JP4136744B2 - 反射膜 - Google Patents
反射膜 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4136744B2 JP4136744B2 JP2003081382A JP2003081382A JP4136744B2 JP 4136744 B2 JP4136744 B2 JP 4136744B2 JP 2003081382 A JP2003081382 A JP 2003081382A JP 2003081382 A JP2003081382 A JP 2003081382A JP 4136744 B2 JP4136744 B2 JP 4136744B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- refractive index
- laser
- yag
- reflective film
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- JNDMLEXHDPKVFC-UHFFFAOYSA-N aluminum;oxygen(2-);yttrium(3+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Y+3] JNDMLEXHDPKVFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910019901 yttrium aluminum garnet Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 3
- 229910019655 synthetic inorganic crystalline material Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 51
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N yttrium(III) oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Y+3].[Y+3] RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 206010021143 Hypoxia Diseases 0.000 description 1
- -1 Ta 2 O 5 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000008685 targeting Effects 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学薄膜により構成され、例えば、レーザ共振器、レーザ反射鏡、レーザ素子等の部品に適用される反射膜に係り、特に、膜設計の自由度を広げると共に耐レーザ損傷性に優れた反射膜の改良に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
光学薄膜により構成されるこの種の反射膜は、従来、以下の表1に示す代表的な膜材料を用いて構成されている。
【0003】
【表1】
例えば、レーザ共振器、レーザ反射鏡、レーザ素子等を対象とした単一波長に対する反射膜について光学薄膜を用いて設計するには、屈折率の異なる膜材料を少なくとも2種類以上用いて、光学的膜厚nd(n:屈折率、d:物理的膜厚)をλ / 4(λ:設計中心波長)として、例えば、高屈折率層と低屈折率層を交互に積層すればよい。
【0004】
そして、反射膜の設計中心波長λにおける反射率は、低屈折率層と高屈折率層の屈折率差と膜総数によって決定される。すなわち、この屈折率差が大きく、膜総数が多い反射膜ほど設計中心波長λにおける反射率は高くなる。
【0005】
以下、低屈折率層としてSiO2、高屈折率層としてTa2O5を用い、表2に示すように高屈折率層と低屈折率層を交互に23層積層して成る従来例に係る反射膜の分光反射特性を図1に示す。
【0006】
そして、図1のグラフ図から確認されるように、設計中心波長(λ=1064nm)における反射率は、99.96%に達する。
【0007】
【表2】
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、高屈折率層と低屈折率層を交互に積層して構成される反射膜の設計中心波長λにおける反射率は、上述したように低屈折率層と高屈折率層の屈折率差と膜総数によって決定され、この屈折率差が大きく、膜総数が多い反射膜ほど設計中心波長λにおける反射率は高くなる。従って、屈折率差が大きい少なくとも2種類以上の膜材料を適用することで膜総数を減らすことも可能である。
【0009】
しかしながら、高出力レーザに適用する反射膜については、膜総数を減らすために屈折率差の大きい膜材料を選択することは望ましくない。
【0010】
例えば、可視域から近赤外域のレーザ反射鏡の低屈折率層にはレーザ損傷閾値が高いSiO2を用いることが一般的であり、高屈折率層には、屈折率が高い順にTiO2、Ta2O5、ZrO2を用いる場合が多い。しかし、この屈折率が高い順にレーザ損傷閾値が低い欠点があった。
【0011】
従って、レーザ損傷閾値が低い膜材料を用いて反射膜を構成した場合、高出力レーザにより反射膜がダメージを受けて、反射膜のみならず、反射膜が施されている素子そのものまでがダメージを受けて、その機器の本来の性能が発揮されなくなる問題点があった。
【0012】
本発明はこのような問題点に着目してなされたもので、その課題とするところは、反射膜に適用できる新規な膜材料を提供して膜設計の自由度を広げると共に耐レーザ損傷性に優れた反射膜を提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】
すなわち、請求項1に係る発明は、
高屈折率層と低屈折率層を交互に積層して構成される反射膜を前提とし、
上記高屈折率層がYAG(Y3Al5O12:イットリウムアルミニウムガーネット)で構成されていることを特徴とし、
請求項2に係る発明は、
請求項1記載の発明に係る反射膜を前提とし、
レーザ共振器、レーザ反射鏡またはレーザ素子のいずれかに施されることを特徴とするものである。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
【0015】
本発明は、高屈折率層と低屈折率層を交互に積層して構成される反射膜の上記高屈折率層の光学薄膜材料として、YAG(Y3Al5O12:イットリウムアルミニウムガーネット)を新たに追加することで膜設計の自由度を広げると共に耐レーザ損傷性の向上を可能としている。
【0016】
すなわち、YAG(Y3Al5O12:イットリウムアルミニウムガーネット)はレーザ結晶として知られているように非常に硬度が高く、熱伝導率もよく、化学的にも安定で、透過波長域も約250〜5000nmと広く、さらに、光吸収も非常に少なく、耐レーザ損傷性も高いことから、本発明者等はYAGのこれ等特性に着目して反射膜への応用を試み、上記課題を解決している。
【0017】
そして、上述したTiO2、Ta2O5、ZrO2に代えてYAGを適用し、低屈折率層としてのSiO2と組み合わせることにより耐レーザ損傷性に優れた反射膜の提供を可能にしている。
【0018】
但し、YAGの屈折率は1.80で、高出力レーザ用反射鏡の高屈折率層に用いられるTa2O5の屈折率2.10より小さいため、SiO2とTa2O5で構成した上記23層の反射鏡と同じ反射率99.96%とするにはSiO2とYAGを交互に39層以上積層する必要があるが、現在の成膜技術において39層程度の蒸着は困難なことではない。
【0019】
尚、YAG(Y3Al5O12:イットリウムアルミニウムガーネット)で構成される高屈折率層については、YAG(Y3Al5O12:イットリウムアルミニウムガーネット)の結晶体若しくは焼結体、または酸素欠損を有するYAG(Y3Al5O12-X)の結晶体若しくは焼結体を蒸着材料若しくはスパッタターゲットとして成膜してもよいし、あるいは、Y2O3(イットリア)とAl2O3(アルミナ)の結晶体若しくは焼結体、または酸素欠損を有するイットリア(Y2O3-X)と酸素欠損を有するアルミナ(Al2O3-X)の結晶体若しくは焼結体を蒸着材料若しくはスパッタターゲットとして成膜してもよい。
【0020】
以下、YAG(Y3Al5O12:イットリウムアルミニウムガーネット)で構成される高屈折率層が適用された本発明に係る反射膜について具体的に説明する。
【0021】
すなわち、高屈折率層にYAGを用い、低屈折率層にSiO2を用いた39層の本発明に係る反射膜の構成を表3〜表4に示し、かつ、この反射膜における分光反射特性を図2に示す。
【0022】
【表3】
【0023】
【表4】
【0024】
【実施例】
以下、本発明の実施例について比較例を挙げて具体的に説明する。
【0025】
まず、高屈折率層にTa2O5を用いた表2に示す比較例に係るNd:YAGレーザ反射鏡(設計中心波長λ=1064nm)と、高屈折率層にYAGを用いた表3〜4に示す実施例に係るNd:YAGレーザ反射鏡(設計中心波長λ=1064nm)を実際に作製し、各Nd:YAGレーザ反射鏡の耐レーザ損傷性を比較した。
【0026】
尚、実施例および比較例に係るNd:YAGレーザ反射鏡の作製には、イオンアシスト電子ビーム蒸着法を用い、かつ、基板ガラスBK7を200℃に加熱し、成膜中には酸素を導入した。
【0027】
そして、各Nd:YAGレーザ反射鏡の耐レーザ損傷性を比較するため、発振波長1064nm、パルス幅10nsのNd:YAGレーザをレンズを用いて集光させ、そのパワー密度(J/cm2)により損傷を受けるか受けないかを調べるレーザ損傷テストを各Nd:YAGレーザ反射鏡に対し実施した。
【0028】
その結果、実施例に係るNd:YAGレーザ反射鏡のレーザ損傷閾値は20(J/cm2)、比較例に係るNd:YAGレーザ反射鏡のレーザ損傷閾値は14(J/cm2)であった。
【0029】
そして、SiO2のレーザ損傷閾値は非常に高いので、実施例に係るNd:YAGレーザ反射鏡のレーザ損傷閾値が、比較例に係るNd:YAGレーザ反射鏡のレーザ損傷閾値より高い原因は、高屈折率層に用いているTa2O5とYAGにおけるレーザ損傷閾値の差が反映しているものと考えられる。
【0030】
【発明の効果】
高屈折率層と低屈折率層を交互に積層して構成される本発明に係る反射膜によれば、
上記高屈折率層がYAG(Y3Al5O12:イットリウムアルミニウムガーネット)で構成されているため以下のような顕著な効果を有する。
【0031】
まず、YAGの屈折率を利用して新たな反射膜の設計が可能となり、かつ、YAGの光学薄膜が具備する耐候性、硬度、付着力等の特性を生かして今までにない特性を有した反射膜を得ることが可能となる効果を有する。
【0032】
さらに、YAGの光学薄膜は耐レーザ損傷性にも優れているので、SiO2等と組み合わせることにより、耐レーザ損傷性に優れた反射膜を得ることができる効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来例に係る反射膜の分光反射特性を示すグラフ図。
【図2】本発明に係る反射膜の分光反射特性を示すグラフ図。
Claims (2)
- 高屈折率層と低屈折率層を交互に積層して構成される反射膜において、
上記高屈折率層がYAG(Y3Al5O12:イットリウムアルミニウムガーネット)で構成されていることを特徴とする反射膜。 - レーザ共振器、レーザ反射鏡またはレーザ素子のいずれかに施されることを特徴とする請求項1記載の反射膜。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003081382A JP4136744B2 (ja) | 2003-03-24 | 2003-03-24 | 反射膜 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003081382A JP4136744B2 (ja) | 2003-03-24 | 2003-03-24 | 反射膜 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004287273A JP2004287273A (ja) | 2004-10-14 |
JP2004287273A5 JP2004287273A5 (ja) | 2005-10-06 |
JP4136744B2 true JP4136744B2 (ja) | 2008-08-20 |
Family
ID=33294967
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003081382A Expired - Fee Related JP4136744B2 (ja) | 2003-03-24 | 2003-03-24 | 反射膜 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4136744B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1308715C (zh) * | 2004-11-26 | 2007-04-04 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 掺镱钆镓石榴石平面光波导的制备方法 |
JP5975461B2 (ja) * | 2012-02-03 | 2016-08-23 | 大学共同利用機関法人 高エネルギー加速器研究機構 | レーザーコンプトン散乱装置 |
CN112266571A (zh) * | 2020-10-26 | 2021-01-26 | 东莞市鑫聚光电科技股份有限公司 | 一种pdlc调光膜 |
-
2003
- 2003-03-24 JP JP2003081382A patent/JP4136744B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2004287273A (ja) | 2004-10-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5850309A (en) | Mirror for high-intensity ultraviolet light beam | |
JP2629693B2 (ja) | エキシマレーザ用ミラー | |
US6894838B2 (en) | Extended bandwidth mirror | |
JP3332879B2 (ja) | ダイクロイックミラー | |
JP2691651B2 (ja) | 反射鏡 | |
JP4136744B2 (ja) | 反射膜 | |
JPH11202127A (ja) | ダイクロイックミラー | |
JPS61182288A (ja) | 気体レーザー | |
JPH10332919A (ja) | 電磁スペクトルの紫外帯域のためのローパスフィルタ | |
JP2009031406A (ja) | 非偏光ビームスプリッター及びそれを利用した光学計測機器 | |
JP2748066B2 (ja) | 反射鏡 | |
JP2003101126A (ja) | 半導体レーザ装置の製造方法及び半導体レーザ装置 | |
JP2001074903A (ja) | 反射防止膜及び光学素子 | |
JPH11101903A (ja) | エキシマレーザ用高反射鏡 | |
JP3276182B2 (ja) | 表面反射鏡 | |
JP3741692B2 (ja) | 反射防止膜 | |
JP3084784B2 (ja) | アルゴンガスレーザミラー | |
JP4177147B2 (ja) | 3層反射防止膜 | |
JP3560638B2 (ja) | 反射膜 | |
JPH04145677A (ja) | 可視レーザ用高反射鏡 | |
JP4177146B2 (ja) | 2層反射防止膜 | |
JP2928784B2 (ja) | 多層膜反射鏡 | |
JPH0763907A (ja) | レーザ用反射鏡 | |
JPH09265005A (ja) | エキシマレーザー用ミラー | |
JPH02204702A (ja) | レーザ高反射鏡 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050524 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050524 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080215 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080226 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080424 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080521 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080603 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110613 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120613 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130613 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140613 Year of fee payment: 6 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |