JP3646045B2 - Lamination method - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プリント回路基板の製造において、凹凸を有する基板にフィルム状樹脂層を積層する方法に関するものであり、更に詳しくはフィルム状樹脂層の追従性がよく、積層後の樹脂表面の平滑性に優れ、ビルドアップ工法に有用な積層方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
近年、電子機器の小型化、高性能化に伴いプリント回路基板の高密度化、多層化が進行している。
かかるプリント回路基板の多層化においては、熱硬化型樹脂組成物又は感光性樹脂組成物を絶縁層として使用し、予め形成した内層回路の上に該熱硬化型樹脂組成物又は感光性樹脂組成物を塗布し、あるいは該熱硬化型樹脂組成物又は感光性樹脂組成物からなるフィルム状樹脂を積層する。かかるフィルム状樹脂の片面には、通常銅箔や支持体フィルム(セパレーターフィルム)が積層されており、銅箔の場合はそれをハーフエッチング又は全面エッチングし、支持体フィルムの場合はそれを剥離して、ついで、レーザー又は紫外線により穴あけ後に、銅メッキを施した後、再度フォトレジストフィルムを用いて光によるパターニングを行い、回路を形成する方法、いわゆるビルドアップ工法が有効に用いられている。
【0003】
一方、ビルドアップ工法に用いられるという記載はないものの、真空状態で基板にフィルムを貼る従来の方法として、特開平5−200880号公報ではコンベア式真空アプリケータを用いる方法が開示されている。かかる真空アプリケータを用いた積層方法では、基板はベルト状のローラにより運搬されており、かかるベルトの張力を調節して基板をシリコンゴムの上に載置させている。また、特開平8−332646号公報の真空積層装置及び真空積層方法では、基板をキャリアフィルムで搬送し、その上にフォトレジストフィルムを積層する方法が記載されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、ビルドアップ工法等で使用される凹凸を有する基板とフィルム状樹脂層を積層する場合、上記特開平5−200880号公報では、搬送用フィルムがないため、基板にフィルム状樹脂層を貼る場合、積層体の基板とフィルム状樹脂層の間にマイクロボイドが発生することがあり、積層時以降に基板やフィルム状樹脂を高温にすると、表面平滑性が悪くなったり、滲みだしが発生することがあった。また、特開平8−332646号公報では、単に基板をキャリアフィルムで搬送しているだけで、積層体を挟時していないので、マイクロボイドが発生したり、表面平滑性が悪くなることがあるという欠点があった。
【0005】
【問題を解決するための手段】
そこで本発明者らは、かかる事情に鑑み、鋭意研究をした結果、可撓性シート3を付設した上部プレート1及び可撓性シート4を付設した下部プレート2が設置された真空チャンバー7内の上下プレート間に、凹凸を有する基板5aとフィルム状樹脂層5bとの積層体5を挟持してチャンバー内を移送する上下一対の搬送用フィルム6が配置された真空積層装置を使用して、該積層体5を圧締して積層を行うにあたり、搬送用フィルム6を圧締時以外では可撓性シート3及び可撓性シート4のいずれとも接触させない積層方法が、上記目的に合致することを見いだし、本発明を完成した。
【0006】
【発明の実施の形態】
本発明の積層方法では、特定の真空積層装置を用いて、該積層体5の圧締を行うにあたり、搬送用フィルム6を圧締操作以外の工程では可撓性シート3及び可撓性シート4のいずれとも接触させないことを特徴とするものである。
【0007】
まず、本発明で使用する真空積層装置を図1および図2に基づいて説明する。図1、図2において、真空チャンバー7には、可撓性シート3を付設した上部プレート1と可撓性シート4を付設した下部プレート2が配置されており、可撓性シート4は、下部プレート2上に直接存在し、可撓性シート3は、その四辺端が押さえシール金具17により空隙部16が形成出来るように上部プレート1に付着されている。また、上部プレート1には、該プレート1内を通過する開口部14(以下単に開口部14と称することがある)が配置されている。かかる開口部14により、可撓性シート3と上部プレート1間の空隙部16(以下単に空隙部16と称することがある)の圧力が調整され、開口部14から気体又は液体を空隙部16に導入すると可撓性シート3が風船のように膨らむ構造となっている。下部プレート2には、該プレート2内を通過する開口部15(以下単に開口部15と称することがある)が配置され、かかる開口部15により、上部プレート1と下部プレート2の密封契合時に、可撓性シート3、4の間に形成される空間部19(以下単に空間部19と称することがある)の圧力が調整される。また、チャンバー内の真空引きを効率良く行うためにシール9が上部プレート1と下部プレート2上に配置されている。
上下プレート間には、凹凸を有する基板5aとフィルム状樹脂層5bとの積層体5を狭持してチャンバー内を移送する上下一対の搬送用フィルム6(以下単に搬送用フィルム6と称することがある)が存在する。かかる搬送用フィルム6の張力及び搬送速度は巻出しロール11及び巻取りロール13、ニップロール12により調節され、巻出しロール11は真空チャンバー7の入口付近に、巻取りロール13及びニップロール12は出口付近に配置されている。搬送用フィルム6の通過ラインの各所には、搬送用フィルム6の張力誘導と空中保持のために、ガイドロール8が配置されている。
【0008】
以下本発明の積層方法を詳細に説明する。
本発明の積層方法に先立ち、凹凸を有する基板5a(以下単に基板5aと称することがある)とフィルム状樹脂層5bはオートシートカットラミネータ等により予め仮どめして積層体5としておくことが好ましい。
積層体5の積層構成は、基板5a/フィルム状樹脂層5b、フィルム状樹脂層5b/基板5a/フィルム状樹脂層5b等任意である。
【0009】
まず、本発明の積層方法では、真空チャンバー7の入口で搬送用フィルム6の間に積層体5を挿入する。そして、積層体5は搬送用フィルム6に挟まれた状態で、圧締位置まで運搬される(図1)。搬送用フィルム6の搬送速度は、特には限定されないが、1〜25m/分が好ましい。
本発明では以下に説明する減圧状態での圧締時までは、搬送用フィルム6は可撓性シート3及び可撓性シート4と非接触とし、圧締時にそれらを接触させた後は、再びそれらを非接触とすることが必要で、非接触時の搬送用フィルム6と可撓性シート3、可撓性シート4との間隔としては、1〜10mmが好ましく、更には、3〜6mmが望ましい。
搬送用フィルム6と可撓性シート3、可撓性シート4が圧締前に接触すると、基板5aとフィルム状樹脂層5bが部分的に融着して、マイクロボイドが多くなったり、真空度を上げるのに時間がかかったりして不適当であり、圧締後に接触すると、表面平滑性が悪くなったり、圧締後の積層体5から、フィルム状樹脂層5bの樹脂組成物のしみ出しが大きくなり不適当である。
【0010】
積層体5が圧締位置に来た時点で下部プレート2を持ち上げて、上部プレート1と密封契合させる。密封契合後、空間部19を減圧状態とする(図2)。
具体的には、下部プレート2の開口部15より真空ポンプにより吸引し、真空チャンバー7内の空間部19の圧力を、200Pa以下、好ましくは100Pa以下の減圧状態にする。200Paを越えると、凹凸を有する基板5aとフィルム状樹脂層5bの間にマイクロボイドが残存し、積層後のフィルム状樹脂層5bの表面の平滑性が悪くなる傾向がある。
かかる減圧状態とする時にも、搬送用フィルム6は可撓性シート3及び可撓性シート4のいずれとも接触させないで行うことが必要である。
【0011】
かかる方法は特に限定しないが、具体的には、搬送用フィルム6が圧締時以外は可撓性シート3及び4と接触しない様に、巻出しロール11及び巻取りロール13、ニップロール12の間で回転速度をコントロールして3〜15kg/cm2、更には5〜10kg/cm2の張力としたまま、可撓性シート3と4で圧締することが好ましい。
なお、上記空間部19を減圧状態にする時に、空隙部16も同程度の減圧状態とすると可撓性シート3が下側にやや膨らみ搬送用フィルム6と接触するのが防止できる点で好ましい。
【0012】
本発明の方法において可撓性シート3および4の基材も特定しておくことが好ましく、特に可撓性シートの搬送用フィルム6に接する面の表面粗度(JIS B 0610に準処して測定)が20〜700μmで、かつ表面ゴムのデュロメータ硬度(JIS K 7215に準処して測定)が15〜90であることが好ましい。該表面粗度(Rz)が20μm未満の時や該デュロメータ硬度(HDD)が90を越える時は、積層後の基板5aの表面平滑性はよいがマイクロボイド残存に問題があり、Rzが700μmを越える時やHDDが15未満の時は、表面平滑性が悪いのでビルドアップ多層積層時に問題を残す。
【0013】
上記のRzやHDDの調整方法としては、表面をサンドペーパー、エメリーサンドペーパーで、トリートメントしても、表面にこれらの粗度を持つパターンを形成しても良い。
【0014】
かかる可撓性シート3及び4は耐熱性で、膨張可能なものが好ましく、例えばシリコンゴム、フッ素ゴム等が挙げられる。膜厚は、1〜10mmのものが通常用いられる。尚、可撓性シート3、4の内部にフィラーや繊維、箔、板を入れたものも使用可能である。
【0015】
また、可撓性シートは、縦横の長さが、通常は200mm〜1200mmであり、また、厚みは0.2〜20mmの平板膜状が好ましい。可撓性シート3は、可撓性シート4よりも縦横の長さを5〜50%程度長くするのが好ましい。
【0016】
減圧状態にした後、圧締操作を行う(図3)。
かかる圧締操作は、空間部19と空隙部16の圧力差により、上側の可撓性シート3を下方向に膨らませて凹凸を有する基板5aとフィルム状樹脂層5bを貼り合わせる。
かかる圧力差の調整は具体的には、空隙部16の圧力をほぼ常圧に戻し、空間部19の減圧状態を弱めて300〜600Paとすればよく、これらの圧力調整には空気を用いればよい。
かかる圧力差により可撓性シート3は下方向に膨らみ、搬送用フィルム6と接触し、可撓性シート4も搬送用フィルム6と接触する。
引続いて空隙部16の圧力を高める。
かかる設定は具体的には、空隙部16の圧力を1.0×105〜20×105Paと高くして、空間部19の圧力を再び200Pa以下の減圧状態に調整すると、上側の可撓性シート3は更に下側に大きく膨らみ、搬送用フィルム6を強く押えつけ基板5aとフィルム状樹脂層5bを強く圧締するのである。
【0017】
圧締時における空間部19の温度は40℃〜185℃が好ましく、更には70〜135℃である。
かかる温度が40℃未満では、基板5aの凹凸面にフィルム状樹脂層5bの樹脂組成物を充填出来ずに追従性が悪くなったりマイクロボイドが残存し、185℃を越えるとフィルム状樹脂層5bが熱分解を起し分解ガスによるマイクロボイドが発生して好ましくない。かかる温度のコントロール方法としては特に限定しないが、上部プレート1と下部プレート2に内蔵される面ヒーターや蒸気パイプで調整される。
【0018】
圧締操作の終了後は、開口部14、15を使用して、減圧状態を解放し、下部プレート2を下方に移動させる。
【0019】
そして積層体5は搬送用フィルム6によって可撓性シート3及び可撓性シート4に非接触にて運搬され(図4)、真空チャンバー7から排出される。
【0020】
搬送用フィルム6について素材は特には限定しないが、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ナイロンフィルム、ポリイミドフィルム、ポリスチレンフィルム、フッ素化オレフィンフィルムのいずれかであることが好ましい。膜厚は10〜100μmであることが好ましく、更には20〜50μmが好ましく、幅は0.5〜3mが好ましい。
【0021】
搬送用フィルム6の表面に関しても、特には限定しないが、積層体5と接する面がマット処理、例えば、表面のヘイズ値を5〜40程度(積分球式光線透過率測定装置にして測定)にしておくと、積層時の空気の逃げがよくマイクロボイドが少ない点で望ましい。
【0022】
本発明で使用される凹凸を有する基板5aとしては、特には限定しないが銅等のパターンを施したプリント基板が好ましく、ピルドアップ工法で用いられる多積層基板でも良い。かかる基板の厚みとしては0.1〜10mm程度が適当である。
【0023】
また、フィルム状樹脂層5bは、樹脂組成物と支持体フィルム(セパレーターフィルム)あるいは銅箔から構成されることが好ましい。
かかる樹脂組成物は、絶縁性、粘着性や接着性、ホットメルト性を持つものや、ガラス転移温度以上で軟化する樹脂組成物であればよい。かかる樹脂組成物としては、主にエポキシ樹脂からなる熱硬化型樹脂組成物、又は樹脂、エチレン性不飽和化合物、光重合開始剤からなる感光性樹脂組成物等が挙げられる。
【0024】
かかる支持体フィルム(セパレーターフィルム)としては、ポリエチレンテレフタレートフィルムやポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレン酢酸ビニル共重合体ケン化物フィルム等が挙げられる。
銅箔としては特に制限しないがエッチングで溶解可能なものが好ましい。
【0025】
かかるフィルム状樹脂層5bのビルドアップ工法用の市販品(保護フィルムが付着したものもある)としては、日立化成社製のBFシリーズ、BLシリーズ、ASシリーズ、MCFシリーズ、シプレー社製のMULTIPOSIT−9500シリーズ、日本ペイント社製のプロピコートシリーズ、チバスペシャリティ社製のPlobelecシリーズ、デュポン社製のValuxシリーズ、太陽インク社製のPVIシリーズ、HBIシリーズ、旭電化社製のBURシリーズ、味の素社製のABFシリーズ、東京応化社製のSB−Rシリーズ、三井金属社製のMRシリーズ、松下電工社製のRシリーズ、住友ベークライト社製のAPLシリーズ、ニッカン社製のCADシリーズ、旭化成社製のPCCシリーズ、三菱ガス化学社製のCBRシリーズ、CCLシリーズ、GMPシリーズ等が挙げられる。
その他の用途の樹脂層としては、ソルダーレジストマスクフィルム用樹脂層、コンフォーマスクフィルム用樹脂層、フォトレジストフィルム用樹脂層が挙げられる。
【0026】
フィルム状樹脂層5bの基板5aに積層する面についても特には限定しないが、マット処理してあることが、積層時の空気の逃げがよくマイクロボイドが少ない点で良好である。
該マット処理に関しては特には限定しないが、Rzにて、3〜40μm程度が好ましい。
【0027】
積層体5の真空チャンバー7への搬入、排出は特に制限されないが、コンベア10を用いて行うことが好ましく、かかるコンベア10は、回転ロール群や、エンドレスベルトでも良く、汚れにくい素材で、発塵しないものが良い。
コンベア10のサイズとしては、長さが0.3〜3m、好ましくは0.5〜1.5mであればよく、また、その搬送速度は通常1〜25m/分である。
更に、出口のコンベア10の後には、圧締された積層体5を貯蔵するためのストッカーや積層体5のフィルム層表面の更なる平面平滑性の向上のための加圧装置等を配置してもよい。
【0028】
なお、フィルム状樹脂層5bの樹脂組成物のガラス転移温度よりも15℃以上の高温で圧締する場合、基板5aとフィルム状樹脂層5bを積層した際に出てくるしみ出しが発生することがある。
該汚染が生じると、次の積層される基板表面に付着したり、該付着により追従性の低下が起こり、良好な回路基板を得ることができなくなる。該しみ出し樹脂成分を、連続搬送させる搬送用フィルム6に付着させ、該搬送用フィルム6を取り除くことが好ましい。
上記搬送用フィルム6は、必要に応じて、使用後は汚染部分を取り除き再利用することもできるし、又、汚染部分を取り除く工程を設け、回転式に連続に供給して再利用することもできる。
特にかかるしみ出しが多いと、搬送用フィルム6と積層体5の端部が固着するので、真空チャンバー7の出口でコンベア10に積層体5が受け渡される過程で搬送用フィルム6と積層体5との剥離時に、積層体5が跳ね上がって、コンベア10に落下して、フィルム状樹脂層の表面平滑性が損なわれる恐れがある。かかる跳ね上がりを防止するため、跳ね上がり防止装置18を設置したり、搬送用フィルム6をコンベア10の上部まで延長してもよい。
【0029】
以上、真空積層装置として、下部プレート2は上下に移動、可撓性シート3が膨張する態様について主に説明したが、上部プレート1が上下に移動したり、可撓性シート4が膨張するものも本発明の範囲であることはいうまでもない。
かくして本発明の方法により良好な積層体5が得られるのであるが、フィルム状樹脂層5bの種類によっては、絶縁性の確保と安定性のために、圧締後積層体5に、100〜200℃、20〜120分の条件で、熱処理工程を施すことがあり、かかる熱処理において積層体5中にはマイクロボイドあると、それが破裂陥没したり、膨れたりして積層体5の表面の平滑性を悪化させる恐れがあるが、本発明の方法で得られた積層体5はマイクロボイドが皆無であるため、かかる熱処理を行っても良好な表面状態を維持することが可能である。
【0030】
尚、本発明の積層方法は、ビルドアップ工法に非常に有用な積層方法であるが、プリント基板にフォトレジストフィルムを貼る用途やプリント基板以外の他用途、例えば、LCD基板の上に、粘着剤付偏光板や粘着剤付位相差板を貼り合わす方法、各種電子基板にダイシングテープ等を貼り合わす方法としても大変有効である。
【0031】
【実施例】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。
図1に示す真空積層装置を用いた。
積層体5の製造は、エポキシ樹脂からなる熱硬化型樹脂組成物(ガラス転移温度80℃)とポリエチレンテレフタレートフィルムからなるフィルム状樹脂層5bを基板5aの両面に配置した構成とし、フィルム状樹脂層5bの樹脂面(Rzが3.5μm)が基板5aの凹凸面に接するようにオートカットラミネーターにより仮止め積層して行った。
搬送用フィルム6はポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ25μm、ヘイズ6)を用いた。
可撓性シート3(縦横それぞれ800mm)、4(縦横それぞれ700mm)は、3mm厚みのシリコンゴムである。
積層体5をコンベア10にて、搬送用フィルム6に移載し、張力を5kg/cm2に調節して、搬送用フィルム6を可撓性シート3及び可撓性シート4には接触させずに、圧締位置まで搬入した。上部プレート1と下部プレート2は、予め120℃に加熱して空間部19の温度を120℃にした。
【0032】
次いで、図2に示すように、圧締位置にて、下部プレート2を上げ、搬送用フィルム6が、可撓性シート3及び可撓性シート4とそれぞれ3mm離れた状態のまま、減圧操作に入った。
開口部14、15から空気を吸引して、空隙部16及び空間部19を60Paまで減圧状態にし、50秒後、開口部14を大気開放として、空隙部を大気圧とし、空間部19は400Paとして、図3に示すように、可撓性シート3及び可撓性シート4を搬送用フィルム6と接触させ、搬送用フィルム6が積層体5を軽く圧締させた。その10秒後に、空間部19を再び60Paの減圧状態にして、更に開口部14より圧縮空気を入れて、空隙部16を6×105Paとして、可撓性シート3を大きく膨らませて、積層体5を挟持した搬送用フィルム6を120℃で300秒強く圧締した。
【0033】
次に開口部14、15が大気圧に戻され、上部プレート1及び下部プレート2が開口され、圧締位置から、図4に示すように張力制御された搬送用フィルム6に挟持された積層体5を、可撓性シート3及び可撓性シート4と非接触にて真空チャンバー7から排出した。
得られた圧締後の積層体5について追従性、マイクロボイド、表面平滑性の評価を以下の要領で行った。
【0034】
(追従性)
凹凸を有する基板5aに対するフィルム状樹脂層5bの追従性を50倍顕微鏡で目視確認して以下のように評価した。
○・・・凹凸を有する基板5aの凹部にフィルム状樹脂層5bが完全に充填されている。
×・・・凹凸を有する基板5aの凹部にフィルム状樹脂層5bが完全には充填されておらず基板5aの凹面に沿って細長い気泡が残っている。
【0035】
(マイクロボイド)
凹凸を有する基板5aとフィルム状樹脂層5bの間にあるマイクロボイドを50倍顕微鏡で目視確認して以下のように評価した。
○・・・凹凸を有する基板5aの凹凸部とフィルム状樹脂2の間にマイクロボイドがない。
×・・・凹凸を有する基板5aの凹凸部とフィルム状樹脂2の間にマイクロボイドがある。
【0036】
(表面平滑性)
(1)フィルム状樹脂層5bの表面平滑性を表面粗さ計(ミツトヨ社製『suftest−201』)で測定し以下のように評価した。
○・・・フィルム状樹脂層5bの表面の凹凸段差が1μm以下である。
×・・・フィルム状樹脂層5bの表面の凹凸段差が1μmを越える。
(2)積層体をクロスセクション法で、垂直切断面を顕微鏡にて観察して以下のように評価した。
○・・・フィルム状樹脂層5bの表面の凹凸段差が1μm以下である。
×・・・フィルム状樹脂層5bの表面の凹凸段差が1μmを越える。
【0037】
比較例1
圧締位置までの搬入以降、搬送用フィルム6の張力制御を切り、圧締操作以前から搬送用フィルム6を可撓性シート4に接触させて、実施例1と同様に積層した。
【0038】
比較例2
圧締後、搬送用フィルム6の張力制御を切り、搬送用フィルム6を可撓性シート4に接触させたまま操作を続けた。
実施例1、比較例1、2の評価結果を表1に示した。
【0039】
【0040】
【発明の効果】
本発明の積層方法は、可撓性シート3を付設した上部プレート1及び可撓性シート4を付設した下部プレート2が設置された真空チャンバー7内の上下プレート間に、凹凸を有する基板5aとフィルム状樹脂層5bとの積層体5を挟持してチャンバー内を移送する上下一対の搬送用フィルム6が配置された真空積層装置を使用して、該積層体5を圧締して積層を行うにあたり、搬送用フィルム6を圧締操作以外の工程では可撓性シート3及び可撓性シート4のいずれとも接触させないので、追従性、マイクロボイド発生抑制、表面平滑性に優れた効果を示すものであり、プリント回路基板の多層化の方法として非常に有用である。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の積層方法に用いられる積層装置に積層体を搬送した時の断面図である
【図2】 本発明の積層方法に用いられる積層装置において、減圧状態とした時の断面図である
【図3】 本発明の積層方法に用いられる積層装置において、圧締時の断面図である
【図4】 本発明の積層方法に用いられる積層装置において、圧締後、積層体を排出する時の断面図である
【符号の説明】
1・・・上部プレート
2・・・下部プレート
3・・・上部プレートに付設した可撓性シート
4・・・下部プレートに付設した可撓性シート
5・・・積層体
5a・・・凹凸を有する基板
5b・・・フィルム状樹脂層
6・・・搬送用フィルム
7・・・真空チャンバー
8・・・ガイドロール
9・・・シール
10・・・コンベア
11・・・巻出しロール
12・・・ニップロール
13・・・巻取りロール
14・・・上部プレートを通過する開口部
15・・・下部プレートを通過する開口部
16・・・可撓性シート3と上部プレート間の空隙部
17・・・押さえシール金具
18・・・跳ね上がり防止装置
19・・・可撓性シート3、4の間に形成される空間部[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for laminating a film-like resin layer on a substrate having irregularities in the production of a printed circuit board. More specifically, the film-like resin layer has good followability and the smoothness of the resin surface after lamination. The present invention relates to a lamination method that is excellent in the build-up method and useful for a build-up method.
[0002]
[Prior art]
In recent years, with the miniaturization and high performance of electronic devices, the density and the number of layers of printed circuit boards are increasing.
In multilayering such a printed circuit board, a thermosetting resin composition or a photosensitive resin composition is used as an insulating layer, and the thermosetting resin composition or the photosensitive resin composition is formed on an inner layer circuit formed in advance. Or a film-like resin composed of the thermosetting resin composition or the photosensitive resin composition is laminated. A copper foil or a support film (separator film) is usually laminated on one side of such a film-like resin. In the case of a copper foil, it is half-etched or entirely etched, and in the case of a support film, it is peeled off. Then, after drilling with a laser or ultraviolet rays, after copper plating, patterning with light using a photoresist film again to form a circuit, a so-called build-up method is effectively used.
[0003]
On the other hand, although there is no description that the film is used in a build-up method, JP-A-5-200880 discloses a method using a conveyor-type vacuum applicator as a conventional method for attaching a film to a substrate in a vacuum state. In the laminating method using such a vacuum applicator, the substrate is conveyed by a belt-like roller, and the substrate is placed on silicon rubber by adjusting the tension of the belt. Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-332646 discloses a vacuum laminating apparatus and a vacuum laminating method in which a substrate is transported by a carrier film and a photoresist film is laminated thereon.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
However, when laminating a substrate having unevenness and a film-like resin layer used in a build-up method or the like, in the above Japanese Patent Laid-Open No. 5-200880, there is no film for transport, and therefore a case where a film-like resin layer is pasted on a substrate Microvoids may occur between the laminate substrate and the film-like resin layer. If the substrate or film-like resin is heated to a high temperature after lamination, surface smoothness may deteriorate or bleeding may occur. was there. Further, in JP-A-8-332646, since the substrate is simply transported by the carrier film and the laminated body is not sandwiched, microvoids may occur or the surface smoothness may deteriorate. There was a drawback.
[0005]
[Means for solving problems]
In view of such circumstances, the present inventors have intensively studied, and as a result, the inside of the
[0006]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
In the laminating method of the present invention, when the laminate 5 is pressed using a specific vacuum laminating apparatus, the
[0007]
First, a vacuum laminating apparatus used in the present invention will be described with reference to FIG. 1 and FIG. 1 and 2, the
Between the upper and lower plates, a pair of upper and lower transport films 6 (hereinafter simply referred to as a transport film 6) that sandwich the laminated body 5 of the substrate 5 a having unevenness and the film-
[0008]
Hereinafter, the laminating method of the present invention will be described in detail.
Prior to the laminating method of the present invention, the substrate 5a having unevenness (hereinafter sometimes simply referred to as the substrate 5a) and the film-
The laminated structure of the laminated body 5 is arbitrary, such as board | substrate 5a / film-
[0009]
First, in the laminating method of the present invention, the laminate 5 is inserted between the transport films 6 at the entrance of the
In the present invention, the conveying film 6 is not in contact with the
When the transport film 6, the
[0010]
When the laminated body 5 comes to the pressing position, the
Specifically, suction is performed from the opening 15 of the
Even in such a reduced pressure state, the transport film 6 needs to be carried out without being in contact with either the
[0011]
Such a method is not particularly limited, but specifically, it is between the unwinding
When the
[0012]
In the method of the present invention, it is preferable that the base material of the
[0013]
As a method for adjusting Rz or HDD, the surface may be treated with sandpaper or emery sandpaper, or a pattern having such roughness may be formed on the surface.
[0014]
Such
[0015]
In addition, the flexible sheet is preferably in the form of a flat plate having a vertical and horizontal length of usually 200 mm to 1200 mm and a thickness of 0.2 to 20 mm. The
[0016]
After the pressure is reduced, a pressing operation is performed (FIG. 3).
In the pressing operation, the upper
Specifically, the pressure difference can be adjusted by returning the pressure in the gap 16 to almost normal pressure and weakening the reduced pressure state in the
Due to this pressure difference, the
Subsequently, the pressure in the gap 16 is increased.
Specifically, this setting can be made by increasing the pressure of the gap 16 to 1.0 × 10 5 to 20 × 10 5 Pa and adjusting the pressure of the
[0017]
The temperature of the
If the temperature is lower than 40 ° C., the uneven surface of the substrate 5a cannot be filled with the resin composition of the film-
[0018]
After completion of the pressing operation, the reduced pressure state is released using the
[0019]
And the laminated body 5 is conveyed by the conveyance film 6 to the
[0020]
The material for the transport film 6 is not particularly limited, but is preferably any one of a polyethylene terephthalate film, a polyethylene film, a polypropylene film, a nylon film, a polyimide film, a polystyrene film, and a fluorinated olefin film. The film thickness is preferably 10 to 100 μm, more preferably 20 to 50 μm, and the width is preferably 0.5 to 3 m.
[0021]
The surface of the transport film 6 is not particularly limited, but the surface in contact with the laminate 5 is matted, for example, the surface haze value is about 5 to 40 (measured using an integrating sphere light transmittance measuring device). It is desirable that air escape during lamination is good and that there are few microvoids.
[0022]
The substrate 5a having projections and depressions used in the present invention is not particularly limited, but is preferably a printed circuit board with a pattern of copper or the like, and may be a multi-layer substrate used in a pill-up method. A suitable thickness of the substrate is about 0.1 to 10 mm.
[0023]
Moreover, it is preferable that the film-
Such a resin composition may be any resin composition having insulating properties, tackiness, adhesiveness, and hot melt properties, or a resin composition that softens at a glass transition temperature or higher. Examples of such a resin composition include a thermosetting resin composition mainly composed of an epoxy resin, or a photosensitive resin composition composed of a resin, an ethylenically unsaturated compound, and a photopolymerization initiator.
[0024]
Examples of such a support film (separator film) include a polyethylene terephthalate film, a polyethylene film, a polypropylene film, a polyvinyl alcohol film, and an ethylene vinyl acetate copolymer saponified film.
Although it does not restrict | limit especially as copper foil, What can melt | dissolve by an etching is preferable.
[0025]
Commercially available products for the build-up method of the film-
Examples of the resin layer for other applications include a solder resist mask film resin layer, a conform mask film resin layer, and a photoresist film resin layer.
[0026]
The surface of the film-
Although it does not specifically limit regarding this mat process, About 3-40 micrometers is preferable at Rz.
[0027]
Loading and unloading of the laminated body 5 into the
The
Further, after the
[0028]
In addition, when pressing at a temperature of 15 ° C. or higher than the glass transition temperature of the resin composition of the film-
When the contamination occurs, it adheres to the surface of the next substrate to be laminated, or the followability is lowered due to the adhesion, and a good circuit board cannot be obtained. The exuding resin component is preferably adhered to the transport film 6 to be continuously transported, and the transport film 6 is removed.
If necessary, the transport film 6 can be reused by removing the contaminated part after use, or provided with a step of removing the contaminated part and continuously supplied in a rotary manner for reuse. it can.
In particular, when there is a large amount of oozing, the transport film 6 and the end of the laminate 5 are fixed, so that the transport film 6 and the laminate 5 are transferred in the process of passing the laminate 5 to the
[0029]
As described above, as the vacuum laminating apparatus, the mode in which the
Thus, a good laminate 5 can be obtained by the method of the present invention. However, depending on the type of the film-
[0030]
The laminating method of the present invention is a very useful laminating method for the build-up method, but it is used for pasting a photoresist film on a printed circuit board or other applications other than the printed circuit board, for example, an adhesive on an LCD substrate. It is also very effective as a method of bonding a polarizing plate or a retardation plate with an adhesive, or a method of bonding a dicing tape or the like to various electronic substrates.
[0031]
【Example】
Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples.
The vacuum lamination apparatus shown in FIG. 1 was used.
The laminate 5 is manufactured by arranging a thermosetting resin composition made of an epoxy resin (glass transition temperature 80 ° C.) and a film-
As the transport film 6, a polyethylene terephthalate film (thickness 25 μm, haze 6) was used.
The flexible sheets 3 (800 mm in length and width respectively) and 4 (700 mm in length and width each) are 3 mm thick silicon rubber.
The laminated body 5 is transferred to the transport film 6 by the
[0032]
Next, as shown in FIG. 2, the
Air is sucked from the
[0033]
Next, the
The laminated body 5 after pressing was evaluated for followability, microvoids, and surface smoothness in the following manner.
[0034]
(Followability)
The following property of the film-
... The film-
X: The film-
[0035]
(Micro void)
The microvoids between the uneven substrate 5a and the film-
... There are no micro voids between the concavo-convex portion of the substrate 5 a having concavo-convex and the film-
X: There are microvoids between the uneven portion of the substrate 5a having unevenness and the film-
[0036]
(Surface smoothness)
(1) The surface smoothness of the film-
O ... The uneven step on the surface of the film-
X ... The uneven | corrugated level | step difference of the surface of the film-
(2) The laminate was evaluated by the cross section method and the vertical cut surface was observed with a microscope as follows.
O ... The uneven step on the surface of the film-
X ... The uneven | corrugated level | step difference of the surface of the film-
[0037]
Comparative Example 1
After carrying in to the pressing position, the tension control of the conveying film 6 was cut, and the conveying film 6 was brought into contact with the
[0038]
Comparative Example 2
After the pressing, the tension control of the transport film 6 was turned off, and the operation was continued while the transport film 6 was in contact with the
The evaluation results of Example 1 and Comparative Examples 1 and 2 are shown in Table 1.
[0039]
[0040]
【The invention's effect】
The laminating method of the present invention comprises a substrate 5a having irregularities between upper and lower plates in a
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view when a laminate is transported to a laminating apparatus used in the laminating method of the present invention. FIG. FIG. 3 is a cross-sectional view of the laminating apparatus used in the laminating method of the present invention at the time of pressing. FIG. 4 is a schematic view of the laminating apparatus used in the laminating method of the present invention. Is a cross-sectional view when
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ...
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