JP3947752B2 - 高純度水素製造方法 - Google Patents
高純度水素製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3947752B2 JP3947752B2 JP2005328979A JP2005328979A JP3947752B2 JP 3947752 B2 JP3947752 B2 JP 3947752B2 JP 2005328979 A JP2005328979 A JP 2005328979A JP 2005328979 A JP2005328979 A JP 2005328979A JP 3947752 B2 JP3947752 B2 JP 3947752B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- adsorbent
- gas
- adsorption
- psa
- reforming
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Hydrogen, Water And Hydrids (AREA)
Description
CH4+H2O → CO+3H2
(2)変成反応
CO+H2O → CO2+H2
(1)選択酸化触媒法
(2)水素PSA法
NEDO平成13年度報告書、新PSA方式による水素製造技術開発、2002年
(a)改質用原料を水蒸気で改質して水素リッチな改質ガスを得る工程
(b)改質用原料を水蒸気で改質した後に変成させて水素リッチな改質ガスを得る工程
(c)炭化水素含有燃料を部分酸化により改質して水素リッチな改質ガスを得る工程
(d)炭化水素含有燃料を部分酸化により改質させると同時に水蒸気で改質して水素リッチな改質ガスを得る工程
(e)炭化水素含有燃料を水蒸気で改質した後にセラミックフィルタ等の粗製分離膜を流通させて水素濃度を高めて水素リッチな改質ガスを得る工程
(1)いずれか1塔のCO吸着塔にて前記CO吸着剤再生ステップを行いつつ、残りのCO吸着塔を直列に接続して前記CO吸着ステップを行う工程
(2)ついで前記直列に接続したCO吸着塔のうち最上流側のCO吸着塔を前記直列接続から分離するとともに、前記CO吸着剤再生ステップを終了したCO吸着塔を前記直列接続の最下流側に接続する工程
実施形態の一例を図1のフロー図に示す。同図において、符号1は改質用原料を改質して水素リッチな改質ガスを得る改質装置1、符号2は前記CO含有水素ガスからCOを吸着除去しCO除去ガスを得るCO吸着剤を充填したCO除去装置2、符号3は前記CO除去ガスを圧縮して圧縮ガスとする圧縮機3、符号4は前記圧縮ガスからCO以外の不要ガスを吸着除去し高純度水素を得るPSA装置4をそれぞれ示す。
本発明の改質工程には、例えば通常用いられる水蒸気改質器と変成器との組合せからなる改質装置1を用いればよい。改質器にて天然ガス等の炭化水素を含有する改質用原料Aを水蒸気で改質してH2およびCOを主成分とするガスとした後、変成器にてこのガスにさらに水蒸気を添加して変成しH2を主成分とする(水素リッチな)改質ガスBを生成する。この改質ガスB中には、H2の他、少量のCO2、CH4、H2Oなどとともに、0.5%程度のCOが残留している。なお、後工程のCO除去工程および不要ガス除去工程においては低温ほど吸着反応が促進されること、ならびに同じく後工程の圧縮工程で用いられる圧縮機を保護する必要があることから、改質装置1とCO除去装置2との間に高温の改質ガスBを冷却するための熱交換器(図示せず)を設けるのが望ましい。
本発明のCO除去工程には、図2に示すように、CO吸着剤を充填したCO吸着塔3基(2a,2b,2c)からなるCO除去装置2を用いる。以下、CO吸着ステップとCO吸着剤再生ステップに分けて説明し、さらにそれらのステップの切り替え操作について説明を行う。
本発明の改質ガス圧縮工程には、次工程のPSA吸着塔を用いた不要ガス除去工程にて圧力スイングにより改質ガスB中から不要ガスを吸着除去するため、CO除去ガスCを圧縮する圧縮機3を用いる。圧縮機3にてCO除去ガスCを圧縮して1.0MPa(ゲージ圧)程度に昇圧した圧縮ガスDとする。
本発明の不要ガス除去工程には、CO以外の不要ガス、すなわちCO2、CH4、H2Oを吸着する吸着剤が充填された複数のPSA吸着塔からなるPSA装置4を用いる。これらの不要ガスを吸着する吸着剤(以下、「PSA用吸着剤」ともいう。)としては、活性アルミナなどのアルミナ系吸着剤および/またはシリカゲルなどのシリカ系吸着剤と、カーボンモレキュラーシーブなどの炭素系吸着剤とを組み合わせたものが好適である。アルミナ系吸着剤および/またはシリカ系吸着剤が圧縮改質ガスC中のH2Oを吸着除去し、炭素系吸着剤がCO2およびCH4を吸着除去する役割を受け持つ。このように本発明においては、CO除去装置2ですでにCOが除去されているためPSA装置4でCOを吸着除去する必要がないので、上述した従来の水素PSA法に比べ吸着塔サイズを大幅に小さくできる。以下、不要ガス吸着ステップとPSA用吸着剤再生ステップに分けて説明する。
上記実施形態では、CO除去装置2とPSA装置4との間に圧縮機3(CO除去ガス圧縮工程)を設ける例を示したが、これに代えて、改質装置1とCO除去装置2との間(すなわち、上記改質工程と上記CO除去工程との間)に圧縮機(改質ガス圧縮工程)を設け、改質ガスBをこの圧縮機で例えば1.0MPa程度に圧縮してからCO除去装置2に導入してもよい。圧縮により改質ガスB中のCO分圧が上昇して単位吸着剤当たりのCOガス吸着容量が増加し、CO吸着剤量を低減できるため、CO吸着塔がコンパクト化し設備コストを低減できる。なお、CO除去装置2から放出されたCO除去ガスCは減圧されることなく高圧のままPSA装置4に導入されるため、圧縮機3を省略しても問題はない。
上記実施形態1では、CO吸着剤を加熱した状態(すなわち、温度スイング)で再生する例を示したが、PSA用吸着剤と同様、圧力スイングにより再生してもよい。例えば、前記CO吸着ステップを0.5MPa(ゲージ圧)以上の高圧下で行い、前記CO吸着剤再生ステップを−0.05MPa(ゲージ圧)以下の減圧下で行うことができる。以下、図3に示すCO除去装置2のフロー図を参照しつつ、詳細に説明する。
上記実施形態2では、CO除去装置2は、3塔のCO吸着塔で構成する例を示したが、上記実施形態1と同様、2塔または4塔以上のCO吸着塔で構成してもよい。ただし、2塔で構成する場合は、実施形態2で説明したような2塔を用いての均圧操作ができず、高圧化したガスの圧力エネルギを有効に回収できないので、3塔以上で構成するのが推奨される。
PSA装置のみで水素精製を行う従来法を模擬するため、以下の条件にて水素精製実験を実施した。
H2:71%、CH4:1%、CO:14%、CO2:9%、H2O:5%
・CO吸着塔:ガスをバイパスさせ、PSAのみで水素を精製
・PSA用吸着剤:アルミナ、カーボンモレキュラーシーブス、ゼオライト5A
CO除去装置+PSA装置で水素精製を行う本発明の実施形態を模擬するため、以下の条件にて水素精製実験を実施した。
H2:71%、CH4:1%、CO:14%、CO2:9%、H2O:5%
・CO吸着剤:塩化銅(I)担持アルミナ
・PSA用吸着剤:アルミナ、カーボンモレキュラーシーブス
除湿装置+PSA装置+CO除去装置で水素精製を行う本発明の実施形態を模擬するため、以下の条件にて水素精製実験を実施した。
H2:74%、CH4:1%、CO:15%、CO2:10%、H2O:0%
・CO吸着剤:塩化銅(I)担持アルミナ
・PSA用吸着剤:カーボンモレキュラーシーブス
実験結果を表2に示す。CO除去装置を用いずにPSA装置のみで水素精製を行った比較例では水素回収率は69%であった。
2…CO除去装置
2a,2b,2c…CO吸着塔
3…圧縮機
4…PSA装置
5,8,9…バッファタンク
7・・・真空ポンプ
A…改質用原料
B…改質ガス
C…CO除去ガス
D…圧縮ガス
E…高純度水素(製品水素)
F…高純度水素の一部(再生用洗浄ガス)
H…PSA吸着塔オフガスの残部
J…CO吸着塔オフガス
G…PSA吸着塔オフガスの一部(再生用洗浄ガス)
K…改質器用燃料
L…加熱用燃料
Claims (13)
- 改質用原料を改質して水素リッチな改質ガスを得る改質工程と、前記改質ガスをCO吸着剤を充填したCO吸着塔に通じてCOを吸着除去しCO除去ガスを得るCO除去工程と、前記CO除去ガスを圧縮機により圧縮して圧縮ガスとするガス圧縮工程と、前記圧縮ガスをPSA吸着塔に通じてCO以外の不要ガスを吸着除去して高純度水素を得る不要ガス除去工程と、を備えた高純度水素製造方法であって、
前記CO除去工程が、COを吸着除去するCO吸着ステップと、前記CO吸着剤を再生するCO吸着剤再生ステップとを有し、
前記不要ガス除去工程が、CO以外の不要ガスを吸着除去する不要ガス吸着ステップと、前記PSA吸着塔に充填されたPSA用吸着剤を再生するPSA用吸着剤再生ステップとを有し、
前記PSA用吸着剤再生ステップにおいて、前記高純度水素の一部を前記PSA吸着塔に通じて前記PSA用吸着剤を再生するとともに、
前記PSA用吸着剤再生ステップで前記PSA吸着塔から排出されたPSA吸着塔オフガスを、前記CO吸着剤再生ステップにおける再生用洗浄ガスとして用いることを特徴とする高純度水素製造方法。 - 前記改質工程が、以下の(a)〜(e)のいずれかの工程である請求項1に記載の高純度水素製造方法。
(a)改質用原料を水蒸気で改質して水素リッチな改質ガスを得る工程
(b)改質用原料を水蒸気で改質した後に変成させて水素リッチな改質ガスを得る工程
(c)炭化水素含有燃料を部分酸化により改質して水素リッチな改質ガスを得る工程
(d)炭化水素含有燃料を部分酸化により改質させると同時に水蒸気で改質して水素リッチな改質ガスを得る工程
(e)炭化水素含有燃料を水蒸気で改質した後にセラミックフィルタ等の粗製分離膜を流通させて水素濃度を高めて水素リッチな改質ガスを得る工程 - 前記CO除去工程が、前記CO吸着剤を充填してなるCO吸着塔を複数備えたCO除去装置を用いて行うものであり、
1つのCO吸着塔につき、前記CO吸着ステップと前記CO吸着剤再生ステップとを交互に行い、
任意の時点において、少なくともいずれか1塔のCO吸着塔にて前記CO吸着ステップを行う請求項1または2に記載の高純度水素製造方法。 - 前記CO除去工程が、前記CO吸着剤を充填したCO吸着塔を3塔以上備えたCO除去装置を用いて行うものであり、下記の(1)および(2)の工程を繰り返すものである請求項3に記載の高純度水素製造方法。
(1)いずれか1塔のCO吸着塔にて前記CO吸着剤再生ステップを行いつつ、残りのCO吸着塔を直列に接続して前記CO吸着ステップを行う工程
(2)ついで前記直列に接続したCO吸着塔のうち最上流側のCO吸着塔を前記直列接続から分離するとともに、前記CO吸着剤再生ステップを終了したCO吸着塔を前記直列接続の最下流側に接続する工程 - 前記CO吸着剤再生ステップで前記CO吸着塔から排出されたCO吸着塔オフガスを、前記改質工程における改質ガス製造のための燃料として用いる請求項1〜4のいずれか1項に記載の高純度水素製造方法。
- 前記CO吸着剤再生ステップにおいて前記CO吸着剤を再生するための熱量として、前記CO吸着剤再生ステップで前記CO吸着塔から排出されたCO吸着塔オフガスの燃焼カロリおよび/または前記改質ガスの顕熱を用いる請求項1〜5のいずれか1項に記載の高純度水素製造方法。
- 前記CO除去ガス圧縮工程に代えて、または加えて、前記改質工程とCO除去工程との間に、前記改質ガスを圧縮機により圧縮する改質ガス圧縮工程を設けた請求項1〜6のいずれか1項に記載の高純度水素製造方法。
- 前記CO吸着剤が、シリカ、アルミナ、活性炭、グラファイトおよびポリスチレン系樹脂よりなる群から選択される1種以上の担体に、ハロゲン化銅(I)および/もしくはハロゲン化銅(II)を担持させた材料、またはこの材料を還元処理したものである請求項1〜7のいずれか1項に記載の高純度水素製造方法。
- 前記PSA吸着塔に用いられる吸着剤が、アルミナ系吸着剤および/またはシリカ系吸着剤と、炭素系吸着剤とからなる請求項1〜8のいずれか1項に記載の高純度水素製造方法。
- 前記改質工程と前記CO除去工程との間に、前記改質ガス中の湿分を吸着式除湿装置により除去する湿分除去工程を設けた請求項1〜9のいずれか1項に記載の高純度水素製造方法。
- 前記吸着式除湿装置に用いられる湿分吸着剤がアルミナ系吸着剤および/またはシリカ系吸着剤であり、前記PSA用吸着剤が炭素系吸着剤である請求項10に記載の高純度水素製造方法。
- 前記CO吸着ステップが0.5MPa(ゲージ圧)以上の高圧下で行われ、前記CO吸着剤再生ステップが−0.05MPa(ゲージ圧)以下の減圧下で行われる請求項7〜11のいずれか1項に記載の高純度水素製造方法。
- 前記不要ガス吸着ステップが0.5MPa(ゲージ圧)以上の高圧下で行われ、前記PSA用吸着剤再生ステップが常圧下で行われる請求項12に記載の高純度水素製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005328979A JP3947752B2 (ja) | 2005-06-07 | 2005-11-14 | 高純度水素製造方法 |
US11/921,513 US8372375B2 (en) | 2005-06-07 | 2006-04-25 | Method of producing high-purity hydrogen |
PCT/JP2006/308641 WO2006132040A1 (ja) | 2005-06-07 | 2006-04-25 | 高純度水素製造方法 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005167206 | 2005-06-07 | ||
JP2005328979A JP3947752B2 (ja) | 2005-06-07 | 2005-11-14 | 高純度水素製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007015910A JP2007015910A (ja) | 2007-01-25 |
JP3947752B2 true JP3947752B2 (ja) | 2007-07-25 |
Family
ID=37753397
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005328979A Active JP3947752B2 (ja) | 2005-06-07 | 2005-11-14 | 高純度水素製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3947752B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5690165B2 (ja) * | 2011-02-24 | 2015-03-25 | 株式会社神戸製鋼所 | Psa方式高純度水素製造方法 |
JP6068148B2 (ja) * | 2013-01-15 | 2017-01-25 | 株式会社神戸製鋼所 | 水素製造装置の起動方法及び水素製造装置 |
AU2016420899B2 (en) | 2016-08-23 | 2022-02-17 | JBEC Co., Ltd. | Method for recovering hydrogen from biomass pyrolysis gas |
JP6814061B2 (ja) * | 2017-02-03 | 2021-01-13 | 東京瓦斯株式会社 | 水素製造装置 |
JP2018162195A (ja) * | 2017-03-27 | 2018-10-18 | 東京瓦斯株式会社 | 水素製造装置 |
JP7004599B2 (ja) * | 2018-03-29 | 2022-01-21 | 大阪瓦斯株式会社 | 水素製造装置 |
CN113120861B (zh) * | 2019-12-30 | 2022-12-02 | 有研工程技术研究院有限公司 | 一种密闭环境用氢氧燃料电池氢气尾气回收装置 |
-
2005
- 2005-11-14 JP JP2005328979A patent/JP3947752B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007015910A (ja) | 2007-01-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5314408B2 (ja) | 高純度水素ガス製造用psa装置 | |
TWI521056B (zh) | Methane recovery method and methane recovery unit | |
US8372375B2 (en) | Method of producing high-purity hydrogen | |
US6770390B2 (en) | Carbon monoxide/water removal from fuel cell feed gas | |
CN102083512A (zh) | 二氧化碳回收 | |
JP5280824B2 (ja) | 高純度水素製造装置 | |
JP6523134B2 (ja) | 水素ガス製造方法及び水素ガス製造装置 | |
JP5743215B2 (ja) | ヘリウムガスの精製方法および精製装置 | |
JP2011167629A (ja) | 水素ガスの分離方法、および水素ガス分離装置 | |
JP4814024B2 (ja) | 高純度水素ガス製造用psa装置 | |
JP5748272B2 (ja) | ヘリウムガスの精製方法および精製装置 | |
JP5690165B2 (ja) | Psa方式高純度水素製造方法 | |
JP3947752B2 (ja) | 高純度水素製造方法 | |
JP3985006B2 (ja) | 高純度水素製造方法 | |
JP2006342014A (ja) | 高純度水素製造方法 | |
JP5745434B2 (ja) | アルゴンガスの精製方法および精製装置 | |
JP5357465B2 (ja) | 高純度水素製造方法 | |
JP2005256899A (ja) | 水素貯蔵及び/又は導出装置 | |
JP2012082080A (ja) | アルゴン精製方法、およびアルゴン精製装置 | |
JP5237870B2 (ja) | 高純度水素製造方法 | |
JP5270215B2 (ja) | 燃料電池システム | |
JP6619687B2 (ja) | 水素ガス製造方法及び水素ガス製造装置 | |
JP2017218363A (ja) | 水素ガス製造方法及び水素ガス製造装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061023 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070410 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070416 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100420 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110420 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120420 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130420 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130420 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140420 Year of fee payment: 7 |