JP3943548B2 - Electroluminescence device - Google Patents
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Description
本発明は電子デバイス用の電極設計に関する。詳細には本発明は、電子デバイスおよびオプトエレクトロニクス・デバイス用の電極の改良に関する。 The present invention relates to electrode design for electronic devices. In particular, the invention relates to improvements in electrodes for electronic and optoelectronic devices.
有機発光ダイオード(OLED)などの電子およびオプトエレクトロニクス・デバイスは当技術分野で知られている。OLEDは有機エレクトロルミネセンス(EL)デバイスとも呼ばれ、一般に、2つの電極の間にはさみ込まれた有機エレクトロルミネセンス(発光)材料を含んでいる。有機エレクトロルミネセンス材料は一般に、電子輸送層、エレクトロルミネセンス層および正孔輸送層を含む多層構造である。電流を流すと、有機エレクトロルミネセンス材料は、有機材料内での電子と正孔の再結合によって発生した光を放射する。しかし、有機ルミネセンス材料は不純物、酸素および湿度に敏感である。さらに、いくつかの電子またはオプトエレクトロニクス・デバイスでは、電極が、デバイスの強度、安定性および信頼性に影響を与える。有機エレクトロルミネセンス・デバイス(材料および構造)は、例えば米国特許第4356429号、米国特許第5593788号または米国特許第5408109号に開示されているように当技術分野では知られている。 Electronic and optoelectronic devices such as organic light emitting diodes (OLEDs) are known in the art. OLEDs, also called organic electroluminescent (EL) devices, generally include an organic electroluminescent (light emitting) material sandwiched between two electrodes. The organic electroluminescent material is generally a multilayer structure including an electron transport layer, an electroluminescent layer, and a hole transport layer. When an electric current is passed, the organic electroluminescent material emits light generated by recombination of electrons and holes in the organic material. However, organic luminescent materials are sensitive to impurities, oxygen and humidity. Furthermore, in some electronic or optoelectronic devices, the electrodes affect the strength, stability and reliability of the device. Organic electroluminescent devices (materials and structures) are known in the art, for example as disclosed in US Pat. No. 4,356,429, US Pat. No. 5,593,788 or US Pat. No. 5,408,109.
多層デバイス・アーキテクチャは現在十分に理解されており、幅広く使用されているので、OLEDの性能を制限する残りの条件は電極である。電極材料の主要な性能指数(figure of merit)は、当該(relevant)有機分子エネルギー準位に対する電極のフェルミ・エネルギー準位(positionof the electrode Fermi energy)である。いくつかの応用ではさらに、電極が光の抽出を助けることが望ましい。エレクトロルミネセンス・デバイスの長期安定性を達成するためには、電極はさらに、隣接する有機材料に対して化学的に不活性でなければならない。 Since multilayer device architectures are now well understood and widely used, the remaining condition that limits the performance of OLEDs is the electrode. The major figure of merit of an electrode material is the position of the electrode Fermi energy relative to the relevant organic molecular energy level. In some applications, it is further desirable that the electrode assist in light extraction. In order to achieve long-term stability of the electroluminescent device, the electrode must also be chemically inert to the adjacent organic material.
カソードに多くの注意が払われているが、これは主に、良好な電子注入をするのは仕事関数の低い金属であって、仕事関数の低い金属は同時に化学的に反応性であり、空気中ですぐに酸化し、OLEDの信頼性および寿命を制限するからである。アノード・コンタクト(anode contact)の最適化に払われている注意はこれよりもずっと少ないが、これは、従来のITOアノードが一般にカソード・コンタクトよりも性能に優れ、正孔過剰(excessof holes)をもたらすためである。この過剰のため、ならびにインジウム−スズ−酸化物(ITO)の導電率および透過率に関連した利便性のために、アノードの改良はカソードの改良ほどには積極的に追求されなかった。 Much attention has been paid to the cathode, mainly because it is the low work function metal that provides good electron injection, and the low work function metal is simultaneously chemically reactive and air. This is because it oxidizes immediately, limiting the reliability and lifetime of the OLED. Much less attention has been paid to optimizing anode contacts, which means that traditional ITO anodes generally outperform cathode contacts and reduce excess of holes. To bring. Due to this excess and the convenience associated with the conductivity and transmittance of indium-tin-oxide (ITO), anode improvements have not been pursued as aggressively as cathode improvements.
有機エレクトロルミネセンス・デバイスが使用されるにつれて、十分な正孔注入および動作安定性に関する問題が生じた。いくつかの問題は、デバイスのアノードのフルオロカーボン(fluorocarbon)処理によって軽減された。米国特許第6127004号は、エレクトロルミネセンス・デバイスを形成する方法に関し、この方法は、インジウム−スズ−酸化物(ITO)を有するアノードを含む材料の上面コーティングを有する基板を準備するステップと、ラジカル源キャビティ(radicalsource cavity)にフルオロカーボン・ガスを供給し、このフルオロカーボンを0.1から20mTの範囲に減圧することによって、アノードの上にアモルファス(amorphous)導電層を形成するステップとを含む。さらに、ラジカル源キャビティの中のフルオロカーボン・ガスを横切るRF場(field)を適用してCFxラジカルを有するプラズマを形成し、CFxラジカルをアノードに付着させてアノード上にアモルファスCFx導電性ポリマー層を形成する。次いで、このアモルファスCFx導電性ポリマー層の上に、少なくとも1層の有機エレクトロルミネセンス層を含む複数の層を形成し、このエレクトロルミネセンス層の上にカソードを形成する。 As organic electroluminescent devices were used, problems with sufficient hole injection and operational stability occurred. Some problems were alleviated by the fluorocarbon treatment of the device anode. US Pat. No. 6,127,004 relates to a method of forming an electroluminescent device, the method comprising providing a substrate having a top coating of material comprising an anode comprising indium-tin-oxide (ITO); Providing an amorphous conductive layer on the anode by supplying a fluorocarbon gas to a radical source cavity and depressurizing the fluorocarbon to a range of 0.1 to 20 mT. In addition, an RF field across the fluorocarbon gas in the radical source cavity is applied to form a plasma with CFx radicals, and the CFx radicals are deposited on the anode to form an amorphous CFx conductive polymer layer on the anode. To do. Next, a plurality of layers including at least one organic electroluminescent layer is formed on the amorphous CFx conductive polymer layer, and a cathode is formed on the electroluminescent layer.
米国特許第6208075号も、アノードの上に配置された導電性フルオロカーボン・ポリマー層を有する有機エレクトロルミネセンス・デバイスに関し、米国特許第6208077号は、アノードの上に配置された薄い非導電性フルオロカーボン・ポリマー層を記載している。上述のフルオロカーボン・ポリマー層を適用するのはその輸送特性のためであり、したがってフルオロカーボン・ポリマー層は正孔注入層の働きをする。フルオロカーボン・ポリマー層は、酸素を含むアノード(例えばITO)上に付着することが好ましく、他の材料を使用するとデバイス性能は不安定になる。 U.S. Pat. No. 6,208,075 also relates to an organic electroluminescent device having a conductive fluorocarbon polymer layer disposed on the anode, and U.S. Pat. No. 6,208,077 is a thin non-conductive fluorocarbon. The polymer layer is described. The above-mentioned fluorocarbon polymer layer is applied because of its transport properties, and therefore the fluorocarbon polymer layer acts as a hole injection layer. The fluorocarbon polymer layer is preferably deposited on an anode containing oxygen (eg, ITO), and device performance becomes unstable when other materials are used.
現在は本出願の譲受人に譲渡されている国際公告番号WO99/39393を有する国際出願は、アノード、バリア(barrier)層、アノード改良層、有機領域およびカソードをこの順番に有する有機発光デバイスに関する。アノード改良層は有機領域と直接に接触する。バリア層は、アノード改良層をアノードから分離するように配置されているが、バリア層がバリア特性を示すとこの層は注入を妨害する。 The international application having international publication number WO 99/39393, currently assigned to the assignee of the present application, relates to an organic light emitting device having an anode, a barrier layer, an anode modification layer, an organic region and a cathode in this order. The anode improvement layer is in direct contact with the organic region. The barrier layer is arranged to separate the anode modification layer from the anode, but this layer interferes with injection if the barrier layer exhibits barrier properties.
オプトエレクトロニクス・デバイスは、トップ・エミッション・デバイス(topemission device)として、またはボトム・エミッション・デバイス(bottom emission device)として動作することができる。ボトム・エミッション・デバイスはバック・エミッション・デバイス(backemission device)とも呼ばれる。ボトム・エミッション・デバイスでは、放射された光がアノードを通過できるように、アノードはほぼ透明でなければならない。インジウム−スズ−酸化物(ITO)がアノードとして広く適用されているのは、ほぼ透明な層を形成するからである。ITOの欠点は、その上の層、例えば正孔輸送有機材料といくらか反応することである。これによりデバイスの寿命は短くなる。寿命の短縮を回避するために通常は、アノードと有機材料の間にバッファ(buffer)層、例えばCuPcを使用するが、バッファ層は抵抗が大きく注入を妨害する。先に述べたとおり、フルオロカーボン・ポリマー層を使用することによってバッファ層を省くことができる。 The optoelectronic device can operate as a top emission device or as a bottom emission device. A bottom emission device is also referred to as a backemission device. In bottom emission devices, the anode must be nearly transparent so that the emitted light can pass through the anode. Indium-tin-oxide (ITO) is widely applied as an anode because it forms a substantially transparent layer. The disadvantage of ITO is that it reacts somewhat with the layers above it, such as hole transporting organic materials. This shortens the lifetime of the device. In order to avoid shortening the lifetime, a buffer layer, eg CuPc, is usually used between the anode and the organic material, but the buffer layer is highly resistive and hinders injection. As mentioned earlier, the buffer layer can be omitted by using a fluorocarbon polymer layer.
トップ・エミッション・デバイスに対してはモリブデンまたは白金が適用されている。これらの材料は不透明であり強い光吸収を有する。白金の反射率は最適ではない。銀(Ag)およびアルミニウム(Al)は高い反射率を有するが、仕事関数が低く、したがってアノード材料としては不適当である。一般に、アノード材料として最適なのは仕事関数が高い材料である。仕事関数の低い材料、例えばAlは一般に、バッファ層、例えばCuPcで被覆しても化学的に非常に活性であり、したがってこのような材料はアノードの形成には適さない。さらに、このような材料とフルオロカーボン・ポリマー層との組合せも信頼できる性能を与えず、したがってデバイスは役に立たないものとなる。 Molybdenum or platinum is applied to the top emission device. These materials are opaque and have strong light absorption. The reflectivity of platinum is not optimal. Silver (Ag) and aluminum (Al) have high reflectivity, but have a low work function and are therefore unsuitable as anode materials. In general, the most suitable anode material is a material having a high work function. Low work function materials such as Al are generally chemically very active when coated with a buffer layer such as CuPc, and therefore such materials are not suitable for forming an anode. Furthermore, the combination of such materials and fluorocarbon polymer layers also does not provide reliable performance, thus making the device useless.
以上のことから、長期安定性および高い効率を示す電子およびオプトエレクトロニクス・デバイスの改良型の電極構造が依然として求められている。
したがって本発明の目的は、有機材料およびそれに基づいたディスプレイを含む電子デバイス用の改良型の電極構造を提供することにある。 Accordingly, it is an object of the present invention to provide an improved electrode structure for electronic devices including organic materials and displays based thereon.
本発明によれば、導電層を実質的に有する第1の電極と、この導電層上に形成された非金属層と、この非金属層上に形成されたフルオロカーボン(フッ化炭素)層と、このフルオロカーボン層上に形成された構造と、この構造上に形成された第2の電極とを備えた電子デバイスが提供される。 According to the present invention, a first electrode substantially having a conductive layer, a nonmetallic layer formed on the conductive layer, a fluorocarbon (fluorinated carbon) layer formed on the nonmetallic layer, An electronic device is provided that includes a structure formed on the fluorocarbon layer and a second electrode formed on the structure.
この電子デバイスはさらに、導電層と非金属層の間にバッファ層を備えることができる。このようなバッファ層は、第1の電極と他の層との間の反応を有利に低減させる。特に酸化プロセスを防ぐことができる。 The electronic device can further comprise a buffer layer between the conductive layer and the non-metallic layer. Such a buffer layer advantageously reduces the reaction between the first electrode and the other layers. In particular, the oxidation process can be prevented.
好ましい一実施形態では、導電層がアルミニウム(Al)を含む。アルミニウムは通常、非常に反射率が高く、反応性も高い。しかし、導電層の上に非金属層または非金属層と前述のバッファ層を配置すると、優れた属性および特性(properties and characteristics)を有するエレクトロルミネセンス(発光)・デバイスを設計することができる。 In a preferred embodiment, the conductive layer includes aluminum (Al). Aluminum is usually very reflective and highly reactive. However, if a non-metallic layer or a non-metallic layer and the aforementioned buffer layer are placed on a conductive layer, an electroluminescent (light emitting) device having excellent properties and characteristics can be designed.
非金属層は酸化物を含むことができる。酸化物は豊富に使用することができ、あるいは多くの材料または化合物から形成することができる材料である。酸化物は、以下の族(group)のうちの1つから選択された材料に基づくことができる:3d遷移金属族、IIIA族、IVA族、希土類金属族またはこれらの組合せ。 The non-metallic layer can include an oxide. Oxides are materials that can be used abundantly or that can be formed from many materials or compounds. The oxide can be based on a material selected from one of the following groups: 3d transition metal group, IIIA group, IVA group, rare earth metal group, or combinations thereof.
非金属層が、導電層によって形成される可能性のある(potential)酸化物とは異なる酸化物(外来酸化物(foreignoxide)とも呼ばれる)であるときは、電極の電気および光学特性、例えば注入および透過率(transparency)を調節できるという利点が生じる。例えば、導電層がAlから形成されているときには、導電層によって形成または生成される可能性のある酸化物は酸化アルミニウムである。酸化アルミニウムは例えば酸化ニッケル(NiOx)よりも高い抵抗を有する。したがってNiOxを外来酸化物として使用して非金属層を形成すると、酸化アルミニウムよりも良好な正孔注入特性が得られる。高い反射率を有する導電層と正孔注入をサポートする非金属層とを組み合わせるとさらに、光出力が向上した信頼性が高く大幅に改良されたエレクトロルミネセンス・デバイスが得られる。 When the non-metallic layer is an oxide (also referred to as a foreign oxide) that is different from the potential oxide formed by the conductive layer, the electrical and optical properties of the electrode, such as implantation and The advantage is that the transparency can be adjusted. For example, when the conductive layer is made of Al, the oxide that may be formed or generated by the conductive layer is aluminum oxide. Aluminum oxide has a higher resistance than, for example, nickel oxide (NiO x ). Accordingly, when NiO x is used as a foreign oxide to form a nonmetallic layer, better hole injection characteristics than aluminum oxide can be obtained. The combination of a highly reflective conductive layer and a non-metallic layer that supports hole injection also provides a highly reliable and greatly improved electroluminescent device with improved light output.
導電層の性質に応じて非金属層の厚さが、単分子層から20nmまでの範囲にある場合には、電子デバイスが優れた長期安定性および高い効率を示すので有利である。エレクトロルミネセンス・デバイス(OLED)、例えばアクティブ駆動デバイスでは、層の厚みがしばしば駆動電圧の大きさに関連する。 Depending on the nature of the conductive layer, the thickness of the non-metallic layer is in the range from monolayer to 20 nm, which is advantageous because electronic devices exhibit excellent long-term stability and high efficiency. In electroluminescent devices (OLEDs), eg active drive devices, the layer thickness is often related to the magnitude of the drive voltage.
導電層は金属、半導体または有機導体を含むことができる。さらに、導電層は光反射材料を含むことができる。好ましい導電層材料すなわち電極材料はアルミニウム(Al)または銀(Ag)である。これらの材料は、導電層上の非金属層として酸化物または外来酸化物が使用されるときに明確(有効)になる。 The conductive layer can include a metal, a semiconductor, or an organic conductor. Further, the conductive layer can include a light reflecting material. A preferred conductive layer material or electrode material is aluminum (Al) or silver (Ag). These materials become clear (effective) when oxides or foreign oxides are used as the non-metallic layer on the conductive layer.
導電層は鏡のような(mirror-like)表面を形成することができる。このことは、アノードが鏡の働きをし、放射された光を反射して光出力を強めることを意味する。この概念は、トップ・エミッション・デバイスとボトム・エミッション・デバイスの両方に当てはまる。 The conductive layer can form a mirror-like surface. This means that the anode acts as a mirror, reflecting the emitted light and enhancing the light output. This concept applies to both top-emission devices and bottom-emission devices.
用語「オプトエレクトロニクス・デバイス」は、電気−光変換器または光−電気変換器として働く任意のデバイス、あるいは動作時にこのようなデバイスを使用する機器を指すことを理解されたい。 It should be understood that the term “optoelectronic device” refers to any device that acts as an electro-optic converter or an opto-electrical converter, or equipment that uses such a device in operation.
電子デバイスは、導電層または構造と接触した基板を備えることができる。基板は、ガラスすなわちトップ・エミッション・デバイス用の透明(transparent)材料、Si、プラスチックすなわちボトム・エミッション・デバイス用の不透明(opaque)材料を含む任意の材料とすることができる。この基板を、電子デバイスを形成するためのベースとして使用することができる。 The electronic device can comprise a substrate in contact with the conductive layer or structure. The substrate can be any material including glass, a transparent material for top emission devices, Si, plastic, an opaque material for bottom emission devices. This substrate can be used as a base for forming electronic devices.
この電子デバイスを、エレクトロルミネセンス・デバイス、トランジスタまたはセンサの一部分とすることができる。このことは、この電極設計を幅広く使用できることを示している。しかしこの構造は前述の応用だけに限定されない。さらに、この構造は、有機構造との使用だけに限定されるものではなく、以下の構造とともに使用することもできる:有機/無機、有機−無機ハイブリッドまたは無機構造。さらに、この構造を有する電極設計は、幅広いさまざまな電子およびオプトエレクトロニクス応用に適用できる。 The electronic device can be part of an electroluminescent device, transistor or sensor. This indicates that this electrode design can be widely used. However, this structure is not limited to the aforementioned applications. Furthermore, this structure is not limited to use only with organic structures, but can also be used with the following structures: organic / inorganic, organic-inorganic hybrids or inorganic structures. Furthermore, electrode designs with this structure can be applied to a wide variety of electronic and optoelectronic applications.
本発明はさらに、この電子デバイスを形成する方法に関する。この方法は、第1の電極の働きをする導電層を準備するステップと、この第1の電極上に非金属層を形成するステップと、この非金属層上にフルオロカーボン層を付着させるステップと、このフルオロカーボン層上に複数の層を構造として形成するステップと、この構造上に第2の電極を形成するステップとを含む。 The invention further relates to a method of forming this electronic device. The method includes providing a conductive layer that acts as a first electrode, forming a non-metallic layer on the first electrode, depositing a fluorocarbon layer on the non-metallic layer, Forming a plurality of layers as a structure on the fluorocarbon layer; and forming a second electrode on the structure.
以下では、本発明の好ましい実施形態を、添付の略図を参照して例示的かつ詳細に説明する。 In the following, preferred embodiments of the present invention will be described in an exemplary and detailed manner with reference to the accompanying schematic drawings.
これらの図面は例示だけを目的に提示したものであり、本発明の実際の例をスケールどおりに提示したものでは必ずしもない。 These drawings are presented for illustrative purposes only, and not necessarily to scale, actual examples of the invention are presented.
本発明は、幅広いさまざまな電子およびオプトレクトリク応用に適用できるが、ここでは、有機エレクトロルミネセンス・デバイス、すなわち有機発光ダイオード(OLED)および有機トランジスタへの応用に焦点を当てて説明する。 Although the present invention is applicable to a wide variety of electronic and optoelectronic applications, it will be described herein with a focus on applications in organic electroluminescent devices, ie organic light emitting diodes (OLEDs) and organic transistors.
本発明の実施形態を説明する前に、従来技術のエレクトロルミネセンス・デバイスの構成について言及する。 Prior to describing embodiments of the present invention, reference will be made to the configuration of prior art electroluminescent devices.
図1に、有機エレクトロルミネセンス・デバイス100を示す。このデバイスは基板102を有し、その上にインジウム−スズ−酸化物(ITO)アノード104が配置されている。基板102およびITOアノード104は光透過(light transparent)である。ITOアノード104と直接に接触してポリマー層108が配置されている。ポリマー層108でコーティングされたITOアノード104とカソード120の間には、有機発光構造110が形成されている。有機発光構造110は、順番に、有機正孔輸送層112、有機発光層114および有機電子輸送層116からなる。アノード104がカソード120に対して電気的に正(positive)となるようにアノード104とカソード120の間に電圧を印加すると、カソード120は電子輸送層116に電子を注入し、注入された電子は、電子輸送層116および発光層114を横断する(traverse)。同時に、アノード104から正孔輸送層112に正孔が注入され、注入された正孔は層112を通り抜け、最終的に、正孔輸送層112と発光層114の界面(interface)付近で電子と再結合する。伝導帯(conductionband)の電子が価電子帯(valence band)の正孔と放射性の再結合をすると、矢印で指示するように、光透過性のアノード104および基板102を通り抜けて光子が放射され、視認される。
FIG. 1 shows an
ポリマー層108は、RFプラズマ中でのフルオロカーボン・ガスのプラズマ重合によって形成することができる。フルオロカーボン・ポリマーはテフロン(R)に似たポリマーであり、実質的に炭素とフッ素から構成されている。フルオロカーボン・ポリマーはさらに、水素、および/または窒素、酸素などの少量の不純物を含む場合がある。このポリマー層の厚さは、その下の導電層を完全に被覆し、かつその低い導電率がデバイス性能にマイナスの影響を与えないように選択される。
The
図2に、有機エレクトロルミネセンス・デバイス200の第1の実施形態の略図を示す。ここではトップ・エミッション・デバイスである有機エレクトロルミネセンス・デバイス200は基板202を有し、その上に、アノード204とも呼ばれる第1の電極204が配置されている。アノード204は、Mで標識された導電性高反射材料の層を含み、そのため鏡のような表面を提供する。アノード204の上には、実質的に酸化物からなる非金属層206が形成されている。さらに、非金属層206の上には、実質的にフルオロカーボンからなるポリマー層208が形成されている。フルオロカーボン層208でコーティングされた非金属層206とカソード220の間には有機発光構造210が形成されている。有機発光構造210は、順番に、有機正孔輸送層212、有機発光層214および有機電子輸送層216からなる。ここで説明した構造は、図1を参照して示した従来技術の構造とははっきり異なっている。アノード204とポリマー層208の間に非金属層206が配置されている。
FIG. 2 shows a schematic diagram of a first embodiment of an
ポリマー層208は、RFプラズマ中でのフルオロカーボン・ガスのプラズマ重合によって形成する。化学的気相堆積法(CVD)を適用することもできる。
The
アノード204は、導電性高反射材料層、好ましくはAlまたはAg層を含み、そのため鏡のような表面を提供する。非金属層206は、酸素と接触した場合に、または例えばITO、NiOxなどの環境で導電性高反射材料が形成する酸化物とは異なる酸化物を含む。非金属層206を付着させるいくつかの方法を以下に示す。
−プラズマ化学的気相堆積法(PECVD)を含む化学的気相堆積法(CVD)
−スパッタ付着(堆積)または(例えば酸素環境中での)反応性スパッタ付着
−熱蒸着
−電子ビーム蒸着
−酸素プラズマ(プラズマ支援酸化)
−酸化環境での熱アニール
−UVオゾン処理
−湿式化学酸化
−電気化学酸化
The
-Chemical vapor deposition (CVD) including plasma chemical vapor deposition (PECVD).
-Sputter deposition (deposition) or reactive sputter deposition (eg in an oxygen environment)-Thermal evaporation-Electron beam evaporation-Oxygen plasma (plasma assisted oxidation)
-Thermal annealing in oxidizing environment-UV ozone treatment-Wet chemical oxidation-Electrochemical oxidation
基板202はベース(土台)として使用され、電気的に絶縁されていなければならない。ここで示したデバイスはトップ・エミッション・デバイスであり、すなわち生成した光はアノード204の鏡のような表面で反射され、矢印が指示するようにカソード220を透過するので、基板は不透明であり得る。この場合、カソード220は光透過性でなければならない。
The
本発明は、トップ・エミッション・デバイスだけに限定されるものではなく、当然ながら全ての利点を有したままボトム・エミッション・デバイスにも適用することができる。その場合、アノード204は透過特性を有していなければならない。
The present invention is not limited to top emission devices, but can of course also be applied to bottom emission devices with all the advantages. In that case, the
ボトム・エミッション・デバイスまたはアーキテクチャが望ましいときには、アノード204および基板202は光透過性でなければならない。この場合、アノード204は半透明(semi-transparent)材料または金属膜を適当に含む。これらは、インジウム−スズ−酸化物、ドープされたスズ酸化物、アルミニウムをドープした酸化亜鉛などの透明な導電性酸化物を含むことができる。これらの材料は、石英ガラスまたは、例えばポリエチレンテレフタラートまたはポリ酢酸ビニルのポリマー基板などの透明な基板202上に適当に付着させなければならない。
When a bottom emission device or architecture is desired, the
有機発光構造210に対してはさまざまな組成物を利用することができる。
Various compositions can be utilized for the organic
正孔輸送層および正孔注入層:以下の材料は、正孔注入層および有機正孔輸送層212として適している:テトラフェニルジアミノジフェニル(tetraphenyldiaminodiphenyl)(TPD−1、TPD−2またはTAD)、NPB(タン(C. Tang)、SIDMeeting San Diego、1996年およびアダチ(C. Adachi)他、Applied Physics Letters、第66巻、2679ページ、1995年を参照されたい)、TPA、NIPC、TPM、DEH(これらの略語については例えばボルゼンベルガー(P.Borsenberger)およびワイス(D. S. Weiss)、Organic Photoreceptors for Imaging Systems、MarcelDekker、1993年を参照されたい)のような芳香族アミノ基(aromatic amino group)を含む材料。これらの芳香族アミノ基をポリマー、スターバースト(starburst)(例えばTCTA、m−MTDATA。クワバラ(Y.Kuwabara)他、Advanced Materials、6、677ページ、1994年およびシロタ(Y. Shirota)他、Applied PhysicsLetters、第65巻、807ページ、1994年を参照されたい)およびスピロ化合物(spiro compound)に組み込むこともできる。 Hole transport layer and hole injection layer: The following materials are suitable as hole injection layer and organic hole transport layer 212: tetraphenyldiaminodiphenyl (TPD-1, TPD-2 or TAD), NPB (see C. Tang, SIDMeeting San Diego, 1996 and C. Adachi et al., Applied Physics Letters, 66, 2679, 1995), TPA, NIPC, TPM, DEH (For these abbreviations, for example, aromatic amino groups such as P. Borsenberger and DS Weiss, Organic Photoreceptors for Imaging Systems, Marcel Dekker, 1993). Including material. These aromatic amino groups are polymerized, starburst (eg TCTA, m-MTDATA. Y. Kuwabara et al., Advanced Materials, 6, 677, 1994 and Y. Shirota et al., Applied Physics Letters, 65, 807, 1994) and spiro compounds.
他の例には、銅(II)フタロシアニン(CuPc)、(N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス−(4−フェニルフェニル)−1、1’−ビフェニル−4、4’−ジアミン)、ジスチリルアリーレン(distyrylarylene)誘導体(derivatives)(DSA)、ナフタレン、ナフトスチリルアミン(naphthostyrylamine)誘導体(例えばNSD)、キナクリドン(quinacridone)(QA)、ポリ(3−メチルチオフェン)(P3MT)およびその誘導体、ペリレン(perylene)およびペリレン誘導体、ポリチオフェン(polythiophene)(PT)、3,4,9,10−ペリレンテトラカルボン酸ジアンヒドリド(perylenetetracarboxylicdianhydride)(PTCDA)、PPVおよびいくつかのPPV誘導体、例えばMEH−PPV、ポリ(9−ビニルカルバゾール(vinylcarbazole))(PVK)、ディスコティック液晶材料(HPT)などがある。 Other examples include copper (II) phthalocyanine (CuPc), (N, N′-diphenyl-N, N′-bis- (4-phenylphenyl) -1,1′-biphenyl-4,4′-diamine. ), Distyrylarylene derivatives (DSA), naphthalene, naphthostyrylamine derivatives (eg NSD), quinacridone (QA), poly (3-methylthiophene) (P3MT) and its Derivatives, perylene and perylene derivatives, polythiophene (PT), 3,4,9,10-perylenetetracarboxylic dianhydride (PTCDA), PPV and some PPV derivatives such as MEH- PPV, poly (9-vinylcarbazole) ( VK), there is a discotic liquid crystal material (HPT).
電子輸送/発光材料は、Alq3、Gaq3、Inq3、Scq3(qは、8−ヒドロキシキノラート(8-hydroxyquinolate)またはその誘導体を指す)、およびZnq2、Beq2、Mgq2、ZnMq2、BeMq2、BAlq、AlPrq3などの他の8−ヒドロキシキノリン金属錯体である。これらの材料を、有機電子輸送層216または有機発光層214として使用することができる。
Electron transport / luminescent materials are Alq 3 , Gaq 3 , Inq 3 , Scq 3 (q refers to 8-hydroxyquinolate or derivatives thereof), and Znq 2 , Beq 2 , Mgq 2 , ZnMq 2, BeMq 2, BAlq, which is another 8-hydroxyquinoline metal complexes such as AlPrq 3. These materials can be used as the organic
電子輸送材料の他の類(class)は電子不足(electron-deficient)窒素含有系、例えばPBD(および多くの誘導体)のようなオキサジアゾール(oxadiazoles)や、TAZ(1,2,4−トリアゾール)などのトリアゾール(triazoles)である。 Other classes of electron transport materials are electron-deficient nitrogen-containing systems such as oxadiazoles such as PBD (and many derivatives) and TAZ (1,2,4-triazole). ) And other triazoles.
これらの官能基を、ポリマー、スターバーストおよびスピロ化合物に組み込むこともできる。他の類は、ピリジン(pyridine)、ピリミジン(pyrimidine)、ピラジン(pyrazine)およびピリダジン(pyridazine)官能基を含む材料である。 These functional groups can also be incorporated into polymers, starbursts and spiro compounds. Another class is materials containing pyridine, pyrimidine, pyrazine and pyridazine functional groups.
最後に、キノリン(quinoline)、キノキサリン(quinoxaline)、シンノリン(cinnoline)、フタラジン(phthalazine)およびキナジリン(quinaziline)官能基を含む材料は、電子輸送能力を有する点でよく知られている。 Finally, materials containing quinoline, quinoxaline, cinnoline, phthalazine and quinaziline functional groups are well known for their ability to transport electrons.
他の材料には、ジデシルセキシチオフェン(didecyl sexithiophene)(DPS6T)、ビス−トリイソプロピルシリルセキシチオフェン(bis-triisopropylsilylsexithiophene)(2D6T)、アゾメチン−亜鉛錯体、ピラジン(pyrazine)(例えばBNVP)、スチリルアントラセン(styrylanthracene)誘導体(例えばBSA−1、BSA−2)、非平面(non-planar)ジスチリルアリーレン(distyrylarylene)誘導体、例えばDPVBi(ホソカワ(C.Hosokawa)およびクスモト(T. Kusumoto)、International Symposium on Inorganic and OrganicElectroluminescence 1994、浜松、42を参照されたい)、シアノPPV(PPVはポリ(p−フェニレンビニレン(phenylenevinylene))を意味する)、シアノPPV誘導体などのシアノ置換ポリマーなどがある。 Other materials include didecyl sexithiophene (DPS6T), bis-triisopropylsilylsexithiophene (2D6T), azomethine-zinc complexes, pyrazine (eg BNVP), Styrylanthracene derivatives (eg BSA-1, BSA-2), non-planar distyrylarylene derivatives, eg DPVBi (C. Hosokawa and T. Kusumoto, International Symposium on Inorganic and Organic Electroluminescence 1994, see Hamamatsu, 42), cyano PPV (PPV means poly (p-phenylenevinylene)), cyano-substituted polymers such as cyano PPV derivatives.
以下の材料は、発光層およびドーパントとして特によく適している:アントラセン、ピリジン誘導体(例えばATP)、アゾメチン−亜鉛(Azomethin-zinc)錯体、ピラジン(例えばBNVP)、スチリルアントラセン(styrylanthracene)誘導体(例えばBSA−1、BSA−2)、コロネン(coronene)、クマリン(coumarin)、DCM化合物(DCM1、DCM2)、ジスチリルアリーレン誘導体(DSA)、アルキル置換されたジスチリルベンゼン誘導体(DSB)、ベンゾイミダール(benzimidazole)誘導体(例えばNBI)、ナフトスチリルアミン(naphthostyrlamine)誘導体(例えばNSD)、オキサジアゾール(oxadiazole)誘導体(例えばOXD、OXD−1、OXD−7)、N、N、N’,N’−テトラキス(m−メチルフェニル)−1,3−ジアミノベンゼン(PDA)、ペリレンおよびペリレン誘導体、フェニル置換シクロペンタジエン(cyclopentadiene)誘導体、12−フタロペリノンセキシチオフェン(phthaloperinonesexithiophene)(6T)、ポリチオフェン(polythiophene)、キナクリドン(quinacridone)(QA)(ワキモト(T.Wakimoto)他、International Symposium on Inorganic and Organic Electroluminescence1994、浜松、77を参照されたい)および置換キナクリドン(MQA)、ルブレン(rubrene)、DCJT(例えばタン(C. Tang)、SIDConference San Diego Proceedings、1996年、181を参照されたい)、共役(conjugated)および非共役ポリマー、例えばPPVおよびPPV誘導体、ジアルコキシおよびジアルキルPPV誘導体、例えばMEH−PPV(ポリ(2−メトキシ)−5−(2’−エチルヘキソキシ)−1,4−フェニレンビニレン)、ポリ(2,4−ビス(コレスタノキシル)−1,4−フェニレンビニレン(BCHA−PPV)およびセグメント化PPV(例えばスターリング(E.Staring)、International Symposium on Inorganic and Organic Electroluminescence1994、浜松、48、およびオシノ(T. Oshino)他、Sumitomo Chemicals、1995年、monthly reportを参照されたい)。 The following materials are particularly well suited as emissive layers and dopants: anthracene, pyridine derivatives (eg ATP), azomethin-zinc complexes, pyrazines (eg BNVP), styrylanthracene derivatives (eg BSA). -1, BSA-2), coronene, coumarin, DCM compound (DCM1, DCM2), distyrylarylene derivative (DSA), alkyl-substituted distyrylbenzene derivative (DSB), benzimidazole ( benzimidazole) derivatives (eg NBI), naphthostyrlamine derivatives (eg NSD), oxadiazole derivatives (eg OXD, OXD-1, OXD-7), N, N, N ′, N′— Tetrakis (m-methylphenyl) -1,3-dia Nobenzene (PDA), perylene and perylene derivatives, phenyl substituted cyclopentadiene derivatives, 12-phthaloperinonexithiophene (6T), polythiophene, quinacridone (QA) (Wakimoto (T) Wakimoto et al., International Symposium on Inorganic and Organic Electroluminescence 1994, Hamamatsu, 77) and substituted quinacridone (MQA), rubrene, DCJT (eg C. Tang, SIDConference San Diego Proceedings, 1996) , 181), conjugated and non-conjugated polymers such as PPV and PPV derivatives, dialkoxy and dialkyl PPV derivatives such as MEH-PPV (poly (2-methoxy) -5- (2'-ethylhexoxy)) -1,4-Fe Lembinylene), poly (2,4-bis (cholestanoxyl) -1,4-phenylenevinylene (BCHA-PPV) and segmented PPV (eg, E. Staring, International Symposium on Inorganic and Organic Electroluminescence 1994, Hamamatsu, 48, And T. Oshino et al., Sumitomo Chemicals, 1995, monthly report).
良好な発光体、電荷輸送材料および電荷注入材料であることが知られている有機材料はこの他にも多数有り、これからもより多くのものが発見されるであろう。これらの材料を使用して発光構造を形成することもできる。 There are many other organic materials known to be good emitters, charge transport materials, and charge injection materials, and many more will be discovered. A light emitting structure can also be formed using these materials.
有機正孔輸送層212は、少なくとも1種の正孔輸送芳香族第3アミン(aromatictertiary amine)を含む。芳香族第3アミンは、炭素原子だけに結合した三価の窒素原子を少なくとも1つ含む化合物であって、これらの炭素原子のうちの少なくとも1つが芳香環の環原子である化合物であると理解される。一形態では、この芳香族第3アミンを、モノアリールアミン、ジアリールアミン、トリアリールアミン、ポリアリールアミンなどのアリールアミンとすることができる。
The organic
有機発光層214は、ルミネセンス(luminescent)または蛍光(fluorescent)材料、あるいはルミネセンスまたは蛍光材料の組合せ(ホストと1種または数種のドーパント)からなり、エレクトロルミネセンス(発光)は、この領域での電子−正孔対の再結合の結果として生み出される。最も単純な構造ではルミネセンス(発光)層が単一の成分からなり、この成分が、高い蛍光効率を有する純粋な材料である。よく知られている材料は、トリス(8−キノリナト)アルミニウム(tris(8-quinolinato)aluminium)(Alq)である。
The organic light-emitting
カソード電極220は、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類金属、LiF/Al、Li2O/Alなどの結合化合物(combined compound)またはこれらの合金から選択された低い仕事関数(例えば4.0eV未満、好ましくは3.5eV未満)の金属つまり電極構成を含む。好ましい金属はカルシウム、またはマグネシウム/銀、リチウム/アルミニウム、マグネシウム/アルミニウムなどの合金である。これらのカソード構成は低い仕事関数を提供し、したがって量子効率の増加をデバイスに提供する。
The
同じ部分または類似の部分は同じ参照符号を使用して示す。 The same or similar parts are indicated using the same reference numerals.
図3に、有機エレクトロルミネセンス・デバイス201の第2の実施形態の略図を示す。有機エレクトロルミネセンス・デバイス201は基板202を有し、その上にアノード204が配置されている。アノード204の上には非金属層206が形成されている。非金属層206とアノード204の間にはバッファ層205が形成されている。適当なバッファ層材料はTi、Ni、PtまたはITOである。バッファ層205は、厚さ数オングストロームから数ナノメートルの薄い層でなければならない。このバッファ層205は化学反応を低減させ、アノード204の導電性高反射層と他の層との間の相互拡散を防ぐ。特に、酸化プロセスおよび相互拡散プロセスを回避することができる。非金属層206とカソード220の間には、先に説明したとおりの有機発光構造210が形成されている。
FIG. 3 shows a schematic diagram of a second embodiment of the
図4に、有機トランジスタ300の一実施例の略図を示す。有機トランジスタ300は、基板302、金属からなるゲート層330、ゲート絶縁層340、例えばSiO、および有機構造310を備える。有機トランジスタ300はさらに、周知のコネクタとして、有機構造310上に配置されたソース電極320およびドレイン電極311を備える。さらに、ソース電極320は、導電層304、非金属層306、および有機構造310と直接に接触するポリマー層308を含む。他の実施例では、ドレイン電極311が、導電層304、非金属層306およびポリマー層308(図示せず)を含む。ドレイン電極311とソース電極320が同じ構造を有することもできる。
FIG. 4 shows a schematic diagram of one embodiment of an
図5に、他の有機トランジスタ301の一実施例の略図を示す。同じ部分または類似の部分は同じ参照符号を使用して示す。他の有機トランジスタ301は、基板302、ゲート層330、ゲート絶縁層340および有機構造310を備える。図4との違いは、ソース電極320およびドレイン電極311が有機構造310の中に埋め込まれていることである。導電層304、非金属層306およびポリマー層308はゲート絶縁層340に結合されている。
Figure 5 shows a schematic diagram of an embodiment of another
図6は、第1試作のエレクトロルミネセンス・デバイス(標識I)の電流−電圧関係、ならびに本発明に基づく第2試作のエレクトロルミネセンス・デバイス(標識II)の電流−電圧関係(太い曲線)および輝度−電圧関係(細い曲線)を示す図である。第2試作のエレクトロルミネセンス・デバイスの構造は以下のとおりである:アノード構成Al/Al2O3/CFx(3nm);有機発光構造NPB(45nm)/Alq3(65nm);カソードCa(15nm)。第2試作のエレクトロルミネセンス・デバイスは、周知の構成を有する第1試作のエレクトロルミネセンス・デバイスよりもはるかに良好な性能を示し、これは特に輝度において顕著である。 FIG. 6 shows the current-voltage relationship of the first prototype electroluminescent device (label I) and the current-voltage relationship (thick curve) of the second prototype electroluminescent device (label II) according to the present invention. It is a figure which shows luminance-voltage relationship (thin curve). Structure of the electroluminescent device of the second trial is as follows: anode structure Al / Al 2 O 3 / CF x (3nm); organic light-emitting structure NPB (45nm) / Alq 3 ( 65nm); cathode Ca ( 15 nm). The second prototype electroluminescent device performs much better than the first prototype electroluminescent device having a known configuration, which is particularly noticeable in brightness.
図7は、以下の構造を有する第3試作のエレクトロルミネセンス・デバイスの電流−電圧特性(太い曲線)および輝度−電圧特性(細い曲線)を示す図である:アノード構成Al/Ni/NiOx/CFx(4nm);有機発光構造NPB(50nm)/Alq3(50nm);カソードCa(15nm)。Niを含むバッファ層およびNiOxを含む非金属層を有するこの第3試作のエレクトロルミネセンス・デバイスは、図6に比べてよりいっそう急勾配の特性を示し、このことは、第3試作のエレクトロルミネセンス・デバイスの優れた性能を示している。 FIG. 7 is a diagram showing current-voltage characteristics (thick curve) and luminance-voltage characteristics (thin curve) of a third prototype electroluminescent device having the following structure: anode configuration Al / Ni / NiO x / CF x (4 nm); organic light emitting structure NPB (50 nm) / Alq 3 (50 nm); cathode Ca (15 nm). Electroluminescent device of the third trial with a non-metal layer including a buffer layer and NiO x containing Ni indicates the character of the steeper more than 6, this electro third trial It shows the excellent performance of luminescence devices.
図8は、第2試作のエレクトロルミネセンス・デバイスの効率−電圧関係を示す図である。このグラフは、第2試作のエレクトロルミネセンス・デバイスがOLEDに対して最適であることを示している。 FIG. 8 is a diagram showing the efficiency-voltage relationship of the second prototype electroluminescent device. This graph shows that the second prototype electroluminescent device is optimal for OLED.
図9は、第4試作のエレクトロルミネセンス・デバイスの寿命を規格化した図である。第4試作のエレクトロルミネセンス・デバイスの構造は以下のとおりである:アノード構成Al/Al2O3/CFx(10nm);有機発光構造CuPu(10nm)/NPB(45nm)/Alq3(65nm);カソードCa(3nm)/Ag(15nm)。外挿した寿命、すなわち一定電流条件下でデバイスが当初の半分の輝度を示すまでの時間は約28年であり、このことは、このデバイスが非常に信頼性の高いエレクトロルミネセンス・デバイスであることを示している。当初の輝度は88Cd/m2であった。 FIG. 9 is a diagram in which the lifetime of the fourth prototype electroluminescent device is normalized. The structure of the fourth prototype electroluminescent device is as follows: anode structure Al / Al 2 O 3 / CF x (10 nm); organic light emitting structure CuPu (10 nm) / NPB (45 nm) / Alq 3 (65 nm) ); Cathode Ca (3 nm) / Ag (15 nm). Extrapolated lifetime, i.e. the time it takes for the device to show half of its original brightness under constant current conditions is about 28 years, which is a very reliable electroluminescent device It is shown that. The initial luminance was 88 Cd / m 2 .
理解を深めるために以下の実施例を提示する。簡潔にするため、材料および材料から形成される層は以下のように略記する。
ITO:インジウム−スズ−酸化物
NPB:4,4’−ビス−[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]−ビ−フェニル(4,4'-bis[N-(1-naphthyl)-N-phenylamino]-bi-phenyl)(正孔輸送層)
Alq:トリス(8−キノリノラト−N1,08)−アルミニウム(tris(8-quinolinolato-N1,08)-aluminium)(電子輸送層。ここでは発光層と電子輸送層とが結合した層として機能する)。
MgAg:体積比10:1のマグネシウム銀
The following examples are presented for better understanding. For simplicity, materials and layers formed from materials are abbreviated as follows.
ITO: Indium-tin-oxide NPB: 4,4′-bis- [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] -biphenyl (4,4′-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] -bi-phenyl) (hole transport layer)
Alq: tris (8-quinolinolato-N1,008) -aluminum (electron transport layer, where the light-emitting layer and the electron transport layer function as a combined layer) .
MgAg: Magnesium silver with a volume ratio of 10: 1
有機発光構造は以下の方法で構築した。
1a)ガラス(基板)上にTiを蒸着。
1b)Ti/ガラス上にAlを蒸着。
1c)ITOを付着(堆積)。任意選択でPtまたはTiのバッファ層をAlとITOの間に形成することもできる。
2)この構造をプラズマ・エッチング/堆積装置に挿入。
a)クリーニングおよび酸化(ITO用も)のために酸素プラズマ処理、
b)13.6MHzプラズマ中でのCHF3ガスのプラズマ重合によって厚さ3nmのフルオロカーボン・ポリマーを付着。
3)OLE材料付着チャンバへ移送。
a)フルオロカーボン・ポリマー層上に厚さ50〜60nmのNPB正孔輸送層を従来の熱蒸着(thermal vapor deposition)によって付着させ、
b)NPB層上に厚さ65nmのAlq電子輸送/発光層を従来の熱蒸着によって付着させ、
c)その上に10〜20nmのCa層を付着させ、
d)Ca層上に厚さ20nmのMgAg層を、2つの源(MgおよびAg)からの同時蒸着によって付着させた。
The organic light emitting structure was constructed by the following method.
1a) Ti is deposited on glass (substrate).
1b) Al is deposited on Ti / glass.
1c) ITO is deposited (deposited). Optionally, a Pt or Ti buffer layer may be formed between Al and ITO.
2) Insert this structure into the plasma etch / deposition equipment.
a) Oxygen plasma treatment for cleaning and oxidation (also for ITO),
b) Depositing a 3 nm thick fluorocarbon polymer by plasma polymerization of CHF 3 gas in 13.6 MHz plasma.
3) Transfer to OLE material deposition chamber.
a) depositing a 50-60 nm thick NPB hole transport layer on the fluorocarbon polymer layer by conventional thermal vapor deposition;
b) A 65 nm thick Alq electron transport / emission layer is deposited on the NPB layer by conventional thermal evaporation,
c) deposit a 10-20 nm Ca layer on top of it,
d) A 20 nm thick MgAg layer was deposited on the Ca layer by co-evaporation from two sources (Mg and Ag).
開示した任意の実施形態を、図示および/または記述した1つまたは複数の他の実施形態と組み合わせることができる。これらの実施形態の1つまたは複数の特徴を組み合わせることもできる。 Any disclosed embodiment may be combined with one or more other embodiments shown and / or described. One or more features of these embodiments can also be combined.
Claims (11)
前記基板上に設けられたAlのアノードと、
前記アノード上に設けられたAl2O3の非金属層と、
前記非金属層上に設けられたフルオロカーボン層と、
前記フルオロカーボン層上に設けられた有機発光構造と、
前記有機発光構造上に設けられたカソードとを備えるエレクトロルミネセンス・デバイス。 A substrate,
An Al anode provided on the substrate;
A non-metallic layer of Al 2 O 3 provided on the anode;
A fluorocarbon layer provided on the non-metal layer;
An organic light emitting structure provided on the fluorocarbon layer;
An electroluminescent device comprising a cathode provided on the organic light emitting structure.
前記基板上に設けられたAlのアノードと、
前記アノード上に設けられたNiのバッファ層と、
前記バッファ層上に設けられたNiOxの非金属層と、
前記非金属層上に設けられたフルオロカーボン層と、
前記フルオロカーボン層上に設けられた有機発光構造と、
前記有機発光構造上に設けられたカソードとを備えるエレクトロルミネセンス・デバイス。 A substrate,
An Al anode provided on the substrate;
A buffer layer of Ni provided on the anode;
A non-metallic layer of NiO x provided on the buffer layer;
A fluorocarbon layer provided on the non-metal layer;
An organic light emitting structure provided on the fluorocarbon layer;
An electroluminescent device comprising a cathode provided on the organic light emitting structure.
前記基板上に設けられたAlのアノードと、
前記アノード上に設けられたAl2O3の非金属層と、
前記非金属層上に設けられたフルオロカーボン層と、
前記フルオロカーボン層上に設けられ、CuPc(銅(II)フタロシアニン)、NPB(4,4’−ビス−[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]−ビ−フェニル)及びAlq3(qは、8−ヒドロキシキノラートまたはその誘導体)を有する有機発光構造と、
前記有機発光構造上に設けられたカソードとを備えるエレクトロルミネセンス・デバイス。 A substrate,
An Al anode provided on the substrate;
And non-metal layer of Al 2 O 3 disposed on the anode,
A fluorocarbon layer provided on the non-metal layer;
CuPc (copper (II) phthalocyanine), NPB (4,4′-bis- [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] -bi-phenyl) and Alq 3 (q Is an organic light-emitting structure having 8-hydroxyquinolate or a derivative thereof;
An electroluminescent device comprising a cathode provided on the organic light emitting structure.
前記基板上に設けられたAlのアノードと、
前記アノード上に設けられたPt又はTiのバッファ層と、
前記バッファ層上に設けられたITOの非金属層と、
前記非金属層上に設けられたフルオロカーボン層と、
前記フルオロカーボン層上に設けられた有機発光構造と、
前記有機発光構造上に設けられたカソードとを備えるエレクトロルミネセンス・デバイス。 A substrate,
An Al anode provided on the substrate;
A Pt or Ti buffer layer provided on the anode;
A non-metallic layer of ITO provided on the buffer layer;
A fluorocarbon layer provided on the non-metal layer;
An organic light emitting structure provided on the fluorocarbon layer;
An electroluminescent device comprising a cathode provided on the organic light emitting structure.
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