JP4180358B2

JP4180358B2 - 液晶表示パネルの製造方法

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Publication number: JP4180358B2
Application number: JP2002345543A
Authority: JP
Inventors: 英昭津田
Original assignee: Sharp Corp
Current assignee: Sharp Corp
Priority date: 2002-11-28
Filing date: 2002-11-28
Publication date: 2008-11-12
Anticipated expiration: 2022-11-28
Also published as: TW200424698A; KR20040047695A; US20040105066A1; JP2004177775A; KR100864770B1

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、一対の基板間に配向制御剤を混合した液晶を封入し、その後配向制御剤を基板の表面に付着させて配向規制層を形成した垂直配向型液晶表示パネルの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示パネルは薄くて軽量であるとともに低電圧で駆動できて消費電力が少ないという長所があり、各種電子機器に広く使用されている。
【０００３】
テレビやパーソナルコンピュータに使用される一般的な液晶表示パネルは、相互に対向して配置された２枚の透明基板の間に液晶を封入した構造を有している。一方の基板には画素毎に画素電極及びＴＦＴ（Thin Film Transistor：薄膜トランジスタ）が形成され、他方の基板には画素電極に対向するカラーフィルタと、各画素共通のコモン電極とが形成されている。更に、各透明基板の対向面と反対側の面には、それぞれ偏光板が貼り付けられている。
【０００４】
このように構成された液晶表示装置において、画素電極とコモン電極との間に電圧を印加すると、画素電極とコモン電極との間の液晶分子の向きが変化し、その結果光の透過率が変化する。画素毎に光の透過率を制御することにより、液晶表示パネルに所望の画像を表示することができる。以下、画素電極及びＴＦＴが形成された基板をＴＦＴ基板と呼び、ＴＦＴ基板に対向して配置される基板を対向基板と呼ぶ。
【０００５】
ＴＦＴ基板と対向基板との間隔（セルギャップ）は、通常、樹脂又はセラミック等からなる球形のビーズ状スペーサにより一定に維持される。このビーズ状スペーサは、ＴＦＴ基板と対向基板とをシール剤で接合する際に、ＴＦＴ基板及び対向基板のいずれか一方の基板上に散布される。
【０００６】
しかしながら、基板上にビーズ状スペーサを散布する方法では、基板全体にわたってスペーサが均一に分布するとは限らない。基板全体にわたってスペーサが均一に分布していない場合は、セルギャップの面内ばらつきが発生し、表示品質の低下の原因となる。また、液晶分子はスペーサの表面に沿って配向する性質があるので、画素領域内にビーズ状スペーサが存在すると、配向異常が発生して表示品質が低下する。
【０００７】
そこで、特開平９−７３０９３号公報（特許文献１）には、フォトレジストを使用して、画素の間（例えば、データバスラインとゲートバスラインとが交差する部分）に柱状のスペーサを形成することが提案されている。また、特開平１１−１６０７１６号公報（特許文献２）には、ビーズ状スペーサの表面に配向処理を施すことが提案されている。
【０００８】
ところで、通常、ＴＦＴ基板の表面及び対向基板の表面には配向処理が施された配向膜が形成されており、この配向膜によって、電界が印加されていないときの液晶分子の配向方向が決められる。配向処理としては、ナイロンの布等を巻き付けたローラにより配向膜の表面を一方向に擦るラビング処理が一般的である。
【０００９】
ラビング処理が不要な液晶表示パネルの製造方法として、ポリマースラビライズアライメント法が知られている。この方法では、一対の基板間にモノマーを混合した液晶を封入する。そして、電極間に電圧を印加して液晶分子を配向させた状態で紫外線を照射してモノマーを高分子化し、液晶内に高分子のネットワークを形成する。この高分子のネットワークにより、液晶分子の初期配向の方向が決定される。
【００１０】
また、特開２０００−３２１５６２号公報（特許文献３）には、シランカップリング剤、光重合性モノマー及び光重合開始剤を負の誘電率異方性液晶に混合し、この液晶を所定の温度で一定の方向から一対の基板間に注入して原料分子を一定の方向に配向させた後、紫外線を照射して光重合モノマーを高分子化し、高分子のネットワークを形成することが記載されている。
【００１１】
【特許文献１】
特開平９−７３０９３号公報
【特許文献２】
特開平１１−１６０７１６号公報
【特許文献３】
特開２０００−３２１５６２号公報
【００１２】
【発明が解決しようとする問題点】
上述したように、従来はＴＦＴ基板及び対向基板の表面に配向膜を形成している。ポリマースタビライズアライメント法や特開２０００−３２１５６２号公報に記載された方法においても、配向処理は不要であるものの配向膜は必要である。
【００１３】
これに対し、本願出願人は、配向膜の形成工程を有しない液晶表示パネルの製造方法を提案している（特願２００２−１６００６２号等）。この方法では、液晶中に高分子のネットワークを形成するのではなく、基板の表面上に配向規制力を有する層（配向規制層）を形成する。例えば、一対の基板間に二官能アクリレートモノマーと光重合開始剤とを混合した液晶を封入すると、アクリレートモノマーが基板の表面（ＩＴＯ膜又は絶縁膜の表面）に付着して成長する。その後、紫外線を照射するとモノマーが高分子化するとともに基板表面に化学結合して、安定な配向規制層が形成される。この配向規制層はモノマーの成長方向、即ち基板面に対し垂直な方向に液晶分子を配向させる規制力を有する。
【００１４】
しかし、上記の方法で製造した液晶表示パネルの上下に偏光板をクロスニコルに配置して観察すると、本来パネル全体が黒くならなければならないのに対し、白く光る折れ線が観察されることがある。以下、このように白く光る折れ線を「白線」と呼ぶ。白線の長さ及び太さは一定ではなく、白線の発生により表示品質が著しく低下する。
【００１５】
以上から、本発明の目的は、配向膜を形成する必要がなく、且つ、白線の発生を抑制し、表示品質が優れた液晶表示パネルの製造方法を提供することである。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
上記した課題は、常温においてネマティック相を示し、誘電率異方性が負である液晶を用意する工程と、前記液晶中に配向制御剤と光重合開始剤とを添加する工程と、少なくとも一方が透明である一対の基板間に前記配向制御剤及び前記光重合開始剤を添加した液晶を封入する工程と、光を照射して前記一対の基板に付着した前記配向制御剤を光反応させ、前記一対の基板の液晶側の面に配向規制層を形成する工程とを有することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法により解決する。
【００２０】
本願発明者等は、液晶に添加した配向制御剤により配向規制層を形成した液晶表示装置の白線による欠陥を防止するために種々実験検討を行った。その結果、例えば誘電率異方性Δεが−３程度の液晶を使用した場合に、白線の発生が著しく低減することが判明した。また、白線はスペーサを起点として発生することが多いことが判明し、スペーサの位置を適切に制御することにより、白線による表示品質の低下が回避できることが判明した。
【００２１】
従って、本願発明では、上述の如く、液晶として、常温においてネマチック相を示し、誘電率異方性が負である液晶を使用する。
【００２２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について更に詳細に説明する。
【００２３】
本願発明者等は、白線が発生した液晶表示パネルを詳細に観察した結果、白線が屈曲している部分には黒い円状の点が存在していることが判明した。以下、この黒い点を「黒点」という。黒点についても、その大きさ及び形状は一定ではない。黒点は、その外周が白く光る線を伴っている。そして、白線は、黒点と黒点とを結ぶように存在している。また、白線を伴わなず、単独で存在する黒点も観察された。
【００２４】
上述した白線及び黒点は、クロスニコルに配置した一対の偏光板で挟んだ液晶表示パネルにおいて観察されるものであるが、偏光を伴わない顕微鏡観察においても欠陥部分を観察することができる。この場合、白線は正常な部分とは異なる線として観察され、黒点は円形の点として観察される。なお、黒点は、偏光板がない状態で観察したほうが容易に観察できる。
【００２５】
液晶表示パネルにしきい値電圧よりも大きな電圧を印加すると、白線及び黒点の周囲の液晶分子も電界に対し垂直な方向に配向して、白線は消失する。しかし、電極間に印加した電圧をオフとすると、白線が消失したままのときもあるが、白線が元に戻ったり、異なる黒点と接続される白線が発生することもある。一方、黒点は、電圧の印加に関係なく形状は変化しない。これらのことから、黒点は液晶に混合した配向制御剤が局所的に固まって析出したもの（以下、「異常析出物」という）であると考えられ、白線は異常析出物に対し液晶分子が配向したために発生するものと考えられる。
【００２６】
従って、異常析出物の有無に拘わらず、電圧がオフのときに液晶分子が基板面に対し垂直方向に配向させることができれば、白線の発生が防止されて表示品質が向上する。
【００２７】
また、白線及び黒点が発生した液晶表示パネルを観察の結果、黒点には基板間の間隔を一定に維持するためのスペーサが存在することが多い、つまり、図１に示すように、異常析出物による黒点２は、主にスペーサ１を核として配向制御剤が析出することにより発生すると考えられる。また、図２に示すように、白線３は、このようにして発生した黒点２の間を接続するように発生する。従って、スペーサを表示品質に関係しない画素間の領域に形成すれば、黒点及び白線が主に画素間の領域に発生するようになり、表示品質の低下が回避される。
【００２８】
（第１の実施の形態）
以下、本発明の第１の実施の形態について、添付の図面を参照して説明する。なお、本実施の形態は、黒点の有無に拘わらず、一対の電極間に印加される電圧がオフのときに液晶分子を基板面に対し垂直に配向させることにより、白線の発生を防止するものである。
【００２９】
（液晶表示パネル）
図３は第１の実施の形態の液晶表示パネルの１画素を示す平面図、図４は図３のＩ−Ｉ線による断面図である。なお、本実施の形態は、本発明を透過型液晶表示パネルに適用した例について説明している。
【００３０】
本実施の形態の液晶表示パネルは、図４に示すように、相互に対向して配置されたＴＦＴ基板１０及び対向基板２０と、これらのＴＦＴ基板１０及び対向基板２０の間に封入された誘電率異方性が負のネマチック液晶３０とにより構成されている。なお、ＴＦＴ基板１０の下及び対向基板２０の上にはそれぞれ偏光板が配置される。また、ＴＦＴ基板１０の下方には、光源（バックライト）が配置される。
【００３１】
ＴＦＴ基板１０は、図３，図４に示すように、ガラス基板１１と、ガラス基板１１上に形成されたゲートバスライン１２、データバスライン１４、ＴＦＴ１５及び画素電極１８等により構成されている。ゲートバスライン１２は水平方向に延在しており、データバスライン１４は垂直方向に延在している。ゲートバスライン１２とデータバスライン１４との間にはゲート絶縁膜１３が形成されており、このゲート絶縁膜１３によりゲートバスライン１２とデータバスライン１４とは電気的に分離されている。これらのゲートバスライン１２及びデータバスライン１４により区画される領域がそれぞれ画素（サブピクセル）領域である。データバスライン１４及びＴＦＴ１５の上には絶縁膜１７が形成されており、この絶縁膜１７の上に画素電極１８が形成されている。画素電極１８及びＴＦＴ１５は、各画素領域に１個づつ形成されている。
【００３２】
本実施の形態では、図３に示すように、ゲートバスライン１２の一部がＴＦＴ１５のゲート電極となっており、チャネル保護膜１６の幅方向の両側にはそれぞれＴＦＴ１５のソース電極１５ｓ及びドレイン電極１５ｄが配置されている。ソース電極１５ｓは絶縁膜１７に形成されたコンタクトホール１７ａを介して画素電極１８に電気的に接続され、ドレイン電極１５ｄはデータバスライン１４に電気的に接続されている。また、画素電極１８の上には配向規制層１９が形成されている。
【００３３】
一方、対向基板２０は、ガラス基板２１と、このガラス基板２１の一方の面側（図４では下側）に形成されたブラックマトリクス２２、絶縁膜２３及びコモン電極２４とにより構成されている。ブラックマトリクス２２は、画素間の領域及びＴＦＴ形成領域を覆うように形成されている。また、絶縁膜２３は、ガラス基板２１の下側に、ブラックマトリクス２２を覆うようにして形成されている。絶縁膜２３の下にはコモン電極２４が形成されており、このコモン電極２４の下には配向規制層２５が形成されている。
【００３４】
また、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０との間には、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０との間隔を一定に維持するためのスペーサ（図示せず）が配置されている。
【００３５】
これらのＴＦＴ基板１０及び対向基板２０は、画素電極１８及びコモン電極２４が形成された面を相互に対向させて配置され、表示領域の外側に塗布されたシール剤（図示せず）により接合されている。
【００３６】
このように構成された液晶表示パネルにおいて、画像を表示する際には駆動回路（図示せず）から垂直方向に並ぶゲートバスライン１２に対し順番に走査信号を供給するとともに、データバスライン１４に表示信号を供給する。走査信号が供給されたゲートバスライン１２に接続しているＴＦＴ１５はオン状態となり、画素電極１８にはＴＦＴ１５を介して表示信号が書き込まれる。これにより、画素電極１８とコモン電極２４との間に表示信号に応じた電界が発生して液晶分子の向きが変化し、その結果、画素を透過する光の光量が変化する。各画素毎に透過光の光量を制御することにより、液晶表示パネルに所望の画像を表示することができる。
【００３７】
なお、電極１８，２４の上にドメイン規制用の突起（土手）を形成したり、電極１８，２４にドメイン規制用のスリットを形成して、１画素内で液晶分子の配向方向が異なる複数の領域を設けたＭＶＡ（Multi-domain Vertical Alignment ）型液晶表示装置としてもよい。これにより、視野角特性を著しく向上させることができる。
【００３８】
（液晶表示パネルの製造方法）
以下、本発明の実施の形態の液晶表示パネルの製造方法について説明する。
【００３９】
まず、図３，図４に示すようなＴＦＴ基板１０及び対向基板２０をそれぞれ製造する。但し、配向規制層１９，２５は液晶封入後に形成するので、ＴＦＴ基板１０の場合は画素電極１８まで形成すればよく、対向基板２０の場合はコモン電極２４まで形成すればよい。
【００４０】
ＴＦＴ基板１０の製造方法を簡単に説明する。まず、ＰＶＤ（Physical Vapor Deposition ）法により、ガラス基板１１上に第１の金属膜を形成し、フォトリソグラフィ法により第１の金属膜をパターニングしてゲートバスライン１２を形成する。次に、ガラス基板１１の上側全面にゲート絶縁膜１３を形成し、その上にＴＦＴ１５の動作層となる第１のシリコン膜と、チャネル保護膜１６となるＳｉＮ膜とを形成する。その後、フォトリソグラフィ法によりＳｉＮ膜をパターニングして、ゲートバスライン１２の上方の所定の領域にチャネル保護膜１６を形成する。
【００４１】
次に、ガラス基板１１の上側全面に、オーミックコンタクト層となる不純物が高濃度に導入された第２のシリコン膜を形成し、続けて第２のシリコン膜の上に第２の金属膜を形成する。そして、フォトリソグラフィ法により第２の金属膜、第２のシリコン膜及び第１のシリコン膜をパターニングして、ＴＦＴ１５の動作層となるシリコン膜の形状を確定するとともに、データバスライン１４、ソース電極１５ｓ及びドレイン電極１５ｄを形成する。
【００４２】
次いで、ガラス基板１１の上側全面に絶縁膜１７を形成し、この絶縁膜１７の所定の位置にコンタクトホール１７ａを形成する。その後、ガラス基板１１の上側全面にＩＴＯ（Indium-Tin Oxide）等の透明導電体からなる膜を形成する。そして、この透明導電体の膜をパターニングすることにより、コンタクトホール１７ａを介しＴＦＴ１５のソース電極１５ｓに電気的に接続された画素電極１８を形成する。このようにして、ＴＦＴ基板１０が完成する。
【００４３】
以下、対向基板２０の製造方法について簡単に説明する。まず、ガラス基板２１の上にＣｒ等の金属膜を形成し、この金属膜をパターニングしてブラックマトリクス２２を形成する。その後、ガラス基板２１の上に絶縁膜２３を形成する。カラー型液晶表示パネルを製造する場合は、絶縁膜２３を赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）及び青色（Ｂ）の樹脂により形成し、各画素毎に赤色、緑色及び青色のうちのいずれか１色の絶縁膜２３を配置する。
【００４４】
次いで、絶縁膜２３の上に、ＩＴＯ等の透明導電体によりコモン電極２４を形成する。このようにして、対向基板２０が完成する。
【００４５】
次に、真空注入法又は滴下注入法により、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０との間に液晶３０を封入する。真空注入法により基板１０，２０間に液晶３０を封入する場合は、ＴＦＴ基板１０及び対向基板２０のうちのいずれか一方（又は、両方）に、表示領域を囲むようにしてシール剤を塗布する。但し、液晶注入口となる部分にはシール剤を塗布しないでおく。その後、ＴＦＴ基板１０及び対向基板２０のいずれか一方の上にビーズ状スペーサを散布し、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０との位置合わせを行って重ね合わせ、圧力を加えながら熱処理して、シール剤を硬化させる。以下、ＴＦＴ基板１０と対向基板２０とを接合してなる構造物（液晶封入前のパネル）を空パネルという。
【００４６】
次いで、液晶を入れた容器と空パネルとを真空チャンバ（図示せず）内に入れ、真空チャンバ内を排気して真空状態とする。その後、空パネルの液晶注入口を液晶中に入れて、真空チャンバ内を大気圧に戻す。そうすると、空パネルの内部空間の圧力と大気圧との差により液晶が空パネル内に進入し、パネルの内部空間に液晶が充填される。その後、液晶が充填されたパネルを２枚の平板で挟んで余分な液晶を押し出し、液晶注入口を封止樹脂で封止する。
【００４７】
液晶３０としては、誘電率異方性が負であり、常温でネマチック相を示すものを使用する。そして、この液晶中に配向制御剤と光重合開始剤とを混合する。この例では、配向制御剤として単官能アクリレートモノマーと二官能アクリレートモノマーとの混合物（混合比１５：１）を使用する。この場合、アクリレートモノマーの添加量は例えば液晶に対して２ｗｔ％とし、光重合開始剤の添加量はアクリレートモノマー混合物に対して約２ｗｔ％とする。
【００４８】
なお、配向制御剤としては上記のアクリレートモノマー混合物に限定するものではないが、液晶に添加して一対の基板間に封入したときに、画素電極及びコモン電極に物理的に吸着し、液晶分子に対し垂直配向性を示すものであることが必要である。また、本実施の形態において、アクリレートモノマーにはラウリルアクリレート等を含むものとする。
【００４９】
垂直配向性を高める点から、液晶の誘電率異方性Δεは小さいほうがよく、誘電率異方性Δεが−３程度であれば、白線や黒点は肉眼では殆ど観察することができなくなる。また、誘電率異方性Δεが−５よりも小さい（Δε＜−５）と、白線や黒点を実質的に消失させることができる。
【００５０】
但し、本願出願人の実験から、誘電率異方性が負の液晶のうちでも、フルオロ基を有するフッ素系の液晶組成物を含むものが良好な垂直配向性を示すことが確認されている。また、シアノ基を有する液晶では、誘電率異方性が負であっても相対的に垂直配向性が乏しく、垂直配向性を示さないものもあることが確認されている。更に、誘電率異方性が負の液晶のうちでも、不飽和結合を有する液晶組成物を含まないほうが垂直配向性が優れていることが確認されている。更にまた、応答速度を向上させるために有効な、トラン系やアルケニル基を有する液晶では、それらを含まない液晶に比べて、同じ誘電率異方性であっても垂直配向性が劣り、極端な場合には垂直配向性を示さないことが確認されている。
【００５１】
ＴＦＴ基板１０と対向基板２０との間に封入された液晶中のアクリレートモノマーは、基板１０，２０の表面に付着して成長する。この状態で紫外線を照射すると、アクリレートモノマーは重合して基板１０，２０の表面に化学結合し、安定な配向規制層１９，２５が形成される。この配向規制層１９，２５は、誘電率異方性が負の液晶分子を基板面に対し垂直に配向させる規制力を有する。このようにして、本実施の形態の液晶表示パネルが完成する。
【００５２】
以下、液晶の誘電率異方性と液晶分子の垂直配向性との関係を調べた結果について説明する。
【００５３】
誘電率異方性が異なる複数種の液晶を用意した。そして、これらの液晶に、それぞれアクリレートモノマーと光重合開始剤とを混合した。
【００５４】
透明電極を有する一対の基板（ガラス基板）の間に、上述した実施の形態と同様の方法によりアクリレートモノマー及び光重合開始剤を添加した液晶を封入し、液晶層側の基板面上に配向規制層を形成した。
【００５５】
各液晶の物性値を図５に示す。また、垂直配向性を調べた結果も、図５に併せて示す。但し、図５において、Ｎ−Ｉはネマチック相とアイソトロピック相との相転移温度、Ｓ−Ｎはスメチック相とネマチック相との相転移温度を示す。また、Ｋ11は広がりを表わす弾性定数、Ｋ33は曲げを表わす弾性定数、Δｎは屈折率異方性、Δεは誘電率異方性、γ1 は粘度（回転）を示す。また、図５において、◎は垂直配向性が優であることを示し、○は垂直配向性が良であることを示し、△は垂直配向性が可であることを示し、×は垂直配向性が不可であることを示す。
【００５６】
この図５からわかるように、誘電率異方性Δεがニュートラル又は正の液晶では、垂直配向性が実現されず、基板面に対し液晶分子を垂直に配向させることができなかった。一方、誘電率異方性Δεが−３よりも小さい場合は白線及び黒点が著しく減少し、誘電率異方性Δεが−５よりも小さい場合は白線及び黒点が殆ど消失した。この場合は、特に紫外線を照射しなくでも、垂直配向型液晶表示パネルを作製することができる。
【００５７】
なお、上述の実施の形態では本発明を透過型液晶表示パネルに適用した場合について説明したが、これにより本発明の適用範囲が透過型液晶表示パネルに限定されるものではなく、本発明は反射型液晶表示パネルに適用することもできる。
【００５８】
反射型液晶表示パネルでは、反射電極の表面に凹凸を設けて光を乱反射させることにより、良好な表示特性を得ることができる。また、誘電率異方性Δεが−７程度の液晶を使用すると良好な垂直配向性を示し、優れた光学特性を示す反射型液晶表示パネルを製造することができる。この場合も、配向膜を形成する工程が不要になる。
【００５９】
（第２の実施の形態）
以下、本発明の第２の実施の形態について説明する。なお、本実施の形態は、スペーサの位置を適正化することによって白線による表示品質の低下を防止するものである。
【００６０】
下記表１に、ビーズ状スペーサの直径及び散布密度と、０Ｖ及び５Ｖのときのコントラスト比との関係を示す。また、図６は、横軸にスペーサ密度をとり、縦軸にコントラスト比をとって、ビーズ状スペーサの直径及び散布密度と、０Ｖ及び５Ｖのときのコントラスト比との関係を示す図である。
【００６１】
【表１】

【００６２】
これらの表１及び図６から、スペーサの密度が低いほど良好なコントラスト比を得ることができることがわかる。これは、画素領域内にスペーサが存在する割合が少ないことによる。
【００６３】
そこで、本実施の形態では、ビーズ状のスペーサに替わりに、フォトレジストにより形成した柱状スペーサを使用し、スペーサの密度を低減するとともに、画素領域内にスペーサが存在しないようにする。スペーサの密度を低くすることにより、黒点の発生数が低減され、その結果白線の発生も抑制される。また、白線が主に画素間の表示に関係しない領域に発生するようになるので、表示品質の低下が回避される。
【００６４】
図７は、本実施の形態の液晶表示パネルにおける柱状スペーサ４１の位置を示す模式平面図である。なお、本実施の形態が第１の実施の形態と異なる点は柱状スペーサにより一対の基板間の間隔を維持することにあり、その他の構成は基本的に第１の実施の形態と同様である。
【００６５】
本実施の形態においては、ＴＦＴ基板及び対向基板のいずれか一方（又は、両方）に、フォトレジストにより柱状スペーサ４１を形成する。この場合に、柱状スペーサ４１は、図７に示すように、６個のピクセル毎に１個の割合で形成する。なお、１個のピクセル４０は、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の３個の画素（サブピクセル）により構成される。ここでは、対向基板側に柱状スペーサ４１を形成する場合について説明する。
【００６６】
第１の実施の形態と同様にして、コモン電極を有する対向基板を形成した後、対向基板の上側全面にフォトレジスト膜を形成し、所定の露光マスクを介してフォトレジスト膜を露光した後、現像処理して、柱状スペーサ４１を形成する。柱状スペーサ４１の高さは、例えば４μｍとする。また、上述したように、６個のピクセルに対し１個の割合で柱状スペーサ４１を画素間の領域に形成する。例えば、図８に示すように、ゲートバスライン１２とデータバスライン１４とが交差する部分に柱状スペーサ４１を形成すればよい。また、柱状スペーサ４１の表面に、水平配向性又は垂直配向性を付与する層を形成してもよい。
【００６７】
次に、柱状スペーサ４１を挟んでＴＦＴ基板と対向基板とを対向させて配置し、シール剤でＴＦＴ基板と対向基板とを接合して、両者の間に誘電率異方性が負の液晶を封入する。液晶には、第１の実施の形態と同様に、予め配向制御剤と光重合開始剤とを混合しておく。
【００６８】
その後、紫外線を照射してＴＦＴ基板の画素電極上、及び対向基板のコモン電極上に配向規制層を形成する。このようにして、本実施の形態の液晶表示パネルが完成する。
【００６９】
本実施の形態では、フォトレジスト膜により所定の位置に形成した柱状スペーサによりＴＦＴ基板と対向基板との間隔（セルギャップ）を一定に維持する。この場合に、配向制御剤がスペーサを核として析出し黒点が発生しても、画素間の表示に関係しない領域であるので、表示特性に与える影響が少ない。また、白線は黒点間を接続するように発生するので、画素領域内には白線が殆ど発生しない。これにより、配向膜を形成する工程が不要であり、表示品質が良好な液晶表示装置を得ることができる。
【００７０】
（付記１）一対の基板間に配向制御剤を添加した液晶を封入し、前記一対の基板の液晶側の面にそれぞれ配向規制層を形成した液晶表示パネルであって、前記液晶が、常温においてネマチック相を示し、誘電率異方性が負であることを特徴とする液晶表示パネル。
【００７１】
（付記２）前記液晶の誘電率異方性Δεが、Δε＜−３であることを特徴とする付記１に記載の液晶表示パネル。
【００７２】
（付記３）前記配向制御剤として、アクリレートモノマーを使用することを特徴とする付記１に記載の液晶表示パネル。
【００７３】
（付記４）常温においてネマチック相を示し、誘電率異方性が負である液晶を用意する工程と、前記液晶中に配向制御剤を添加する工程と、少なくとも一方が透明である一対の基板間に前記配向制御剤を添加した液晶を封入する工程と、前記配向制御剤を前記一対の基板の液晶側の面にそれぞれ付着させて配向規制層を形成する工程とを有することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【００７４】
（付記５）前記配向制御剤として、アクリレートモノマーを使用することを特徴とする付記４に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【００７５】
（付記６）前記配向規制層は、前記基板に付着した前記配向規制剤を光反応させて形成することを特徴とする付記４に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【００７６】
（付記７）一対の基板間に配向制御剤を添加した液晶を封入し、前記一対の基板の液晶側の面にそれぞれ配向規制層を形成した液晶表示パネルであって、画素間の領域に、前記一対の基板の間隔を一定に維持する柱状スペーサが配置されていることを特徴とする液晶表示パネル。
【００７７】
（付記８）前記柱状スペーサが、フォトレジストを露光及び現像処理して形成されたものであることを特徴とする付記７に記載の液晶表示パネル。
【００７８】
（付記９）前記液晶が、常温においてネマチック相を示し、誘電率異方性が負であることを特徴とする付記７に記載の液晶表示パネル。
【００７９】
（付記１０）前記柱状スペーサが、複数のピクセルに対し１個の割合で配置されていることを特徴とする付記７に記載の液晶表示パネル。
【００８０】
（付記１１）フォトレジストを使用し、露光及び現像処理を施して、一対の基板の少なくとも一方の画素間の領域に柱状のスペーサを形成する工程と、配向制御剤が添加された液晶を用意する工程と、前記柱状スペーサを挟んで前記一対の基板を配置し、前記一対の基板間に前記配向制御剤が添加された液晶を封入する工程と、前記配向制御剤を前記一対の基板の液晶側の面にそれぞれ付着させて配向規制層を形成する工程とを有することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
【００８１】
（付記１２）前記配向制御剤として、アクリレートモノマーを使用することを特徴とする付記１１に記載の液晶表示パネルの製造方法。
【００８２】
【発明の効果】
以上説明したように、本願発明によれば、配向制御剤を、常温においてネマチック相を示し誘電率異方性が負である液晶に添加しているので、配向膜を形成する工程が不要であり、表示品質が良好な液晶表示パネルを製造することができる。
【００８３】
また、本願他の発明によれば、一対の基板のうちの少なくとも一方に、例えばフォトレジストを使用して画素間の領域に柱状スペーサを形成し、一対の基板間に封入する液晶に配向制御剤を添加しているので、表示領域内に白線や黒点が発生することが回避される。これにより、表示品質が良好な液晶表示パネルを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は黒点の発生を示す模式図である。
【図２】図２は白線の発生を示す模式図である。
【図３】図３は第１の実施の形態の液晶表示パネルの１画素を示す平面図である。
【図４】図４は図３のＩ−Ｉ線による断面図である。
【図５】液晶の物性値とそれらの液晶の垂直配向性を調べた結果を示す図である。
【図６】図６は、ビーズ状スペーサの直径及び散布密度と、０Ｖ及び５Ｖのときのコントラスト比との関係を示す図である。
【図７】図７は、第２の実施の形態の液晶表示パネルにおける柱状スペーサの位置を示す模式平面図である。
【図８】図８は、ゲートバスラインとデータバスラインとの交差部に配置された柱状スペーサを示す図である。
【符号の説明】
１，４１…スペーサ、
２…黒点、
３…白線、
１０…ＴＦＴ基板、
１１，２１…ガラス基板、
１２…ゲートバスライン、
１３…ゲート絶縁膜、
１４…データバスライン、
１５…ＴＦＴ、
１７，２３…絶縁膜、
１８…画素電極、
１９，２５…配向規制層、
２０…対向基板、
２２…ブラックマトリクス、
２４…対向電極。

Claims

常温においてネマティック相を示し、誘電率異方性が負である液晶を用意する工程と、
前記液晶中に配向制御剤と光重合開始剤とを添加する工程と、
少なくとも一方が透明である一対の基板間に前記配向制御剤及び前記光重合開始剤を添加した液晶を封入する工程と、
光を照射して前記一対の基板に付着した前記配向制御剤を光反応させ、前記一対の基板の液晶側の面に配向規制層を形成する工程と
を有することを特徴とする液晶表示パネルの製造方法。
前記液晶の誘電率異方性Δεが−３よりも小さいことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネルの製造方法。