JP3029753B2 - メソ−(3e,7e)−5,6−ビス(ヒドロキシメチル)−3,7−デカジエンの製法 - Google Patents
メソ−(3e,7e)−5,6−ビス(ヒドロキシメチル)−3,7−デカジエンの製法Info
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- JP3029753B2 JP3029753B2 JP5095409A JP9540993A JP3029753B2 JP 3029753 B2 JP3029753 B2 JP 3029753B2 JP 5095409 A JP5095409 A JP 5095409A JP 9540993 A JP9540993 A JP 9540993A JP 3029753 B2 JP3029753 B2 JP 3029753B2
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、オーストラリアに生息
し、レモンやマンダリンなどの柑橘類害虫(カメムシ科
の昆虫:Biprorulus bibax Breddin)の誘引フェロモン
であるシス−(1′E)−3,4−ビス(1′−ブテニ
ル)テトラヒドロ−2−フラノールの合成中間体として
有用であるメソ−(3E,7E)−5,6−ビス(ヒド
ロキシメチル)−3,7−デカジエン[以下、(A)化
合物と称することもある]の新規な製法に関する。
し、レモンやマンダリンなどの柑橘類害虫(カメムシ科
の昆虫:Biprorulus bibax Breddin)の誘引フェロモン
であるシス−(1′E)−3,4−ビス(1′−ブテニ
ル)テトラヒドロ−2−フラノールの合成中間体として
有用であるメソ−(3E,7E)−5,6−ビス(ヒド
ロキシメチル)−3,7−デカジエン[以下、(A)化
合物と称することもある]の新規な製法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、前記(A)化合物のメソ−(3
E,7E)−5,6−ビス(ヒドロキシメチル)−3,
7−デカジエンの製造法についてはいくつかの報告がな
されている。例えば、(a)法:3(E)−ヘキセン酸
を塩基(リチウムジイソプロピルアミド)、次いでヨウ
素と処理し、酸化的カップリング反応を行い、コハク酸
誘導体とし、更に該化合物を還元剤(水素化リチウムア
ルミニウム)で還元する(A)化合物の合成法[Tetrah
edron Letters,33(7),891■894,1992]、また(b)
法:ブタジエンと無水マレイン酸のジールス−アルダー
(Diels-Alder)反応物を出発原料に、11工程を経る
(A)化合物の合成法[Liebigs Ann.Chem.1992,1185■
1190]などが提案されている。
E,7E)−5,6−ビス(ヒドロキシメチル)−3,
7−デカジエンの製造法についてはいくつかの報告がな
されている。例えば、(a)法:3(E)−ヘキセン酸
を塩基(リチウムジイソプロピルアミド)、次いでヨウ
素と処理し、酸化的カップリング反応を行い、コハク酸
誘導体とし、更に該化合物を還元剤(水素化リチウムア
ルミニウム)で還元する(A)化合物の合成法[Tetrah
edron Letters,33(7),891■894,1992]、また(b)
法:ブタジエンと無水マレイン酸のジールス−アルダー
(Diels-Alder)反応物を出発原料に、11工程を経る
(A)化合物の合成法[Liebigs Ann.Chem.1992,1185■
1190]などが提案されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来提案の式(A)化合物の製造法は必ずしも満足できる
ものではなく、例えば(a)法では、他の異性体混合物
の副生が多く、純品の目的物を得るには高速液体クロマ
トグラフィー分離が必要となり、大量製造には不向きで
ある。また、(b)法では、多工程でしかも煩雑な工程
が必要などの不利益を有し解決すべき課題があった。
来提案の式(A)化合物の製造法は必ずしも満足できる
ものではなく、例えば(a)法では、他の異性体混合物
の副生が多く、純品の目的物を得るには高速液体クロマ
トグラフィー分離が必要となり、大量製造には不向きで
ある。また、(b)法では、多工程でしかも煩雑な工程
が必要などの不利益を有し解決すべき課題があった。
【0004】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明者らは、
上述の課題を解決しうる工業的に有利な新規製造法を確
立するため鋭意研究を行ってきた。その結果、出発原料
として2(E)−ヘキセン−1,4−ジオールを選ぶこ
とにより、好収率、好純度に(A)化合物を合成できる
製造法を見い出し、本発明を完成した。
上述の課題を解決しうる工業的に有利な新規製造法を確
立するため鋭意研究を行ってきた。その結果、出発原料
として2(E)−ヘキセン−1,4−ジオールを選ぶこ
とにより、好収率、好純度に(A)化合物を合成できる
製造法を見い出し、本発明を完成した。
【0005】本発明によれば、2(E)−ヘキセン−
1,4−ジオール[(E)化合物]を有機溶媒中、塩基
の存在下にt−ブチルジメチルシリルクロリド(TBS
Cl)と反応させて1−(t−ブチルジメチルシリロキ
シ)−2(E)−ヘキセン−4−オール[(D)化合
物]を形成させる第1工程/該(D)化合物を有機溶媒
中、ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)の存在
下に3(E)−ヘキセン酸と反応させて(3E,2
E′)−3−ヘキセン酸4′−(t−ブチルジメチルシ
リロキシ)−1′−エチル−2′−ブテニル[(C)化
合物]を形成させる第2工程/該(C)化合物を有機溶
媒中、塩基の存在下にエノール化させた後、トリメチル
シリルクロリド(TMSCl)でトリメチルシリルエー
テル化し、次に転移反応させ、続いて酸で加水分解する
ことにより(3E,7E)−5−(t−ブチルジメチル
シリロキシメチル)−6−ヒドロキシカルボニル−3,
7−デカジエン[(B)化合物]を形成させる第3工程
/該(B)化合物を有機溶媒中、還元剤で処理すること
によりメソ−(3E,7E)−5,6−ビス(ヒドロキ
シメチル)−3,7−デカジエン[(A)化合物]を形
成させる第4工程からなる製造方法により、容易に
(A)化合物を合成することができる。以下に、(A)
化合物を合成する第1工程から第4工程を各工程別に詳
細に説明する。
1,4−ジオール[(E)化合物]を有機溶媒中、塩基
の存在下にt−ブチルジメチルシリルクロリド(TBS
Cl)と反応させて1−(t−ブチルジメチルシリロキ
シ)−2(E)−ヘキセン−4−オール[(D)化合
物]を形成させる第1工程/該(D)化合物を有機溶媒
中、ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)の存在
下に3(E)−ヘキセン酸と反応させて(3E,2
E′)−3−ヘキセン酸4′−(t−ブチルジメチルシ
リロキシ)−1′−エチル−2′−ブテニル[(C)化
合物]を形成させる第2工程/該(C)化合物を有機溶
媒中、塩基の存在下にエノール化させた後、トリメチル
シリルクロリド(TMSCl)でトリメチルシリルエー
テル化し、次に転移反応させ、続いて酸で加水分解する
ことにより(3E,7E)−5−(t−ブチルジメチル
シリロキシメチル)−6−ヒドロキシカルボニル−3,
7−デカジエン[(B)化合物]を形成させる第3工程
/該(B)化合物を有機溶媒中、還元剤で処理すること
によりメソ−(3E,7E)−5,6−ビス(ヒドロキ
シメチル)−3,7−デカジエン[(A)化合物]を形
成させる第4工程からなる製造方法により、容易に
(A)化合物を合成することができる。以下に、(A)
化合物を合成する第1工程から第4工程を各工程別に詳
細に説明する。
【0006】第1工程の製造法:[(D)化合物の合
成] (D)化合物の合成原料である(E)化合物は公知であ
り、従来提案の方法により合成することもできるし、ま
た本発明者らが見い出した方法、即ちプロパギルアルコ
ールと2,3−ジヒドロピランを反応させてテトラヒド
ロピラニルエーテルを生成させ、該生成物とエチルマグ
ネシウムブロミドを反応させた後、プロパナールと反応
させて1−テトラヒドロピラノキシ−2−ヘキシン−4
−オールを生成させ、次いで該生成物をメタノール中p
−トルエンスルホン酸で処理して2−ヘキシン−1,4
−ジオールを生成させ、更に該生成物を水素化リチウム
アルミニウムで還元することにより(E)化合物を得る
ことができる。
成] (D)化合物の合成原料である(E)化合物は公知であ
り、従来提案の方法により合成することもできるし、ま
た本発明者らが見い出した方法、即ちプロパギルアルコ
ールと2,3−ジヒドロピランを反応させてテトラヒド
ロピラニルエーテルを生成させ、該生成物とエチルマグ
ネシウムブロミドを反応させた後、プロパナールと反応
させて1−テトラヒドロピラノキシ−2−ヘキシン−4
−オールを生成させ、次いで該生成物をメタノール中p
−トルエンスルホン酸で処理して2−ヘキシン−1,4
−ジオールを生成させ、更に該生成物を水素化リチウム
アルミニウムで還元することにより(E)化合物を得る
ことができる。
【0007】本発明の第1工程によれば、2(E)−ヘ
キセン−1,4−ジオール[(E)化合物]を有機溶媒
中、塩基の存在下にt−ブチルジメチルシリルクロリド
(TBSCl)と反応させて1−(t−ブチルジメチル
シリロキシ)−2(E)−ヘキセン−4−オール
[(D)化合物]を容易に合成できる。
キセン−1,4−ジオール[(E)化合物]を有機溶媒
中、塩基の存在下にt−ブチルジメチルシリルクロリド
(TBSCl)と反応させて1−(t−ブチルジメチル
シリロキシ)−2(E)−ヘキセン−4−オール
[(D)化合物]を容易に合成できる。
【0008】この反応の反応温度および反応時間は、例
えば約−30℃〜約50℃程度、より好ましくは約0℃
〜約30℃の温度範囲で、約1時間〜約24時間程度を
採用できる。使用するTBSClの使用量は、(E)化
合物1モルに対して約1.0モル〜約1.5モル程度の
範囲内を例示できる。この反応で用いる有機溶媒の具体
例としては、例えばジクロルメタン、ジクロルエタン、
クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素などを示すこと
ができ、これらの有機溶媒の使用量は、例えば(E)化
合物1重量部に対して約1〜約100重量部程度の範囲
を好ましく例示できる。また、この反応で使用する塩基
の種類としては、例えばトリエチルアミン、トリブチル
アミン、ピリジン、イミダゾールなどの含窒素有機塩基
などを挙げることができ、その使用量は、式(E)化合
物1モルに対して約1モル〜約5モル程度の範囲内を例
示できる。この反応は、例えば4−(ジメチルアミノ)
ピリジン(DMAP)などの反応促進剤の存在下に行う
のが好ましい。反応終了後、蒸留、洗浄、抽出、乾燥、
カラムクロマトグラフィーなどの通常の分離手段を適宜
に採用して好収率、好純度に(D)化合物を得ることが
できる。
えば約−30℃〜約50℃程度、より好ましくは約0℃
〜約30℃の温度範囲で、約1時間〜約24時間程度を
採用できる。使用するTBSClの使用量は、(E)化
合物1モルに対して約1.0モル〜約1.5モル程度の
範囲内を例示できる。この反応で用いる有機溶媒の具体
例としては、例えばジクロルメタン、ジクロルエタン、
クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素などを示すこと
ができ、これらの有機溶媒の使用量は、例えば(E)化
合物1重量部に対して約1〜約100重量部程度の範囲
を好ましく例示できる。また、この反応で使用する塩基
の種類としては、例えばトリエチルアミン、トリブチル
アミン、ピリジン、イミダゾールなどの含窒素有機塩基
などを挙げることができ、その使用量は、式(E)化合
物1モルに対して約1モル〜約5モル程度の範囲内を例
示できる。この反応は、例えば4−(ジメチルアミノ)
ピリジン(DMAP)などの反応促進剤の存在下に行う
のが好ましい。反応終了後、蒸留、洗浄、抽出、乾燥、
カラムクロマトグラフィーなどの通常の分離手段を適宜
に採用して好収率、好純度に(D)化合物を得ることが
できる。
【0009】第2工程の製造法:[(C)化合物の合
成] 本発明の第2工程によれば、1−(t−ブチルジメチル
シリロキシ)−2(E)−ヘキセン−4−オール
[(D)化合物]を有機溶媒中、ジシクロヘキシルカル
ボジイミド(DCC)の存在下に3(E)−ヘキセン酸
と反応させて(3E,2E′)−3−ヘキセン酸4′−
(t−ブチルジメチルシリロキシ)−1′−エチル−
2′−ブテニル[(C)化合物]を容易に合成できる。
成] 本発明の第2工程によれば、1−(t−ブチルジメチル
シリロキシ)−2(E)−ヘキセン−4−オール
[(D)化合物]を有機溶媒中、ジシクロヘキシルカル
ボジイミド(DCC)の存在下に3(E)−ヘキセン酸
と反応させて(3E,2E′)−3−ヘキセン酸4′−
(t−ブチルジメチルシリロキシ)−1′−エチル−
2′−ブテニル[(C)化合物]を容易に合成できる。
【0010】反応時間は反応温度によっても異なるが、
例えば約0℃〜約80℃程度の温度範囲で、約1時間〜
約10時間程度を採用できる。反応させる3(E)−ヘ
キセン酸の好ましい使用量は、(D)化合物1モルに対
して約1モル〜約2モル程度の範囲内を挙げることがで
きる。使用する有機溶媒の具体例としては、例えばジク
ロルメタン、ジクロルエタン、クロロホルムなどのハロ
ゲン化炭化水素などを示すことができ、これらの有機溶
媒の使用量は、例えば(D)化合物1重量部に対して約
1〜約100重量部程度の範囲を例示できる。また、D
CCの使用量としては、例えば(D)化合物1モルに対
して約1モル〜約5モル程度の範囲内を好ましく例示で
きる。この工程においてもDMPAなどの反応促進剤の
存在下に行うのが好ましい。反応終了後、蒸留、洗浄、
抽出、乾燥、カラムクロマトグラフィーなどの通常の分
離手段を適宜に採用して好収率、好純度に(C)化合物
を容易に合成できる。
例えば約0℃〜約80℃程度の温度範囲で、約1時間〜
約10時間程度を採用できる。反応させる3(E)−ヘ
キセン酸の好ましい使用量は、(D)化合物1モルに対
して約1モル〜約2モル程度の範囲内を挙げることがで
きる。使用する有機溶媒の具体例としては、例えばジク
ロルメタン、ジクロルエタン、クロロホルムなどのハロ
ゲン化炭化水素などを示すことができ、これらの有機溶
媒の使用量は、例えば(D)化合物1重量部に対して約
1〜約100重量部程度の範囲を例示できる。また、D
CCの使用量としては、例えば(D)化合物1モルに対
して約1モル〜約5モル程度の範囲内を好ましく例示で
きる。この工程においてもDMPAなどの反応促進剤の
存在下に行うのが好ましい。反応終了後、蒸留、洗浄、
抽出、乾燥、カラムクロマトグラフィーなどの通常の分
離手段を適宜に採用して好収率、好純度に(C)化合物
を容易に合成できる。
【0011】第3工程の製造法:[(B)化合物の合
成] 本発明の第3工程によれば、(3E,2E′)−3−ヘ
キセン酸4′−(t−ブチルジメチルシリロキシ)−
1′−エチル−2′−ブテニル[(C)化合物]を有機
溶媒中、塩基の存在下にエノール化させた後、トリメチ
ルシリルクロリド(TMSCl)でトリメチルシリルエ
ーテル化し、次に転移反応させ、続いて酸で加水分解す
ることにより(3E,7E)−5−(t−ブチルジメチ
ルシリロキシメチル)−6−ヒドロキシカルボニル−
3,7−デカジエン[(B)化合物]を製造できる。
成] 本発明の第3工程によれば、(3E,2E′)−3−ヘ
キセン酸4′−(t−ブチルジメチルシリロキシ)−
1′−エチル−2′−ブテニル[(C)化合物]を有機
溶媒中、塩基の存在下にエノール化させた後、トリメチ
ルシリルクロリド(TMSCl)でトリメチルシリルエ
ーテル化し、次に転移反応させ、続いて酸で加水分解す
ることにより(3E,7E)−5−(t−ブチルジメチ
ルシリロキシメチル)−6−ヒドロキシカルボニル−
3,7−デカジエン[(B)化合物]を製造できる。
【0012】上記エノール化反応の反応温度は、例えば
約−100℃〜約0℃程度、より好ましくは約−80℃
〜約−50℃の温度範囲、また反応時間は、約0.5時
間〜約3.0時間程度を採用できる。この反応で用いる
有機溶媒の具体例としては、例えばヘキサメチレンホス
ホロアミド(HMPA)、テトラヒドロフラン(TH
F)、ジメトキシエタン、n−ヘキサン、トルエン、ベ
ンゼン、ジエチルエーテルなどを示すことができ、これ
らの溶媒は単独もしくは混合物としても使用できる。有
機溶媒の使用量は、例えば(C)化合物1重量部に対し
て約1〜約100重量部程度の範囲を好ましく例示でき
る。また、この反応で使用する塩基の種類としては、例
えばリチウムヘキサメチルジシラジド(LHMDS)、
リチウムジイソプロピルアミド、リチウムテトラメチル
ピペラジド、ブチルリチウムなどを挙げることができ、
その使用量は、式(C)化合物1モルに対して約1モル
〜約2モル程度の範囲内を例示できる。生成したエノー
ル化合物は、単離することなく同一の反応系で次のエノ
ールエーテル化反応並びに転移反応に供することができ
る。
約−100℃〜約0℃程度、より好ましくは約−80℃
〜約−50℃の温度範囲、また反応時間は、約0.5時
間〜約3.0時間程度を採用できる。この反応で用いる
有機溶媒の具体例としては、例えばヘキサメチレンホス
ホロアミド(HMPA)、テトラヒドロフラン(TH
F)、ジメトキシエタン、n−ヘキサン、トルエン、ベ
ンゼン、ジエチルエーテルなどを示すことができ、これ
らの溶媒は単独もしくは混合物としても使用できる。有
機溶媒の使用量は、例えば(C)化合物1重量部に対し
て約1〜約100重量部程度の範囲を好ましく例示でき
る。また、この反応で使用する塩基の種類としては、例
えばリチウムヘキサメチルジシラジド(LHMDS)、
リチウムジイソプロピルアミド、リチウムテトラメチル
ピペラジド、ブチルリチウムなどを挙げることができ、
その使用量は、式(C)化合物1モルに対して約1モル
〜約2モル程度の範囲内を例示できる。生成したエノー
ル化合物は、単離することなく同一の反応系で次のエノ
ールエーテル化反応並びに転移反応に供することができ
る。
【0013】この工程のエノールエーテル化反応及び転
移反応は、生成したエノールをTMSClでトリメチル
シリルエーテル化し、次に徐々に室温まで温度を上昇さ
せることにより、転移させる。TMSClでトリメチル
シリルエーテル化する工程の反応温度および反応時間
は、例えば約−100℃〜約0℃程度の温度範囲で、約
1時間〜約24時間程度を採用できる。また、TMSC
lの使用量は、(C)化合物1モルに対して約1モル〜
約3モル程度の範囲内を挙げることができる。次いで、
反応系を徐々に室温まで上昇させることにより転移反応
を行い、転移反応後、反応系を塩酸などの無機酸水溶液
で加水分解することにより(3E,7E)−5−(t−
ブチルジメチルシリロキシメチル)−6−ヒドロキシカ
ルボニル−3,7−デカジエン[(B)化合物]を製造
できる。(B)化合物は、通常の分離手段を適宜に採用
して単離できるが、そのまま次の第4工程の反応を行っ
てもよい。
移反応は、生成したエノールをTMSClでトリメチル
シリルエーテル化し、次に徐々に室温まで温度を上昇さ
せることにより、転移させる。TMSClでトリメチル
シリルエーテル化する工程の反応温度および反応時間
は、例えば約−100℃〜約0℃程度の温度範囲で、約
1時間〜約24時間程度を採用できる。また、TMSC
lの使用量は、(C)化合物1モルに対して約1モル〜
約3モル程度の範囲内を挙げることができる。次いで、
反応系を徐々に室温まで上昇させることにより転移反応
を行い、転移反応後、反応系を塩酸などの無機酸水溶液
で加水分解することにより(3E,7E)−5−(t−
ブチルジメチルシリロキシメチル)−6−ヒドロキシカ
ルボニル−3,7−デカジエン[(B)化合物]を製造
できる。(B)化合物は、通常の分離手段を適宜に採用
して単離できるが、そのまま次の第4工程の反応を行っ
てもよい。
【0014】第4工程の製造法:[(A)化合物の合
成] 本発明の第4工程によれば、(3E,7E)−5−(t
−ブチルジメチルシリロキシメチル)−6−ヒドロキシ
カルボニル−3,7−デカジエン[(B)化合物]を有
機溶媒中、還元剤で処理することによりメソ−(3E,
7E)−5,6−ビス(ヒドロキシメチル)−3,7−
デカジエン[(A)化合物]を容易に製造できる。
成] 本発明の第4工程によれば、(3E,7E)−5−(t
−ブチルジメチルシリロキシメチル)−6−ヒドロキシ
カルボニル−3,7−デカジエン[(B)化合物]を有
機溶媒中、還元剤で処理することによりメソ−(3E,
7E)−5,6−ビス(ヒドロキシメチル)−3,7−
デカジエン[(A)化合物]を容易に製造できる。
【0015】還元反応の反応温度は反応時間によっても
異なるが、例えば約−30℃〜約100℃程度の温度範
囲で、約1時間〜約24時間程度を採用できる。この反
応に用いる還元剤の種類としては、例えば水素化リチウ
ムアルミニウム、水素化アルミニウムなどの水素化金属
物を挙げることができ、その使用量は、式(B)化合物
1モルに対して約0.5モル以上、より好ましくは約1
モル〜約10モル程度の範囲内を例示できる。また、有
機溶媒の種類としては、例えばテトラヒドロフラン、ジ
エチルエーテル、ジグリム、ジメトキシエタンなどを示
すことができ、その使用量は、例えば式(B)化合物1
重量部に対して約1〜約100重量部程度の範囲でよ
い。反応終了後、蒸留、洗浄、抽出、乾燥、カラムクロ
マトグラフィーなどの通常の分離手段を適宜に採用して
好収率、好純度にメソー(3E,7E)−5,6−ビス
(ヒドロキシメチル)−3.7−デカジエン[(A)化
合物]を得ることができる。
異なるが、例えば約−30℃〜約100℃程度の温度範
囲で、約1時間〜約24時間程度を採用できる。この反
応に用いる還元剤の種類としては、例えば水素化リチウ
ムアルミニウム、水素化アルミニウムなどの水素化金属
物を挙げることができ、その使用量は、式(B)化合物
1モルに対して約0.5モル以上、より好ましくは約1
モル〜約10モル程度の範囲内を例示できる。また、有
機溶媒の種類としては、例えばテトラヒドロフラン、ジ
エチルエーテル、ジグリム、ジメトキシエタンなどを示
すことができ、その使用量は、例えば式(B)化合物1
重量部に対して約1〜約100重量部程度の範囲でよ
い。反応終了後、蒸留、洗浄、抽出、乾燥、カラムクロ
マトグラフィーなどの通常の分離手段を適宜に採用して
好収率、好純度にメソー(3E,7E)−5,6−ビス
(ヒドロキシメチル)−3.7−デカジエン[(A)化
合物]を得ることができる。
【0016】上述のようにして得ることのできる(A)
化合物は、オーストラリアに生息し、レモンやマンダリ
ンなどの柑橘類害虫(カメムシ科の昆虫:Biprorulus b
ibaxBreddin)の誘引フェロモンであるシス−(1′
E)−3,4−ビス(1′−ブテニル)テトラヒドロ−
2−フラノールの合成中間体として有用である。即ち、
(A)化合物を炭酸銀−セライトで処理して、シス−
(1′E)−3,4−ビス(1′−ブテニル)テトラヒ
ドロ−2−フラノンを生成させ、次いで該生成物をジイ
ソブチルアルミニウムヒドリド(DIBAL)で還元す
ることにより、シス−(1′E)−3,4−ビス(1′
−ブテニル)テトラヒドロ−2−フラノールに誘導でき
る。
化合物は、オーストラリアに生息し、レモンやマンダリ
ンなどの柑橘類害虫(カメムシ科の昆虫:Biprorulus b
ibaxBreddin)の誘引フェロモンであるシス−(1′
E)−3,4−ビス(1′−ブテニル)テトラヒドロ−
2−フラノールの合成中間体として有用である。即ち、
(A)化合物を炭酸銀−セライトで処理して、シス−
(1′E)−3,4−ビス(1′−ブテニル)テトラヒ
ドロ−2−フラノンを生成させ、次いで該生成物をジイ
ソブチルアルミニウムヒドリド(DIBAL)で還元す
ることにより、シス−(1′E)−3,4−ビス(1′
−ブテニル)テトラヒドロ−2−フラノールに誘導でき
る。
【0017】以下に本発明について、実施例を挙げて更
に詳細に説明する。
に詳細に説明する。
【実施例1】 1−(t−ブチルジメチルシリロキシ)−2(E)−ヘ
キセン−4−オール[(D)化合物]の合成(第1工
程)。 (E)化合物75.0g(0.647mol)、トリエ
チルアミン78.5g(0.776mol)、DMAP
3.95g(32.3mmol)及び塩化メチレン1.
100mlの混合物中にTBSCl107g(0.71
1mol)の塩化メチレン(100ml)溶液を氷水冷
却下30分間で滴下する。更に室温下21時間撹拌した
後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液中に注入し有機層を
分離する。水層を塩化メチレンで抽出し、先の有機層と
合わせて飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥
後、濃縮する。得られた粗製物を減圧下蒸留し、目的と
する(D)化合物を147g得る。 沸点:86℃〜87℃/2mmHg 収率:99%
キセン−4−オール[(D)化合物]の合成(第1工
程)。 (E)化合物75.0g(0.647mol)、トリエ
チルアミン78.5g(0.776mol)、DMAP
3.95g(32.3mmol)及び塩化メチレン1.
100mlの混合物中にTBSCl107g(0.71
1mol)の塩化メチレン(100ml)溶液を氷水冷
却下30分間で滴下する。更に室温下21時間撹拌した
後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液中に注入し有機層を
分離する。水層を塩化メチレンで抽出し、先の有機層と
合わせて飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥
後、濃縮する。得られた粗製物を減圧下蒸留し、目的と
する(D)化合物を147g得る。 沸点:86℃〜87℃/2mmHg 収率:99%
【0018】
【実施例2】 (3E,2E′)−3−ヘキセン酸4′−(t−ブチル
ジメチルシリロキシ)−1′−エチル−2−ブテニル
[(C)化合物]の合成(第2工程) (D)化合物69.0g(0.300mol)、DCC
74.3g(0.360mol)、DMAP3.67g
(30.0mmol)及び塩化メチレン1400mlの
混合物中へ氷水冷却下3(E)−ヘキセン酸44.5g
(0.390mol)の塩化メチレン(140ml)溶
液を1時間で滴下する。更に室温下3時間撹拌した後、
希塩酸中に注入し、塩化メチレンで抽出する。有機層を
水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、再び水で洗浄し、
硫酸マグネシウム乾燥後、濃縮する。残渣をn−ペンタ
ン、エーテルの混合溶媒に希釈し、不溶物を濾別し、濾
液を濃縮する。得られた粗製物を減圧下蒸留し、目的と
する(C)化合物を85g得る。 沸点:132℃〜133℃/2mmHg 収率:87%
ジメチルシリロキシ)−1′−エチル−2−ブテニル
[(C)化合物]の合成(第2工程) (D)化合物69.0g(0.300mol)、DCC
74.3g(0.360mol)、DMAP3.67g
(30.0mmol)及び塩化メチレン1400mlの
混合物中へ氷水冷却下3(E)−ヘキセン酸44.5g
(0.390mol)の塩化メチレン(140ml)溶
液を1時間で滴下する。更に室温下3時間撹拌した後、
希塩酸中に注入し、塩化メチレンで抽出する。有機層を
水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、再び水で洗浄し、
硫酸マグネシウム乾燥後、濃縮する。残渣をn−ペンタ
ン、エーテルの混合溶媒に希釈し、不溶物を濾別し、濾
液を濃縮する。得られた粗製物を減圧下蒸留し、目的と
する(C)化合物を85g得る。 沸点:132℃〜133℃/2mmHg 収率:87%
【0019】
【実施例3】 (3E,7E)−5−(t−ブチルジメチルシリロキシ
メチル)−6−ヒドロキシカルボニル−3,7−デカジ
エン[(B)化合物](第3工程) 1.0M−LHMDSのTHF溶液3.3ml(3.3
mmol)、HMPA4.8ml及びTHF12.7m
lの混合物へ(C)化合物0.98g(3.0mmo
l)のTHF(0.5ml)溶液を−70〜−68℃、
5分間で滴下する。同温度で100分間撹拌した後、ト
リメチルシリルクロリド0.42g(3.9mmol)
とトリエチルアミン40mg(0.39mmol)のT
HF(1ml)懸濁液を加え冷却を止め、室温まで昇温
する。室温で10時間撹拌した後、食塩飽和の希塩酸中
に反応混合物を注入し、エーテル抽出する。有機層を飽
和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウム乾燥し、濃縮する
ことにより目的とする(B)化合物を0.93g得る。 収率:95%
メチル)−6−ヒドロキシカルボニル−3,7−デカジ
エン[(B)化合物](第3工程) 1.0M−LHMDSのTHF溶液3.3ml(3.3
mmol)、HMPA4.8ml及びTHF12.7m
lの混合物へ(C)化合物0.98g(3.0mmo
l)のTHF(0.5ml)溶液を−70〜−68℃、
5分間で滴下する。同温度で100分間撹拌した後、ト
リメチルシリルクロリド0.42g(3.9mmol)
とトリエチルアミン40mg(0.39mmol)のT
HF(1ml)懸濁液を加え冷却を止め、室温まで昇温
する。室温で10時間撹拌した後、食塩飽和の希塩酸中
に反応混合物を注入し、エーテル抽出する。有機層を飽
和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウム乾燥し、濃縮する
ことにより目的とする(B)化合物を0.93g得る。 収率:95%
【0020】
【実施例4】 メソ−(3E,7E)−5,6−ビス(ヒドロキシメチ
ル)−3.7−デカジエン[(A)化合物]の合成(第
4工程) (B)化合物0.93g(2.8mmol)をTHF
(10ml)に溶解し、水素化リチウムアルミニウム
0.48g(12mmol)のTHF(20ml)懸濁
液へ氷水冷却下、15分間で滴下する。更に室温下3.
5時間撹拌した後、1N−塩酸中に注入し、酢酸エチル
で抽出する。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、
飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濃縮す
る。得られた粗製物はシリカゲルクロマトグラフィーで
精製し、目的とする(A)化合物を0.45g得る。 屈折率(n21 D):1.4821 収率:90% (A)化合物;1HNMR(300MHz,C6D6) δ=0.87(t,J=7.4Hz,6H),1.24■1.45(m,2H),1.87(d quin
t,J=1.3,7.4Hz,4H),2.05 ■2.13(m,2H),3.29(dd,J=6.
9,10.6Hz,2H),3.59(dd,J=4.5,10.7Hz,2H),5.14(ddt ,J
=8.8,15.3,1.2Hz,2H),5.41(dt,J=15.3,6.4Hz,2H)
ル)−3.7−デカジエン[(A)化合物]の合成(第
4工程) (B)化合物0.93g(2.8mmol)をTHF
(10ml)に溶解し、水素化リチウムアルミニウム
0.48g(12mmol)のTHF(20ml)懸濁
液へ氷水冷却下、15分間で滴下する。更に室温下3.
5時間撹拌した後、1N−塩酸中に注入し、酢酸エチル
で抽出する。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、
飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウム乾燥後、濃縮す
る。得られた粗製物はシリカゲルクロマトグラフィーで
精製し、目的とする(A)化合物を0.45g得る。 屈折率(n21 D):1.4821 収率:90% (A)化合物;1HNMR(300MHz,C6D6) δ=0.87(t,J=7.4Hz,6H),1.24■1.45(m,2H),1.87(d quin
t,J=1.3,7.4Hz,4H),2.05 ■2.13(m,2H),3.29(dd,J=6.
9,10.6Hz,2H),3.59(dd,J=4.5,10.7Hz,2H),5.14(ddt ,J
=8.8,15.3,1.2Hz,2H),5.41(dt,J=15.3,6.4Hz,2H)
【0021】
【発明の効果】本発明によれば、2(E)−ヘキセン−
1,4−ジオールから、4工程で好収率、好純度にメソ
−(3E,7E)−5,6−ビス(ヒドロキシメチル)
−3,7−デカジエン[(A)化合物]を製造できる。
(A)化合物は、オーストラリアに生息し、レモンやマ
ンダリンなどの柑橘類害虫(カメムシ科の昆虫:Bipror
ulus bibax Breddin)の誘引フェロモンであるシス−
(1′E)−3,4−ビス(1′−ブテニル)テトラヒ
ドロ−2−フラノールの合成中間体として有用である。
1,4−ジオールから、4工程で好収率、好純度にメソ
−(3E,7E)−5,6−ビス(ヒドロキシメチル)
−3,7−デカジエン[(A)化合物]を製造できる。
(A)化合物は、オーストラリアに生息し、レモンやマ
ンダリンなどの柑橘類害虫(カメムシ科の昆虫:Bipror
ulus bibax Breddin)の誘引フェロモンであるシス−
(1′E)−3,4−ビス(1′−ブテニル)テトラヒ
ドロ−2−フラノールの合成中間体として有用である。
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07C 29/159 C07C 33/02 CA(STN) REGISTRY(STN)
Claims (1)
- 【請求項1】 2(E)−ヘキセン−1,4−ジオール
[(E)化合物]を有機溶媒中、塩基の存在下にt−ブ
チルジメチルシリルクロリドと反応させて1−(t−ブ
チルジメチルシリロキシ)−2(E)−ヘキセン−4−
オール[(D)化合物]を形成させ、該(D)化合物を
有機溶媒中、ジシクロヘキシルカルボジイミドの存在下
に3(E)−ヘキセン酸と反応させて(3E,2E′)
−3−ヘキセン酸4′−(t−ブチルジメチルシリロキ
シ)−1′−エチル−2′−ブテニル[(C)化合物]
を形成させ、該(C)化合物を有機溶媒中、塩基の存在
下にエノール化させた後、トリメチルシリルクロリドで
トリメチルシリルエーテル化し、次に転移反応させ、続
いて酸で加水分解することにより(3E,7E)−5−
(t−ブチルジメチルシリロキシメチル)−6−ヒドロ
キシカルボニル−3,7−デカジエン[(B)化合物]
を形成させ、該(B)化合物を有機溶媒中、還元剤で処
理することを特徴とするメソ−(3E,7E)−5,6
−ビス(ヒドロキシメチル)−3,7−デカジエン
[(A)化合物]の製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5095409A JP3029753B2 (ja) | 1993-03-30 | 1993-03-30 | メソ−(3e,7e)−5,6−ビス(ヒドロキシメチル)−3,7−デカジエンの製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5095409A JP3029753B2 (ja) | 1993-03-30 | 1993-03-30 | メソ−(3e,7e)−5,6−ビス(ヒドロキシメチル)−3,7−デカジエンの製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06279338A JPH06279338A (ja) | 1994-10-04 |
JP3029753B2 true JP3029753B2 (ja) | 2000-04-04 |
Family
ID=14136885
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5095409A Expired - Fee Related JP3029753B2 (ja) | 1993-03-30 | 1993-03-30 | メソ−(3e,7e)−5,6−ビス(ヒドロキシメチル)−3,7−デカジエンの製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3029753B2 (ja) |
-
1993
- 1993-03-30 JP JP5095409A patent/JP3029753B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH06279338A (ja) | 1994-10-04 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |