[go: up one dir, main page]

JP4206676B2 - オゾン混合装置及びオゾン混合方法 - Google Patents

オゾン混合装置及びオゾン混合方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4206676B2
JP4206676B2 JP2002062470A JP2002062470A JP4206676B2 JP 4206676 B2 JP4206676 B2 JP 4206676B2 JP 2002062470 A JP2002062470 A JP 2002062470A JP 2002062470 A JP2002062470 A JP 2002062470A JP 4206676 B2 JP4206676 B2 JP 4206676B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ozone
ozone gas
supply pipe
water
gas supply
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2002062470A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2003260342A (ja
Inventor
淳二 水谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sasakura Engineering Co Ltd
Original Assignee
Sasakura Engineering Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sasakura Engineering Co Ltd filed Critical Sasakura Engineering Co Ltd
Priority to JP2002062470A priority Critical patent/JP4206676B2/ja
Priority to TW092104844A priority patent/TW589226B/zh
Priority to PCT/JP2003/002616 priority patent/WO2003074162A1/ja
Priority to KR10-2004-7013716A priority patent/KR20040096648A/ko
Publication of JP2003260342A publication Critical patent/JP2003260342A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4206676B2 publication Critical patent/JP4206676B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F23/00—Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
    • B01F23/20—Mixing gases with liquids
    • B01F23/23—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids
    • B01F23/232—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids using flow-mixing means for introducing the gases, e.g. baffles
    • B01F23/2326—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids using flow-mixing means for introducing the gases, e.g. baffles adding the flowing main component by suction means, e.g. using an ejector
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F23/00—Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
    • B01F23/20—Mixing gases with liquids
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F23/00—Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
    • B01F23/20—Mixing gases with liquids
    • B01F23/23—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids
    • B01F23/232—Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids using flow-mixing means for introducing the gases, e.g. baffles
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F21/00—Dissolving
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F25/00—Flow mixers; Mixers for falling materials, e.g. solid particles
    • B01F25/30—Injector mixers
    • B01F25/31—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows
    • B01F25/312—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows with Venturi elements; Details thereof
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F25/00—Flow mixers; Mixers for falling materials, e.g. solid particles
    • B01F25/30—Injector mixers
    • B01F25/31—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows
    • B01F25/312—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows with Venturi elements; Details thereof
    • B01F25/3124—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows with Venturi elements; Details thereof characterised by the place of introduction of the main flow
    • B01F25/31241—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows with Venturi elements; Details thereof characterised by the place of introduction of the main flow the main flow being injected in the circumferential area of the venturi, creating an aspiration in the central part of the conduit
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F25/00—Flow mixers; Mixers for falling materials, e.g. solid particles
    • B01F25/30—Injector mixers
    • B01F25/31—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows
    • B01F25/312—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows with Venturi elements; Details thereof
    • B01F25/3125—Injector mixers in conduits or tubes through which the main component flows with Venturi elements; Details thereof characteristics of the Venturi parts
    • B01F25/31252—Nozzles
    • B01F25/312521—Adjustable Venturi nozzle
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F2215/00—Auxiliary or complementary information in relation with mixing
    • B01F2215/04—Technical information in relation with mixing
    • B01F2215/0413—Numerical information
    • B01F2215/0436—Operational information
    • B01F2215/0468—Numerical pressure values
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2103/00—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
    • C02F2103/02—Non-contaminated water, e.g. for industrial water supply
    • C02F2103/04—Non-contaminated water, e.g. for industrial water supply for obtaining ultra-pure water
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
    • C02F2201/78—Details relating to ozone treatment devices
    • C02F2201/784—Diffusers or nozzles for ozonation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、オゾンガスを超純水に混合、溶解させて半導体洗浄等に用いられるオゾン水を製造するためのオゾン混合装置及びオゾン混合方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、この種の気液混合装置としてエゼクタが知られている。エゼクタは、一般に、図２に示すように、ノズル１０、吸引室１１、及びディフューザ１２から構成され、高圧の液体をノズル１０から吸引室１１に噴射させて、吸引室１１の圧力を減圧することにより、吸引室１１に設けられた気体吸入口１１ａから気体を吸引室１１に吸引し、ディフューザ１２から液体と気体とを混合した状態で吐出する。
【０００３】
近年、半導体製造分野では、半導体部品の洗浄に、オゾンガスを超純水に混合・溶解させたオゾン水を使用しているが、洗浄等のオゾン処理効果を向上させたり、又、処理時間を短縮させたりするためにオゾン水のオゾン濃度を例えば２０ｐｐｍ以上の高濃度にしている。
【０００４】
エゼクタを用いて上記のような高濃度のオゾン水を製造するためには、オゾンガスの接触比率を高めるために、超純水の流量に対するオゾンガスの流量の比率（（オゾンガス流量／超純水流量）。以下、「液・ガス比」と言う。）を大きくするとともに、吸引室に吸引するオゾンガス量を増加させるために、オゾンガスの圧力を０．３ＭＰａ程度に高めていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来のエゼクタでは、液体流量に対するガス流量の比率を大きくするとディフューザでの圧力損失が大きくなり、その圧力損失を補うために加圧ポンプを増設する等していた。加圧ポンプを増設すると、半導体等の精密電子部品を洗浄する場合に、ポンプから超純水内にパーティクル（汚染物）が混入する可能性や、超純水を金属で汚染する可能性が増加するという問題があった。
【０００６】
また、オゾンガスの圧力を高めるには、オゾンガス発生装置の耐圧構造が要求される上、オゾンを電解法によって発生させる場合は、電解膜にピンホールが発生して多量のオゾンガスが水素室に侵入する畏れがあるという問題もあった。
【０００７】
そこで、本発明は、圧力損失を小さくし、液・ガス比を大きくし、さらにガス圧を小さくしても所定濃度のオゾンガスを水に溶解させ得るオゾン混合装置及びオゾン混合方法を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明の前記目的は、加圧水の流入口を有するチャンバーと、該チャンバーと連通するディフューザ部と、前記チャンバー内に挿入されて前記ディフューザ部の入口部に向けて開口するオゾンガス供給管とを有し、該オゾンガス供給管の先端部が前記ディフューザ部の入口部へ通じる流路を絞る絞り部材を形成し、前記オゾンガス供給管の先端部が円錐状の外形を有し、前記チャンバーが前記先端部に適合する円錐台状の先細流路部を有し、該先細流路部の先端が前記ディフューザ部の入口部と連通していることを特徴とするオゾン混合装置により達成される。
【０００９】
前記オゾンガス供給管は、前記絞り部材による絞り量を調節できるように、その先端部と前記ディフューザ部の入口部との距離を調節可能に設けられていることが好ましい。
【００１０】
前記先細流路部は、前記オゾンガス供給管の前記先端部と同等のテーパーを有することが好ましい。
【００１１】
前記流入口に、ゲージ圧力が約０．１〜約０．３ＭＰａの水を流入させるとともに、前記オゾンガス供給管に、ゲージ圧力が約０．０５〜約０．２ＭＰａのオゾンガスを供給することが好ましい。
【００１２】
【発明の実施の形態】
本発明に係るオゾン混合装置の好ましい実施形態について以下に図１に示した断面図を参照して説明する。
【００１３】
オゾン混合装置１は、加圧された超純水の流入口２を有するチャンバー３と、チャンバー３と連通するディフューザ部４と、チャンバー３内に挿入されディフューザ部４の入口部４ａに向けて開口するオゾンガス供給管５とを有している。
【００１４】
オゾンガス供給管５は、従来のエゼクタにあるノズルのように流体を高速で噴出させる目的のものではなく、単にオゾンガスを一定の流量で供給するものである。従って、オゾンガス供給管５の流路は、図示の例では段々に絞られたノズルを形成しているが、絞りの無い同一流路断面の通孔としても良い。
【００１５】
オゾンガス供給管５の後端部は、図外のオゾン発生装置とチューブ（図示せず）によって接続され、図の矢印Ｘ方向にオゾンガスが送られる。オゾンガスは、オゾン発生装置から、例えば、約０．０５〜約０．２ＭＰａ（ゲージ圧力）に加圧されて約０．４〜約４０ＬN／分（ＬNは、標準状態のリットル）で送られる。
【００１６】
オゾンガス供給管５の先端部５ａは、図示の例では、円錐状の外形を有しており、頂部がディフューザ部４の入口部４ａに向けて開口している。チャンバー３は、先端部５ａと同等のテーパーを有する円錐台状の先細流路部３ａを有し、先細流路部３ａがディフューザ部４の入口部４ａに連通している。
【００１７】
オゾンガス供給管５の先端部５ａは、先細流路部３ａに挿入されて、ディフューザ部４の入口部４ａへ通じる先細流路部３ａを絞る絞り部材を形成している。チャンバー３に流入した加圧水（超純水）は、その絞られた流路、即ち微少隙間Ｘを通る際に、流速を増すとともに減圧され、ディフューザ部４に噴出されてディフューザ部において減速され加圧される。流入口２に送られる超純水は、送水ポンプ（不図示）によって約０．１〜約０．３ＭＰａ（ゲージ圧力）で約１〜約１００Ｌ／分とすることが好ましい。
【００１８】
図示の例では、オゾンガス供給管５の先端部５ａと先細流路部３ａとの間に形成される微少隙間Ｘは、徐々に流路断面積を縮小させており、実質的にノズルを構成している。微少隙間Ｘは、そこを通る超純水を増速させるために、図示例のように徐々に流路断面積を縮小するものが好ましい。
【００１９】
オゾンガス供給管５は、先端部５ａによる絞り量、即ち微少隙間Ｘの大きさを調節できるように、先端部５ａとディフューザ部４の入口部４ａとの距離を調節可能に設けられている。
【００２０】
図示の例では、オゾンガス供給管５の外周部に螺子部５ｂが形成されており、この螺子部５ｂがオゾンガス供給管５の一部を支持している支持体６と螺子結合している。従って、オゾンガス供給管５を軸回りに回せば、螺子部５ｂのピッチに対応して、先端部５ａが軸線方向へ移動し、微少隙間Ｘの大きさを調節することができる。なお、図中、符号７はＯリングを示す。
【００２１】
上記のような構成を有するオゾン混合装置１では、図外のポンプ等で加圧された超純水が所定の流量で流入口２からチャンバー３内に入り、微少隙間Ｘを通過してディフューザ部４へ噴射される。一方、オゾンガス供給管５からは、オゾンガスが所定の流量でディフューザ部４の入口部４ａに向けて排出される。
【００２２】
微少隙間Ｘを通過した超純水は、微少隙間のノズル作用によって圧力が減少する。従って、微少隙間Ｘを調節して、オゾンガス供給管５の出口付近における超純水の圧力をオゾンガス供給管５内のオゾンガス圧力と同等以下の圧力まで低下させれば、オゾンガス供給管５からのオゾンガスが排出しやすくなり、混合しやすくなると考えられる。
【００２３】
こうしてディフューザ部４に噴出される超純水にオゾンガスが霧吹き状に巻き込まれ、混合される。オゾンガスの霧吹き状態は、微少隙間Ｘの調節によって最適化され得る。即ち、超純水の流量や圧力、オゾンガスの流量等に応じて、ディフューザ部４での霧吹き状の微泡が多くなるようにして、微少隙間Ｘの大きさを調節し、オゾンガスの混合を促進させる。なお、チャンバー３は、超純水の流路を構成しているが、従来のエゼクタのような吸引室としての働きはしない。
【００２４】
【実施例】
実施例１
図１に示したオゾン混合装置を用いて、以下の条件でオゾン水を製造した。
【００２５】
ディフューザ部のど部の口径：２．２ｍｍφ
オゾンガス供給管の口径： １．５ｍｍ
オゾンガス濃度： ２１０ｇ／ｍ3 N（ｍ3 Nは、標準立方メートル）
オゾンガス流量： ０．８ＬN／分
オゾンガスの圧力： ０．０６ＭＰａ
超純水の流量： ３Ｌ／分
超純水の圧力： ０．２ＭＰａ
オゾン水のオゾン濃度： ２５ｐｐｍ
オゾン水の圧力： ０．１ＭＰａ
圧力損失： ０．１ＭＰａ
（圧力損失＝［超純水の圧力］−［オゾン水の圧力］）
実施例２
図１に示したオゾン混合装置を用いて、以下の条件でオゾン水を製造した。実施例２は、実施例１よりもオゾンガス流量を増加させた例である。
【００２６】
ディフューザ部のど部の口径：２．２ｍｍφ
オゾンガス供給管の口径： １．５ｍｍ
オゾンガスのオゾン濃度： ２１０ｇ／ｍ3 N
オゾンガス流量： １．８ＬN／分
オゾンガスの圧力： ０．０８ＭＰａ
超純水の流量： ３Ｌ／分
超純水の圧力： ０．２５ＭＰａ
オゾン水のオゾン濃度： ３３ｐｐｍ
オゾン水の圧力： ０．１ＭＰａ
圧力損失： ０．１５ＭＰａ
比較例１
図２に示した従来のエゼクタを用いて、以下の条件でオゾンガスを超純水に混合させた。エゼクタのディフューザ、ノズル、及び吸引室は、図１のオゾン混合装置の対応部分と同等寸法のものを用いた。
【００２７】
ディフューザ部のど部の口径： ２．２ｍｍφ
水噴射ノズルの口径： １．５ｍｍ
オゾンガスのオゾン濃度： ２１０ｇ／ｍ3 N
オゾンガス流量： １．７ＬN／分
オゾンガス圧力： ０．０６ＭＰａ
超純水の流量： ３Ｌ／分
超純水の圧力： ０．５ＭＰａ
オゾン水のオゾン濃度： ３２ｐｐｍ
オゾン水の圧力： ０．１ＭＰａ
圧力損失： ０．４ＭＰａ
比較例２
比較例１と同じ従来のエゼクタを用いて、以下の条件でオゾン水を製造した。
【００２８】
ディフューザ部のど部の口径：２．２ｍｍφ
水噴射ノズルの口径： １．５ｍｍ
オゾンガスのオゾン濃度： ２１０ｇ／ｍ3 N
オゾンガス流量： ０．２ＬN／分
オゾンガス圧力： ０．０６ＭＰａ
超純水の流量： １．５Ｌ／分
超純水の圧力： ０．２５ＭＰａ
オゾン水のオゾン濃度： １６ｐｐｍ
オゾン水の圧力： ０．１ＭＰａ
圧力損失： ０．１５ＭＰａ
比較例２は、比較例１に比べて超純水の圧力を小さくした例（加圧ポンプ増設分を外した）である。
【００２９】
超純水流量は、比較例１では３Ｌ／分であったが、比較例２では１．５Ｌ／分に減るとともに、オゾンガスの吸引室への吸い込み流量は、比較例１では１．７ＬN／分であったものが比較例２では０．２ＬN／分に低下させた。この時、０．０６ＭＰａのオゾンガス圧力を超えないようにオゾン発生量を低減させた。
【００３０】
上記の実施例１と実施例２とを参照すれば、オゾン水は、何れも２０ｐｐｍ以上のオゾン濃度を確保しており、圧力損失は、０．２ＭＰａ以下であることが判る。
【００３１】
また、実施例１，２では、オゾンガスの圧力も、０．０６ＭＰａ、０．０８ＭＰａであり、この程度の圧力は、オゾンガス発生装置に支障を及ぼさない程度であり、また、オゾンガス発生装置に特別な耐圧構造を必要としない程度である。
【００３２】
さらに、実施例１，２でオゾンガスの流量を０．８ＬN／分から１．８ＬN／分に増加させても、実施例２での圧力損失は、０．１５ＭＰａであり、同等のオゾン濃度を得ている比較例１と比較しても十分小さく、圧力損失を補うために加圧ポンプの増設等が不要な範囲である。
【００３３】
それに対して、比較例１を参照すれば、実施例２と同レベルのオゾン濃度のオゾン水を得ようとすれば、加圧ポンプを増設して超純水の圧力を０．５ＭＰａまで上げることが必要で、このとき０．４ＭＰａの圧力損失を生じている。
【００３４】
比較例２では、加圧ポンプの増設を無くして超純水の圧力を実施例と同レベルの圧力とし、圧力損失を小さくしているが、オゾン水のオゾン濃度が１６ｐｐｍであり、半導体洗浄に必要な２０ｐｐｍに達していない。
【００３５】
【発明の効果】
上記実施例から判るように、本発明に係るオゾン混合装置及びオゾン混合方法によれば、従来のエゼクタを用いてオゾン水を製造する場合に比較して、超純水の圧力を低く抑えて加圧設備の増加を無くし、オゾンガスの圧力を抑えてオゾン発生装置への障害を防止し、しかも、超純水の流量に対するオゾンガスの流量の比率を増やして、高濃度のオゾン水を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るオゾン混合装置の一実施形態を示す断面図である。
【図２】従来のエゼクタを示す断面図である。
【符号の説明】
１ オゾン混合装置
２ 流入口
３ チャンバー
４ ディフューザ部
５ オゾンガス供給管

Claims (4)

  1. オゾンガスを水に混合するためのオゾン混合装置であって、
    加圧水の流入口を有するチャンバーと、
    該チャンバーと連通するディフューザ部と、
    前記チャンバー内に挿入されて前記ディフューザ部の入口部に向けて開口するオゾンガス供給管とを有し、
    該オゾンガス供給管の先端部が前記ディフューザ部の入口部へ通じる流路を絞る絞り部材を形成し、
    前記オゾンガス供給管の先端部が円錐状の外形を有し、
    前記チャンバーが前記先端部に適合する円錐台状の先細流路部を有し、
    該先細流路部の先端が前記ディフューザ部の入口部と連通していることを特徴とするオゾン混合装置。
  2. 前記オゾンガス供給管は、前記絞り部材による絞り量を調節できるように、その先端部と前記ディフューザ部の入口部との距離を調節可能に設けられていることを特徴とする請求項１記載のオゾン混合装置。
  3. 前記先細流路部は、前記オゾンガス供給管の前記先端部と同等のテーパーを有する請求項１または２に記載のオゾン混合装置。
  4. 請求項１〜３の何れかに記載のオゾン混合装置を用いてオゾンを水に混合させるオゾン混合方法であって、
    前記流入口に、ゲージ圧力が０．１〜０．３ＭＰａの水を流入させるとともに、
    前記オゾンガス供給管に、ゲージ圧力が０．０５〜０．２ＭＰａのオゾンガスを供給することを特徴とするオゾン混合方法。
JP2002062470A 2002-03-07 2002-03-07 オゾン混合装置及びオゾン混合方法 Expired - Fee Related JP4206676B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002062470A JP4206676B2 (ja) 2002-03-07 2002-03-07 オゾン混合装置及びオゾン混合方法
TW092104844A TW589226B (en) 2002-03-07 2003-03-06 Ozone mixing device and ozone mixing method
PCT/JP2003/002616 WO2003074162A1 (en) 2002-03-07 2003-03-06 Ozone mixing device and ozone mixing method
KR10-2004-7013716A KR20040096648A (ko) 2002-03-07 2003-03-06 오존혼합장치 및 오존혼합방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002062470A JP4206676B2 (ja) 2002-03-07 2002-03-07 オゾン混合装置及びオゾン混合方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003260342A JP2003260342A (ja) 2003-09-16
JP4206676B2 true JP4206676B2 (ja) 2009-01-14

Family

ID=27784893

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002062470A Expired - Fee Related JP4206676B2 (ja) 2002-03-07 2002-03-07 オゾン混合装置及びオゾン混合方法

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP4206676B2 (ja)
KR (1) KR20040096648A (ja)
TW (1) TW589226B (ja)
WO (1) WO2003074162A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8568018B2 (en) 2007-12-20 2013-10-29 Rave N.P., Inc. Fluid injection assembly for nozzles

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004033908A (ja) * 2002-07-03 2004-02-05 Fuji Electric Holdings Co Ltd オゾン散気装置
ES2283158B1 (es) * 2003-11-10 2008-09-16 Universidad De Sevilla Procedimiento y dispositivo para la generacion de espumas y emulsiones mediante pares de tubos enfrentados.
TWM268347U (en) * 2004-09-17 2005-06-21 Biotek Technology Corp Structure for pressure-type gas-liquid mixer
JP5643474B2 (ja) * 2004-10-01 2014-12-17 ヴェロシス，インク． マイクロチャネルプロセス技術を用いる多相混合プロセス
EP1647325A1 (en) * 2004-10-12 2006-04-19 Biotek Technology Corp. Pressurized gas-water mixer
FR2944218B1 (fr) * 2009-04-09 2012-06-15 Total Sa Dipositif ejecteur pour former un melange sous pression de liquide et de gaz, et compresseur de gaz comprenant un tel dispositif ejecteur
KR101127077B1 (ko) * 2009-12-15 2012-03-22 위성수 마이크로 버블 디퓨져
US20140001278A1 (en) * 2011-01-14 2014-01-02 Earthclean Corporation Eductor system
TWI458559B (zh) * 2011-02-09 2014-11-01 China Steel Corp 氣液混合式噴嘴裝置
EP2554273A1 (en) 2011-08-02 2013-02-06 Omya Development AG Atomizing nozzle device and use of the same
CN103990394B (zh) * 2014-04-30 2016-06-15 重庆优楷科技有限公司 一种用于污水处理过程中的离心射流装置
CN105152304A (zh) * 2015-07-24 2015-12-16 长春黄金研究院 一种采用臭氧法处理尾矿浆或废水的反应器
DK3546059T3 (da) 2018-03-28 2023-07-31 Air Liquide Apparat og indretning til indføring af en gas i et hovedmedium, navnlig ved spildevandsbehandling

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS561378Y2 (ja) * 1976-12-03 1981-01-13
JPH0751543Y2 (ja) * 1989-09-19 1995-11-22 タキロン株式会社 パネルの連結構造
JPH0647068B2 (ja) * 1990-02-14 1994-06-22 ▲たく▼夫 望月 異種流体接触混合溶解量調節装置
JP4298824B2 (ja) * 1997-10-28 2009-07-22 Ｉｄｅｃ株式会社 気液溶解混合装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8568018B2 (en) 2007-12-20 2013-10-29 Rave N.P., Inc. Fluid injection assembly for nozzles

Also Published As

Publication number Publication date
JP2003260342A (ja) 2003-09-16
KR20040096648A (ko) 2004-11-16
TW200303784A (en) 2003-09-16
TW589226B (en) 2004-06-01
WO2003074162A1 (en) 2003-09-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4206676B2 (ja) オゾン混合装置及びオゾン混合方法
JP6310359B2 (ja) 微細気泡発生装置とその発生方法
EP1754529A1 (en) Method and device for producing fine air bubble-containing liquid, and fine air bubble producer assembled in the device
JP2008246486A (ja) ナノ流体生成装置および洗浄処理装置
US20210138410A1 (en) Microbubble generation device and microbubble generation method, and shower apparatus and oil-water separation apparatus having said microbubble generation device
JP4360407B2 (ja) 洗浄装置及び洗浄方法
JP2009273966A (ja) 微細気泡発生ノズル及びそれを備えた装置
JP6449531B2 (ja) 微細気泡発生装置
JP2018030094A (ja) 微細気泡発生装置
CN101557869A (zh) 气体溶解装置
TW201605538A (zh) 殺菌液生成裝置
JP2013000626A (ja) 微細気泡発生装置
JP5372585B2 (ja) 気液溶解タンク
JP3197640B2 (ja) 気泡発生装置
KR101863769B1 (ko) 미세기포 발생기
JP2005000882A (ja) マイクロバブル発生装置
TW201141601A (en) Method for making nano-bubble water containing saturated gas
JP4748248B2 (ja) 洗浄装置及び洗浄方法
KR100854687B1 (ko) 미세 기포 발생 장치
JP3414124B2 (ja) オゾン水製造装置
JPH10230150A (ja) エアレータ
JP2001259395A (ja) エアレータ
JP7204211B2 (ja) バッチ式マイクロバブル液生成装置および生成方法
JP2000300975A (ja) 気液混合ノズル
JP7086435B2 (ja) マイクロバブル生成ユニット及び水浄化システム

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050225

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080625

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080821

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080917

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20081007

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111031

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141031

Year of fee payment: 6

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees