、より好ましくは約20℃〜約40℃の温度範囲で、約1時間〜約2時間程度を採用することができる。使用する10−ウンデセニル−1−マグネシウムハライドのハロゲン原子の種類としては、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素を挙げることができ、その使用量は式(3)−1の化合物1モルに対して、例えば、約1モル以上、より好ましくは約1.2モル〜約2モル程度の範囲を例示できる。
【0031】
また、この反応に用いる有機溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、エーテル、ジメトキシエタン、トルエンなどを示すことができる。これらの有機溶媒の使用量は、例えば、式(3)−1の化合物1重量部に対して約1〜約10重量部の範囲を例示できる。反応終了後、洗浄、抽出、乾燥、蒸留、カラムクロマトグラフィーなどの通常の分離手段を適宜に採用して高収率、高純度に式(2)−1の化合物が得られる。
【0032】
(R)−(−)−3−メチル−5−シクロペンタデセン−1−オン[式(1)−1の化合物]の合成(第2行程)
式(2)−1の化合物をオレフィンメタセシス反応による第2行程により式(1)−1の化合物を容易に製造できる。
【0033】
この反応の反応温度および反応時間は、例えば、約−10℃〜約100℃程度、より好ましくは約40℃〜約50℃の温度範囲で、約1時間〜約3時間程度を採用することができる。この反応で使用できる触媒としては、例えば、下記式(a)及び(b)
【0034】
【化24】
Figure 0004495313
【0063】
【化25】
Figure 0004495313
[式中、Cyはシクロヘキシルを、Phはフェニルを意味する]
で表される化合物を挙げることができ、その使用量は式(2)−1の化合物1モルに対して、約0.01モル〜約0.10モル程度を採用することができる。また、この反応に用いる有機溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、エーテル、ジメトキシエタン、トルエン、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素などを示すことができる。これらの有機溶媒の使用量は、例えば、式(2)−1の化合物1重量部に対して約10〜約1000重量部の範囲を例示できる。反応終了後、洗浄、抽出、乾燥、蒸留、カラムクロマトグラフィーなどの通常の分離手段を適宜に採用して高収率、高純度に式(1)−1の化合物が得られる。
【0035】
このようにして得られる式(1)−1で表される(R)−(−)−3−メチル−5−シクロペンタデセン−1−オンは、それ自体香料組成物として有用であるが、該化合物のオレフィンを水素化することにより(R)−(−)−ムスコンを容易に製造できる。この反応の反応温度および反応時間は、例えば、約10℃〜約100℃程度、より好ましくは約30℃〜約50℃の温度範囲で、約1時間〜約3時間程度を採用することができる。この反応で使用できる触媒としては、例えば、Pd−C、Pd−Alumina、Ru−C、Ru−Alumina、Pt−Cを挙げることができ、その使用量は式(1)−1の化合物1モルに対して、約0.02モル〜約0.1モル程度を採用することができる。また、この反応に用いる有機溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン、エーテル、ジメトキシエタン、トルエン、エタノール、ヘキサンなどを示すことができる。これらの有機溶媒の使用量は、例えば、式(1)−1の化合物1重量部に対して約1〜約10重量部の範囲を例示できる。反応終了後、洗浄、抽出、乾燥、蒸留、カラムクロマトグラフィーなどの通常の分離手段を適宜に採用して高収率、高純度に(R)−(−)−ムスコンが得られる。
【0036】
次に、式(1)−2の化合物の合成法について、(B)製法に従って説明する。
(B)製法
本発明のもう一方の目的化合物である式(1)−2で表される(S)−(+)−3−メチル−5−シクロペンタデセン−1−オンは、鏡像関係にある式(1)−1で表される(R)−(−)−3−メチル−5−シクロペンタデセン−1−オンの合成法に準じて製造することができる。
