JP4408169B2 - Lamination method - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プリント回路基板の製造において、凹凸を有する基板にフィルム状樹脂層を積層する方法に関するものであり、更に詳しくはフィルム状樹脂層の追従性がよく、積層後の樹脂表面の平滑性に優れ、ビルドアップ工法に有用な積層方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
近年、電子機器の小型化、高性能化に伴いプリント回路基板の高密度化、多層化が進行している。
かかるプリント回路基板の多層化においては、熱硬化性樹脂組成物又は感光性樹脂組成物を絶縁層として使用し、予め形成した内層回路の上に該熱硬化性樹脂組成物又は感光性樹脂組成物を塗布し、あるいは該熱硬化性樹脂組成物又は感光性樹脂組成物からなるフィルム状樹脂を積層する。かかるフィルム状樹脂の片面には、通常銅箔や支持体フィルム(セパレーターフィルム)が積層されており、銅箔の場合はそれをハーフエッチング又は全面エッチングし、支持体フィルムの場合はそれを剥離して、ついで、レーザー又は紫外線による穴あけ後に、銅メッキを施した後、再度フォトレジストフィルムを用いて光によるパターニングを行い、回路を形成する方法、いわゆるビルドアップ工法が有効に用いられている。
【0003】
一方、ビルドアップ工法に直接関連はないものの、基板にドライフィルムを貼る方法や基板にカバーフィルム等を貼る従来の方法として、特開平11−129272号公報に、真空装置内で下側シート材及び上側シート材の温度差が所定値以内になったときに加圧して成形する積層体の製造方法が開示されている。
該真空積層装置を用いる製造方法では、プリント基板の表面がそれほど微細ではなく密集度も少ないいわゆる凹凸のない基板をフィルムと積層する時は、小さな気泡(マイクロボイド)もなく、表面平滑性も良好な積層体が製造可能である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、ビルドアップ工法等で使用される凹凸を有する基板とフィルム状樹脂層を積層しようとする場合、特開平11−129272号公報開示技術では、該基板にフィルム状樹脂を追従させるためには、ラミネート温度や圧力を上げることが必要で、その場合、該基板とフィルム樹脂層との間にマイクロボイドが残り、回路線の絶縁破壊にいたる恐れがある。更には、該基板の凹凸が反映し、積層樹脂表面に凹凸が生じることもある。該積層樹脂表面の凹凸は、次工程の回路形成時に密着不良や追従性不良、外観不良等の問題が生じることになるので回避しなければならない。
特に最近の基板の多層化を考慮すると、良好な追従性及び基板とフィルム状樹脂層間に生じるマイクロボイドの抑制が重要であり、更には積層後の表面平滑性が重要である。
【0005】
【問題を解決するための手段】
そこで本発明者らは、かかる事情に鑑み、鋭意研究をした結果、可撓性シート3を付設した上部プレート1及び可撓性シート4を付設した下部プレート2が設置された真空チャンバー6を有する真空積層装置を2台以上使用して、該チャンバー内の上下プレート間で、凹凸を有する基板5aと、支持体フィルム又は金属箔上に樹脂組成物を積層してなるフィルム状樹脂層5bとからなる積層体5を2段階以上圧締して積層を行うに当り、1回目の圧締温度T1℃を、(Tg−20)℃≦T1℃≦(Tg+10)℃〔Tg:フィルム状樹脂層の樹脂組成物のガラス転移温度〕の条件で、かつ、1回目の圧締時に積層体5にかける圧力が0.5×10 5 〜1.5×10 5 Paとなる条件で実施した後、2回目以降の圧締温度Tn℃を、(T1+10)℃≦Tn℃≦(T1+70)℃の条件で、かつ、2回目以降の圧締時に積層体5にかける圧力を1回目よりも0.1×10 5 〜20×10 5 Pa高くする条件で実施する積層方法が上記目的に合致することを見いだし、本発明を完成した。
【0006】
【発明の実施の形態】
本発明では、特定の真空積層装置を2台以上使用して、凹凸を有する基板5aとフィルム状樹脂層5bからなる積層体5を2段階以上圧締し積層を行うに当り、1回目の圧締温度T1℃と2回目以降の圧締温度Tn℃を調整すること、及び1回目の圧締時に積層体5にかける圧力と2回目以降の該圧力を調整することを特徴とするものである。
【0007】
まず、本発明の積層方法を実施するに当って用いられる装置は、2段階以上圧締を行える真空積層装置であれば特に制限されないが、同一の真空積層装置を2台以上用いて2段階以上の圧締を実施する方が、1台の装置で2度以上にわたって圧締時の温度設定を変更するという煩わしさが避けられるという点で好ましい。かかる場合について以下、図1及び図2に基づいて説明する。
図1は、真空積層装置を2台使用して本発明の方法を実施する態様である。それぞれの真空チャンバー6には、可撓性シート3を付設した上部プレート1と可撓性シート4を付設した下部プレート2が配置されており、可撓性シート4は、下部プレート上に直接付設させている。可撓性シート3は、その四辺端が押さえシール金具12により可撓性シート3と上部プレート1との間に空隙部10(以下単に空隙部10と称することがある)が形成出来るように上部プレート1に付着されている。また、上部プレート1には、該プレート1内を通過する開口部8(以下単に開口部8と称することがある)が配置され、かかる開口部8により、空隙部10の圧力が調整される。開口部8から気体又は液体を空隙部10に導入すると可撓性シート3が風船のように膨らむ構造となっている。
下部プレート2には、該プレート2内を通過する開口部9(以下単に開口部9と称することがある)が配置され、かかる開口部9により可撓性シート3、4の間に形成される空間部11(以下単に空間部11と称することがある)の圧力が調整される。また、真空チャンバー6内を効率良く減圧状態とするためにシール7が下部プレート上に配置されている。更に超音波振動装置19が下部プレートに2つ内蔵されている。
【0008】
図2は、更に、真空チャンバー6の上下プレート間に、凹凸を有する基板5aとフィルム状樹脂層5bとの積層体5を挟持してチャンバー内を移送する上下一対の搬送用フィルム13(以下単に搬送用フィルム13と称することがある)を設置させた場合である。かかる搬送用フィルム13の張力及び搬送速度は巻出しロール15及び巻取りロール16、ニップロール18により調節され、巻出しロール15は1台目の真空積層装置の入口付近に、巻取りロール16及びニップロール18は2台目の真空積層装置の出口付近に配置されている。搬送用フィルム13の通過ラインには、ガイドロール17が配置されている。
【0009】
積層を実施するに当ってはまず、凹凸を有する基板5a(以下単に基板5aと称することがある)とフィルム状樹脂層5bはオートシートカットラミネータ等により予め仮どめして積層体5としておくことが好ましい。具体的には、フィルム状樹脂層5bに貼着された保護フィルムを剥取って、樹脂組成物層面が基板5aと接するようにラミネートするのである。
積層体5の構成は、基板5a/フィルム状樹脂層5b、フィルム状樹脂層5b/基板5a/フィルム状樹脂層5b等任意である。
【0010】
まず、1台目の真空積層装置を用いて1回目の圧締を実施する。
かかる圧締を行うには、上記の積層体5を可撓性シート4上の圧締位置に載置した後、下部プレート2を持ち上げて、上部プレート1と密封契合させる。密封契合後、空間部11を減圧状態とする。具体的には、下部プレート2の開口部9より真空ポンプで吸引し、空間部11の圧力を200Pa以下、好ましくは100Pa以下の減圧状態にする。かかる圧力が200Paを越える場合は、凹凸を有する基板5aとフィルム状樹脂層5bの間にマイクロボイドが残存し、積層後のフィルム状樹脂層5bの表面の平滑性が悪くなる傾向がある。
なお、空間部11を減圧状態にする時に、空隙部10を同時に減圧状態にすると可撓性シート3の下側への膨らみを抑制し、圧締前に積層体5と可撓性シート3との接触を防止できる点で好ましい。
【0011】
減圧状態にした後、1回目の圧締操作を行う。かかる圧締操作は、空間部11と空隙部10の圧力差により、上側の可撓性シート3を下方向に膨らませて凹凸を有する基板5aとフィルム状樹脂層5bを強固に貼り合わせる操作である。
1回目の圧締時には、空隙部10の圧力はほぼ常圧に戻したり、必要に応じて更に圧縮空気を入れて加圧し、空間部11は200Pa以下の減圧状態とすればよい。
かかる圧力差により可撓性シート3は下方向に膨らみ、0.5×105〜1.5×105Paの圧力で積層体5が圧締されるのである。
かかる1回目の圧締時の圧締温度T1℃は、フィルム状樹脂層5bの樹脂組成物のガラス転移温度をTg℃とすると、(Tg−20)℃≦T1℃≦(Tg+10)℃、好ましくは(Tg−10)℃≦T1℃≦(Tg+5)℃で実施する。
なお、上記のTg℃は、フィルム状樹脂層5bの樹脂組成物のガラス転移温度を示し、DSC(示差走査熱量測定)で測定する値である。
T1℃が(Tg−20)℃未満では大量にマイクロボイドが発生し、(Tg+10)℃を越えると、フィルム状樹脂層5bと基板5aとの間に気泡が抜ける前に両者が密着してしまったり、フィルム状樹脂層5bがしわになったりして表面平滑性が悪くなり不適当である。
圧締時の温度のコントロール方法としては、特に限定されないが、上部プレート1と下部プレート2に内蔵されるシート状ヒーターや蒸気パイプで調整される。
【0012】
1回目の圧締操作が終了すれば、開口部9を使用して、空間部11の減圧状態を解放し、下部プレート2を下方に移動させ、真空積層装置から積層体5を排出させる。
【0013】
次に2回目の圧締を実施する。
かかる2回目の圧締では、2台目の真空積層装置の可撓性シート4の上に上記で得られた積層体5を載置して、1回目と同様に減圧状態とした後、2回目の圧締を実施する。かかる2回目の圧締温度T2℃は、(T1+10)℃≦T2℃≦(T1+70)℃で行うことが必要であり、好ましくは(T1+20)℃≦T2℃≦(T1+60)℃である。
かかるT2℃が(T1+10)℃未満では基板5aとフィルム状樹脂層5bの間のマイクロボイドが多くなったり、基板のパターン形状に充分樹脂の充填が出来なかったりして不適当であり、(T1+70)℃を越えるとフィルム状樹脂層5bの樹脂分が熱分解したり、表面平滑性が悪くなるので不適当である。
【0014】
2回目の圧締時には、積層体5にかける圧力が1回目の圧締時よりも0.1×105〜20×105Pa高くなるようにする。かかる圧力差が0.1×105Pa未満では、マイクロボイドを押しつぶせなくて排除できず、20×105Paを越えると可撓性シート4を壊す場合がある。かかる2回目の圧締として具体的には、空隙部10に圧縮空気を入れて空隙部10の圧力を0.6×105〜21.5×105Paに調整して、空間部11の圧力は200Pa以下の減圧状態に調整すればよい。
【0015】
圧締操作の終了後に、開口部8、9を使用して、空隙部10および空間部11の減圧状態を解放し、下部プレート2を下方に移動させ圧締が完了し、積層体5は2台目の真空積層装置から排出させ積層が完成するのである。
【0016】
2回の圧締時の処理時間としては、特に制限されないが、1回目は10〜20秒、2回目は30〜120秒であり、1回目の圧締が終ってから、700秒以内に2回目の圧締を行うのが好ましく、更には、30〜120秒後である。かかる時間が700秒を越えると、一旦減圧状態になったフイルム樹脂層5bの樹脂中に空気が入り込みマイクロボイドとなるので好ましくない。
【0017】
上記では、真空積層装置を2台用い、圧締操作が2回の場合を示したが、かかる操作を3回以上してもよく、3回目以降は更なる平面平滑性を出し、フィルム状樹脂層の樹脂中のマイクロボイドをつぶすために上記2回目の圧締操作よりも高温高圧で圧締を実施すればよい。
【0018】
かくして、圧締された積層体5が得られるが、更には工業的に連続して積層体5を得るために、あるいはフィルム状樹脂層5bの端部より樹脂成分がしみ出す恐れがある時は、上下プレート間に搬送用フィルム13を配置するのが有効である(図2)。
【0019】
かかる場合は、まず1台目の真空積層装置の入口でコンベア14により、搬送用フィルム13の間に積層体5が挿入される。そして、積層体5は搬送用フィルム13に挟まれた状態で、1〜25m/分の搬送速度で1台目の真空積層装置の圧締位置まで運搬される。
その後は前述した同じ条件下で積層を実施する。
【0020】
本発明の方法においては、更に、基板5aの表面パターン模様や回路の密集度によっては、フィルム状樹脂層の表面平滑性を上げるため、上部プレート1、下部プレート2のいずれかに超音波振動装置19を設置して、減圧状態にする時及び/又は圧締時に上部プレート1あるいは下部プレート2を超音波振動させることが好ましく、特には下部プレート2に内蔵することが好ましい。
かかる超音波振動を行うに当っては、20kHz以上(更には25〜100kHz)の発信周波数を用いることが好ましく、高周波数電力は200W以上(更には、300〜600W)が好ましい。
【0021】
本発明で使用される凹凸を有する基板5aとしては、特には限定しないが、銅等のパターンを施したプリント基板が好ましく、ピルドアップ工法で用いられる多積層基板でも良い。かかる基板の厚みとしては特には限定しないが、0.1〜10mm程度である。
【0022】
また、フィルム状樹脂層5bは、樹脂組成物と、支持体フィルム(セパレーターフィルム)あるいは銅箔から構成されているものである。
かかる樹脂組成物は、粘着性や絶縁性、接着性、ホットメルト性を持つもので、具体的には、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂等に安定剤、硬化剤、色素、滑剤等を配合した樹脂組成物である。
【0023】
かかる支持体フィルム(セパレーターフィルム)としては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物フィルム等が挙げられる。
銅箔としては特に制限しないがエッチングで溶解可能なものが好ましい。
【0024】
かかるフィルム状樹脂層5bの樹脂組成物面にポリエチレン製等の保護フィルムを貼付したビルドアップ工法用の市販品としては、日立化成社製のBFシリーズ、BLシリーズ、ASシリーズ、MCFシリーズ、シプレー社製のMULTIPOSIT−9500シリーズ、日本ペイント社製のプロピコートシリーズ、チバスペシャリティ社製のPlobelecシリーズ、デュポン社製のValuxシリーズ、太陽インク社製のPVIシリーズ、HBIシリーズ、旭電化社製のBURシリーズ、味の素社製のABFシリーズ、東京応化社製のSB−Rシリーズ、三井金属社製のMRシリーズ、松下電工社製のRシリーズ、住友ベークライト社製のAPLシリーズ、ニッカン社製のCADシリーズ、旭化成社製のPCCシリーズ、三菱ガス化学社製のCBRシリーズ、CCLシリーズ、GMPシリーズ等が挙げられる。
その他の用途のフィルム状樹脂層5bとしては、ソルダーレジストマスクフィルム用樹脂層、コンフォーマスクフィルム用樹脂層、ドライフィルムフォトレジストフィルム用樹脂層が挙げられる。
【0025】
尚、フィルム状樹脂層5bの種類によっては、絶縁性の確保と安定性のために、本発明の積層方法を実施した後に、100〜200℃、20〜120分の条件で、熱処理工程を施すこともある。
【0026】
フィルム状樹脂層5bの基板と接触する方の面については、マット処理してあることが、積層時の空気の逃げがよくマイクロボイドが少ない点で良好である。
該マット処理に関しては特には限定しないが、表面粗度Rz(JIS B 0610に準処して測定)が3〜40μmが好ましい。
【0027】
可撓性シート3及び4は耐熱性で膨張可能なものであれば特に限定されないが、例えばシリコンゴム、フッ素ゴム等が挙げられる。尚、可撓性シート3、4の内部にフィラーや繊維、箔、板を入れたものも使用可能である。
【0028】
かかる可撓性シートの積層体5や搬送用フィルム13に接する面の表面粗度Rzは20〜700μmで、かつ表面ゴムのデュロメータ硬度HDD(JIS K7215に準処して測定)が15〜90であることが好ましい。Rzが20μm未満の時やHDDが90を越える時は、積層後の基板5aの表面平滑性はよいがマイクロボイド残存に問題があり、Rzが700μmを越える時やHDDが15未満の時は、多層積層時に表面平滑性が悪くなることがある。
【0029】
上記のRzやHDDの調整方法としては、表面をサンドペーパー、エメリーサンドペーパーでトリートメントしても、表面にこれらを満足するパターンを形成しても良い。
【0030】
更に可撓性シート3、4の縦横の長さは、特に限定されるものではないが、具体的にはそれぞれの大きさが200〜1200mmで、厚みが0.2〜20mmの平板膜状が好ましい。可撓性シート3の方が、縦横の長さが可撓性シート4よりも5〜50%程度長いことが好ましい。
【0031】
搬送用フィルム13については特には限定しないが、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ナイロンフィルム、ポリイミドフィルム、ポリスチレンフィルム、フッ素化オレフィンフィルムのいずれかであることが好ましい。
【0032】
搬送用フィルム13の表面に関しても、特には限定しないが、積層体5と接する面がマット処理を施されている時が、積層時の空気の逃げがよくマイクロボイドが少なく良好である。該マット処理に関しては、表面のヘイズ値を5〜40%程度(積分球式光線透過率測定装置にして測定)にすると空気の抜けがよい。
【0033】
搬送用フィルム13の厚みは10〜100μmであることが好ましく、更には20〜50μmが好ましい。
搬送用フィルム13の上下の間隔は積層体の厚み程度であればよく、通常、1〜10mmであり、幅に関しても真空チャンバーに入るサイズであればよく、通常0.5〜3mである。
【0034】
積層体5の真空積層装置への搬入、排出は特に制限されないが、コンベア14を用いて行うことが好ましく、かかるコンベア14は、回転ロールやエンドレスベルトでも良く、素材としては、汚れにくく、発塵しないものが良い。コンベア14の長さは0.3〜3m、好ましくは0.5〜1.5mである。
更に、出口のコンベア14の後には、基板を貯蔵するためのストッカー、冷却装置、積層体の平面平滑性を向上させるための加圧装置等を配置してもよい。
【0035】
本発明の図1は、下部プレート2が上下に移動して、可撓性シート3が膨張するものであるが、上部プレート1が移動したり、可撓性シート4が膨張するものも本発明の範囲であることはいうまでもない。
本発明の積層方法は、ビルドアップ工法に非常に有用な積層方法であり、プリント基板にドライフィルムを貼る用途や、プリント基板以外の他用途、例えば、LCD基板の上に、粘着剤付偏光板や粘着剤付位相差板を貼り合わす方法、各種電子基板にダイシングテープ等を貼り合わす方法としても大変有効である。
【0036】
【実施例】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。
実施例1
図1に示す積層装置を用いた。
積層体5の製造は、エポキシ樹脂からなる熱硬化性樹脂組成物(ガラス転移温度85℃)とポリエチレンテレフタレートフィルムからなるフィルム状樹脂層5bを基板5aの両面に配置した構成とし、フィルム状樹脂層5bの樹脂面(Rzが3.5μm)が基板5aの凹凸面に接するようにオートラミネーターにより、仮止めして行った。
可撓性シート3(縦横それぞれ800mm)、4(縦横それぞれ700mm)は、3mm厚みのシリコンゴムである。
【0037】
(1回目の圧締)
図1に示すように、2台の真空積層装置において、予め上部、下部プレートを、それぞれのプレートに内蔵したシート状ヒーターにより80℃に加熱した。積層体5を1台目の真空積層装置のチャンバー6の可撓性シート4の上に載置した後、下部プレート2を上げ、開口部8、9から空気を吸引して、空隙部10及び空間部11を60Paまで減圧状態とした。次に下部プレート2に内蔵された2つの超音波振動装置(海上電機株式会社製、「オートパーサー400−28F」)19を用いて、28kHz、400Wで50秒間超音波振動させた後、開口部8を大気開放とし、可撓性シート3を下側に膨らませ、10秒間、圧締温度T1℃を80℃、積層体5にかける圧力が1.0×105Paで圧締を行った。その後、開口部9を解放して大気圧に戻し上部プレート1と下部プレート2を開口し、圧締された積層体5を1台目の真空積層装置から排出した。
【0038】
(2回目の圧締)
次に該積層体5を、1回目の圧締終了から70秒後に2台目の真空積層装置の可撓性シート4の上に載置した後、下部プレート2を上げ、1回目の圧締時と同様にし50秒間減圧状態とした。次に開口部8を大気開放とし、更に開口部8から圧縮空気を入れて、空隙部10の圧力を10×105Paとして、可撓性シート3を下側に膨らませ、30秒間、1回目の圧締時と同じように超音波振動させた後、圧締温度T2℃を125℃、積層体5にかける圧力が10×105Paで圧締を行った。
その後、開口部9を解放して大気圧に戻し上部プレート1と下部プレート2を開口し、圧締された積層体5を真空積層装置から排出した。
【0039】
得られた圧締後の積層体5について追従性、マイクロボイド、表面平滑性の評価を以下の要領で行った。
(追従性)
凹凸を有する基板5aに対するフィルム状樹脂層5bの追従性を100倍顕微鏡で目視確認して以下のように評価した。
○・・・・凹凸を有する基板5aの凹部にフィルム状樹脂層5bが完全に充填されている。
×・・・・凹凸を有する基板5aの凹部にフィルム状樹脂層5bが完全には充填されておらず凹凸を有する基板5aの凹面に沿って細長い気泡が残る。
【0040】
(マイクロボイド)
凹凸を有する基板5aとフィルム状樹脂層5bの間にあるマイクロボイドを100倍顕微鏡で目視確認して以下のように評価した。
○・・・凹凸を有する基板5aの凹凸部とフィルム状樹脂5bの間にマイクロボイドがない。
×・・・凹凸を有する基板5aの凹凸部とフィルム状樹脂5bの間にマイクロボイドがある。
【0041】
(表面平滑性)
(1)フィルム状樹脂層5bの表面平滑性を表面粗さ計(ミツトヨ社製『suftest−201』)で測定し以下のように評価した。
○・・・フィルム状樹脂層5bの表面の凹凸段差が0.5μm未満である。
△・・・フィルム状樹脂層5bの表面の凹凸段差が0.5〜1μmである。
×・・・フィルム状樹脂層5bの表面の凹凸段差が1μmを越える。
(2)積層体をクロスセクション法で、垂直切断面を電子顕微鏡にて観察して以下のように評価した。
○・・・フィルム状樹脂層5bの表面の凹凸段差が1μm未満である。
△・・・フィルム状樹脂層5bの表面の凹凸段差が0.5〜1μmである。
×・・・フィルム状樹脂層5bの表面の凹凸段差が1μmを越える。
【0042】
実施例2
搬送用フィルム13(厚み25μm、幅900mm、ヘイズ値6%)を配置した図2に示す真空積層装置を使用した。
積層体5は、コンベア14により搬送用フィルム13に移され、圧締位置に搬送した後、実施例1と同様に1回目の圧締を行い、その後2台目の真空積層装置の真空チャンバー6に搬送され、実施例1と同様に2回目の圧締を実施し、同様に評価した。
【0043】
実施例3
実施例1において、1、2回目の減圧状態の時と圧締の時に実施した超音波振動をしない以外は同様に実施して同様に評価した。
【0044】
比較例1
実施例1において、1回目の圧締のみを行い、2回目の圧締は省略した以外は同様に実施して、同様に評価した。
【0045】
比較例2
実施例1において、1回目の圧締温度T1℃を60℃とした以外は同様に実施して同様に評価した。
【0046】
比較例3
実施例1において、1回目の圧締温度T1℃を100℃とした以外は同様に実施して同様に評価した。
【0047】
比較例4
実施例1において、2回目の圧締温度T2℃を85℃とした以外は同様に実施して同様に評価した。
【0048】
比較例5
実施例1において、2回目の圧締温度T2℃を160℃とした以外は同様に実施して同様に評価した。
実施例1〜3、比較例1〜5の評価結果を表1に示した。
【0049】
【0050】
【発明の効果】
本発明の積層方法は、可撓性シート3を付設した上部プレート1及び可撓性シート4を付設した下部プレート2が設置された真空チャンバー6を有する真空積層装置を2台以上使用して、該チャンバー内の上下プレート間で、凹凸を有する基板5aと、支持体フィルム又は金属箔上に樹脂組成物を積層してなるフィルム状樹脂層5bとからなる積層体5を2段階以上圧締して積層を行うに当り、1回目の圧締温度T1℃を、(Tg−20)℃≦T1℃≦(Tg+10)℃〔Tg:フィルム状樹脂層の樹脂組成物のガラス転移温度〕の条件で、かつ、1回目の圧締時に積層体5にかける圧力が0.5×10 5 〜1.5×10 5 Paとなる条件で実施した後、2回目以降の圧締温度Tn℃を、(T1+10)℃≦Tn℃≦(T1+70)℃の条件で、かつ、2回目以降の圧締時に積層体5にかける圧力を1回目よりも0.1×10 5 〜20×10 5 Pa高くする条件で実施するので、追従性、マイクロボイド発生の抑制に優れ、表面平滑性に優れた効果を示すものであり、プリント回路基板の多層化に非常に有用である。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の積層装置の主要部の構造図である。
【図2】 本発明の積層装置の主要部の構造図である(搬送用フィルム13を使用時)。
【符号の説明】
1・・・上部プレート
2・・・下部プレート
3・・・上部プレートに付設した可撓性シート
4・・・下部プレートに付設した可撓性シート
5・・・積層体
5a・・・凹凸を有する基板
5b・・・フィルム状樹脂層
6・・・真空チャンバー
7・・・シール
8・・・上部プレートを通過する開口部
9・・・下部プレートを通過する開口部
10・・・可撓性シート3と上部プレート1間の空隙部
11・・・可撓性シート3、4間に形成される空間部
12・・・押えシール金具
13・・・搬送用フィルム
14・・・コンベア
15・・・巻出しロール
16・・・巻取りロール
17・・・ガイドロール
18・・・ニップロール
19・・・超音波振動装置[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for laminating a film-like resin layer on a substrate having irregularities in the production of a printed circuit board. More specifically, the film-like resin layer has good followability and the smoothness of the resin surface after lamination. The present invention relates to a lamination method that is excellent in the build-up method and useful for a build-up method.
[0002]
[Prior art]
In recent years, with the miniaturization and high performance of electronic devices, the density and the number of layers of printed circuit boards are increasing.
In multilayering such a printed circuit board, a thermosetting resin composition or a photosensitive resin composition is used as an insulating layer, and the thermosetting resin composition or the photosensitive resin composition is formed on an inner layer circuit formed in advance. Or a film-like resin made of the thermosetting resin composition or the photosensitive resin composition is laminated. A copper foil or a support film (separator film) is usually laminated on one side of such a film-like resin. In the case of a copper foil, it is half-etched or entirely etched, and in the case of a support film, it is peeled off. Then, after drilling with laser or ultraviolet light, after copper plating, a method of forming a circuit by performing patterning with light again using a photoresist film, a so-called build-up method is effectively used.
[0003]
On the other hand, although not directly related to the build-up method, as a conventional method of sticking a dry film on a substrate or a cover film etc. on a substrate, Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-129272 discloses a lower sheet material and A method for manufacturing a laminate is disclosed in which pressure is applied when the temperature difference of the upper sheet material falls within a predetermined value.
In the manufacturing method using the vacuum laminating apparatus, when a substrate having a so-called unevenness with a surface of a printed board that is not so fine and less dense is laminated with a film, there is no small bubbles (microvoids) and surface smoothness is good. Can be manufactured.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
However, when trying to laminate a film-like resin layer with a substrate having irregularities used in a build-up method or the like, in the technique disclosed in JP-A-11-129272, in order to follow the film-like resin to the substrate, It is necessary to increase the laminating temperature and pressure. In that case, microvoids may remain between the substrate and the film resin layer, which may lead to dielectric breakdown of the circuit line. Further, the unevenness of the substrate is reflected, and unevenness may occur on the surface of the laminated resin. Unevenness on the surface of the laminated resin must be avoided because problems such as poor adhesion, poor followability, and poor appearance occur during circuit formation in the next process.
In particular, considering the recent multilayering of substrates, good followability and suppression of microvoids generated between the substrate and the film-like resin layer are important, and surface smoothness after lamination is also important.
[0005]
[Means for solving problems]
In view of such circumstances, the present inventors have intensively studied and, as a result, have a
[0006]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
In the present invention, a specific vacuum laminating apparatus is used.2 or moreAnd using the laminate 5 composed of the
[0007]
First, the apparatus used for carrying out the laminating method of the present invention is not particularly limited as long as it is a vacuum laminating apparatus capable of performing two or more stages of pressing. However, two or more stages using two or more of the same vacuum laminating apparatus are used. It is preferable to perform the pressing in that the trouble of changing the temperature setting at the time of pressing twice or more with one apparatus can be avoided. Such a case will be described below with reference to FIGS.
FIG. 1 shows an embodiment in which the method of the present invention is carried out using two vacuum lamination apparatuses. Each
The
[0008]
FIG. 2 further shows a pair of upper and lower transfer films 13 (hereinafter simply referred to as a transfer film 13) that sandwiches a laminate 5 of a
[0009]
In carrying out the lamination, first, the
The structure of the laminated body 5 is arbitrary, such as board |
[0010]
First, the first pressing is performed using the first vacuum laminating apparatus.
In order to perform such pressing, the laminated body 5 is placed at the pressing position on the
When the space portion 11 is in a reduced pressure state, if the
[0011]
After the pressure is reduced, the first pressing operation is performed. Such a pressing operation is an operation in which the upper
At the time of the first press-fitting, the pressure in the
Due to this pressure difference, the
The pressing temperature T at the time of the first pressing1° C represents the glass transition temperature of the resin composition of the film-
The above Tg° C. indicates the glass transition temperature of the resin composition of the film-
T1℃ is (TgAt −20) ° C. or less, a large amount of microvoids are generated, and (TgWhen the temperature exceeds +10) ° C., both of the two layers adhere to each other before the bubbles are removed between the film-
A method for controlling the temperature at the time of pressing is not particularly limited, but is adjusted by a sheet heater or a steam pipe built in the upper plate 1 and the
[0012]
When the first pressing operation is completed, the decompressed state of the space 11 is released using the
[0013]
Next, the second pressing is performed.
In the second pressing, the laminated body 5 obtained above is placed on the
T2℃ is (T1If it is less than +10) ° C., it is inappropriate because there are many microvoids between the
[0014]
At the time of the second pressing, the pressure applied to the laminated body 5 is 0.1 × 10 than that at the first pressing.Five~ 20x10FiveMake Pa highTheThe pressure difference is 0.1 × 10FiveIf it is less than Pa, the microvoids cannot be crushed and cannot be eliminated, and 20 × 10FiveIf Pa is exceeded, the
[0015]
After completion of the pressing operation, the decompressed state of the
[0016]
The processing time at the time of the second pressing is not particularly limited, but the first time is 10 to 20 seconds, the second time is 30 to 120 seconds, and within 2 seconds within 700 seconds after the first pressing is completed. It is preferable to perform the second pressing, and further, after 30 to 120 seconds. If the time exceeds 700 seconds, air enters the resin of the
[0017]
Above, for 2 vacuum laminating equipmentPressureAlthough the case where the tightening operation is performed twice is shown, the above operation may be performed three times or more, and after the third time, further planar smoothness is obtained, and the microvoids in the resin of the film-like resin layer are crushed. What is necessary is just to implement clamping by high temperature and high pressure rather than the second clamping operation.
[0018]
Thus, the pressed laminate 5 can be obtained. Furthermore, in order to obtain the laminate 5 industrially continuously, or when there is a possibility that the resin component may ooze out from the end of the film-
[0019]
In such a case, the laminate 5 is first inserted between the
Thereafter, lamination is performed under the same conditions as described above.
[0020]
In the method of the present invention, an ultrasonic vibration device is provided on either the upper plate 1 or the
In performing such ultrasonic vibration, it is preferable to use a transmission frequency of 20 kHz or higher (more preferably 25 to 100 kHz), and high frequency power is preferably 200 W or higher (further 300 to 600 W).
[0021]
The
[0022]
Moreover, the film-
Such a resin composition has adhesiveness, insulation, adhesion, and hot melt properties. Specifically, a stabilizer, a curing agent, a pigment, a lubricant, and the like are blended with a thermosetting resin, a thermoplastic resin, and the like. Resin composition.
[0023]
Examples of the support film (separator film) include a polyethylene terephthalate film, a polypropylene film, a polyvinyl alcohol film, an ethylene-vinyl acetate copolymer saponified film, and the like.
Although it does not restrict | limit especially as copper foil, What can melt | dissolve by an etching is preferable.
[0024]
Commercially available products for the build-up method in which a protective film made of polyethylene or the like is attached to the resin composition surface of the film-
Examples of the film-
[0025]
Depending on the type of the film-
[0026]
The surface of the film-
The mat treatment is not particularly limited, but the surface roughness Rz (measured according to JIS B 0610) is preferably 3 to 40 μm.
[0027]
The
[0028]
The surface roughness Rz of the surface in contact with the laminate 5 and the
[0029]
As a method for adjusting Rz or HDD, the surface may be treated with sandpaper or emery sandpaper, or a pattern satisfying these may be formed on the surface.
[0030]
Further, the lengths of the
[0031]
Although it does not specifically limit about the
[0032]
The surface of the
[0033]
The thickness of the
The upper and lower intervals of the
[0034]
Loading and unloading of the laminated body 5 into and from the vacuum laminating apparatus is not particularly limited, but it is preferable to use a
Further, after the
[0035]
In FIG. 1 of the present invention, the
The laminating method of the present invention is a very useful laminating method for the build-up method, and is used for pasting a dry film on a printed circuit board, for other uses other than the printed circuit board, for example, on an LCD substrate, a polarizing plate with an adhesive It is also very effective as a method of bonding a retardation plate with an adhesive or a method of bonding a dicing tape or the like to various electronic substrates.
[0036]
【Example】
Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples.
Example 1
The laminating apparatus shown in FIG. 1 was used.
The laminate 5 is manufactured by arranging a thermosetting resin composition (glass transition temperature 85 ° C.) made of an epoxy resin and a film-
The flexible sheets 3 (800 mm in length and width respectively) and 4 (700 mm in length and width each) are 3 mm thick silicon rubber.
[0037]
(First press)
As shown in FIG. 1, in two vacuum laminating apparatuses, the upper and lower plates were heated to 80 ° C. in advance by a sheet heater built in each plate. After the laminated body 5 is placed on the
[0038]
(Second press)
Next, after placing the laminated body 5 on the
Thereafter, the
[0039]
The laminated body 5 after pressing was evaluated for followability, microvoids, and surface smoothness in the following manner.
(Followability)
The following property of the film-
... The film-shaped
×: The film-shaped
[0040]
(Micro void)
The microvoids between the
... There are no microvoids between the concavo-convex portion of the
X: There is a micro void between the uneven portion of the
[0041]
(Surface smoothness)
(1) The surface smoothness of the film-
... The uneven step on the surface of the film-
Δ: The uneven step on the surface of the film-
X ... The uneven | corrugated level | step difference of the surface of the film-
(2) The laminate was evaluated by the cross section method and the vertical cut surface was observed with an electron microscope as follows.
... The uneven step on the surface of the film-
Δ: The uneven step on the surface of the film-
X ... The uneven | corrugated level | step difference of the surface of the film-
[0042]
Example 2
A vacuum laminating apparatus shown in FIG. 2 on which a transport film 13 (thickness 25 μm, width 900 mm,
The laminated body 5 is transferred to the conveying
[0043]
Example 3
In Example 1, the same evaluation was performed in the same manner except that the ultrasonic vibration performed in the first and second decompression states and the pressing was not performed.
[0044]
Comparative Example 1
In Example 1, the same evaluation was performed except that only the first pressing was performed and the second pressing was omitted.
[0045]
Comparative Example 2
In Example 1, the first pressing temperature T1The same evaluation was performed in the same manner except that the temperature was changed to 60 ° C.
[0046]
Comparative Example 3
In Example 1, the first pressing temperature T1The same evaluation was performed in the same manner except that the temperature was changed to 100 ° C.
[0047]
Comparative Example 4
In Example 1, the second pressing temperature T2The same evaluation was performed in the same manner except that the temperature was 85 ° C.
[0048]
Comparative Example 5
In Example 1, the second pressing temperature T2The same evaluation was performed in the same manner except that the temperature was changed to 160 ° C.
The evaluation results of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 5 are shown in Table 1.
[0049]
[0050]
【The invention's effect】
The laminating method of the present invention comprises a vacuum laminating apparatus having a
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a structural diagram of a main part of a laminating apparatus of the present invention.
FIG. 2 is a structural diagram of the main part of the laminating apparatus of the present invention (when a
[Explanation of symbols]
1 ... Upper plate
2 ... Lower plate
3 ... Flexible sheet attached to the upper plate
4 ... Flexible sheet attached to the lower plate
5 ... Laminated body
5a... Substrate with irregularities
5b ... Film-like resin layer
6 ... Vacuum chamber
7 ... Seal
8 ... Opening through upper plate
9 ... Opening through the lower plate
10: A gap between the
11: Space formed between the
12 ... Presser seal bracket
13 ... Film for conveyance
14 ... conveyor
15 ... Unwinding roll
16 ... take-up roll
17 ... Guide roll
18 ... Nip roll
19 ... Ultrasonic vibration device
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