[go: up one dir, main page]

JP4483470B2 - Method for producing sputtering target containing indium oxide - Google Patents

Method for producing sputtering target containing indium oxide Download PDF

Info

Publication number
JP4483470B2
JP4483470B2 JP2004229881A JP2004229881A JP4483470B2 JP 4483470 B2 JP4483470 B2 JP 4483470B2 JP 2004229881 A JP2004229881 A JP 2004229881A JP 2004229881 A JP2004229881 A JP 2004229881A JP 4483470 B2 JP4483470 B2 JP 4483470B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sputtering target
indium oxide
slurry
powder
containing indium
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2004229881A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2006045631A (en
Inventor
昌平 水沼
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Metal Mining Co Ltd filed Critical Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Priority to JP2004229881A priority Critical patent/JP4483470B2/en
Publication of JP2006045631A publication Critical patent/JP2006045631A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4483470B2 publication Critical patent/JP4483470B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)

Description

本発明は、フラットパネルディスプレイ等の透明導電膜として広く用いられ、酸化インジウムを含有する酸化物膜を得るためのスパッタリングターゲットの製造方法に関する。   The present invention is widely used as a transparent conductive film such as a flat panel display, and relates to a sputtering target manufacturing method for obtaining an oxide film containing indium oxide.

フラットパネルディスプレイ等の透明導電膜としては、低抵抗、高透過率が求められており、酸化インジウムを含有する酸化物膜がその特性に合うものとして使用されている。   As a transparent conductive film for a flat panel display or the like, low resistance and high transmittance are required, and an oxide film containing indium oxide is used to meet the characteristics.

特に、酸化インジウムに酸化スズを添加したITO膜は、抵抗が低く、可視光での透過率が高いために、広く用いられている。さらに近年では、酸化インジウムに酸化インジウム以外の金属酸化物を添加し、様々な特性を持った酸化インジウムを含有する酸化物膜を用いる場合が増えてきた。かかる酸化物膜の成膜には、大面積の膜を得られることから、スパッタリングによる成膜が一般的に主流であり、その成膜に際してスパッタリングターゲットを用いることが多い。   In particular, an ITO film in which tin oxide is added to indium oxide is widely used because of its low resistance and high transmittance for visible light. Further, in recent years, there have been increased cases in which metal oxides other than indium oxide are added to indium oxide and oxide films containing indium oxide having various characteristics are used. In forming such an oxide film, since a film having a large area can be obtained, film formation by sputtering is generally mainstream, and a sputtering target is often used for the film formation.

該スパッタリングターゲットは、乾式加圧成形法、鋳込み成形法など、いくつかの方法により製造されている。   The sputtering target is manufactured by several methods such as a dry pressure molding method and a cast molding method.

これらのうち、乾式加圧成形法では、平均粒径0.5〜2μm程度の原料粉に、水、有機バインダおよび可塑剤等を混合した後に、数十〜数百μmの顆粒(造粒粉)を作製し、金型またはラバー等に充填し、一軸プレスまたはCIP(冷間静水圧プレス)を用いて、通常100〜300MPaの圧力で加圧し、所定の形に成形した後、得られる成形体を焼結および加工することにより、スパッタリングターゲットを得る。   Among these, in the dry pressure molding method, water, an organic binder, a plasticizer, and the like are mixed with raw material powder having an average particle size of about 0.5 to 2 μm, and then granules of several tens to several hundreds of μm (granulated powder). ), Filled in a mold or rubber, etc., and pressed using a uniaxial press or CIP (cold isostatic press), usually at a pressure of 100 to 300 MPa, and molded into a predetermined shape, and then obtained. A sputtering target is obtained by sintering and processing the body.

前記造粒粉は、多くの場合、原料粉、および有機バインダ、分散剤、可塑剤等に水を混合することにより、スラリーを調製し、得られたスラリーによりスプレードライヤーを用いて噴霧乾燥することで得られる。   In many cases, the granulated powder is prepared by mixing water with raw material powder and an organic binder, dispersant, plasticizer, etc. to prepare a slurry, and spray-drying the resulting slurry using a spray dryer. It is obtained by.

加えられる有機バインダとして、一般的には、PVA(ポリビニルアルコール)が用いられており、この場合、原料粉に対して、通常1〜10質量%のPVAが添加される。   Generally, PVA (polyvinyl alcohol) is used as an organic binder to be added. In this case, 1 to 10% by mass of PVA is usually added to the raw material powder.

しかしながら、酸化インジウムは、非常に凝集が強く、また、重い原料粉であることから、スラリーの粘度が高く、かつ、原料粉の沈降が速い。そのため、噴霧乾燥を行うことが困難であり、噴霧乾燥工程の効率および造粒粉の収率が、ともに悪くなる。   However, indium oxide is very strongly agglomerated and is a heavy raw material powder. Therefore, the viscosity of the slurry is high and the sedimentation of the raw material powder is fast. Therefore, it is difficult to perform spray drying, and both the efficiency of the spray drying process and the yield of the granulated powder are deteriorated.

これらの問題点を補うために、スラリーの調整に際して分散剤が添加される。   In order to compensate for these problems, a dispersant is added during the preparation of the slurry.

使用される分散剤として、一般的には、ポリアクリル酸のNa塩やNH3塩が用いられている。しかし、これらは、不純物を多く含み、また、得られる膜の特性に悪影響を与えるものであったり、酸化インジウムの分散効果が不十分である。 As a dispersing agent to be used, polyacrylic acid Na salt or NH 3 salt is generally used. However, these contain a large amount of impurities, adversely affect the properties of the resulting film, and the effect of indium oxide dispersion is insufficient.

さらに、造粒粉に多くの空孔を含むために、CIP成形時に収縮が大きくなり、成形減圧時に、成形体に割れが発生し、得られるスパッタリングターゲットの歩留まりの低下を招きやすい。   Furthermore, since the granulated powder contains many pores, the shrinkage becomes large at the time of CIP molding, and cracks occur in the molded body at the time of molding pressure reduction, and the yield of the obtained sputtering target tends to be lowered.

これらの問題を解決するには、成形体の強度をさらに向上させることが必要であり、成形体の強度を高くするには、有機バインダの量を増やすことが有効である。しかし、この場合、脱脂時間が長くなるという理由や、焼成後の製品の密度が低くなるという理由、あるいは、焼成収縮が大きくなるといった理由などにより、成形体の寸法制御が困難となる問題を生じてしまう。   In order to solve these problems, it is necessary to further improve the strength of the molded body. To increase the strength of the molded body, it is effective to increase the amount of the organic binder. However, in this case, there arises a problem that it is difficult to control the size of the molded body due to the reason that the degreasing time becomes long, the density of the product after baking becomes low, or the baking shrinkage becomes large. End up.

また、造粒粉が硬くなり過ぎ、加圧成形時に造粒粉が変形しにくく、成形体の密度が低くなり、逆に強度の低下を招く場合もある(特許文献1、段落0002〜0011参照)。   In addition, the granulated powder becomes too hard, the granulated powder is not easily deformed during pressure molding, the density of the molded body is lowered, and conversely, the strength may be reduced (see Patent Document 1, paragraphs 0002 to 0011). ).

これに対して、次の化学式で示されるポリアクリル系ポリマーを有機バインダとして用いた高強度酸化物系セラミックス成形体が、提案されている(特許文献1、段落番号0018参照)。 On the other hand, a high-strength oxide-based ceramic molded body using a polyacrylic polymer represented by the following chemical formula as an organic binder has been proposed (see Patent Document 1, paragraph number 0018).

Figure 0004483470
Figure 0004483470

しかしながら、かかるポリアクリル系ポリマーを利用して、酸化インジウムを含有するスパッタリングターゲットを得たとしても、前記問題は十分には解決されない。なぜなら、十分な分散効果が得られないため、ポリアクリル系ポリマーを有機バインダとして用いてスラリーを調製しても、酸化インジウムの沈降を防止し、効率的に噴霧乾燥できるスラリーを得ることはできない。また、このようなスラリーを、スプレードライヤーにて噴霧乾燥して得られる造粒粉は、多くの空孔を含むために、タップ密度が低く、成形減圧時に、成形体中に取り込まれた空気が成形体外に出るときにかかる応力、または、減圧時に発生する応力で、成形体に割れが発生する場合が多い。さらに、当該ポリアクリル系ポリマーは、前記PVAと比較して高価である。   However, even if a sputtering target containing indium oxide is obtained using such a polyacrylic polymer, the above problem cannot be solved sufficiently. Because a sufficient dispersion effect cannot be obtained, even if a slurry is prepared using a polyacrylic polymer as an organic binder, it is impossible to obtain a slurry that can prevent precipitation of indium oxide and can be efficiently spray-dried. In addition, since the granulated powder obtained by spray-drying such a slurry with a spray dryer contains many pores, the tap density is low, and the air taken into the compact at the time of molding pressure reduction is low. In many cases, the molded body is cracked by the stress applied when it goes out of the molded body or the stress generated during decompression. Furthermore, the polyacrylic polymer is more expensive than the PVA.

本発明者らは、これまでに、特開2003−3257号公報に示すように、造粒粉を直接、CIPにて成形を行うように効率的な方法を提案してきたが、前記従来技術により成形体を得ても、造粒粉のタップ密度を高く調整できず成形時の収縮が大きくなること、および量的な調整による成形体強度向上が困難であるために、得られる成形体に割れが発生する可能性が特に高い。   The present inventors have so far proposed an efficient method for directly forming a granulated powder by CIP as disclosed in JP-A-2003-3257. Even if a molded product is obtained, the tap density of the granulated powder cannot be adjusted to a high level, and the shrinkage during molding becomes large, and it is difficult to improve the strength of the molded product by quantitative adjustment. Is particularly likely to occur.

特開平8−277168号公報JP-A-8-277168

特開2003−3257号公報JP 2003-3257 A

本発明は、酸化インジウムを含有する酸化物膜を得るためのスパッタリングターゲットの製造方法において、密度の高いスパッタリングターゲットを、高い生産効率で、効率的に得る方法を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide a method for efficiently obtaining a sputtering target having a high density with high production efficiency in a method for producing a sputtering target for obtaining an oxide film containing indium oxide.

本発明に係る酸化インジウムを含有するスパッタリングターゲットの製造方法は、酸化インジウム粉を含む金属酸化物の原料粉に、水と有機バインダと分散剤を混合および粉砕してスラリーを調整し、該スラリーを乾燥噴霧して造粒粉を得て、得られた造粒粉を加圧成形し、得られた成形体を焼成することにより、スパッタリングターゲットを得る製造方法に係り、前記分散剤が、アクリル酸メタクリル酸共重合体アンモニア中和物であることを特徴とする。   The method for producing a sputtering target containing indium oxide according to the present invention comprises preparing a slurry by mixing and pulverizing water, an organic binder, and a dispersant in a metal oxide raw material powder containing indium oxide powder. In accordance with a production method for obtaining a sputtering target by drying and spraying to obtain granulated powder, press-molding the obtained granulated powder, and firing the obtained molded body, the dispersant is acrylic acid It is a methacrylic acid copolymer ammonia neutralized product.

これにより、前記有機バインダとしてポリビニルアルコールを用いることができる。   Thereby, polyvinyl alcohol can be used as the organic binder.

前記アクリル酸メタクリル酸共重合体アンモニア中和物の添加量が、前記原料粉に対して、0.1〜3質量%の範囲にあることが好ましい。   It is preferable that the addition amount of the acrylic acid / methacrylic acid copolymer ammonia neutralized product is in the range of 0.1 to 3% by mass with respect to the raw material powder.

これにより、前記スラリー中の原料粉濃度が60%以上であっても、該スラリー粘度を100cps未満とすることができる。   Thereby, even if the raw material powder concentration in the slurry is 60% or more, the slurry viscosity can be less than 100 cps.

本発明によれば、十分に密度の高い優れたスパッタリングターゲットを得ることができる。また、製造工程において、スラリー濃度を高くすることができるため、生産効率が向上する。また、成形時での成形体の割れも低減できるため、スパッタリングターゲットの収率を向上させることができる。   According to the present invention, an excellent sputtering target having a sufficiently high density can be obtained. In addition, since the slurry concentration can be increased in the manufacturing process, the production efficiency is improved. Moreover, since the crack of the molded object at the time of shaping | molding can also be reduced, the yield of a sputtering target can be improved.

さらに、有機バインダとして、一般的で安価なポリビニルアルコール(PVA)を用いることができるため、スパッタリングターゲットを安価に製造することが可能となる。   Furthermore, since a general and inexpensive polyvinyl alcohol (PVA) can be used as the organic binder, the sputtering target can be manufactured at a low cost.

酸化インジウムは、難焼結性であるため、一次粒子、二次粒子をともに平均粒径を1μm未満とする粒度調整を実施し、焼結性を向上させる場合が多い。そのため、造粒粉の製造工程において、粒子が微粒化されることにより、スラリー中での粒子の凝集が強くなり、スラリー粘度が高くなる。さらに、酸化インジウム粉が比較的に重い粒子であること、スラリー中での沈降が速く、均一なスラリーを得ることが難しい。   Since indium oxide is difficult to sinter, the particle size is adjusted so that the average particle size of both primary particles and secondary particles is less than 1 μm, and the sinterability is often improved. Therefore, in the manufacturing process of granulated powder, when particles are atomized, the aggregation of particles in the slurry becomes strong and the slurry viscosity increases. Further, the indium oxide powder is relatively heavy particles, the sedimentation in the slurry is fast, and it is difficult to obtain a uniform slurry.

本発明では、造粒粉の製造工程において、分散剤として、アクリル酸メタクリル酸共重合体アンモニア中和物を用いることを特徴とする。   In the present invention, an acrylic acid / methacrylic acid copolymer ammonia neutralized product is used as a dispersing agent in the granulated powder production process.

具体的には、次の化学式で示されるアクリル酸メタクリル酸共重合体アンモニア中和物を使用する。 Specifically, an acrylic acid-methacrylic acid copolymer ammonia neutralized product represented by the following chemical formula is used.

Figure 0004483470
Figure 0004483470

アクリル酸系であり、かつ、NH3塩で中和されているために分散能力に優れる。これにより、酸化インジウムの凝集が抑えられ、均一なスラリーが得られる。その添加量は、酸化インジウム粉と添加酸化物粉の合量に対して、0.1〜3質量%である。0.1質量%未満では、分散能力が乏しく、3質量%を超えると、焼結時に揮発分が多くなるために、焼結時に製品が割れる確率が高くなる。 Since it is acrylic acid-based and neutralized with NH 3 salt, it has excellent dispersion ability. Thereby, aggregation of indium oxide is suppressed and a uniform slurry can be obtained. The addition amount is 0.1-3 mass% with respect to the total amount of indium oxide powder and addition oxide powder. If the amount is less than 0.1% by mass, the dispersion capacity is poor, and if it exceeds 3% by mass, the volatile matter increases during sintering, and thus the probability that the product breaks during sintering will increase.

分散剤を使用しない場合には、原料粉濃度が30〜35%程度のスラリーでも、スラリー粘度が100cpsを超えてしまうが、アクリル酸メタクリル酸共重合体アンモニア中和物を用いることにより、原料粉濃度が70%程度であっても、粘度が100cps未満となり、また、酸化インジウムの沈降が抑えられることにより、噴霧乾燥工程における効率が著しく向上する。   When the dispersant is not used, even if the raw material powder concentration is about 30 to 35%, the slurry viscosity exceeds 100 cps. However, by using the neutralized product of acrylic acid / methacrylic acid copolymer ammonia, Even if the concentration is about 70%, the viscosity becomes less than 100 cps, and the precipitation in the indium oxide is suppressed, so that the efficiency in the spray drying process is remarkably improved.

分散剤としてアクリル酸メタクリル酸共重合体アンモニア中和物を用いた場合、加えられる有機バインダは、成形体の強度の点からもポリビニルアルコール(PVA)で十分である。ケン化度90〜97mo1%、重合度400〜1000のPVAを用いることが適している。この範囲のケン化度と重合度のPVAを用いることにより、得られる造粒粉が軟質なものとなり、成形時でのつぶれ性が向上する。この結果、成形体中の空孔が減少し、成形体強度が向上し、焼成して得られるスパッタリングターゲットの密度が向上する。   When an acrylic acid / methacrylic acid copolymer ammonia neutralized product is used as a dispersant, polyvinyl alcohol (PVA) is sufficient as the added organic binder from the viewpoint of the strength of the molded product. PVA having a saponification degree of 90 to 97 mol 1% and a polymerization degree of 400 to 1000 is suitable. By using PVA having a saponification degree and a polymerization degree within this range, the resulting granulated powder becomes soft and the crushability at the time of molding is improved. As a result, voids in the molded body are reduced, the molded body strength is improved, and the density of the sputtering target obtained by firing is improved.

ケン化度が97mo1%を超えたり、重合度が1000を超えるPVAを用いると、成形時での造粒粉のつぶれ性が悪くなり、成形体中の空孔が増加し、成形体強度が減少し、焼結後に得られるスパッタリングターゲットの密度が向上しないので好ましくない。   If PVA with a saponification degree exceeding 97mo1% or a polymerization degree exceeding 1000%, the collapsibility of the granulated powder at the time of molding deteriorates, voids in the molded body increase, and the molded body strength decreases. However, it is not preferable because the density of the sputtering target obtained after sintering is not improved.

また、ケン化度が90mo1%未満であったり、重合度が400未満であるPVAを用いると、成形体が軟質となりすぎ、作業効率が悪化するので好ましくない。   In addition, use of PVA having a saponification degree of less than 90 mol% or a polymerization degree of less than 400 is not preferable because the molded article becomes too soft and the working efficiency deteriorates.

有機バインダの量を、酸化インジウム粉と添加酸化物粉の合量に対して1.0〜3.0質量%とする。1.0質量%未満とすると、成形体強度が低下し、成形以後の工程で割れる確率が高くなり、3.0質量%を超えると、バインダにより生じる空孔が大きくなるため、焼結時の粒成長でも、空孔を無くすことが困難となり、製品密度が低下してしまうため、好ましくない。また、焼結時に揮発分が多くなるために製品が割れる可能性が高くなる。   The amount of the organic binder is 1.0 to 3.0% by mass with respect to the total amount of the indium oxide powder and the added oxide powder. If it is less than 1.0% by mass, the strength of the molded product will be reduced, and the probability of cracking in the steps after molding will increase. If it exceeds 3.0% by mass, voids generated by the binder will increase, Even grain growth is not preferable because it becomes difficult to eliminate voids and the product density decreases. In addition, since the volatile content increases during sintering, the possibility of the product breaking increases.

アクリル酸メタクリル酸共重合体アンモニア中和物およびPVAを加えたスラリーを、噴霧乾燥する場合は、乾燥温度を130〜200℃にするのが望ましい。200℃を超えて乾燥すると、造粒粉が硬質となり、成形時に空孔生じやすく、スパッタリングターゲットの密度が向上しにくい。   When spray-drying the slurry to which the acrylic acid / methacrylic acid copolymer neutralized product and PVA are added, it is desirable to set the drying temperature to 130 to 200 ° C. When dried above 200 ° C., the granulated powder becomes hard, and vacancies are likely to occur during molding, and the density of the sputtering target is difficult to improve.

造粒粉のタップ密度は、アクリル酸メタクリル酸共重合体アンモニア中和物を分散剤として使用した場合には、凝集が取り除かれるために、使用しない場合と比較して、向上することが認められる。   It is recognized that the tap density of the granulated powder is improved when the acrylic acid / methacrylic acid copolymer ammonia neutralized product is used as a dispersant, because aggregation is removed and compared with the case where it is not used. .

成形について、本発明者は、前述の特開2003−3257号公報において、造粒粉を直接CIPにて成形を行う効率的な方法を提案してきたが、本発明により、この成形法を利用することが十分に可能となった。成形圧力は、100〜300MPaが望ましい。100MPa未満では、成形体密度および成形体強度の低下による製品歩留りが悪化するため好ましくなく、300MPaを超えても効果が殆ど変化しないので好ましくない。   Regarding the molding, the present inventor has proposed an efficient method of directly molding the granulated powder by CIP in the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-3257, but this molding method is used according to the present invention. It became possible enough. The molding pressure is desirably 100 to 300 MPa. If it is less than 100 MPa, the product yield due to a decrease in the density of the green body and the strength of the green body deteriorates, which is not preferable.

焼結は、酸化インジウム粉の粒成長が期待される1100℃以上が、望ましい。しかし、1600℃を超える場合には、炉材との反応が激しくなったり、揮発が激しくなるため、望ましくない。   Sintering is desirably performed at 1100 ° C. or higher where grain growth of indium oxide powder is expected. However, when the temperature exceeds 1600 ° C., the reaction with the furnace material becomes violent and the volatilization becomes violent.

次に、実施例を用いて本発明をさらに説明する。   Next, the present invention will be further described using examples.

(実施例1〜12)
酸化インジウム粉、および表1に示した添加酸化物粉と、ケン化度94mol%、重合度500のポリビニルアルコールを、総原料粉に対して1.25質量%となるように37.5gとして、アクリル酸メタクリル酸共重合体アンモニア中和物(中部サイデン製、バンスターX754B)を総原料粉に対して0.25〜4質量%となるように48gとして、総原料粉3000gを調整した。それらと純水2000gとを、10Lポットに入れ、回転数60rpmで、15〜20時間、ボールミル混合および粉砕し、スラリーを作製した。スラリー濃度は、60質量%であった。
(Examples 1-12)
37.5 g of indium oxide powder and the added oxide powder shown in Table 1, a saponification degree of 94 mol%, and a polymerization degree of polyvinyl alcohol of 500 mol to a total raw material powder of 1.25 mass%, The total raw material powder 3000g was adjusted to 48g so that it might become 0.25-4 mass% with respect to a total raw material powder, acrylic acid methacrylic acid copolymer ammonia neutralized material (Chubu Seiden make, Banstar X754B). These and 2000 g of pure water were put into a 10 L pot, and ball mill mixing and pulverization were carried out at a rotational speed of 60 rpm for 15 to 20 hours to prepare a slurry. The slurry concentration was 60% by mass.

次に、得られたスラリーをスプレードライヤーにて噴霧乾燥して、造粒粉を得た。かかる工程において、スラリー濃度が60質量%と高いにもかかわらず、原料粉がスラリー中で沈降する現象などもなく、効率よく造粒粉が得られた。   Next, the obtained slurry was spray-dried with a spray dryer to obtain granulated powder. In this process, although the slurry concentration was as high as 60% by mass, there was no phenomenon that the raw material powder settled in the slurry, and the granulated powder was efficiently obtained.

得られた造粒粉を、前述の特開2003−3257号公報に示される矩形のゴム型に入れ、294MPa(3ton/cm2)で加圧して、300×300×10mmの成形体を作製した。次いで、1500℃で20時間、酸素雰囲気中で焼成し、焼結体を得て、加工を行い、スパッタリングターゲットを得た。 The obtained granulated powder was put into a rectangular rubber mold shown in the above-mentioned JP-A No. 2003-3257 and pressurized at 294 MPa (3 ton / cm 2 ) to produce a molded body of 300 × 300 × 10 mm. . Subsequently, it baked in 1500 degreeC for 20 hours in oxygen atmosphere, the sintered compact was obtained, it processed, and the sputtering target was obtained.

得られたスパッタリングターゲットの製品相対密度を質量および寸法の測定により求めた。その結果を、表1に示す。   The product relative density of the obtained sputtering target was calculated | required by the measurement of mass and a dimension. The results are shown in Table 1.

Figure 0004483470
Figure 0004483470

表1より適正な分散剤量とすることで、十分な相対密度のターゲットが得られることが分かる。   It can be seen from Table 1 that a target having a sufficient relative density can be obtained by setting an appropriate amount of the dispersant.

また、ゴム型に直接、造粒粉を充填するために、強度が要求される成形法でも、十分にスパッタリングターゲットが製造可能であることが分かる。   It can also be seen that a sputtering target can be sufficiently produced even by a molding method that requires strength because the granulated powder is directly filled into the rubber mold.

(比較例1〜3)
酸化インジウム粉、および表2に示した酸化物粉と、ケン化度94mol%、重合度500のポリビニルアルコールを、総原料粉に対して1.25質量%となるように37.5gとして、総原料粉3000gを調整した。それらと純水7000gとを、10Lポットに入れ、回転数60rpmで、15〜20時間、ボールミル混合および粉砕し、スラリーを作製した。スラリー濃度は、30質量%である。
(Comparative Examples 1-3)
Indium oxide powder, and the oxide powder shown in Table 2, polyvinyl alcohol having a saponification degree of 94 mol% and a polymerization degree of 500, 37.5 g so as to be 1.25% by mass with respect to the total raw material powder, The raw material powder 3000g was adjusted. These and 7000 g of pure water were put into a 10 L pot, and were mixed and pulverized for 15 to 20 hours at a rotation speed of 60 rpm to prepare a slurry. The slurry concentration is 30% by mass.

次に、得られたスラリーをスプレードライヤーにて噴霧乾燥して、造粒粉を得た。得られた造粒粉を、前述の特開2003−3257号公報に示される矩形のゴム型に入れ、294MPa(3ton/cm2)で加圧して、300×300×10mmの成形体を作製した。 Next, the obtained slurry was spray-dried with a spray dryer to obtain granulated powder. The obtained granulated powder was put into a rectangular rubber mold shown in the above-mentioned JP-A No. 2003-3257 and pressurized at 294 MPa (3 ton / cm 2 ) to produce a molded body of 300 × 300 × 10 mm. .

しかしながら、すべての成形体において割れが発生した。   However, cracks occurred in all the molded bodies.

Figure 0004483470
Figure 0004483470

表2より、比較例1〜3では、成形が困難であるため、スパッタリングターゲットの製造が困難であることが理解される。   From Table 2, it is understood that in Comparative Examples 1 to 3, it is difficult to produce a sputtering target because it is difficult to mold.

Claims (4)

酸化インジウム粉を含む金属酸化物の原料粉に、水と有機バインダと分散剤を混合および粉砕してスラリーを調整し、該スラリーを乾燥噴霧して造粒粉を得て、得られた造粒粉を加圧成形し、得られた成形体を焼成することにより、スパッタリングターゲットを得る製造方法において、前記分散剤が、次の化学式で示されるアクリル酸メタクリル酸共重合体アンモニア中和物であり、前記スラリー中の原料粉濃度が60%以上であり、かつ、該スラリー粘度が100cps未満であることを特徴とする酸化インジウムを含有するスパッタリングターゲットの製造方法。
Figure 0004483470
The raw material powder of metal oxide containing indium oxide powder is mixed and pulverized with water, an organic binder and a dispersant to prepare a slurry, and the slurry is dried and sprayed to obtain a granulated powder, and the resulting granulated product In the production method for obtaining a sputtering target by pressure-molding the powder and firing the obtained molded body, the dispersant is an acrylic acid / methacrylic acid copolymer ammonia neutralized product represented by the following chemical formula: A method for producing a sputtering target containing indium oxide, characterized in that the raw material powder concentration in the slurry is 60% or more and the slurry viscosity is less than 100 cps .
Figure 0004483470
前記有機バインダがポリビニルアルコールである請求項1に記載の酸化インジウムを含有するスパッタリングターゲットの製造方法。   The method for producing a sputtering target containing indium oxide according to claim 1, wherein the organic binder is polyvinyl alcohol. 前記アクリル酸メタクリル酸共重合体アンモニア中和物の添加量が、前記原料粉に対して、0.1〜3質量%の範囲にあることを特徴とする請求項1または2に記載の酸化インジウムを含有するスパッタリングターゲットの製造方法。   3. The indium oxide according to claim 1, wherein an addition amount of the acrylic acid / methacrylic acid copolymer neutralized product is in a range of 0.1 to 3 mass% with respect to the raw material powder. The manufacturing method of the sputtering target containing this. 前記スラリー粘度が50cps以下である請求項1〜3のいずれか一項に記載の酸化インジウムを含有するスパッタリングターゲットの製造方法。The method for producing a sputtering target containing indium oxide according to any one of claims 1 to 3, wherein the slurry viscosity is 50 cps or less.
JP2004229881A 2004-08-05 2004-08-05 Method for producing sputtering target containing indium oxide Expired - Fee Related JP4483470B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004229881A JP4483470B2 (en) 2004-08-05 2004-08-05 Method for producing sputtering target containing indium oxide

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004229881A JP4483470B2 (en) 2004-08-05 2004-08-05 Method for producing sputtering target containing indium oxide

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006045631A JP2006045631A (en) 2006-02-16
JP4483470B2 true JP4483470B2 (en) 2010-06-16

Family

ID=36024554

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004229881A Expired - Fee Related JP4483470B2 (en) 2004-08-05 2004-08-05 Method for producing sputtering target containing indium oxide

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4483470B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114890774B (en) * 2022-04-20 2023-06-27 柳州华锡有色设计研究院有限责任公司 Preparation method of high-uniformity ITO target

Also Published As

Publication number Publication date
JP2006045631A (en) 2006-02-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5750060B2 (en) Ceramic cylindrical sputtering target material and manufacturing method thereof
JP2012126937A (en) Ito sputtering target and manufacturing method thereof
JP2008308385A (en) Method of manufacturing indium oxide-based sputtering target
JP5472655B2 (en) Vapor deposition tablet and manufacturing method thereof
WO2017158928A1 (en) Oxide sintered compact
JP2008260660A (en) Method for manufacturing high concentration tin oxide ito sintered article
JP4483470B2 (en) Method for producing sputtering target containing indium oxide
JP4508079B2 (en) Manufacturing method of sputtering target
WO2010021274A1 (en) Sintered complex oxide, method for producing sintered complex oxide, sputtering target, and method for producing thin film
JP2008214169A (en) ITiO SINTERED COMPACT FOR VACUUM VAPOR DEPOSITION AND ITS PRODUCTION METHOD
JP5784849B2 (en) Ceramic cylindrical sputtering target material and manufacturing method thereof
JP5979082B2 (en) Vapor deposition tablet and manufacturing method thereof
JP2013023745A (en) Titanium nitride sputtering target and method of manufacturing the same
JP2005324987A (en) Ito molded product, ito sputtering target using the same and its manufacturing method
JP4665526B2 (en) Method for producing sputtering target containing indium oxide
JP2002274956A (en) Method for manufacturing ceramic sintered compact
JP2005126766A (en) Indium-oxide-based target and manufacturing method therefor
JP3734540B2 (en) Manufacturing method of indium oxide-zinc oxide based sintered compact target
JP4120351B2 (en) High concentration tin oxide ITO target and manufacturing method thereof
JP6722736B2 (en) Sintered body and sputtering target
JP4504271B2 (en) Method for producing indium oxide-zinc oxide sintered target
JP5967016B2 (en) Vapor deposition tablet and manufacturing method thereof
JP2004277836A (en) Method of producing ito target
WO2011061916A1 (en) Method for producing ito sintered body and method for producing ito sputtering target
JP2003055759A (en) Method for producing Mg-containing ITO sputtering target

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20061121

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20090520

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090526

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090722

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100126

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100205

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100302

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100315

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4483470

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130402

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130402

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees