JP4381526B2 - プラズマエッチング方法 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は，エッチング方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
配線構造の微細化が要請されている近年の半導体製造技術においては，Ｓｉ基板上の層間絶縁膜（エッチング対象膜）に，比誘電率が従来のＳｉＯ２よりも非常に小さい有機系低誘電率材料が用いられている。この有機系低誘電率材料には，例えばポリオルガノシロキサン架橋ビスベンゾシクロブテン樹脂（ＢＣＢ）や，DowChemical社製のＳｉＬＫ（商品名）や，ＦＬＡＲＥ（商品名）などがある。
【０００３】
従来，上記有機系低誘電率材料にコンタクトホール等の溝を形成するドライエッチングプロセスにおいては，プラズマ放電等によりフッ素を含む反応活性種を生成させるため，エッチングガスとしてフッ素原子を多く含有するガスとしてＣＦ４が用いられ，さらに，主にガス流量比制御のために用いられるＡｒや，主にぬけ性の向上，すなわち，深さ方向のエッチングを促進するために用いられるＯ２を混合させた処理ガスを用いられていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら，上述のように有機系低誘電率材料からなるエッチング対象膜の処理ガスにＣＦ４とＯ２とＡｒの混合ガスを用いた場合には，対レジスト選択比が低いという第１の問題点があった。なお，対レジスト選択比とは，（エッチング対象膜の平均エッチング速度）／（フォトレジストのエッチング速度）で表される値をいい，以下，単に「選択比」という。選択比が低い処理ガスを用いると，溝の開口部が広がるため好ましくない。さらに，ボーイングによるエッチング形状異常が生ずるという第２の問題点もあった。
【０００５】
本発明は，従来のエッチング方法が有する上記問題点に鑑みてなされたものであり，本発明の目的は，選択比の向上，及びエッチング形状の改善を図ることの可能な，新規かつ改良されたエッチング方法を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため，本発明の第１の観点によれば，気密な処理室内に処理ガスを導入し，処理室内に配置された基板上に形成されたエッチング対象膜に対するエッチング方法において，処理ガスはＣＦ ４ とＮ ２ とＡｒとの混合ガスから構成され、エッチング対象膜は，上層の有機ポリシロキサン膜及びエッチストッパの役割をする下層のＳｉＯ２膜からなり、エッチング対象膜上には、フォトレジスト膜層から成り、所定のパターンを有するエッチングマスクが形成されることを特徴とするエッチング方法が提供される。
【０００７】
ここで，有機ポリシロキサンとは，以下の構造のようにＳｉＯ２の結合構造中にＣ，Ｈを含む官能基を含むものをいう。なお，以下の構造中，符号Ｒは，メチル基，エチル基，プロピル基等のアルキル基やその誘導体，あるいは，フェニル基等のアリル基やその誘導体である。
【０００８】
【化１】
【０００９】
かかるエッチング方法によれば選択比を向上し，さらにエッチング形状を改善することが可能である。例えば，従来のＣＦ４とＯ２とＡｒとの混合ガスを処理ガスとした場合の選択比は２．０程度であるのに対し，上記構成のように，ＣＦ４とＮ２とＡｒとを含んだ混合ガスを処理ガスとして用いた場合の選択比は５．８程度である。
【００１０】
また，処理ガスのＣＦ４とＮ２の流量比は，（Ｎ２の流量／ＣＦ４の流量）が１未満であると，エッチングストップを起こし，深くエッチングできない。また，（Ｎ２の流量／ＣＦ４の流量）が４より大きいと，ボーイングが生じるなど，エッチング形状が良くない。このため，処理ガスのＣＦ４とＮ２の流量比は，１≦（Ｎ２の流量／ＣＦ４の流量）≦４であることが好ましい。
【００１１】
また，上記課題を解決するため，本発明の第２の観点によれば，気密な処理室内に処理ガスを導入し，処理室内に配置された基板上に形成されたエッチング対象膜に対するエッチング方法において，処理ガスは少なくともＣ４Ｆ８とＮ２とを含み，エッチング対象膜は，上層の有機ポリシロキサン膜及び下層のＳｉＮ膜からなることを特徴とするエッチング方法が提供される。
【００１２】
エッチング対象膜の下層がＳｉＮ膜である場合には，ＣＦ４とＮ２との混合ガス，あるいはＣＦ４とＮ２とＡｒとの混合ガスを用いるよりも，上記構成のように，Ｃ４Ｆ８とＮ２との混合ガス，あるいは，Ｃ ４Ｆ８とＮ２とＡｒとの混合ガスを用いた場合の方が選択比が向上する。
【００１３】
また，処理ガスのＣ４Ｆ８とＮ２の流量比は，（Ｎ２の流量／Ｃ４Ｆ８の流量）が１０未満であると，エッチングストップを起こし，深くエッチングできない。このため，処理ガスのＣ４Ｆ８とＮ２の流量比は，１０≦（Ｎ２の流量／Ｃ４Ｆ８の流量）であることが好ましい。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下に添付図面を参照しながら，本発明にかかるエッチング方法の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお，本明細書及び図面において，実質的に同一の機能構成を有する構成要素については，同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００１５】
（第１の実施の形態）
（１）エッチング装置の構成
まず，図１を参照しながら，本実施の形態のエッチング方法が適用されるエッチング装置１００について説明する。
同図に示すエッチング装置１００の保安接地された処理容器１０２内には，処理室１０４が形成されており，この処理室１０４内には，上下動自在なサセプタを構成する下部電極１０６が配置されている。下部電極１０６の上部には，高圧直流電源１０８に接続された静電チャック１１０が設けられており，この静電チャック１１０の上面に被処理体，例えば半導体ウェハ（以下，「ウェハ」と称する。）Ｗが載置される。さらに，下部電極１０６上に載置されたウェハＷの周囲には，絶縁性のフォーカスリング１１２が配置されている。また，下部電極１０６には，整合器１１８を介して高周波電源１２０が接続されている。
【００１６】
また，下部電極１０６の載置面と対向する処理室１０４の天井部には，多数のガス吐出孔１２２ａを備えた上部電極１２２が配置されている。上部電極１２２と処理容器１０２との間には絶縁体１２３が設けられている。また，上部電極１２２には，整合器１１９を介してプラズマ生成高周波電力を出力する高周波電源１２１が接続されている。また，ガス吐出孔１２２ａには，ガス供給管１２４が接続され，さらにそのガス供給管１２４には，図示の例では第１〜第３分岐管１２６，１２８，１３０が接続されている。
【００１７】
第１分岐管１２６には，開閉バルブ１３２と流量調整バルブ１３４を介して，ＣＦ４を供給するガス供給源１３６が接続されている。また，第２分岐管１２８には，開閉バルブ１３８と流量調整バルブ１４０を介して，Ｎ２を供給するガス供給源１４２が接続されている。さらに，第３分岐管１３０には，開閉バルブ１４４と流量調整バルブ１４６を介して，Ａｒを供給するガス供給源１４８が接続されている。なお，処理ガスに添加される不活性ガスは，上記Ａｒに限定されず，処理室１０４内に励起されるプラズマを調整することができるガスであればいかなる不活性ガス，例えばＨｅ，Ｋｒなどでも採用することができる。
【００１８】
また，処理容器１０２の下方には，不図示の真空引き機構と連通する排気管１５０が接続されており，その真空引き機構の作動により，処理室１０４内を所定の減圧雰囲気に維持することができる。
【００１９】
（２）ウェハの構成
次に，本実施の形態にかかるエッチング方法によりエッチング処理を施すウェハＷの構成について説明する。
【００２０】
本実施の形態で使用するウェハＷは，Ｓｉ（シリコン）基板上に，所定の深さでエッチングを停止させるエッチストッパとしての役割と，Ｓｉ基板上に形成された配線を保護する保護膜として役割を有するＳｉＯ２膜が形成されている。そしてこのＳｉＯ２膜の上層に有機ポリシロキサン膜が形成されている。すなわち，本実施の形態におけるエッチング対象膜は，上層の有機ポリシロキサン及び下層のＳｉＯ２膜からなる。
【００２１】
また，エッチング対象膜上には，所定のパターンを有するエッチングマスクが形成されている。このエッチングマスクには，例えば，フォトレジスト膜層から成るマスクを採用することができる。
【００２２】
次に，上述したエッチング装置１００を用いて，本実施の形態にかかるエッチング方法によりウェハＷにコンタクトホールを形成する場合のエッチング工程について説明する。
【００２３】
まず，予め所定温度に調整された下部電極１０６上にウェハＷを載置し，該ウェハＷの温度を処理に応じて−２０℃〜５０℃程度に維持する。例えば，コンタクトホールの底部を−２０℃程度，開口部を３０℃程度，側壁部を５０℃程度に維持する。また，処理室１０４内の圧力雰囲気を処理に応じた所定の圧力，例えば２０ｍＴｏｒｒ（２．６７Ｐａ）程度になるように，処理室１０４内を真空引きする。
【００２４】
次いで，本実施の形態にかかる処理ガス，すなわちＣＦ４とＮ２とＡｒとを混合した処理ガスを，ガス供給管１２４に介挿された流量調整バルブ１３４，１４０，１４６により上記各ガスの流量を調整しながら処理室１０４内に導入する。この際，処理ガスの流量比は，１≦（Ｎ２の流量／ＣＦ４の流量）≦４となるようにガス流量を調整する。例えば，Ｎ２を１００ｓｃｃｍ程度，ＣＦ４を５０ｓｃｃｍ程度，Ａｒを３００ｓｃｃｍ程度に調整する。
【００２５】
次いで，下部電極１０６に対して，例えば周波数が２ＭＨｚで，電力が１２００Ｗ程度の高周波電力を印加する。また，上部電極１２２に対して，例えば周波数が６０ＭＨｚ程度で，電力が１５００Ｗ程度の高周波電力を印加する。これにより，処理室１０２内に高密度プラズマが生成され，かかるプラズマによってウェハＷに形成されたエッチング対象膜に所定形状のコンタクトホールが形成される。
【００２６】
以上のように構成された本実施の形態によれば，選択比を向上させ，さらにエッチング形状を改善することが可能である。例えば，従来のＣＦ４とＯ２とＡｒとの混合ガスを処理ガスとした場合の選択比は２．０程度であるのに対し，上記構成のように，ＣＦ４とＮ２とＡｒとを含んだ混合ガスを処理ガスとして用いた場合の選択比は５．８程度である。
【００２７】
また，（Ｎ２の流量／ＣＦ４の流量）が１未満であると，エッチングストップを起こし，深くエッチングできず，また，（Ｎ２の流量／ＣＦ４の流量）が４より大きいと，ボーイングが生じるなど，エッチング形状が良くないが，本実施の形態のよれば，処理ガスのＣＦ４とＮ２の流量比を，実質的に，１≦（Ｎ２の流量／ＣＦ４の流量）≦４としたので，エッチングストップを防止し，エッチング形状を改善することが可能である。
【００２８】
（第２の実施の形態）
上記第１の実施の形態にかかるエッチング方法は，処理ガスとしてＣＦ４とＮ２とＡｒの混合ガスを処理ガスとして用いるものであった。本実施の形態では，処理ガスとしてＣ４Ｆ８とＮ２とＡｒの混合ガスを処理ガスとして用いるものである。以下では，上記第１の実施の形態との相違点を明確にしつつ詳細に説明する。
【００２９】
本実施の形態のエッチング方法が適用されるエッチング装置は，上記エッチング装置１００と実質的に同様であるが，第１分岐管１２６には，開閉バルブ１３２と流量調整バルブ１３４を介して，Ｃ４Ｆ８を供給するガス供給源１３６が接続されている点が異なる。かかる構成により，本実施の形態では，Ｃ４Ｆ８とＮ２とＡｒの混合ガスが処理ガスとして用いられる。
【００３０】
次に，本実施の形態にかかるエッチング方法によりエッチング処理を施すウェハＷの構成について説明する。
【００３１】
本実施の形態で使用するウェハＷは，Ｓｉ（シリコン）基板上に，所定の深さでエッチングを停止させるエッチストッパとしての役割と，Ｓｉ基板上に形成された配線を保護する保護膜として役割を有するＳｉＮ膜が形成されている。この点で第１の実施の形態と異なる。そしてこのＳｉＮ膜の上層に有機ポリシロキサン膜が形成されている。すなわち，本実施の形態におけるエッチング対象膜は，上層の有機ポリシロキサン及び下層のＳｉＮ膜からなる。
【００３２】
また，エッチング対象膜上には，所定のパターンを有するエッチングマスクが形成されている。このエッチングマスクには，例えば，フォトレジスト膜層から成るマスクを採用することができる。この点は第１の実施の形態と同様である。
【００３３】
次に，本実施の形態にかかるエッチング方法によりウェハＷにコンタクトホールを形成するエッチング工程について説明する。
【００３４】
まず，予め所定温度に調整された下部電極１０６上にウェハＷを載置し，該ウェハＷの温度を処理に応じて−２０℃〜５０℃程度に維持する。例えば，コンタクトホールの底部を−２０℃程度，開口部を３０℃程度，側壁部を５０℃程度に維持する。また，処理室１０４内の圧力雰囲気を処理に応じた所定の圧力，例えば２０ｍＴｏｒｒ（２．６７Ｐａ）程度になるように，処理室１０４内を真空引きする。この点は上記第１の実施の形態と同様である。
【００３５】
次いで，本実施の形態にかかる処理ガス，すなわちＣ４Ｆ８とＮ２とＡｒとを混合した処理ガスを，ガス供給管１２４に介挿された流量調整バルブ１３４，１４０，１４６により上記各ガスの流量を調整しながら処理室１０４内に導入する。この際，処理ガスの流量比は，１０≦（Ｎ２の流量／Ｃ４Ｆ８の流量）となるようにガス流量を調整する。例えば，Ｎ２を２００ｓｃｃｍ程度，Ｃ４Ｆ８を１２ｓｃｃｍ程度，Ａｒを３００ｓｃｃｍ程度に調整する。
【００３６】
次いで，下部電極１０６に対して，例えば周波数が１３．５６ＭＨｚで，電力が１２００Ｗ程度の高周波電力を印加する。また，上部電極１２２に対して，例えば周波数が６０ＭＨｚ程度で，電力が１５００Ｗ程度の高周波電力を印加する。これにより，処理室１０２内に高密度プラズマが生成され，かかるプラズマによってウェハＷに形成されたエッチング対象膜に所定形状のコンタクトホールが形成される。この点も上記第１の実施の形態と同様である。
【００３７】
本実施の形態のようにエッチング対象膜の下層がＳｉＮ膜である場合には，ＣＦ４とＮ２とＡｒとの混合ガスを用いるよりも，Ｃ４Ｆ８とＮ２とＡｒとの混合ガスを用いた場合の方が選択比が向上する。
【００３８】
また，（Ｎ２の流量／Ｃ４Ｆ８の流量）が１０未満であると，エッチングストップを起こし，深くエッチングできないが，本実施の形態のように，処理ガスのＣ４Ｆ８とＮ２の流量比を，実質的に，１０≦（Ｎ２の流量／Ｃ４Ｆ８の流量）としたので，エッチングストップを防止することが可能である。
【００３９】
【実施例】
次に，図２〜図３を参照しながら本発明にかかるエッチング方法の実施例について説明する。なお，本実施例は，上記実施の形態で説明したエッチング装置１００を用いて，ウェハＷのエッチング対象膜にコンタクトホールを形成したものであるので，上記エッチング装置１００及びウェハＷと略同一の機能及び構成を有する構成要素については，同一の符号を付することにより重複説明を省略する。また，エッチングプロセス条件についても，上述した実施の形態と略同一に設定されている。なお，エッチング対象膜の有機ポリシロキサンは，以下の構造を有するものを用いる。
【００４０】
【化２】
【００４１】
（Ａ）実施例１（ＣＦ４とＮ２の流量比の変化）
本実施例では，ＣＦ４とＮ２とＡｒとの混合ガスにより処理ガスを構成し，ＣＦ４とＮ２の流量比を変化させた場合について説明する。
実施例１（ａ）〜実施例１（ｃ）は，ＣＦ４とＮ２とＡｒの流量を，（ａ）５０：２００：３００，（ｂ）５０：１００：３００，（ｃ）５０：５０：３００，に調整してエッチング処理を行い，上述したウェハＷの層間絶縁膜にコンタクトホールを形成した。本実施例の結果は，図２に示した通りである。なお，図２（Ａ）は実施例１（ａ）のウェハＷのセンター部，図２（Ｂ）は実施例１（ａ）のウェハＷのエッジ部，図２（Ｃ）は実施例１（ｂ）のウェハＷのセンター部，図２（Ｄ）は実施例１（ｂ）のウェハＷのエッジ部，図２（Ｅ）は実施例１（ｃ）のウェハＷのセンター部，図１（Ｆ）は実施例１（ｃ）のウェハＷのエッジ部を示している。
【００４２】
図２に示したように，（ａ）ＣＦ４：Ｎ２＝５０：２００では，ボーイングＸが生じており，形状が好ましくない。（ｂ）ＣＦ４：Ｎ２＝５０：１００では，選択比も大きく，形状も良好である。（ｃ）ＣＦ４：Ｎ２＝５０：５０では，選択比も（ｂ）の場合に比べて小さく，さらにエッチストップが起きている。
【００４３】
従って，本実施例における流量比の例では，（ｂ）ＣＦ４：Ｎ２＝５０：１００＝１：２が好ましく，（ａ）〜（ｃ）の結果の比較から，実質的に，１≦（Ｎ２の流量／ＣＦ４の流量）≦４であれば，レジスト選択比が大きく，形状も良好であると判断される。
【００４４】
（Ｂ）実施例２（Ｃ ４ Ｆ ８ とＮ２の流量比の変化）
本実施例では，Ｃ４Ｆ８とＮ２とＡｒとの混合ガスにより処理ガスを構成し，Ｃ４Ｆ８とＮ２の流量比を変化させた場合について説明する。
実施例２（ａ）〜実施例２（ｂ）は，Ｃ４Ｆ８とＮ２と
Ａｒの流量を，（ａ）１２：２００：３００，（ｂ）１２：１００：３００，に調整してエッチング処理を行い，上述したウェハＷの層間絶縁膜にコンタクト ホールを形成した。本実施例の結果は，図３に示した通りである。なお，図３（Ａ）は実施例２（ａ）のウェハＷのセンター部，図３（Ｂ）は実施例２（ａ）の
ウェハＷのエッジ部，図３（Ｃ）は実施例２（ｂ）のウェハＷのセンター部，図３（Ｄ）は実施例２（ｂ）のウェハＷのエッジ部を示している。
【００４５】
図３に示したように，（ａ）Ｃ４Ｆ８：Ｎ２＝１２：２００では，選択比が大きく，形状も良好であるのに対し，（ｂ）Ｃ４Ｆ８：Ｎ２＝１２：１００では，選択比も（ａ）の場合に比べて小さく，さらにエッチストップが起きている。
【００４６】
従って，本実施例における流量比の例では，（ａ）Ｃ４Ｆ８：Ｎ２＝１２：２００が好ましく，（ａ）と（ｂ）の結果の比較から，実質的に，１０≦（Ｎ２の流量／Ｃ４Ｆ８の流量）であれば，選択比が大きく，形状も良好になると判断される。
【００４７】
以上，添付図面を参照しながら本発明にかかるエッチング方法の好適な実施形態について説明したが，本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば，特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり，それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【００４８】
例えば，上記実施の形態及び実施例において，Ｎ２とＣ４Ｆ８とＡｒとを混合した処理ガス，あるいは，Ｎ２とＣＦ４とＡｒとを混合した処理ガスを採用した構成を例に挙げて説明したが，本発明はかかる構成に限定されるものではない。例えば，Ａｒを処理ガスに採用しない場合や，Ａｒの代わりに他の不活性ガスを添付した場合であっても，本発明を実施することができる。すなわち，少なくともＮ２とＣ４Ｆ８が含まれた処理ガス，あるいは，少なくともＮ２とＣＦ４が含まれた処理ガスを用いれば，本発明を実施することが可能である。
【００４９】
また，上記実施の形態および実施例において，平行平板型エッチング装置を例に挙げて説明したが，本発明はかかる構成に限定されるものではない。処理室内に磁界を形成するエッチング装置や，静電シールドを設けた誘導結合型のエッチング装置，あるいは，マイクロ波型エッチング装置などの各種プラズマエッチング装置等にも，本発明を適用することができる。
【００５０】
さらに，上記実施の形態及び実施例において，ウェハに形成された層間絶縁膜にコンタクトホールを形成する構成を例に挙げて説明したが，本発明はかかる構成に限定されるものではなく，被処理体に形成された層間絶縁膜にいかなるエッチング処理を施す場合にも適用することができる。
【００５１】
【発明の効果】
以上説明したように，本発明によれば，選択比の向上，及びエッチング形状の改善を図ることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明を適用可能なエッチング装置を示す概略的な断面図である。
【図２】本発明の実施例１を説明するための概略的な説明図である。
【図３】本発明の実施例２を説明するための概略的な説明図である。
【符号の説明】
１００ エッチング装置
１０２ 処理容器
１０４ 処理室
１０６ 下部電極
１０８ 高圧電流電源
１１０ 静電チャック
１１２ フォーカスリング
１１８ 整合器
１１９ 整合器
１２０ 高周波電源
１２１ 高周波電源
１２２ 上部電極
１２２ａ ガス供給孔
１２３ 絶縁体
１２４ ガス供給管
１２６，１２８，１３０，１３１ 分岐管（第１分岐管，第２分岐管，第３分岐管，第４分岐管）
１３２，１３８，１４４，１５２ 開閉バルブ
１３４，１４０，１４６，１５４ 流量調整バルブ
１２６，１４２，１４８，１５６ ガス供給源
１５０ 排気管
Ｗ ウェハ
Ｘ ボーイング
【発明の属する技術分野】
本発明は，エッチング方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
配線構造の微細化が要請されている近年の半導体製造技術においては，Ｓｉ基板上の層間絶縁膜（エッチング対象膜）に，比誘電率が従来のＳｉＯ２よりも非常に小さい有機系低誘電率材料が用いられている。この有機系低誘電率材料には，例えばポリオルガノシロキサン架橋ビスベンゾシクロブテン樹脂（ＢＣＢ）や，DowChemical社製のＳｉＬＫ（商品名）や，ＦＬＡＲＥ（商品名）などがある。
【０００３】
従来，上記有機系低誘電率材料にコンタクトホール等の溝を形成するドライエッチングプロセスにおいては，プラズマ放電等によりフッ素を含む反応活性種を生成させるため，エッチングガスとしてフッ素原子を多く含有するガスとしてＣＦ４が用いられ，さらに，主にガス流量比制御のために用いられるＡｒや，主にぬけ性の向上，すなわち，深さ方向のエッチングを促進するために用いられるＯ２を混合させた処理ガスを用いられていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら，上述のように有機系低誘電率材料からなるエッチング対象膜の処理ガスにＣＦ４とＯ２とＡｒの混合ガスを用いた場合には，対レジスト選択比が低いという第１の問題点があった。なお，対レジスト選択比とは，（エッチング対象膜の平均エッチング速度）／（フォトレジストのエッチング速度）で表される値をいい，以下，単に「選択比」という。選択比が低い処理ガスを用いると，溝の開口部が広がるため好ましくない。さらに，ボーイングによるエッチング形状異常が生ずるという第２の問題点もあった。
【０００５】
本発明は，従来のエッチング方法が有する上記問題点に鑑みてなされたものであり，本発明の目的は，選択比の向上，及びエッチング形状の改善を図ることの可能な，新規かつ改良されたエッチング方法を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため，本発明の第１の観点によれば，気密な処理室内に処理ガスを導入し，処理室内に配置された基板上に形成されたエッチング対象膜に対するエッチング方法において，処理ガスはＣＦ ４ とＮ ２ とＡｒとの混合ガスから構成され、エッチング対象膜は，上層の有機ポリシロキサン膜及びエッチストッパの役割をする下層のＳｉＯ２膜からなり、エッチング対象膜上には、フォトレジスト膜層から成り、所定のパターンを有するエッチングマスクが形成されることを特徴とするエッチング方法が提供される。
【０００７】
ここで，有機ポリシロキサンとは，以下の構造のようにＳｉＯ２の結合構造中にＣ，Ｈを含む官能基を含むものをいう。なお，以下の構造中，符号Ｒは，メチル基，エチル基，プロピル基等のアルキル基やその誘導体，あるいは，フェニル基等のアリル基やその誘導体である。
【０００８】
【化１】
かかるエッチング方法によれば選択比を向上し，さらにエッチング形状を改善することが可能である。例えば，従来のＣＦ４とＯ２とＡｒとの混合ガスを処理ガスとした場合の選択比は２．０程度であるのに対し，上記構成のように，ＣＦ４とＮ２とＡｒとを含んだ混合ガスを処理ガスとして用いた場合の選択比は５．８程度である。
【００１０】
また，処理ガスのＣＦ４とＮ２の流量比は，（Ｎ２の流量／ＣＦ４の流量）が１未満であると，エッチングストップを起こし，深くエッチングできない。また，（Ｎ２の流量／ＣＦ４の流量）が４より大きいと，ボーイングが生じるなど，エッチング形状が良くない。このため，処理ガスのＣＦ４とＮ２の流量比は，１≦（Ｎ２の流量／ＣＦ４の流量）≦４であることが好ましい。
【００１１】
また，上記課題を解決するため，本発明の第２の観点によれば，気密な処理室内に処理ガスを導入し，処理室内に配置された基板上に形成されたエッチング対象膜に対するエッチング方法において，処理ガスは少なくともＣ４Ｆ８とＮ２とを含み，エッチング対象膜は，上層の有機ポリシロキサン膜及び下層のＳｉＮ膜からなることを特徴とするエッチング方法が提供される。
【００１２】
エッチング対象膜の下層がＳｉＮ膜である場合には，ＣＦ４とＮ２との混合ガス，あるいはＣＦ４とＮ２とＡｒとの混合ガスを用いるよりも，上記構成のように，Ｃ４Ｆ８とＮ２との混合ガス，あるいは，Ｃ ４Ｆ８とＮ２とＡｒとの混合ガスを用いた場合の方が選択比が向上する。
【００１３】
また，処理ガスのＣ４Ｆ８とＮ２の流量比は，（Ｎ２の流量／Ｃ４Ｆ８の流量）が１０未満であると，エッチングストップを起こし，深くエッチングできない。このため，処理ガスのＣ４Ｆ８とＮ２の流量比は，１０≦（Ｎ２の流量／Ｃ４Ｆ８の流量）であることが好ましい。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下に添付図面を参照しながら，本発明にかかるエッチング方法の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお，本明細書及び図面において，実質的に同一の機能構成を有する構成要素については，同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００１５】
（第１の実施の形態）
（１）エッチング装置の構成
まず，図１を参照しながら，本実施の形態のエッチング方法が適用されるエッチング装置１００について説明する。
同図に示すエッチング装置１００の保安接地された処理容器１０２内には，処理室１０４が形成されており，この処理室１０４内には，上下動自在なサセプタを構成する下部電極１０６が配置されている。下部電極１０６の上部には，高圧直流電源１０８に接続された静電チャック１１０が設けられており，この静電チャック１１０の上面に被処理体，例えば半導体ウェハ（以下，「ウェハ」と称する。）Ｗが載置される。さらに，下部電極１０６上に載置されたウェハＷの周囲には，絶縁性のフォーカスリング１１２が配置されている。また，下部電極１０６には，整合器１１８を介して高周波電源１２０が接続されている。
【００１６】
また，下部電極１０６の載置面と対向する処理室１０４の天井部には，多数のガス吐出孔１２２ａを備えた上部電極１２２が配置されている。上部電極１２２と処理容器１０２との間には絶縁体１２３が設けられている。また，上部電極１２２には，整合器１１９を介してプラズマ生成高周波電力を出力する高周波電源１２１が接続されている。また，ガス吐出孔１２２ａには，ガス供給管１２４が接続され，さらにそのガス供給管１２４には，図示の例では第１〜第３分岐管１２６，１２８，１３０が接続されている。
【００１７】
第１分岐管１２６には，開閉バルブ１３２と流量調整バルブ１３４を介して，ＣＦ４を供給するガス供給源１３６が接続されている。また，第２分岐管１２８には，開閉バルブ１３８と流量調整バルブ１４０を介して，Ｎ２を供給するガス供給源１４２が接続されている。さらに，第３分岐管１３０には，開閉バルブ１４４と流量調整バルブ１４６を介して，Ａｒを供給するガス供給源１４８が接続されている。なお，処理ガスに添加される不活性ガスは，上記Ａｒに限定されず，処理室１０４内に励起されるプラズマを調整することができるガスであればいかなる不活性ガス，例えばＨｅ，Ｋｒなどでも採用することができる。
【００１８】
また，処理容器１０２の下方には，不図示の真空引き機構と連通する排気管１５０が接続されており，その真空引き機構の作動により，処理室１０４内を所定の減圧雰囲気に維持することができる。
【００１９】
（２）ウェハの構成
次に，本実施の形態にかかるエッチング方法によりエッチング処理を施すウェハＷの構成について説明する。
【００２０】
本実施の形態で使用するウェハＷは，Ｓｉ（シリコン）基板上に，所定の深さでエッチングを停止させるエッチストッパとしての役割と，Ｓｉ基板上に形成された配線を保護する保護膜として役割を有するＳｉＯ２膜が形成されている。そしてこのＳｉＯ２膜の上層に有機ポリシロキサン膜が形成されている。すなわち，本実施の形態におけるエッチング対象膜は，上層の有機ポリシロキサン及び下層のＳｉＯ２膜からなる。
【００２１】
また，エッチング対象膜上には，所定のパターンを有するエッチングマスクが形成されている。このエッチングマスクには，例えば，フォトレジスト膜層から成るマスクを採用することができる。
【００２２】
次に，上述したエッチング装置１００を用いて，本実施の形態にかかるエッチング方法によりウェハＷにコンタクトホールを形成する場合のエッチング工程について説明する。
【００２３】
まず，予め所定温度に調整された下部電極１０６上にウェハＷを載置し，該ウェハＷの温度を処理に応じて−２０℃〜５０℃程度に維持する。例えば，コンタクトホールの底部を−２０℃程度，開口部を３０℃程度，側壁部を５０℃程度に維持する。また，処理室１０４内の圧力雰囲気を処理に応じた所定の圧力，例えば２０ｍＴｏｒｒ（２．６７Ｐａ）程度になるように，処理室１０４内を真空引きする。
【００２４】
次いで，本実施の形態にかかる処理ガス，すなわちＣＦ４とＮ２とＡｒとを混合した処理ガスを，ガス供給管１２４に介挿された流量調整バルブ１３４，１４０，１４６により上記各ガスの流量を調整しながら処理室１０４内に導入する。この際，処理ガスの流量比は，１≦（Ｎ２の流量／ＣＦ４の流量）≦４となるようにガス流量を調整する。例えば，Ｎ２を１００ｓｃｃｍ程度，ＣＦ４を５０ｓｃｃｍ程度，Ａｒを３００ｓｃｃｍ程度に調整する。
【００２５】
次いで，下部電極１０６に対して，例えば周波数が２ＭＨｚで，電力が１２００Ｗ程度の高周波電力を印加する。また，上部電極１２２に対して，例えば周波数が６０ＭＨｚ程度で，電力が１５００Ｗ程度の高周波電力を印加する。これにより，処理室１０２内に高密度プラズマが生成され，かかるプラズマによってウェハＷに形成されたエッチング対象膜に所定形状のコンタクトホールが形成される。
【００２６】
以上のように構成された本実施の形態によれば，選択比を向上させ，さらにエッチング形状を改善することが可能である。例えば，従来のＣＦ４とＯ２とＡｒとの混合ガスを処理ガスとした場合の選択比は２．０程度であるのに対し，上記構成のように，ＣＦ４とＮ２とＡｒとを含んだ混合ガスを処理ガスとして用いた場合の選択比は５．８程度である。
【００２７】
また，（Ｎ２の流量／ＣＦ４の流量）が１未満であると，エッチングストップを起こし，深くエッチングできず，また，（Ｎ２の流量／ＣＦ４の流量）が４より大きいと，ボーイングが生じるなど，エッチング形状が良くないが，本実施の形態のよれば，処理ガスのＣＦ４とＮ２の流量比を，実質的に，１≦（Ｎ２の流量／ＣＦ４の流量）≦４としたので，エッチングストップを防止し，エッチング形状を改善することが可能である。
【００２８】
（第２の実施の形態）
上記第１の実施の形態にかかるエッチング方法は，処理ガスとしてＣＦ４とＮ２とＡｒの混合ガスを処理ガスとして用いるものであった。本実施の形態では，処理ガスとしてＣ４Ｆ８とＮ２とＡｒの混合ガスを処理ガスとして用いるものである。以下では，上記第１の実施の形態との相違点を明確にしつつ詳細に説明する。
【００２９】
本実施の形態のエッチング方法が適用されるエッチング装置は，上記エッチング装置１００と実質的に同様であるが，第１分岐管１２６には，開閉バルブ１３２と流量調整バルブ１３４を介して，Ｃ４Ｆ８を供給するガス供給源１３６が接続されている点が異なる。かかる構成により，本実施の形態では，Ｃ４Ｆ８とＮ２とＡｒの混合ガスが処理ガスとして用いられる。
【００３０】
次に，本実施の形態にかかるエッチング方法によりエッチング処理を施すウェハＷの構成について説明する。
【００３１】
本実施の形態で使用するウェハＷは，Ｓｉ（シリコン）基板上に，所定の深さでエッチングを停止させるエッチストッパとしての役割と，Ｓｉ基板上に形成された配線を保護する保護膜として役割を有するＳｉＮ膜が形成されている。この点で第１の実施の形態と異なる。そしてこのＳｉＮ膜の上層に有機ポリシロキサン膜が形成されている。すなわち，本実施の形態におけるエッチング対象膜は，上層の有機ポリシロキサン及び下層のＳｉＮ膜からなる。
【００３２】
また，エッチング対象膜上には，所定のパターンを有するエッチングマスクが形成されている。このエッチングマスクには，例えば，フォトレジスト膜層から成るマスクを採用することができる。この点は第１の実施の形態と同様である。
【００３３】
次に，本実施の形態にかかるエッチング方法によりウェハＷにコンタクトホールを形成するエッチング工程について説明する。
【００３４】
まず，予め所定温度に調整された下部電極１０６上にウェハＷを載置し，該ウェハＷの温度を処理に応じて−２０℃〜５０℃程度に維持する。例えば，コンタクトホールの底部を−２０℃程度，開口部を３０℃程度，側壁部を５０℃程度に維持する。また，処理室１０４内の圧力雰囲気を処理に応じた所定の圧力，例えば２０ｍＴｏｒｒ（２．６７Ｐａ）程度になるように，処理室１０４内を真空引きする。この点は上記第１の実施の形態と同様である。
【００３５】
次いで，本実施の形態にかかる処理ガス，すなわちＣ４Ｆ８とＮ２とＡｒとを混合した処理ガスを，ガス供給管１２４に介挿された流量調整バルブ１３４，１４０，１４６により上記各ガスの流量を調整しながら処理室１０４内に導入する。この際，処理ガスの流量比は，１０≦（Ｎ２の流量／Ｃ４Ｆ８の流量）となるようにガス流量を調整する。例えば，Ｎ２を２００ｓｃｃｍ程度，Ｃ４Ｆ８を１２ｓｃｃｍ程度，Ａｒを３００ｓｃｃｍ程度に調整する。
【００３６】
次いで，下部電極１０６に対して，例えば周波数が１３．５６ＭＨｚで，電力が１２００Ｗ程度の高周波電力を印加する。また，上部電極１２２に対して，例えば周波数が６０ＭＨｚ程度で，電力が１５００Ｗ程度の高周波電力を印加する。これにより，処理室１０２内に高密度プラズマが生成され，かかるプラズマによってウェハＷに形成されたエッチング対象膜に所定形状のコンタクトホールが形成される。この点も上記第１の実施の形態と同様である。
【００３７】
本実施の形態のようにエッチング対象膜の下層がＳｉＮ膜である場合には，ＣＦ４とＮ２とＡｒとの混合ガスを用いるよりも，Ｃ４Ｆ８とＮ２とＡｒとの混合ガスを用いた場合の方が選択比が向上する。
【００３８】
また，（Ｎ２の流量／Ｃ４Ｆ８の流量）が１０未満であると，エッチングストップを起こし，深くエッチングできないが，本実施の形態のように，処理ガスのＣ４Ｆ８とＮ２の流量比を，実質的に，１０≦（Ｎ２の流量／Ｃ４Ｆ８の流量）としたので，エッチングストップを防止することが可能である。
【００３９】
【実施例】
次に，図２〜図３を参照しながら本発明にかかるエッチング方法の実施例について説明する。なお，本実施例は，上記実施の形態で説明したエッチング装置１００を用いて，ウェハＷのエッチング対象膜にコンタクトホールを形成したものであるので，上記エッチング装置１００及びウェハＷと略同一の機能及び構成を有する構成要素については，同一の符号を付することにより重複説明を省略する。また，エッチングプロセス条件についても，上述した実施の形態と略同一に設定されている。なお，エッチング対象膜の有機ポリシロキサンは，以下の構造を有するものを用いる。
【００４０】
【化２】
（Ａ）実施例１（ＣＦ４とＮ２の流量比の変化）
本実施例では，ＣＦ４とＮ２とＡｒとの混合ガスにより処理ガスを構成し，ＣＦ４とＮ２の流量比を変化させた場合について説明する。
実施例１（ａ）〜実施例１（ｃ）は，ＣＦ４とＮ２とＡｒの流量を，（ａ）５０：２００：３００，（ｂ）５０：１００：３００，（ｃ）５０：５０：３００，に調整してエッチング処理を行い，上述したウェハＷの層間絶縁膜にコンタクトホールを形成した。本実施例の結果は，図２に示した通りである。なお，図２（Ａ）は実施例１（ａ）のウェハＷのセンター部，図２（Ｂ）は実施例１（ａ）のウェハＷのエッジ部，図２（Ｃ）は実施例１（ｂ）のウェハＷのセンター部，図２（Ｄ）は実施例１（ｂ）のウェハＷのエッジ部，図２（Ｅ）は実施例１（ｃ）のウェハＷのセンター部，図１（Ｆ）は実施例１（ｃ）のウェハＷのエッジ部を示している。
【００４２】
図２に示したように，（ａ）ＣＦ４：Ｎ２＝５０：２００では，ボーイングＸが生じており，形状が好ましくない。（ｂ）ＣＦ４：Ｎ２＝５０：１００では，選択比も大きく，形状も良好である。（ｃ）ＣＦ４：Ｎ２＝５０：５０では，選択比も（ｂ）の場合に比べて小さく，さらにエッチストップが起きている。
【００４３】
従って，本実施例における流量比の例では，（ｂ）ＣＦ４：Ｎ２＝５０：１００＝１：２が好ましく，（ａ）〜（ｃ）の結果の比較から，実質的に，１≦（Ｎ２の流量／ＣＦ４の流量）≦４であれば，レジスト選択比が大きく，形状も良好であると判断される。
【００４４】
（Ｂ）実施例２（Ｃ ４ Ｆ ８ とＮ２の流量比の変化）
本実施例では，Ｃ４Ｆ８とＮ２とＡｒとの混合ガスにより処理ガスを構成し，Ｃ４Ｆ８とＮ２の流量比を変化させた場合について説明する。
実施例２（ａ）〜実施例２（ｂ）は，Ｃ４Ｆ８とＮ２と
Ａｒの流量を，（ａ）１２：２００：３００，（ｂ）１２：１００：３００，に調整してエッチング処理を行い，上述したウェハＷの層間絶縁膜にコンタクト ホールを形成した。本実施例の結果は，図３に示した通りである。なお，図３（Ａ）は実施例２（ａ）のウェハＷのセンター部，図３（Ｂ）は実施例２（ａ）の
ウェハＷのエッジ部，図３（Ｃ）は実施例２（ｂ）のウェハＷのセンター部，図３（Ｄ）は実施例２（ｂ）のウェハＷのエッジ部を示している。
【００４５】
図３に示したように，（ａ）Ｃ４Ｆ８：Ｎ２＝１２：２００では，選択比が大きく，形状も良好であるのに対し，（ｂ）Ｃ４Ｆ８：Ｎ２＝１２：１００では，選択比も（ａ）の場合に比べて小さく，さらにエッチストップが起きている。
【００４６】
従って，本実施例における流量比の例では，（ａ）Ｃ４Ｆ８：Ｎ２＝１２：２００が好ましく，（ａ）と（ｂ）の結果の比較から，実質的に，１０≦（Ｎ２の流量／Ｃ４Ｆ８の流量）であれば，選択比が大きく，形状も良好になると判断される。
【００４７】
以上，添付図面を参照しながら本発明にかかるエッチング方法の好適な実施形態について説明したが，本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば，特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり，それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【００４８】
例えば，上記実施の形態及び実施例において，Ｎ２とＣ４Ｆ８とＡｒとを混合した処理ガス，あるいは，Ｎ２とＣＦ４とＡｒとを混合した処理ガスを採用した構成を例に挙げて説明したが，本発明はかかる構成に限定されるものではない。例えば，Ａｒを処理ガスに採用しない場合や，Ａｒの代わりに他の不活性ガスを添付した場合であっても，本発明を実施することができる。すなわち，少なくともＮ２とＣ４Ｆ８が含まれた処理ガス，あるいは，少なくともＮ２とＣＦ４が含まれた処理ガスを用いれば，本発明を実施することが可能である。
【００４９】
また，上記実施の形態および実施例において，平行平板型エッチング装置を例に挙げて説明したが，本発明はかかる構成に限定されるものではない。処理室内に磁界を形成するエッチング装置や，静電シールドを設けた誘導結合型のエッチング装置，あるいは，マイクロ波型エッチング装置などの各種プラズマエッチング装置等にも，本発明を適用することができる。
【００５０】
さらに，上記実施の形態及び実施例において，ウェハに形成された層間絶縁膜にコンタクトホールを形成する構成を例に挙げて説明したが，本発明はかかる構成に限定されるものではなく，被処理体に形成された層間絶縁膜にいかなるエッチング処理を施す場合にも適用することができる。
【００５１】
【発明の効果】
以上説明したように，本発明によれば，選択比の向上，及びエッチング形状の改善を図ることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明を適用可能なエッチング装置を示す概略的な断面図である。
【図２】本発明の実施例１を説明するための概略的な説明図である。
【図３】本発明の実施例２を説明するための概略的な説明図である。
【符号の説明】
１００ エッチング装置
１０２ 処理容器
１０４ 処理室
１０６ 下部電極
１０８ 高圧電流電源
１１０ 静電チャック
１１２ フォーカスリング
１１８ 整合器
１１９ 整合器
１２０ 高周波電源
１２１ 高周波電源
１２２ 上部電極
１２２ａ ガス供給孔
１２３ 絶縁体
１２４ ガス供給管
１２６，１２８，１３０，１３１ 分岐管（第１分岐管，第２分岐管，第３分岐管，第４分岐管）
１３２，１３８，１４４，１５２ 開閉バルブ
１３４，１４０，１４６，１５４ 流量調整バルブ
１２６，１４２，１４８，１５６ ガス供給源
１５０ 排気管
Ｗ ウェハ
Ｘ ボーイング
Claims (2)
- 気密な処理室内に処理ガスを導入し，前記処理室内に配置された基板上に形成されたエッチング対象膜に対するプラズマエッチング方法において，
前記処理ガスはＣＦ４とＮ２とＡｒとの混合ガスから構成され、
前記エッチング対象膜は，上層の有機ポリシロキサン膜及びエッチストッパの役割をする下層のＳｉＯ２膜からなり、
前記エッチング対象膜上には、フォトレジスト膜層から成り、所定のパターンを有するエッチングマスクが形成されることを特徴とする，プラズマエッチング方法。 - 前記処理ガスの前記ＣＦ４と前記Ｎ２の流量比は，１≦（Ｎ２の流量／ＣＦ４の流量）≦４であることを特徴とする，請求項１に記載のプラズマエッチング方法。
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