JP4472626B2 - 露光装置 - Google Patents
露光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4472626B2 JP4472626B2 JP2005361107A JP2005361107A JP4472626B2 JP 4472626 B2 JP4472626 B2 JP 4472626B2 JP 2005361107 A JP2005361107 A JP 2005361107A JP 2005361107 A JP2005361107 A JP 2005361107A JP 4472626 B2 JP4472626 B2 JP 4472626B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- air
- exposure
- exposure chamber
- side wall
- exposure apparatus
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
従来の露光装置では、光を照射されることで熱による影響を受けやすいマスクフィルムと、当該マスクフィルムに比較して光の照射による熱の影響の受け方が異なる基板とに、同じ条件の温度および湿度のエアーが、直接的に送風機構から送風されている。そのため、マスクフィルムと基板との温度および湿度による伸縮状態の調整が、微細化された回路パターンの要求される露光装置では、対応しきれなかった。また、マスクフィルムは、その上面が透光板を介して冷却され、その下面が直接送風されてエアーの影響を受けることになる。そのため、マスクフィルムの伸縮に影響するエアーの送風状態が不適切となり、微細化された回路パターンの要求される露光装置では、対応できず改善が望まれていた。
露光装置は、マスクフィルムの上面側に温度湿度調整手段により調整したエアーを供給口から供給して、光の照射による熱の影響を一番受けるマスクフィルムに対して適切な温度および湿度の調整をして、マスクフィルムの伸縮を抑えると共に、送風方向変更手段により支持枠と載置テーブルの間に送風されるエアーにより、基板およびマスクフィルムに対して温度および湿度の調整をしている。
そのため、露光装置は、光の照射による熱の影響が異なるマスクフィルムおよび基板の伸縮を適正に制御できるように、露光室内におけるエアーの循環を維持することができ、回路パターンが微細な露光作業に対応することができる。
図1は露光装置の一部を切欠いて全体を模式的に示す側断面図、図2は露光装置の露光室内におけるエアーの流れを模式的に示した斜視図である。
もに、基板WをマスクフィルムMに当接させるために垂直方向に移動できるように構成されている。載置テーブル30の直上には、所望の回路パターンが形成されたマスクフィルムMを支持する支持枠であるマスクフレーム31が配置されている。
露光装置1は、基板Wを載置テーブル30に図示しないハンドラ等の搬送手段により基板Wを搬送して載置し、基板Wを載置した載置テーブル30は、上昇してマスクフレーム31に支持されているマスクフィルムMに基板Wを近接あるいは当接する状態とする動作を行う。露光装置1は、基板Wの搬入を開始するときには、空調装置2から予め設定された温度湿度に調整されたエアーが、供給口3から露光室R2内に供給されているとともに、サーキュレータ4によりエアーの向きを変えて側壁面排出口5から排出される状態になっている。
導風板14の湾曲板14aは、マスクフレーム31の上面より高い位置で、供給口3からマスクフレーム31に沿って送られて来るエアーを受けて、導出板14b側に導くためのものである。この湾曲板14aは、湾曲面を備えていることが好ましいが、変更板として平板を所定角度に傾斜させて形成しても構わない。
図5に示すように、導風板44は、変更板としての湾曲板44aと、この湾曲板44aに沿って来るエアーを、マスクフレーム31および載置テーブル30の間に向かって送風できるように導く導出板44bと、湾曲板44aおよび導出板44bの設置角度を調整するための調整部44c,44dと、この調整部44c,44dを介して湾曲板44aおよび導出板44bを支持する支持部44eとを備えている。なお、支持部44eは、筐体6内の内壁面に取り付ける取付部44fを有している。
送風口40は、空調装置2で温度湿度を予め設定した条件に調整したエアーを、ダクト2cを介して、凹面鏡24の凹面に沿って送風するように、凹面鏡24の近傍に配置されている。この送風の経路には、凹面鏡24の凹面に沿って清浄なエアーを供給するために、前記したものと同じ構成である空気浄化フィルタ42を備えている。この空気浄化フィルタ42は、ここでは、送風口40の開口面に設けられている。この送風口40は、第2平面鏡23から凹面鏡24に向けて反射する光の光路に重なることなく、凹面鏡24の近くに設置できるように、所定角度を備えている。
2 空調装置
2a,2b,2c ダクト
3 供給口
3a 空気浄化フィルタ
4 サーキュレータ
4a ケース
4b 吸入口
4c 回転羽
4d 送風口
4e 駆動モータ
5 側壁面排出口
5a 空気浄化フィルタ
6 筐体
6a 壁面
7 排気床
7a 排気孔
10 光源
11 水銀ショートアークランプ
12 集光ミラー
14 導風板
14a 湾曲板
14b 導出板
20 光学系
21 第1平面鏡
22 フライアイレンズ
23 第2平面鏡
24 凹面鏡
25 シャッタ機構
30 載置テーブル
31 支持枠
40 送風口
42 空気浄化フィルタ
44 導風板
44a 湾曲板
44b 導出板
44c 調整部
44e 支持部
44f 取付部
45 風案内板
M マスクフィルム
M マスク
R1 光源室
R2 露光室
W 基板
Claims (4)
- 基板を載置する載置テーブルとマスクフィルムを支持する支持枠とを内部に収納する露光室を備え、前記基板および前記マスクフィルムを当接または近接させ、所定波長の紫外線を含む光を照射して前記基板を露光する露光装置において、
前記露光室内の一側壁に設けられ、前記支持枠の光照射側となる面に沿って、予め設定された温度および湿度のエアーを供給する供給口と、
前記供給口の下方に設けられ、前記支持枠と前記載置テーブルとの間を通って送られて来るエアーおよび前記露光室内のエアーを排出するための側壁面排出口と、
前記露光室の他側壁に設けられ、かつ、前記供給口から送られて来たエアーの送風方向を、少なくとも前記支持枠および載置テーブルの間を通って、前記側壁面排出口に向かうように変える送風方向変更手段と、
前記露光室外に設けられ、前記側壁面排出口から排出されるエアーを、フィルタを介して取り込むとともに、予め設定された温度および湿度に調整して前記供給口に送り出す温度湿度調整手段と、
を備えることを特徴とする露光装置。 - 前記送風方向変更手段は、エアーの吸入口と、この吸入口からエアーを吸入するための回転羽と、この回転羽を回転させる駆動手段と、前記回転羽を介して吸入したエアーを、前記側面排出口に向かって送り出す送風口とを備えることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記送風方向変更手段は、前記供給口に対面する位置で供給されたエアーを受けて方向を変える変更板と、この変更板に沿って送られるエアーを前記支持枠および載置テーブルの間から前記側面排出口に向かうように、当該エアーを導く導出板と、を備えることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記載置テーブルが設置される前記露光室内の設置面の少なくとも一部に設けられ、前記露光室のエアーを排気する排気孔を複数有する排気床面を備えることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005361107A JP4472626B2 (ja) | 2005-12-14 | 2005-12-14 | 露光装置 |
TW095145942A TW200722937A (en) | 2005-12-14 | 2006-12-08 | Exposure apparatus |
CNB2006101670896A CN100495217C (zh) | 2005-12-14 | 2006-12-14 | 曝光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005361107A JP4472626B2 (ja) | 2005-12-14 | 2005-12-14 | 露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007163904A JP2007163904A (ja) | 2007-06-28 |
JP4472626B2 true JP4472626B2 (ja) | 2010-06-02 |
Family
ID=38165654
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005361107A Expired - Fee Related JP4472626B2 (ja) | 2005-12-14 | 2005-12-14 | 露光装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4472626B2 (ja) |
CN (1) | CN100495217C (ja) |
TW (1) | TW200722937A (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL1036290A1 (nl) * | 2007-12-19 | 2009-06-22 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus. |
CN101276150B (zh) * | 2008-03-21 | 2010-06-02 | 上海微电子装备有限公司 | 一种步进重复曝光装置 |
JP5290063B2 (ja) * | 2009-06-17 | 2013-09-18 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の基板温度制御方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
CN102231047B (zh) * | 2011-06-23 | 2016-09-14 | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 | 紫外光固设备及紫外光固设备报警方法 |
JP2015034846A (ja) * | 2013-08-07 | 2015-02-19 | 株式会社清和光学製作所 | 縦型フィルム露光装置 |
JP7386742B2 (ja) * | 2020-03-24 | 2023-11-27 | 株式会社Screenホールディングス | 露光装置 |
-
2005
- 2005-12-14 JP JP2005361107A patent/JP4472626B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-12-08 TW TW095145942A patent/TW200722937A/zh not_active IP Right Cessation
- 2006-12-14 CN CNB2006101670896A patent/CN100495217C/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200722937A (en) | 2007-06-16 |
CN1983038A (zh) | 2007-06-20 |
TWI366744B (ja) | 2012-06-21 |
CN100495217C (zh) | 2009-06-03 |
JP2007163904A (ja) | 2007-06-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI374070B (en) | Laser processing apparatus and laser processing method as well as debris extraction mechanism and debris extraction method | |
CN101339399B (zh) | 成像装置的处理盒及包括该处理盒的成像装置 | |
JP4472626B2 (ja) | 露光装置 | |
JP5648733B1 (ja) | 光照射装置 | |
JP4189354B2 (ja) | 露光装置 | |
JP2009146833A (ja) | 紫外線照射装置 | |
JP2005338603A (ja) | 露光装置 | |
JPH0360733A (ja) | 紫外線照射装置 | |
JP3846232B2 (ja) | 光照射器の循環空冷システム | |
KR20140128718A (ko) | 경화유닛 및 이를 적용한 전자회로 패턴 제조 장치 | |
JPH1167656A (ja) | 光照射装置のシャッタ機構 | |
JPH07114993B2 (ja) | 光照射装置 | |
JP6512041B2 (ja) | 光配向装置 | |
JP3743605B2 (ja) | 写真処理装置 | |
CN118534730A (zh) | 描绘装置 | |
TW202439032A (zh) | 描繪裝置 | |
JP5404341B2 (ja) | 露光装置、及びそれを用いたデバイスの製造方法 | |
CN116783555A (zh) | 具有减少的热聚合的印版曝光方法和设备 | |
JP2003098678A (ja) | 露光装置用光源システム | |
JP3743606B2 (ja) | 写真処理装置 | |
JP3994366B2 (ja) | 写真処理装置 | |
JP2006007312A (ja) | レーザ加工装置 | |
JPH07113769B2 (ja) | 露光装置及び熱吸収式コールドミラー | |
JP2015099347A (ja) | 光照射装置 | |
JP2006251016A (ja) | 基板露光方法および基板加熱装置ならびに基板露光装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070815 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100223 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100303 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130312 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4472626 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130312 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130312 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140312 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |