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JP3938410B2 - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路 Download PDF

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JP3938410B2
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  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、2種類の電源電位とその中間の中間電位を用いて動作する半導体集積回路に関し、特に中間電位を供給するための中間電位発生回路を内部に備える半導体集積回路に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
図13は、例えば、特開平5−120873号公報(以下、文献1という。)に記載された従来のDRAM(ダイナミック・ランダム・アクセス・メモリ)の中間電位発生回路とその周辺回路の構成を示すブロック図である。図13において、符号1は外部電源が投入され外部電源電位VCCが予め設定された電位に達したことを検知して検知信号PONA,PONBを発生する電源投入検知回路、2は外部電源電位VCCを受けこの外部電源電位VCCより低い電位の内部電源電位VINTを発生する内部電源回路、3は外部電源電位VCCおよび基準電圧VREFを受けて第1の中間電位HV1を発生して中間電位供給接点へ供給するとともに検知信号PONAが発生しかつ第1の中間電位HV1が所定の電位となったとき中間電位供給接点への第1の中間電位HV1の供給および中間電位発生機能を停止する大きな中間電位駆動能力をもつ第1の中間電位発生回路、4は内部電源電位VINTを受けて第2の中間電位HV2を発生し検知信号PONBが発生すると中間電位供給接点へ第1の中間電位発生回路3より小さい中間電位駆動能力で第2の中間電位HV2を供給する第2の中間電位発生回路を示す。
図14は、例えば文献1に記載された、図13の第1の中間電位発生回路3の構成を示す回路図である。また、図15は、例えば文献1に記載された、図13の第2の中間電位発生回路4の構成を示す回路図である。
図16は、図13に示した第1および第2の中間電位発生回路3,4の動作を説明するための各部の信号の波形図である。
図16に示すように、電源投入検知回路1は、外部電源電位VCCが5Vに達したことを検知し、外部電源電位VCCから接地電位になる検知信号PONAと、接地電位から外部電源電位VCCになる検知信号PONBとを発生する。
【0003】
また、図17は、例えば、特開平5−114291号公報(以下、文献2という。)に記載された、従来の基準電圧発生回路の構成を示す回路図である。従来の基準電圧発生回路は、基準電圧発生源1bと、基準電圧配線駆動回路2bを有し、基準電圧配線3bによって内部降圧回路4bに基準電圧を供給する。基準電圧発生回路1bは、内部降圧電位Vref0(=3.3V)を発生する。
図18は、文献2に記載された、図17の基準電圧発生回路の動作を説明するための各部の信号の波形図である。電源投入時には、図17に示したトランジスタQ1とQ2の両方がオン状態となり、短時間で基準電圧VREFを引き上げることができる。図18に示すように、外部電源電位が4.0Vを越えると、図17に示したトランジスタQ1はオフして電流能力の小さい図17に示したトランジスタQ2だけで基準電圧を3.3Vまで引き上げる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
従来の中間電位発生回路は以上のように構成されており、図13に示したように2つの中間電位発生回路を用いた場合には、駆動能力の小さい第2の中間電位発生回路4のみを用いる場合に比べて、中間電位供給接点の電位を速く所定の中間電位にすることができるが、中間電位発生回路3は電源電位と接地電位との電位差より低い電圧(電源電位VCCの二分の一の電圧)しか発生できない。そのため、図16に示されているように、中間電位供給接点の電位が所定の中間電位になるには、電源電位VCCが非常に長い時間(中間電位に達する時間の2倍以上の時間)を必要とするという問題があった。
【0005】
また、図17に示した従来の基準電圧発生回路では、差動増幅器21によってトランジスタQ1を駆動して、電源電圧Vddが所定の電圧3.3Vより大きくなった4Vの時に基準電圧VREFが3.3Vに達する前にトランジスタQ1をターンオフさせるような構成になっており、その後は、駆動能力の小さいトランジスタQ2によって基準電圧VREFを3.3Vまで引き上げる。
駆動能力の小さいトランジスタQ2のみで3.3Vまで引き上げるので、電源電圧Vddが3.3Vを越えてからVREFが3.3Vに達するまで非常に長い期間が必要になるという問題があった。
【0006】
さらに、従来の半導体集積回路は、図14に示した駆動能力の大きな中間電位発生回路3および図13に示した電源投入検知回路1、並びに図17に示した差動増幅器21および図17では省略されているが信号φPONを発生する回路を含んで構成されており、これらの回路構成が複雑でレイアウト面積が大きくなるという問題があった。
【0007】
この発明は上記のような問題点を解消するためになされたもので、電源投入後、中間電位を供給すべきノードの電位を直ちに目的の中間電位にすることができ、かつレイアウト面積の小さな半導体集積回路を得ることを目的としている。
【0011】
課題を解決するための手段
発明に係る半導体集積回路は、接地電位との間で容量を持つ所定のノードと、前記接地電位と電源電位との間にある第1の中間電位を発生する中間電位発生部と、前記所定のノードと前記中間電位発生部との間に接続され、制御信号とパワーオンリセット信号の論理和によって出力電流をオンオフ可能に構成され、前記中間電位発生部から受けた前記第1の中間電位を基に、前記所定のノードに供給する電流を増幅して第2の中間電位を前記所定のノードへ印加するカレントミラー回路部とを備え、前記パワーオンリセット信号は、電源投入後前記所定のノードの電位がほぼ前記第2の中間電位に達するまでは前記カレントミラー回路部をオンするレベルを維持し、前記所定のノードの電位がほぼ前記第2の中間電位に達したときに前記カレントミラー回路部をオフするレベルに変化することを特徴とする。
【0012】
【発明の実施の形態】
実施の形態1.
以下、この発明の実施の形態1による半導体集積回路について図1ないし図4を用いて説明する。図1は、この発明の実施の形態1による半導体集積回路の構成の一部を示すブロック図である。図1において、符号30は半導体集積回路中に設けられた中間電位にすべきノード、31は通常時にノード30の電位を所望の中間電位に保つための中間電位発生回路、32は電源電位Vddが所望の中間電位に達したときにパワーオンリセット信号PORを変化させるパワーオンリセット回路、33はパワーオンリセット信号PORを受けてその反転信号PORBを出力するCMOS構成のインバータ、34は電源電位Vddが与えられるソースとノード30に接続されたドレインとインバータ33から反転信号PORBを受けるPチャネルMOSトランジスタ、35はノード30と接地電位GND間の容量を示している。
この中間電位発生回路31は、低消費電力型のものが用いられ、駆動能力が低く設定されており、非常に高い出力インピーダンスをもっている。パワーオンリセット回路32とインバータ33は、リセット信号発生回路を構成する。
【0013】
図2は、図1に示した回路の動作を示す波形図である。図2に示すように、電源が動作を開始すると、パワーオンリセット信号PORは、電源電位Vddが高くなっていくのとほぼ同じ傾斜(電位の変化/時間)をもって立ち上がる。
インバータ33は、CMOS構成であり、インバータ33は、電源電位Vddがインバータを構成しているPチャネルMOSトランジスタのしきい電圧を越えるまでは、その出力をローレベルに保つ。ところで、パワーオンリセット信号PORは、所望の中間電位VMIDまでは電源電位Vddとほぼ同じ値を取る。そのため、所望の中間電位VMIDまで、インバータ33は、反転信号PORBとしてローレベルを出力する。反転信号PORBがローレベルの間、PチャネルMOSトランジスタ34が導通状態にあり、このトランジスタ34の駆動能力を十分大きくしておくことにより、ノード30の電位Vhは、ほぼ電源電位Vddが高くなるのに伴って同様に高くなる。
【0014】
所定の時刻t1を経過して電源電位Vddが所望の中間電位VMIDに達したときに、パワーオンリセット回路32は、電源電位Vddが中間電位VMIDと等しくなったことを検知する。そして、パワーオンリセット回路32は、パワーオンリセット信号PORを電源電位Vddの値からローレベル(接地電位GNDの値)に変化させる。その変化に伴い、インバータ33は、その出力を電源電位Vddの値とほぼ等しい電位に変化させる。そのインバータ33の出力をゲートで受けるPチャネルMOSトランジスタ34は、非導通状態となり、ノード30への電荷の供給は停止する。そのため、ノード30の電位Vhは、ほぼ所望の中間電位VMIDと等しくなる。中間電位発生回路31が非常に高い出力インピーダンスをもっているため、ノード30から中間電位発生回路31へ流れる電流は非常に小さく、トランジスタ34がターンオフした後、ノード30の電位Vhは、ほぼ所望の中間電位VMIDに保たれる。
電源電位Vddが所定の電位VDDに到達した後まもない時刻t2に、中間電位発生回路31は、正確な中間電位VMIDを出力する。この時、ノード30の電位Vhは、ほぼ所望の中間電位VMIDと等しくなっていることから、中間電位発生回路31によって、直ちに正確な中間電位VMIDになる。
【0015】
このように、電源投入時に、パワーオンリセット信号PORの反転信号PORBによってPチャネルMOSトランジスタ34を直接制御して、このトランジスタ34を介してノード30を電源で直接駆動するので、中間電位発生回路のみでノード30を駆動する場合に比べて、また、差動増幅器でトランジスタを制御する場合に比べて非常に短時間でノード30の電位を目的の中間電位VMIDにすることができる。
また、追加される回路は、パワーオンリセット回路32以外には、インバータ33とPチャネルMOSトランジスタ34だけであるのでレイアウト面積の増加はほとんどない。
【0016】
次に、中間電位発生回路31の構成の一例を図3に示す。
図3の中間電位発生回路は、ドレインと電源電位Vddが与えられるソースと接地電位GNDが与えられるゲートを持つPチャネルMOSトランジスタQ20、ゲートとドレインとトランジスタQ20のドレインに接続されたソースとトランジスタQ20のドレインに接続された基板を持つPチャネルMOSトランジスタQ21、トランジスタQ21のソースに接続されたドレインとトランジスタQ21のゲートおよびトランジスタQ21のドレインに接続されたゲートと接地電位GNDが与えれるソースを持つNチャネルMOSトランジスタQ22、接地電位GNDが与えられるソースとトランジスタQ22のゲートに接続されたゲートとトランジスタQ22のゲートに接続されたドレインを持つNチャネルMOSトランジスタQ23、ゲートと電源電位Vddが与えられるソースとトランジスタQ23のドレインに接続されたドレインを持つPチャネルMOSトランジスタQ24、電源電位Vddが与えられるソースとトランジスタQ24のゲートに接続されたゲートとトランジスタQ24のゲートに接続されたドレインを持つPチャネルMOSトランジスタQ25、ソースとトランジスタQ23のゲートに接続されたゲートとトランジスタQ25のドレインに接続されたドレインを持つNチャネルMOSトランジスタQ26、トランジスタQ26のソースに接続された一方端と接地電位GNDが与えられる他方端を持つ抵抗R10、電源電位Vddが与えられるソースとトランジスタQ25のドレインに接続されたゲートとノード30に接続されたドレインを持つPチャネルMOSトランジスタQ27、エミッタとトランジスタQ27のドレインに接続されたコレクタとトランジスタQ27のドレインに接続されたベースを持つNPNトランジスタQ28、並びにトランジスタQ28のエミッタに接続された一方端と接地電位GNDが与えられる他方端を持つ抵抗R11を含んで構成されている。
直列に接続されたトランジスタQ27とトランジスタQ28と抵抗R11からなる直列体の両端は、それぞれ、電源電位Vddと接地電位GNDになっている。そのため、ノード30には、接地電位GNDよりもトランジスタQ28と抵抗R11で発生する電圧分だけ高い電位Vhが発生する。
【0017】
次に、パワーオンリセット回路32の構成の一例を図4に示す。
図4のパワーオンリセット回路は、ゲートとドレインと電源電位Vddが与えられるソースを持つPチャネルMOSトランジスタQ30、トランジスタQ30のドレインに接続されたソースとトランジスタQ30のドレインに接続されたゲートとトランジスタQ30のドレインに接続されたドレインを持つPチャネルMOSトランジスタQ31、トランジスタQ30のドレインに接続されたゲートと接地電位GNDが与えられるソースと接地電位GNDが与えられるドレインを持つNチャネルMOSトランジスタQ32、トランジスタQ32のゲートに接続された一方端と接地電位GNDが与えられる他方端を持つ抵抗R20、ドレインと電源電位Vddが与えられるソースと抵抗R20の一方端に接続されたゲートを持つPチャネルMOSトランジスタQ33、トランジスタQ33のドレインに接続されたドレインと接地電位GNDが与えられるソースと抵抗R20の一方端に接続されたゲートを持つNチャネルMOSトランジスタQ34、トランジスタQ34のドレインに接続されたゲートと電源電位Vddが与えられるドレインと電源電位Vddが与えられるソースを持つPチャネルMOSトランジスタQ35、トランジスタQ35のゲートに接続されたゲートと電源電位Vddが与えられるソースとトランジスタQ34のゲートに接続されたドレインを持つPチャネルMOSトランジスタQ36、トランジスタQ36のドレインに接続されたドレインとトランジスタQ36のゲートに接続されたゲートと接地電位GNDが与えられるソースを持つNチャネルMOSトランジスタQ37、出力端とトランジスタQ33およびQ34のドレインに接続された入力端を持ち電源電位Vddと接地電位GNDが与えられて動作するCMOS構成のインバータ40、並びにパワーオンリセット信号PORを出力する出力端とインバータ40の出力端に接続された入力端を持ち電源電位Vddと接地電位GNDが与えられて動作するCMOS構成のインバータ41を含んで構成されている。
【0018】
トランジスタQ30のドレインは、トランジスタQ34のゲートに接続されており、トランジスタQ34がターンオンするしきい電圧やトランジスタQ30および抵抗R20の抵抗値を調整することにより、パワーオンリセット信号PORを変化させる電位を任意に設定できる。このことを利用して、パワーオンリセット信号PORを変化させる電位を所望の中間電位VMIDに設定する。
前述のように設定した状態で、電源投入時に、電源電位Vddが中間電位VMIDに達すると、トランジスタQ34がターンオンして、インバータ41から出力されるパワーオンリセット信号PORは、ローレベルに変化する。それと同時に、トランジスタQ36がターンオンするため、トランジスタQ33,Q34のゲートはハイレベルに固定される。なお、トランジスタQ31は、図4に示した状態では働いていないが、トランジスタQ34がターンオンする電位を調整する際に、トランジスタQ30,Q31のゲート間を切り放して用いることができる。
【0019】
実施の形態2.
次に、この発明の実施の形態2による半導体集積回路について図5を用いて説明する。図5は、この発明の実施の形態2による半導体集積回路の構成の一部を示すブロック図である。図5において、50はトランジスタQ34をターンオフするためのタイミングを決定する信号PORを出力する信号生成回路であり、その他図1と同一符号のものは図1の同一符号部分に相当する部分である。
【0020】
また、信号生成回路50が図4に示したパワーオンリセット回路と異なる点は、トランジスタQ30に代えてPチャネルMOSトランジスタQ30Aを用いている点と、トランジスタQ33,Q34のドレインをインバータ33に直接接続している点の2つの点である。信号生成回路50とインバータ33は、リセット信号発生回路を構成する。
トランジスタQ30AとトランジスタQ30は、そのソースが接続されているノードが異なり、トランジスタQ30のソースに電源電位Vddが与えられるのに対し、トランジスタQ30Aのソースにはノード30の電位Vhが与えられる。
【0021】
信号生成回路50から出力される信号PORは、ノード30の電位Vhが所望の中間電位VMIDに達したときに反転する。従って、信号生成回路50から出力される信号PORは、図1および図2に示したパワーオンリセット信号PORとほぼ同じである。しかし、信号生成回路50が直接ノード30の電位Vhを検出しているので、信号生成回路50から出力される信号PORが反転するタイミングの確度はパワーオンリセット回路32を用いるのに比べて高くなる。
なお、この半導体集積回路の動作については、図4を用いて説明した実施の形態1の半導体集積回路の動作とほぼ同じになる。
【0022】
実施の形態3.
次に、この発明の実施の形態3による半導体集積回路について図6を用いて説明する。図6はこの発明の実施の形態3による半導体集積回路の構成の一部を示すブロック図である。図6において、符号60は図1のノード30に相当するものであるが距離を置いて設けられた多数のトランジスタのゲートに接続されるとか非常に長い配線が接続されているなど比較的大きな容量が分布している場合の配線を示している。また、図6のパワーオンリセット回路32Aとインバータ33AとPチャネルMOSトランジスタ34Aからなる構成は、図1のパワーオンリセット回路32とインバータ33とPチャネルMOSトランジスタ34に相当する構成である。また、パワーオンリセット回路32Bとインバータ33BとPチャネルMOSトランジスタ34B、およびパワーオンリセット回路32Cとインバータ33CとPチャネルMOSトランジスタ34Cも、図1に示したものと同様の構成である。
【0023】
図6に示すように、パワーオンリセット回路32A〜32Cとインバータ33A〜33CとPチャネルMOSトランジスタ34A〜34Cで構成される3つの回路を、配線60に分散的に配置する。
このように接続することにより、配線60が2次元的あるいは3次元的に配置されていて、容量成分が分布している場合にも、配線60のいずれの点もほぼ同時刻に、かつ場所による誤差を小さくして均一に所望の中間電位にすることができる。
【0024】
なお、上記実施の形態3の説明では、パワーオンリセット回路32A〜32Cを用いたが、実施の形態2の信号生成回路50を用いてもよく、上記実施の形態3と同様の効果を奏する。また、配置されるトランジスタ数は配線容量に合わせて設定される。
また、パワーオンリセット回路32A〜32Cを共通化してもよく上記実施の形態と同様の効果を奏する。
【0025】
実施の形態4.
次に、この発明の実施の形態4による半導体集積回路について図7ないし図9を用いて説明する。図7はこの発明の実施の形態4による半導体集積回路の構成を説明するためのブロック図である。図7に示した回路は、この発明の実施の形態4の前提となる回路構成である。
図7において、71は低消費電力型の中間電位発生回路の後段にカレントミラー回路部を接続することによって駆動能力を大きくするとともに外部からの制御信号CEAによって出力が制御できるように構成されている中間電位発生回路である。
図9は、図7に示した中間電位発生回路71の構成の一例を示す回路図である。図9において、73は図3に示したものと同様の構成の低消費電力型の中間電位発生部、74は中間電位発生部73が出力する中間電位に応じて中間電位Vhを出力するカレントミラー回路部である。
駆動能力を大きくするとともに中間電位VMIDを印加する必要のない時には制御信号CEAによって、カレントミラー回路部74を非動作状態とすることで、消費電力の節約を行っている。
【0026】
カレントミラー回路部74は、ドレインとトランジスタQ27のドレインに接続されたゲートと接地電位GNDが与えられるソースを持つNチャネルMOSトランジスタQ40、ドレインと制御信号CEAが与えられるゲートとトランジスタQ40のドレインに接続されたソースを持つNチャネルMOSトランジスタQ41、電源電位Vddが与えられるソースとトランジスタQ41のドレインに接続されたドレインとトランジスタQ41のドレインに接続されたゲートを持つPチャネルMOSトランジスタQ42、ドレインとトランジスタQ42のゲートに接続されたゲートと電源電位Vddが与えられるソースを持つPチャネルMOSトランジスタQ43、接地電位GNDが与えられるソースとトランジスタQ43のドレインに接続されたドレインとトランジスタQ43のドレインに接続されたゲートを持つNチャネルMOSトランジスタQ44、トランジスタQ43のドレインに接続された一方電流電極とノード72に接続された他方電流電極と制御信号CEAが与えれられるゲートを持つNチャネルMOSトランジスタQ45、ゲートとトランジスタQ43のドレインに接続された一方電流電極とノード72に接続された他方電流電極を持つPチャネルMOSトランジスタQ46、および制御信号CEAが与えられる入力端とトランジスタQ46のゲートに接続された出力端を持つインバータ75で構成されている。トランジスタQ45,Q46はトランスミッションゲートを構成している。
【0027】
図7に示した回路の動作を図10に示す。
制御信号CEAは、時刻t3とt4の間、t5とt6の間、t7とt8の間、t9とt10の間、およびt11とt12の間で電源電位VDDを、それ以外の区間で接地電位GND(0V電位)をとる。
カレントミラー回路部74は、制御信号CEAがローレベル(0V電位)の間、トランジスタQ41,Q45,Q46がオフ状態となるため、ノード72に電荷を供給しない。そのため、時刻t3とt4の間では、カレントミラー回路部74が動作している期間が短すぎて、ノード72の電位Vhを所望の中間電位VMIDにすることができない。時刻t5と時刻t6の間でも時刻t3とt4の間と同様に、ノード72の電位Vhを中間電位VMIDにすることはできない。そして、時刻t7とt8の間でやっと電位Vhは中間電位VMIDに達する。
図10に示すように、駆動能力の大きなカレントミラー回路部74を低消費電力型の中間電位発生部73の後段に設けても、制御信号CEAで制御するので、中間電位発生回路71は、初動の段階で、ノード72の電位Vhを中間電位VMIDとしておくことができない。
【0028】
図8は、半導体集積回路中に設けられ、電源が投入されて間もない初動段階からノード72の電位Vhを中間電位VMIDとしておける信号制御型の中間電位発生回路の構成を示すブロック図である。図8において、32はパワーオンリセット信号PORを出力するパワーオンリセット回路、70はパワーオンリセット信号PORと制御信号CEAの論理和をとり制御信号CEBを出力するORゲート、71は制御信号CEBにより制御される中間電位発生回路である。
中間電位発生回路71の構成は、図7に示したものと同じであり、図7と図8の中間電位発生回路71を比べると与えられる制御信号が異なるだけである。また、パワーオンリセット回路32は、図4に示しものと同様に構成することができる。ただし、パワーオンリセット信号PORは、ノード72が所望の中間電位VMIDに達したときに接地電位になるよう設定されるのが好ましい。なお、パワーオンリセット信号PORを変化させるタイミングを与えるのは、ノード72の電位Vhであってもよく、また、電源電位Vddであってもよい。電源電位Vddを用いるときは、電源電位Vddとノード72の電位Vhの関係に応じてパワーオンリセット信号PORを変化させる電位を設定する。
【0029】
図11は、パワーオンリセット信号PORと電源電位Vddとの関係を示すグラフであり、図12は、図8の半導体集積回路における制御信号CEBとノード72の電位Vhの関係を示すグラフである。
図12に示すように、制御信号CEBは、図10に示した制御信号CEAと図11に示したパワーオンリセット信号PORの論理和をとって生成される。そのため、中間電位発生回路71は、電源投入時点(原点)から時刻t14までの間に、ノード72に電荷を供給する。そのため、ノード72の電位Vhは、制御信号CEAが活性化される前にほぼ中間電位VMIDになっており、中間電位発生回路71を用いる半導体集積回路に対しても、初動状態から正確な動作を期待できる。
【0030】
そして、パワーオンリセット信号PORがローレベルになった後は、制御信号CEAによって必要なときのみ中間電位VMIDを保つようにカレントミラー回路部74が動作状態となるので、中間電位発生回路71は、大きな駆動能力と低消費電力という相反する機能を同時に発揮することができる。
【0031】
なお、上記実施の形態4では、パワーオンリセット回路32を用いたが、実施の形態2で説明した信号生成回路50を用いてもよく、上記実施の形態と同様の効果を奏する。
【0035】
発明の効果
発明の半導体集積回路によれば、カレントミラー回路部は、パワーオンリセット信号によって、電源投入時に所定のノードの電位がほぼ第2の中間電位に達するまでは、所定のノードに電荷を供給するので、制御信号によって制御される前に、所定のノードを第2の中間電位にすることができ、低消費電力と、大きな駆動力とをもって所定のノードを駆動しつつ、電源投入直後から、正確な動作を行えるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の実施の形態1による半導体集積回路の構成の一部を示すブロック図である。
【図2】 図1に示した半導体集積回路の動作を説明するための波形図である。
【図3】 図1に示した中間電位発生回路の構成の一例を示す回路図である。
【図4】 図1に示したパワーオンリセット回路の構成の一例を示す回路図である。
【図5】 この発明の実施の形態2による半導体集積回路の構成の一部を示すブロック図である。
【図6】 この発明の実施の形態3による半導体集積回路の構成の一部を示すブロック図である。
【図7】 この発明の実施の形態4を説明するためのブロック図である。
【図8】 この発明の実施の形態4による半導体集積回路の構成の一部を示すブロック図である。
【図9】 図7および図8に示した中間電位発生回路の構成の一例を示す回路図である。
【図10】 図7に示した半導体集積回路の動作を説明するための波形図である。
【図11】 図8に示したパワーオンリセット信号を示す波形図である。
【図12】 図8に示した中間電位発生回路の動作を説明するための波形図である。
【図13】 中間電位を用いる従来の半導体集積回路の構成の一例を示すブロック図である。
【図14】 図13に示した駆動能力の大きな方の中間電位発生回路の構成を示す回路図である。
【図15】 図13に示した駆動能力の小さな方の中間電位発生回路の構成を示す回路図である。
【図16】 図13に示した半導体集積回路の動作を説明するための波形図である。
【図17】 中間電位を用いる従来の半導体集積回路の構成の他の例を示すブロック図である。
【図18】 図17に示した半導体集積回路の動作を説明するための波形図である。
【符号の説明】
31,71 中間電位発生回路、32,32A〜32C パワーオンリセット回路、50 信号生成回路、74 カレントミラー回路部。

Claims (1)

  1. 接地電位との間で容量を持つ所定のノードと、
    前記接地電位と電源電位との間にある第1の中間電位を発生する中間電位発生部と、
    前記所定のノードと前記中間電位発生部との間に接続され、制御信号とパワーオンリセット信号の論理和によって出力電流をオンオフ可能に構成され、前記中間電位発生部から受けた前記第1の中間電位を基に、前記所定のノードに供給する電流を増幅して第2の中間電位を前記所定のノードへ印加するカレントミラー回路部とを備え、
    前記パワーオンリセット信号は、電源投入後前記所定のノードの電位がほぼ前記第2の中間電位に達するまでは前記カレントミラー回路部をオンするレベルを維持し、前記所定のノードの電位がほぼ前記第2の中間電位に達したときに前記カレントミラー回路部をオフするレベルに変化することを特徴とする、半導体集積回路。
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