【0037】
即ち、前記反応行程図の(B)製法において、式(2)−2で表される(S)−(−)−4−メチル−1,16−ヘプタデカジエン−6−オンを合成する第3行程は、前記(A)製法の式(3)−1の化合物を式(3)−2の化合物に変える以外は(A)製法と同様に合成することができる。以下同様にして、式(1)−2の化合物を合成する第4行程は、該行程に対応する第2行程の製造方法と同じ操作を行うことにより、目的とする式(1)−2で表される(S)−(+)−3−メチル−5−シクロペンタデセン−1−オンを高収率、高純度で合成することができる。
【0038】
このようにして得られる式(1)−2で表される(S)−(+)−3−メチル−5−シクロペンタデセン−1−オンは、それ自体香料組成物として有用であるが、該化合物のオレフィンを水素化することにより(S)−(+)−ムスコンを容易に製造できる。この反応の反応条件は、前記した式(1)−1で表される(R)−(−)−3−メチル−5−シクロペンタデセン−1−オンから(R)−(−)−ムスコンを製造する方法に準じて製造することができる。
【0039】
【実施例】
以下に本発明について実施例、参考例を挙げて更に詳細に説明する。
【0040】
参考例1:(R)−3−メチル−γ−ブチロラクトン[式(7)−1の化合物]の合成
300ml4径フラスコ中に(R)−3−カルボキシブチリックアシッド t−ブチルエステル[式(9)−1の化合物]25g(0.133モル)、テトラヒドロフラン50mlを仕込み、−10〜−20℃に冷却する。そこへ、1Mボランテトラヒドロフラン溶液135ml(0.135モル)を同温下に1.5時間で滴下した。滴下終了後、徐々に温度を上げ室温下に一夜攪拌した。GLCで未反応の消失を確認後、水10mlと酢酸10mlの混合液を滴下し、テトラヒドロフランをエバポレーターで濃縮する。酢酸エチルで抽出し、ソーダ灰洗浄、硫酸マグネシウム乾燥後、濃縮し、式(8)−1で表される化合物の粗製21.05gを得、パラトルエンスルホン酸0.4gとトルエン200mlを加え、加熱しながらラクトン化を行った。反応終了後、これに水を加え、有機層をソーダ灰水洗、ブライン洗浄後、溶剤回収、減圧蒸留し、式(7)−1の化合物8.6gを得た(収率;65%,bp:92℃/2.4KPa)。
【0041】
参考例2:(R)−2−メチル−4−ペンテン−1−オール[式(5)−1の化合物]の合成
100ml3径フラスコ中に(R)−3−メチル−γ−ブチロラクトン[式(7)−1の化合物]3.0g(30ミリモル)、乾燥ジクロルエタン20mlを仕込み、−65〜−60℃下に1Mジイソブチルアルミニウムハイドライドトルエン溶液36ml(36ミリモル)を30分で加え、同温下に1.5時間反応させた後、塩化アンモニウム水溶液5mlを加え、昇温し、エーテルで希釈し、室温下に30分攪拌した。常温下に溶剤回収し式(6)−1で表される化合物の粗製を得た。次いで、200ml反応フラスコにアルゴン下、60%水素化ナトリウム2.2g(0.09モル)、ジメチルスルホキシド50mlを仕込み、室温下に1時間反応を行った。メチルトリフェニルホスホニウムブロマイド35.7g(0.1モル)、ジメチルスルホキシド20mlを加え攪拌し、式(6)−1の粗製、ジメチルスルホキシド30mlを加え、室温下に一夜放置した。水を加え攪拌し、エーテル抽出、溶剤回収後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、式(5)−1の(R)−2−メチル−4−ペンテン−1−オール1.3gを得た(収率44.4%)。
【0042】
参考例3:(R)−2−メチル−4−ペンテン−1−イル p−トルエンスルホネート[式(4)−1の化合物]の合成
100ml反応フラスコ中に(R)−2−メチル−4−ペンテン−1−オール[式(5)−1の化合物]1.3g(13.2ミリモル)、乾燥ピリジン40mlを仕込み、氷冷下0℃でパラトルエンスルホニウムクロリド3.3g(17.6ミリモル)を加え、冷蔵庫に一夜放置する。反応終了後、水を加え、エーテル抽出、ブライン洗浄、硫酸銅水洗浄、ブライン洗浄、ソーダ灰水洗浄、ブライン洗浄後、溶剤回収し、式(4)−1の粗製2.7gを得た(収率81.1%)。
【0043】
実施例1:(R)−(−)−3−メチル−5−ヘキセンニトリル[式(3)−1の化合物]の合成
100mlフラスコ中に粗製の(R)−2−メチル−4−ペンテン−1−イル p−トルエンスルホネート[式(4)−1の化合物]2.7g(10.7ミリモル)、ジメチルスルホキシド10ml、シアン化ナトリウム0.8g(17.1ミリモル)を仕込み、一夜攪拌した。水を加え、エーテル抽出後、溶剤を常圧回収し、減圧下に蒸留して式(3)−1の化合物1.0gを得た(収率87.6%、bp:79〜81℃/4.55kPa)。
[α]20D=−12.93(c=0.7150、MeOH)
1H−NMR(400MHz、TMS、CDCL3)δ(ppm)5.73(1H、ddt、J=17.3Hz、10.3Hz、3.4Hz)、5.11(1H、d、J=17.3Hz)、5.08(1H、d、J=10.3Hz)、2.36〜2.23(2H、m)、2.15〜2.08(2H、m)、2.01〜1.89(2H、m)、1.10(3H、d、J=6.8Hz)。
【0044】
実施例2:(R)−(+)−4−メチル−1,16−ヘプタデカジエン−6−オン[式(2)−1の化合物]の合成
30mlフラスコ中にマグネシウム0.8g(31.3ミリモル)、乾燥エーテル2mlを仕込み、ブロモ−10−ウンデセン6.1g(26ミリモル)を滴下した。室温下に1時間攪拌後、同温下に(R)−(−)−3−メチル−5−ヘキセンニトリル[式(3)−1の化合物]1.0g(9.2ミリモル)を滴下した。同温下に2時間反応し、原料の消失を確認後、50%塩酸水溶液13mlを冷却下に加え、室温に戻し2時間攪拌した。エーテル抽出、ソーダ灰水洗浄、ブライン洗浄後、溶剤回収し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し式(2)−1の化合物を1.6g得た(収率65.4%)。
[α]20D=3.15(c=0.7582、MeOH)
1H−NMR(400MHz、TMS、CDCL3)δ(ppm)5.69(2H、m)、4.94〜4.82(4H、m)、2.33(1H、dd、J=16.0Hz、5.6Hz)、2.27(2H、t、J=7.6Hz)、2.14〜1.86(6H、m)、1.53〜1.20(14H、m)、0.83(3H、d、J=6.4Hz)。
【0045】
実施例3:(R)−(−)−3−メチル−5−シクロペンタデセン−1−オン[式(1)−1の化合物]の合成
200mlフラスコ中にルテニウム触媒0.23g(0.28ミリモル)を仕込み、系内をアルゴン置換する。(R)−(+)−4−メチル−1,16−ヘプタデカジエン−6−オン[式(2)−1の化合物]1.5g(5.68ミリモル)、アルゴン下で蒸留した塩化メチレン1500ml溶液を加え、41℃で4時間反応を行った。減圧下に溶媒を回収後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、シス異性体0.47g、トランス異性体0.15gを得た(収率46.2%)。
シス異性体
[α]20D=−11.56(c=0.7544、MeOH)
1H−NMR(400MHz、TMS、CDCL3)δ(ppm)5.39〜5.29(2H、m)、2.5〜2.2(3H、m)、2.2〜1.9(6H、m)、1.6〜1.2(14H、m)、0.93(3H、d、J=6.1Hz)
13C−NMR(100MHz、CDCl3)δ(ppm)132.7、129.7(オレフィン)
香気特性:強く、ピュアーなムスク様、若干暖かみがあり、肌くさい、ふくよかな匂い。
トランス異性体
[α]20D=−4.22(c=0.8654、MeOH)
1H−NMR(400MHz、TMS、CDCL3)δ(ppm)5.47〜5.36(2H、m)、2.5〜2.2(3H、m)、2.2〜1.9(6H、m)、1.6〜1.2(14H、m)、0.99(3H、d、J=6.6Hz)
13C−NMR(100MHz、CDCl3)δ(ppm)132.0、127.2(オレフィン)
香気特性:強く、ピュアーなムスク様の匂い。
【0046】
参考例4:(S)−メチル3−テトラヒドロピラニロキシ−2−メチルプロピオネート[式(17)−2の化合物]の合成
300ml4径フラスコ中に(S)−メチル3−ヒドロキシ−2−メチルプロピオネート[式(18)−2の化合物]23.6g(0.20モル)、エーテル100ml、ジヒドロピラン20.2g(0.24モル)およびパラトルエンスルホン酸0.5g(2ミリモル)を仕込み、室温下に16時間攪拌する。反応液を重ソー水中に注ぎ分液する。有機層をブラインで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。溶媒回収後、減圧下に蒸留し、式(17)−2の化合物を34.5g得た(収率85.4%、bp:83〜88℃/0.39kPa)
参考例5:(R)−3−テトラヒドロピラノロキシ−2−メチルプロパノール[式(16)−2の化合物]の合成
1L4径フラスコ中にリチウムアルミニウムハイドライド6.4g(0.17モル)および乾燥エーテル400mlを仕込み、氷水冷却下、5〜10℃/1時間で(S)−メチル3−テトラヒドロピラニロキシ−2−メチルプロピオネート[式(17)−2の化合物]34.0g(0.17モル)の乾燥エーテル150ml溶液を滴下する。滴下後、室温下に4時間攪拌し、GLCで未反応の消失を確認後、再び冷却し、硫酸ナトリウム水を少しずつ滴下してクエンチする。固形物をろ別し、溶剤回収後、減圧下に蒸留し、式(16)−2を23.6g得た(収率80.6%、bp:97〜99℃/0.46kPa)。
【0047】
参考例6:(S)−3−ベンジロキシ−2−メチルプロパノール[式(14)−2の化合物]の合成
500ml4径フラスコ中に60%水素化ナトリウム3.9g(98モル)、テトラヒドロフラン200ml、ジメチルホルムアミド90mlを仕込み加熱する。60〜70℃で(R)−3−テトラヒドロピラニロキシ−2−メチルプロパナール[式(16)−2の化合物]13.0g(75ミリモル)のテトラヒドロフラン溶液30mlを滴下し、滴下後同温下に1時間撹拌する。次に同温下にベンジルブロミド14.1g(82ミリモル)のテトラヒドロフラン溶液30mlを滴下し、さらに1時間撹拌する。反応液を冷却後、メタノール9.5mlを加えてクエンチし、反応液を減圧下に濃縮する。残さをエーテルで希釈し、水、ブラインで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。エーテルをエバポレーターで濃縮し、式(15)−2で表される化合物の粗製22.0gを得る。この粗製に、メタノール200mlを加えて希釈し、さらにパラトルエンスルホン酸1.0gを加えて室温下に16時間撹拌する。反応液に重ソー粉末2g加え、溶媒回収後水を加え、エーテル抽出した。ブライン洗浄後、減圧蒸留し、式(14)−2の化合物を12.5g得た(収率97.8%、bp:115〜120℃/0.65kPa)。
【0048】
参考例7:(R)−3−ベンジロキシ−2−メチルプロピル p−トルエンスルホネート[式(13)−2の化合物]の合成
200ml4径フラスコ中に(S)−3−ベンジロキシ−2−メチルプロパノール[式(14)−2の化合物]9.0g(50ミリモル)、乾燥ピリジン60mlを仕込み氷水冷する。パラトルエンスルホニルクロリド12.4g(65ミリモル)を少しづつ加えて、さらに0℃で3時間撹拌する。反応液を冷蔵庫中で一夜放置し、翌日、氷水中に注ぎエーテル抽出する。有機層を水洗、硫酸銅水洗、水洗、重ソー水洗、ブライン洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。エーテルをエバポレーターで濃縮し、得られた粗製15.0gをシリカゲルカラムクロマトにて精製し(n−ヘキサン:酢酸エチル=9:1)、式(13)−2の化合物を14.3g得た(収率85.5%)。
【0049】
参考例8:(S)−4−ベンジロキシ−3−メチルブタノニトリル[式(12)−2の化合物]の合成
100ml反応フラスコ中に(R)−3−ベンジロキシ−2−メチルプロピル p−トルエンスルホネート[式(13)−2の化合物]7.0g(21.0ミリモル)、ジメチルスルホキシド20ml、シアン化ナトリウム1.8g(36.7ミリモル)を加え、室温下に一夜放置した。水を加え、エーテル抽出、ブライン洗浄、溶剤回収後、減圧下に蒸留し、式(12)−2の化合物を3.8g得た(収率95.0%、bp:130〜132℃/0.39kPa)。
【0050】
参考例9:(S)−4−ベンジロキシ−3−メチルブタナール[式(11)−2の化合物]の合成
100ml反応フラスコ中に(S)−4−ベンジロキシ−3−メチルブタノニトリル[式(12)−2の化合物]4.6g(24.4ミリモル)、乾燥 ジクロルエタン46mlを仕込み、アルゴン下に冷却した。−78℃で1.0Mのジイソブチルアルミニウムハイドライドトルエン溶液27ml(27ミリモル)を30分で加え室温まで昇温した。反応後、5%硫酸を加え30分攪拌後、エーテル抽出、ソーダ灰洗浄、ブライン洗浄、溶剤回収後、減圧下に蒸留し、式(11)−2の化合物を3.8g得た(収率81.4%、bp:115〜120℃/0.65kPa)。
【0051】
参考例10:(S)−5−ベンジロキシ−4−メチル−1−ペンテン[式(10)−2の化合物]の合成
100ml反応フラスコ中、アルゴン下に、メチルトリフェニルホスホニウムブロマイド14.3g(40ミリモル)、乾燥テトラヒドロフラン50mlを仕込み、n−BuLi/ヘキサン22.5ml(35.9ミリモル)を−20〜−30℃にて30分で加え、同温下に30分攪拌した。(S)−4−ベンジロキシ−3−メチルブタナール[式(11)−2の化合物]4.6g(24.0ミリモル)、乾燥テトラヒドロフラン20mlを加え、同温下に1時間攪拌した。水を加え、エーテル抽出、溶剤回収後、減圧下に蒸留し、式(10)−2の化合物を4.3g得た(収率93.8%、bp:85〜87℃/0.39kPa)。
【0052】
参考例11:(S)−2−メチル−4−ペンテノール[式(5)−2の化合物]の合成
1L4径フラスコ中に液体アンモニア250mlを仕込み、(S)−5−ベンジロキシ−4−メチル−1−ペンテン[式(10)−2の化合物]4.3g(22.5ミリモル)の乾燥テトラヒドロフラン溶液40mlを加える。−50〜−40℃で金属ナトリウム1.9g(82.5ミリモル)を少しづつ加え、さらに−50℃で1時間撹拌する。反応液に粉末塩化アンモニウム9.2gを加えてクエンチし、昇温してアンモニアを飛ばす。残さに塩化アンモニウム水溶液を加え、エーテル抽出、ブライン洗浄、溶剤回収後、減圧下に蒸留し、式(5)−2の化合物を2.0g得た(収率88.1%、bp:72〜75℃/4.55kPa)。
【0053】
参考例12:(S)−2−メチル−4−ペンテン−1−イル p−トルエンスルホネート[式(4)−2の化合物]の合成
100ml反応フラスコ中に(S)−2−メチル−4−ペンテノール[式(5)−2の化合物]1.9g(19ミリモル)、乾燥ピリジン20mlを仕込み氷水冷する。パラトルエンスルホニウムクロリド5.4g(28ミリモル)を少しづつ加えて、さらに0℃で3時間撹拌する。反応液を冷蔵庫中で一夜放置する。反応終了後、水を加え、エーテル抽出、ブライン洗浄、硫酸銅水洗浄、ブライン洗浄、ソーダ灰水洗浄、ブライン洗浄後、溶剤回収し式(4)−2の化合物の粗製を4.8g得た(収率100.3%)。
【0054】
実施例4:(S)−(+)−3−メチル−5−ヘキセンニトリル[式(3)−2の化合物]の合成
100mlフラスコに粗製の(S)−2−メチル−4−ペンテン−1−イル p−トルエンスルホネート[式(4)−2の化合物]4.8g(19.0ミリモル)、ジメチルスルホキシド20ml、シアン化ナトリウム1.8g(36.7ミリモル)を仕込み一夜攪拌した。水を加え、エーテル抽出後、溶媒を常圧回収後、減圧下に蒸留し、式(3)−2の化合物を1.8g得た(収率87.6%、bp:79〜81℃/4.55kpPa)。
[α]20D=13.24(c=0.8910、MeOH)
1H−NMR(400MHz、TMS、CDCl3)δ(ppm)5.73(1H、ddt、J=17.3Hz、10.3Hz、3.4Hz)、5.11(1H、d、J=17.3Hz)、5.08(1H、d、J=10.3Hz)、2.36〜2.23(2H、m)、2.15〜2.08(2H、m)、2.01〜1.89(2H、m)、1.10(3H、d、J=6.8Hz)。
【0055】
実施例5:(S)−(−)−4−メチル−1,16−ヘプタデカジエン−6−オン[式(2)−2の化合物]の合成
30mlフラスコにマグネシウム1.0g(39.1ミリモル)、乾燥エーテル2mlを仕込み、ブロモ−10−ウンデセン7.6g(32.4ミリモル)を滴下した。室温下に1時間攪拌後、同温下に(S)−(+)−3−メチル−5−ヘキセンニトリル[式(3)−2の化合物]1.8g(16.2ミリモル)を滴下した。同温下に2時間反応し原料の消失を確認後、50%塩酸20gを冷却下に加え、室温に戻し2時間攪拌した。エーテル抽出、ソーダ灰水洗浄、ブライン洗浄後、溶剤回収し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、式(2)−1の化合物を3.1g得た(収率72.8%)。
[α]20D=−2.36(c=1.0992、MeOH)
1H−NMR(400MHz、TMS、CDCl3)δ(ppm)5.69(2H、m)、4.94〜4.82(4H、m)、2.33(1H、dd、J=16.0Hz、5.6Hz)、2.27(2H、t、J=7.6Hz)、2.14〜1.86(6H、m)、1.53〜1.20(14H、m)、0.83(3H、d、J=6.4Hz)。
【0056】
実施例6:(S)−(+)−3−メチル−5−シクロペンタデセン−1−オン[式(1)−2の化合物]の合成
3000mlフラスコ中にRu−cat.0.47g(0.57ミリモル)を仕込み、系内をアルゴン置換する。(S)−(−)−4−メチル−1,16−ヘプタデカジエン−6−オン[式(2)−2の化合物]2.95g(11.2ミリモル)、塩化メチレン溶液3000mlを加え、41℃で4時間反応を行った。減圧下に溶媒を回収後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製し、式(1)−2の化合物を1.36g得た(収率51.5%)。このものを更に中圧カラムによりシス異性体0.78g、トランス異性体0.29gに分離した。
シス異性体
[α]20D=10.17(c=0.9634、MeOH)
1H−NMR(400MHz、TMS、CDCl3)δ(ppm)5.39〜5.29(2H、m)、2.5〜2.2(3H、m)、2.2〜1.9(6H、m)、1.6〜1.2(14H、m)、0.93(3H、d、J=6.1Hz)
13C−NMR(100MHz、CDCl3)δ(ppm)132.7、129.7(オレフィン)
香気特性:弱い、ムスク様、ややウッディー感ある匂い。
トランス異性体
[α]20D=4.51(c=0.9744、MeOH)
1H−NMR(400MHz、TMS、CDCl3)δ(ppm)5.47〜5.36(2H、m)、2.5〜2.2(3H、m)、2.2〜1.9(6H、m)、1.6〜1.2(14H、m)、0.93(3H、d、J=6.6Hz)
13C−NMR(100MHz、CDCl3)δ(ppm)132.0、127.2(オレフィン)
香気特性:弱い、ムスク様、ややウッディー感ある匂い。
【0057】
実施例7:香料組成物の製造
実施例3および実施例6で調製した(R)−(−)−3−メチル−5−シクロペンタデセン−1−オンまたは(S)−(+)−3−メチル−5−シクロペンタデセン−1−オンを用い、下記処方のムスクタイプの石鹸用香料組成物を調製し、10名の専門パネラーによる評価を行った。その結果、本発明の(R)−(−)−3−メチル−5−シクロペンタデセン−1−オンまたは(S)−(+)−3−メチル−5−シクロペンタデセン−1−オンを含有した香料組成物において嗜好性の高いパウダリームスク様香気が付与されることが確認された。
香料組成物
アミルサリシレート 200g
シダー 160
ゼラニウム 100
サンタール 90
パチュリー 40
クマリン 40
ヘリオトロピン 70
ベチバー 40
フェニルエチルアルコール 90
シクロペンタデカノリド 30
ペルーバルサム 30
ベルガモット 60
ターピニルアセテート 50
計 1000
【0058】
【発明の効果】
本発明は、光学活性ムスコン(3−メチルシクロペンタデカノン)の合成中間体として重要な、光学活性3−メチル−5−シクロペンタデセン−1−オン、該化合物を高収率、高純度に製造できるため極めて有用である。

Claims (6)

  1. 下記式(3)−1
    Figure 0004495313
    で表される(R)−(−)−3−メチル−5−ヘキセンニトリルを、有機溶媒中、10−ウンデセニル−1−マグネシウムハライド(C11H21MgX)とカップリング反応せしめて下記式(2)−1
    Figure 0004495313
    で表される(R)−(+)−4−メチル−1,16−ヘプタデカジエン−6−オンを形成させ、これを閉環して下記式(1)−1
    Figure 0004495313
    で表される(R)−(−)−3−メチル−5−シクロペンタデセン−1−オンの製法。
  2. 下記式(3)−2
    Figure 0004495313
    で表される(S)−(+)−3−メチル−5−ヘキセンニトリルを、有機溶媒中、10−ウンデセニル−1−マグネシウムハライド(C11H21MgX)とカップリング反応せしめて下記式(2)−2
    Figure 0004495313
    で表される(S)−(−)−4−メチル−1,16−ヘプタデカジエン−6−オンを形成させ、これを閉環して下記式(1)−2
    Figure 0004495313
    で表される(S)−(+)−3−メチル−5−シクロペンタデセン−1−オンの製法。
  3. 下記式(2)−1
    Figure 0004495313
    で表される(R)−(+)−4−メチル−1,16−ヘプタデカジエン−6−オン。
  4. 下記式(2)−2
    Figure 0004495313
    で表される(S)−(−)−4−メチル−1,16−ヘプタデカジエン−6−オン。
  5. 下記式(3)−1
    Figure 0004495313
    で表される(R)−(−)−3−メチル−5−ヘキセンニトリル。
  6. 下記式(3)−2
    Figure 0004495313
    で表される(S)−(+)−3−メチル−5−ヘキセンニトリル。
JP2000212320A 2000-07-13 2000-07-13 光学活性3−メチル−5−シクロペンタデセン−1−オンの製法および新規中間体 Expired - Fee Related JP4495313B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000212320A JP4495313B2 (ja) 2000-07-13 2000-07-13 光学活性3−メチル−5−シクロペンタデセン−1−オンの製法および新規中間体

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000212320A JP4495313B2 (ja) 2000-07-13 2000-07-13 光学活性3−メチル−5−シクロペンタデセン−1−オンの製法および新規中間体

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002030022A JP2002030022A (ja) 2002-01-29
JP4495313B2 true JP4495313B2 (ja) 2010-07-07

Family

ID=18708257

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000212320A Expired - Fee Related JP4495313B2 (ja) 2000-07-13 2000-07-13 光学活性3−メチル−5−シクロペンタデセン−1−オンの製法および新規中間体

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4495313B2 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4550514B2 (ja) * 2004-08-03 2010-09-22 花王株式会社 ステロイドホルモン分泌調節剤
CN101166708B (zh) 2005-05-23 2011-11-23 高砂香料工业株式会社 光学活性3-甲基环十五烷酮及其中间体的制备方法
CN101979367B (zh) * 2010-10-22 2014-03-05 刘畅 3-甲基大环酮的制备方法
WO2015107017A1 (en) * 2014-01-14 2015-07-23 Firmenich Sa Powdery, musky odorant macrocycles

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06192680A (ja) * 1992-07-30 1994-07-12 Firmenich Sa 香料組成物又は芳香製品の芳香特性を賦与、改良、強化又は変性する方法、及び香料組成物又は芳香製品

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4081733B2 (ja) * 1998-07-02 2008-04-30 曽田香料株式会社 ムスコンの製造法、新規中間化合物および香料組成物

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06192680A (ja) * 1992-07-30 1994-07-12 Firmenich Sa 香料組成物又は芳香製品の芳香特性を賦与、改良、強化又は変性する方法、及び香料組成物又は芳香製品

Also Published As

Publication number Publication date
JP2002030022A (ja) 2002-01-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW509672B (en) Novel intermediate compounds and processes for the production of optical active octanoic acid derivatives
JP2836556B2 (ja) 5,6,7−トリノル−4,8−インタ−m−フェニレンPGl2誘導体の中間体の製造方法
JP4495313B2 (ja) 光学活性3−メチル−5−シクロペンタデセン−1−オンの製法および新規中間体
US20050272943A1 (en) Process for preparing prostaglandin derivatives and starting materials for the same
JP4651155B2 (ja) 光学活性ムスコンの製法
JP5014732B2 (ja) アンテイソ脂肪族アルデヒドの製造方法およびこれを含有する香料組成物
JP3828154B2 (ja) トリシクロカルボン酸エステル、その製造法およびそれからなる香料
JP3396097B2 (ja) 4−イソプロピルシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体の製法
JP2824159B2 (ja) (S)−(−)−α−ダマスコンの製法
JPS6334127B2 (ja)
JPS588372B2 (ja) 光学活性β−置換アルデヒド化合物の製造方法
JPH0245614B2 (ja)
JP3071621B2 (ja) (−)−8α,13−エポキシ−14,15,16−トリノルラブダ−12−エンの製法およびその新規中間体
JPH0578541B2 (ja)
JP3266701B2 (ja) 2,3−ジヒドロポリプレノールの製造法
JPH0244459B2 (ja)
JP2008094807A (ja) セダネノライドの製造方法
JP3029753B2 (ja) メソ−(3e,7e)−5,6−ビス(ヒドロキシメチル)−3,7−デカジエンの製法
WO2003018522A2 (en) Process for the preparation of beta-ionylideneacetaldehyde
JPH10182523A (ja) 1位置換−2,2−ジフロロ−3−ブテン−1−オール類の製造法
JPS63188652A (ja) 5−ヒドロキシ−2−アルキン酸エステルの製法
JP2003335728A (ja) 4−メチルシクロペンテノン誘導体の製造方法。
JPH08151340A (ja) メソ−(3e,7e)−5,6−ビス(ヒドロキシメチル)−3,7−デカジエンの製法
JP2003002887A (ja) 14−メチルシクロペンタデカノリドの製法及び新規中間体
JPH04305548A (ja) ハロゲノアリルアルコール誘導体

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070426

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091222

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100218

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100406

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100409

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 4495313

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130416

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130416

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees