JP3932949B2

JP3932949B2 - 電子写真感光体及び画像形成装置

Info

Publication number: JP3932949B2
Application number: JP2002091477A
Authority: JP
Inventors: 祐二榊原; 史隆嶺岸
Original assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Current assignee: Mitsubishi Chemical Corp
Priority date: 2001-11-09
Filing date: 2002-03-28
Publication date: 2007-06-20
Anticipated expiration: 2022-03-28
Also published as: JP2003207907A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は電子写真感光体に関するもので、特に電子写真感光体用支持体に陽極酸化被膜を形成した上に感光層を形成する電子写真感光体及び該電子写真感光体を用いた画像形成装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
電子写真技術は、即時性、高品質、かつ保存性の高い画像が得られることなどから、近年では複写機の分野にとどまらず、レーザービームプリンターやファクシミリなどの分野でも広く使用されている。この電子写真プロセスは基本的に、電子写真感光体の均一な帯電、像露光による静電潜像の形成、該潜像のトナーによる現像、該トナー像の紙への転写（中間に転写体を経由する場合もある）及び定着による画像形成プロセスから成り立っている。
【０００３】
前記電子写真感光体は電子写真感光体用支持体上に感光層を形成することにより製造されるが、支持体からの電荷のリークによる画像欠陥対策の為に支持体と感光層の間にブロッキング層を設けることがある。この様なブロッキング層として、支持体を陽極酸化処理することにより形成される陽極酸化被膜、或いはポリビニルアルコール、カゼイン、カゼインナトリウム、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸、セルロース類、ゼラチン、デンプン、ポリウレタン、ポリイミド、ポリアミドなどの下引き層が使用されている。
【０００４】
支持体としてアルミニウム或いはアルミニウム合金からなる金属素管を用いる場合、前記陽極酸化被膜は、一般的に硫酸浴を使用した電解法により形成されており、多孔質層とバリアー層から構成されている。前記多孔質層が数μｍのオーダーであるのに対し、バリアー層は数百Åと非常に薄いため、多孔質層のブロッキング性が重要となる。多孔質層は封孔処理を行わないとブロッキング層として機能を果たすことが出来ないため、一般的に陽極酸化被膜を形成した後に封孔処理が施される。かかる封孔処理としては、一般的にニッケル封孔処理が行われるが、更に８０℃以上の熱水中で浸漬処理することによる封孔促進効果により環境特性の優れた電子写真感光体が得られることが知られていた（特公平６−７５２０９号公報）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、陽極酸化被膜を形成後、封孔処理を施し、次いで熱水中で浸漬処理を行った電子写真感光体用支持体を用いた場合であっても、かかる支持体に感光層を塗布する際の加熱等の熱履歴により、陽極酸化被膜にクラックが発生するという問題があった。このようにして発生したクラックは画像形成の際に、画像欠陥の原因となり、特に繰り返し画像を形成する際にはこの画像欠陥は顕著な問題点となっていた。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
そこで、本発明者等は、かかる問題点を解決するべく、封孔処理した後の熱水中での浸漬処理条件等について鋭意検討を行ったところ、クラックの発生は自然封孔による封孔度の変化が原因と予想されることを見出し本発明に到達した。すなわち本発明の目的は、感光層の塗布工程等における熱履歴により、封孔処理された陽極酸化被膜でのクラック発生の全くない電子写真感光体を提供することにある。そして、かかる目的は、電子写真感光体用支持体上に陽極酸化被膜を形成し、該陽極酸化被膜上に感光層を形成してなる電子写真感光体であって、該陽極酸化被膜が封孔処理を施され、該陽極酸化被膜の封孔処理直後の封孔度と封孔処理１ヶ月後の封孔度を比較して、封孔度の差が封孔処理直後の陽極酸化被膜の封孔度の５０％以下である、つまり封孔処理直後の封孔度をＸ（μＳ）とし、封孔処理１ヶ月後の封孔度をＹ（μＳ）としたとき、（Ｘ−Ｙ）／Ｘ ≦ ０．５であり、かつＸ ≦ ５０μＳであることを特徴とする電子写真感光体によって達成される。
【０００７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。本発明の電子写真感光体は電子写真感光体用支持体上に陽極酸化処理により陽極酸化被膜を形成した上に感光層が形成される。前記支持体としては、電子写真感光体用支持体として用いられ、陽極酸化処理を施し陽極酸化被膜を形成できる金属材料であれば特に限定されないが、好ましくはアルミニウムあるいはアルミニウム合金からなる支持体がよい。支持体の形状は、通常の電子写真感光体に用いられる形状であれば特に限定されるものではないが、好ましくは円筒状の形状がよい。また、支持体は切削加工を利用して、特定の表面粗さに仕上げられてもよい。以下、円筒状アルミニウム或いはアルミニウム合金を支持体として使用する場合について述べる。
【０００８】
前記支持体に陽極酸化処理が施される。陽極酸化処理を施す前に、酸、アルカリ、有機溶剤、界面活性剤、エマルジョン、電解などの各種脱脂洗浄方法により脱脂処理されることが好ましい。陽極酸化被膜は通常の方法、例えば、クロム酸、硫酸、シュウ酸、ホウ酸、スルファミン酸などの酸性浴中で、陽極酸化処理することにより形成されるが、硫酸中での陽極酸化処理が最も良好な結果を与える。硫酸中での陽極酸化処理の場合、硫酸濃度は１００〜３００ｇ／ｌ、溶存アルミニウム濃度は２〜１５ｇ／ｌ、液温は０〜３０℃、電解電圧は１０〜２０Ｖ、電流密度は０．５〜２Ａ／ｄｍ²の範囲内に設定されるのが好ましいが、これに限られるものではない。このようにして形成された陽極酸化被膜の膜厚としては、通常は２０μｍ以下であり、好ましくは１０μｍ以下、更に好ましくは７μｍ以下である。
【０００９】
陽極酸化処理により陽極酸化被膜が形成された支持体には封孔処理が施される。封孔処理は多孔質層中にアルミニウムの水酸化物等を成長させることにより封孔する工程である。従来の封孔処理方法では、封孔は表面から進行し孔の表面近くだけが塞がれて終了する。その結果、孔の表面より奥の部分は未反応のまま残る。この部分では、室温でも放置中に徐々に水酸化物が形成され、時間をかけてゆっくりと封孔が進行する（以下、この現象を自然封孔という）。自然封孔により形成される水酸化物は、例えば下記の高温封孔処理により形成される水酸化物よりも水分子を多く配位しているため、等モル反応あたりの体積膨張が大きく、結果として陽極酸化被膜は例えば高温封孔処理により形成される被膜よりも緻密で硬くなる。
【００１０】
本発明者等の検討によれば、クラックは陽極酸化被膜と支持体のアルミニウムとの熱膨張率の差により発生すると考えられた。すなわち、陽極酸化被膜が緻密であればあるほど、金属アルミニウムとの熱膨張率の差による歪みが大きくなり、感光層の塗布工程での加熱等による熱履歴によりクラックが発生しやすいと考えられる。言い換えると、封孔処理によって得られるアルミニウムの水酸化物に配位している水分子数が少なければ少ないほど、クラックは発生しにくい。前記の自然封孔による封孔の進行を抑えるためには、例えば高温封孔処理を施して封孔することにより、配位水分子数が少ない水酸化物を孔の表面だけでなく奥の方まで成長させ、配位水分子数の多い水酸化物の形成を相対的に少なくすることが必要である。
【００１１】
また、上述の様に自然封孔は時間の経過に伴い進行する。従って、自然封孔の発生しにくい陽極酸化被膜とは、言い換えれば時間の経過に伴う封孔度の変化（減少）がおこりにくい陽極酸化被膜であるということができる。具体的に本発明の効果を奏する感光体は、封孔処理直後と封孔処理１ヶ月後において封孔度の差が、封孔処理直後の陽極酸化被膜の封孔度の５０％以下、好ましくは３０％以下、更に好ましくは２５％以下であるものがよい。また、好ましくは封孔処理直後の封孔度が５０μＳ以下であればよい。ここで、封孔処理直後の陽極酸化被膜の封孔度と封孔処理１ヶ月後の封孔度を比較して、封孔度の差が封孔処理直後の陽極酸化被膜の封孔度の５０％以下であることとは、例えば封孔処理直後の封孔度がＸμＳで、封孔処理１ヶ月後の封孔度がＹμＳであるとすると、（Ｘ−Ｙ）／Ｘ≦０．５であることを意味する。
【００１２】
前記の様な封孔度に特徴を持つ陽極酸化被膜を有する感光体であれば自然封孔により形成される水酸化物が生じにくく、結果として陽極酸化被膜のクラックが生じにくくなると考えられる。すなわち、後の工程である感光層の塗布工程での熱履歴による陽極酸化被膜のクラックの発生を著しく低下できる。
【００１３】
本発明における封孔処理直後の封孔度とは、封孔処理を行った後１時間後に測定した封孔度のことを言い、その値（μＳ）が低いほど封孔が進行している状態を意味する。また、下記高温の加熱乾燥処理を行う場合には、係る加熱乾燥処理１時間後の封孔度を意味する。また、本発明において施される封孔処理は、１種類に限らず、例えば下記ニッケル封孔処理後に高温純水封孔処理を行ってもよい。この際の封孔処理直後の封孔度とは、最後に行った封孔処理（前記の例においては高温純水封孔処理）を行った１時間後を意味する。封孔度はJIS H8683-1979の方法により測定された。
【００１４】
封孔処理としては、通常、使用される処理法であれば、特に限定されるものではないが、ニッケルイオンを含む液に浸漬させるニッケル封孔処理であることが好ましい。ニッケル封孔処理とは例えば主成分としてフッ化ニッケルを含有する水溶液中に浸漬させる低温ニッケル封孔処理、或いは主成分として酢酸ニッケルを含有する水溶液中に浸漬させる高温ニッケル封孔処理などが挙げられる。特に、封孔処理直後と封孔処理１ヶ月後において封孔度の差が、封孔処理直後の陽極酸化被膜の封孔度の５０％以下であることを達成するためには、１．高温ニッケル封孔処理を施すこと、２．ニッケル封孔処理後に高温純水封孔処理を施すこと或いは３．ニッケル封孔処理後に該支持体を高温加熱乾燥処理することが好ましい。
【００１５】
高温ニッケル封孔処理は、封孔剤として酢酸ニッケル、酢酸コバルト、酢酸鉛、酢酸ニッケル−コバルト、硝酸バリウム等の金属塩水溶液を用いることができるが、特に酢酸ニッケルを用いるのが好ましい。酢酸ニッケル水溶液を用いる場合の濃度は３〜２０ｇ／ｌの範囲内で使用するのが好ましい。処理温度は８０℃以上、好ましくは９０℃以上で、又、酢酸ニッケル水溶液のｐＨは５．０〜６．０の範囲で処理するのが良い。ここでｐＨ調整剤としてはアンモニア水、酢酸ナトリウム等を用いることができる。処理時間は２０分以上が好ましく、特に３０分処理するのが好ましい。被膜物性を改良するために酢酸ナトリウム、有機カルボン酸塩、アニオン系、ノニオン系界面活性剤等を酢酸ニッケル水溶液に添加しても良い。
【００１６】
係る高温ニッケル封孔処理は、配位する水分子が少ない水酸化物の形成で封孔が進行するため、前記自然封孔により形成される水酸化物とは反対に、陽極酸化被膜が柔らかくなり、結果として熱膨張率の差による歪みを吸収しやすくなる。また、係る高温ニッケル封孔処理では、処理直後ある程度十分に封孔を施すことができるため、封孔度の経時変化（自然封孔）を減らすことができる。高温ニッケル封孔処理の後に高温純水封孔処理を行っても構わない。この場合には、ニッケル封孔時間は１０分以下、好ましくは２分とすることができる。
【００１７】
高温純水封孔処理とはニッケル封孔処理後に例えば８０℃以上、好ましくは９０℃以上の高温の純水で例えば、２０分以上、好ましくは３０分以上浸漬処理させることである。これにより、配位水分子数の少ない水酸化物で封孔され、封孔度の経時変化（自然封孔）を防止することができる。ここで、高温純水封孔処理における純水は比抵抗が１〜２ＭΩ・ｃｍを用いる。
【００１８】
高温ニッケル封孔処理以外の封孔処理、例えば低温ニッケル封孔処理を行った場合、高温ニッケル封孔処理とは異なり、前記の様に孔の表面近くだけが塞がれてしまうといった現象が生じる。すなわち、ここで封孔処理を停止すると、自然封孔による配位水分子数の多い水酸化物が生成されると考えられる。この際、自然封孔を防止するためには、ニッケル封孔処理後に高温純水封孔処理を施すことが有用である。
【００１９】
低温ニッケル封孔処理の処理条件としては、使用されるフッ化ニッケル水溶液の濃度は適宜選べるが、３〜６ｇ／ｌの範囲内で使用された場合が最も効果的である。また封孔処理をスムーズに進めるために、処理温度としては２５〜４０℃、好ましくは３０〜３５℃とし、フッ化ニッケル水溶液のｐＨは４．５〜６．５、好ましくは５．５〜６．０の範囲で処理するのが良い。ｐＨ調整剤としては、シュウ酸、ホウ酸、ギ酸、酢酸、水酸化ナトリウム、酢酸ナトリウム、アンモニア水等を用いることができる。処理時間は、被膜の膜厚１μｍ当り１〜３分の範囲内で処理するのが好ましい。なお、被膜物性を更に改良するためフッ化コバルト、酢酸コバルト、硫酸ニッケル、界面活性剤等をフッ化ニッケル水溶液に添加しておいてもよい。
【００２０】
また、封孔処理後の該支持体を高温加熱乾燥処理することも有効である。これは、高温での加熱乾燥処理により高温純水中での封孔と同様の封孔が進行するか、あるいは配位する水分子の数を減らす効果があるためと考えられる。特に限定されないが、９０℃以上で３０分程度、好ましくは、１時間以上加熱乾燥させることにより、高温純水封孔処理と同様の効果が得られる。
【００２１】
本発明者等は種々の条件で封孔処理の検討の結果、上記高温処理による効果は、８０℃以上ではアルマイトの水和反応は１水和物であるベーマライト（Ａｌ₂Ｏ₃・Ｈ₂Ｏ）に近い水酸化物を形成するのに対して、８０℃以下では３水和物であるバイヤライト（Ａｌ₂Ｏ₃・３Ｈ₂Ｏ）に近い水酸化物が生成されるためと考えている。従って、高温処理により生成するアルミの低水和物で封孔されることが、クラックを生じない陽極酸化被膜を与えることができると推定している。
【００２２】
このようにして得られた支持体に更に染色処理を行ってもよい。染色処理を行う場合は、有機、無機化合物塩溶液中に支持体を浸漬しそれらの塩を吸着させる。具体的にはアゾ系などの水溶性有機染料１〜１０ｇ／ｌ、液温２０〜６０℃、ｐＨ３〜９、浸漬時間１〜２０分のような条件で行う。
【００２３】
上述したように得られた陽極酸化被膜を有する支持体上には感光層が形成される。該支持体には感光層を形成する前に下引き層を形成してもよい。下引き層としては、ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸、セルロース類、ゼラチン、デンプン、ポリウレタン、ポリイミド、ポリアミド等の有機層を用いることができる。なかでも、基体との接着性に優れ、電荷発生層塗布液に用いられる溶媒に対する溶解性の小さなポリアミド樹脂が好ましい。下引き層中には、アルミナ、チタニア等の金属酸化物微粒子や有機または無機の色素を含有させることが効果的である。下引き層の膜厚は通常０．１〜１０μｍ、好ましくは０．２〜５μｍである。
【００２４】
感光層は電荷発生物質を含有する電荷発生層と電荷輸送層をこの順に積層したもの、逆に積層したもの、または電荷輸送媒体中に電荷発生物質粒子を分散したいわゆる単層型などいずれも用いることができるが、電荷発生層および電荷輸送層を有する積層型感光層が好ましい。感光層が単層構造の場合には、感光材料が結着材料に分散してなる公知のものが使用される。例えば、色素増感されたＺｎＯ感光層、ＣｄＳ感光層、電荷発生物質を電荷輸送物質と結着材料等からなる層中に分散させた感光層が挙げられる。この様にして調製された分散液を用いて、電荷発生層の膜厚は電荷輸送層と積層させて感光層を形成する場合０．１〜１０μｍの範囲が好適であり電荷輸送層の膜厚は１０〜４０μｍが好適である。単層構造で感光層を形成する場合の感光層の膜厚は５〜４０μｍの範囲が好適である。
【００２５】
電荷発生層には、電荷発生物質とバインダー樹脂とを含む。電荷発生物質としては、電子写真感光体に用いられる物質であれば特に限定されるものではなく、具体的にはセレン及びその合金、ヒ素−セレン、硫化カドミウム、酸化亜鉛、その他の無機光導電体、フタロシアニン、アゾ、キナクリドン、多環キノン、ペリレン、インジゴ、ベンズイミダゾールなどの有機顔料を使用することができる。特に銅、塩化インジウム、塩化カリウム、スズ、オキシチタニウム、亜鉛、バナジウムなどの金属、またはその酸化物や塩化物の配位したフタロシアニン類、無金属フタロシアニン類などのフタロシアニン顔料、または、モノアゾ、ビスアゾ、トリスアゾ、テトラキスアゾ類などのアゾ顔料が好ましい。これらのうち特にフタロシアニン顔料がより好ましく、特定結晶系を有するオキシチタニウムフタロシアニンが特に好ましい。これは、オキシチタニウムフタロシアニンが通常の顔料より熱による結晶変換が起きやすいためである。
【００２６】
このようなオキシチタニウムフタロシアニンの例としては、ＣｕＫα線によるＸ線回折においてブラッグ角（２θ±０．２゜）２７．３゜に最大回折ピークを示すものがあげられるが、これに限定されるものではない。このオキシチタニウムフタロシアニンの結晶型は、一般にはＹ型あるいはＤ型と呼ばれているものであり、例えば特開昭６２−６７０９４号公報の第２図（同公報ではＩＩ型と称されている）、特開平２−８２５６号公報の第１図、特開昭６４−８２０４５号公報の第１図、電子写真学会誌第９２巻（１９９０年発行）第３号第２５０〜２５８頁（同刊行物ではＹ型と称されている）に示されたものである。この結晶型オキシチタニウムフタロシアニンは、２７．３°に最大回折ピークを示すことが特徴であるが、これ以外に通常７．４°、９．７°、２４．２°にピークを示す。
【００２７】
回折ピークの強度は、結晶性、試料の配向性および測定法により変化する場合もあるが、粉末結晶のＸ線回折を行う場合に通常用いられるブラッグ−ブレンターノの集中法による測定では、上記の結晶型オキシチタニウムフタロシアニンは２７．３°に最大回折ピークを有する。また、薄膜光学系（一般に薄膜法或いは平行法とも呼ばれる）により測定された場合には、試料の状態によっては２７．３°が最大回折ピークとならない場合があるが、これは結晶粉末が特定の方向に配向しているためと考えられる。
【００２８】
分散媒としては、電子写真感光体の製造工程で用いられるものであれば特に限定されるものではなく種々の溶媒を用いてよい。例えば、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン等のエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類；メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素を単独あるいは２種以上混合して使用することができる。用いる分散媒の量は分散が充分行え、且つ分散液中に有効量の電荷発生物質が含まれる限りいかなる量でもよく、通常は分散時の分散液中の電荷発生物質の濃度にして３〜２０ｗｔ％、より好ましくは４〜２０ｗｔ％程度が好ましい。
【００２９】
バインダー樹脂としては、電子写真感光体に使用されるものであれば特に限定されるものではないが、具体的には、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリイミド、ポリメチルメタクリレート、ポリ塩化ビニル等のビニル重合体、及びその共重合体、フェノキシ、エポキシ、シリコーン樹脂等またこれらの部分的架橋硬化物等を単独あるいは２種以上用いることができる。バインダー樹脂と電荷発生物質との混合方法としては例えば、電荷発生物質の分散処理工程にバインダー樹脂を粉末のまま或いはそのポリマー溶液を加え同時に分散する方法、分散処理工程で得られた分散液をバインダー樹脂のポリマー溶液中に混合する方法、或いは逆に分散液中にポリマー溶液を混合する方法等のいずれかの方法を用いてもかまわない。
【００３０】
次にここで得られた分散液は、塗布をするのに適した液物性にするために、種々の溶剤を用いて希釈してもかまわない。このような溶剤としては、例えば前記分散媒として例示した溶媒を使用することができる。電荷発生物質とバインダー樹脂との割合は特に制限はないが一般には樹脂１００重量部に対して電荷発生物質が５〜５００重量部の範囲より使用される。また必要に応じて電荷輸送物質を含むことができる。電荷輸送物質としては例えば、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルピレン、ポリアセナフチレン等の有機高分子化合物、フルオレノン誘導体、テトラシアノキシジメタン、ベンゾキノン誘導体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン誘導体、ジフェノキノン誘導体などの電子吸引性物質、カルバゾール、インドール、イミダゾール、オキサゾール、ピラゾール、オキサジアゾール、ピラゾリン、チアジアゾールなどの複素環化合物、アニリン誘導体、ヒドラゾン誘導体、芳香族アミン誘導体、スチルベン誘導体、或いはこれらの化合物からなる基を主鎖もしくは側鎖に有する重合体などの電子供与性物質が挙げられる。電荷輸送物質とバインダー樹脂との割合はバインダー樹脂１００重量部に対して電荷輸送物質が５〜５００重量部の範囲により使用される。この様にして電荷発生層用塗布液が調製される。
【００３１】
電荷輸送層は、バインダー樹脂として優れた性能を有する公知のポリマーと混合して電荷輸送物質と共に適当な溶剤中に溶解し、必要に応じて電子吸引性化合物、あるいは、可塑剤、顔料その他の添加剤を添加して得られる。電荷輸送層中の電荷輸送物質としては、上記の電荷輸送物質を使用することができる。電荷輸送物質とともに使用されるバインダー樹脂としては種々の公知の樹脂が使用できる。ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、アクリル樹脂、メタクリレート樹脂、スチレン樹脂、シリコーン樹脂などの熱可塑性樹脂や硬化性の樹脂が使用できる。とくに摩耗、傷の発生の少ないポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂が好ましい。ポリカーボネート樹脂は、そのビスフェノール成分としてビスフェノールＡ、ビスフェノールＣ、ビスフェノールＰ、ビスフェノールＺ、あるいは、公知の種々の成分が使用出来る。また、これらの成分からなる共重合物であってもよい。電荷輸送物質とバインダー樹脂の配合比率は、バインダー樹脂１００重量部に対して例えば１０〜２００重量部、好ましくは３０〜１５０重量部の範囲で配合される。
【００３２】
電荷輸送層用塗布液に用いる溶剤としては、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、アニソール等のエーテル類；メチルエチルケトン、２，４−ペンタンジオン、シクロヘキサノン等のケトン類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；酢酸エチル、蟻酸メチル、マロン酸ジメチル等のエステル類；３−メトキシブチルアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート等のエーテルエステル類；ジクロロメタン、ジクロロエタン等の塩素化炭化水素などが挙げられる。もちろんこれらの中から１種または２種以上選択して用いてもよい。好ましくは、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、２，４−ペンタンジオン、アニソール、トルエン、マロン酸ジメチル、３−メトキシブチルアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテートの中から選択するのが好ましい。
【００３３】
更に、本発明の電子写真感光体の感光層は成膜性、可とう性、塗布性、機械的強度を向上させるために周知の可塑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、レベリング剤を含有していてもよい。更に、感光層の上に、機械的特性の向上及びオゾン，ＮＯｘ等の耐ガス特性向上のために、オーバーコート層を設けても良い。更に必要に応じて、接着層、中間層、透明絶縁層等を有していてもよいことは言うまでもない。
【００３４】
本発明において、前記の各層を形成するための塗布操作は、従来公知の塗布方法に従う。例えば、浸漬塗布法、スプレー塗布法、スピンナーコーティング法、ブレードコーティング法等を採用して行うことができる。
【００３５】
本発明で用いる画像形成装置としては、モノクロプリンター、複写機、カラープリンター、カラー複写機、ファクシミリなどがあげられる。特に、本発明の電子写真感光体は、高画質の画像を提供できることから、高解像度の画像形成装置にも適している。特に、６００ｄｐｉ以上の解像度の画像を得る画像形成装置にも利用することができる。また、本発明の感光体を使用する画像形成装置においては、通常、従来公知の波長域を有するレーザー光等の光源を利用することで本発明の効果を得ることが出来るが、３８０ｎｍ〜６００ｎｍに波長域を有する光源を利用する該画像形成装置においても、本発明の奏する効果は達成されると考えられる。
【００３６】
該画像形成装置には、感光体を一様に帯電させる帯電ユニット、次いで、感光体を像露光することにより、露光された部分の電荷を消散させて静電潜像を形成する露光ユニット、荷電させたトナーを付着させることによってその静電潜像を可視化させて現像する現像ユニット、得られた可視像を転写紙等の転写材に転写せしめる転写ユニット、加熱、加圧等によってその可視像を転写材に定着させる定着ユニット、転写材へのトナー転写後に、感光体表面に残留するトナーを除去するクリーニングユニットが設けられている。また、場合によりクリーニング後に感光体表面に残存する電荷を取り除く除電ユニットが設けられる。さらには、記録媒体（用紙）を搬送する搬送ユニットが設けられる。
【００３７】
本発明の画像形成装置において、帯電器としては、コロトロン、スコロトロンに代表されるコロナ帯電器等の非接触帯電器；帯電ローラー、帯電ブラシ等の接触帯電器等が用いられる。露光は、ハロゲンランプ、蛍光灯、レーザー（半導体、Ｈｅ−Ｎｅ）、ＬＥＤ等の光源を用いて、通常の感光体外部からの露光方式、感光体内部からの露光方式等により行われる。又、現像は、カスケード現像、非磁性一成分トナーによる接触或いは非接触現像、磁性一成分トナーによる接触或いは非接触現像、二成分磁気ブラシ現像等の乾式現像方式や液体トナーによる湿式現像方式等により行われる。転写は、コロナ転写、ローラー転写、ベルト転写等の静電転写法、圧力転写法、粘着転写法等により、定着は、熱ローラ定着、フラッシュ定着、オーブン定着、圧力定着等により行われる。又、クリーニングは、ブラシクリーニング、磁気ブラシクリーニング、静電ブラシクリーニング、磁気ローラクリーニング、ブレードクリーニング等により行われる。
【００３８】
なお、画像形成装置としては、フルカラー印刷を行う場合には、電子写真感光体上に付着したトナー等の現像剤を、一旦一つの中間転写ベルトに転写し、中間転写ベルト上で各色のトナーを合わせ、カラー可視像とした後、転写手段を用いて記録媒体（用紙）にカラー画像を形成するものであってもよい。
【００３９】
【実施例】
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明は、その要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、実施例中で用いる「部」は断りがない限り、「重量部」を示す。
【００４０】
（電荷発生層用塗布液の作製）
［分散液Ｑ１］
Ｘ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角（２θ±０．２゜）９．３゜、１０．６゜、１３．２゜、１５．１゜、１５．７゜、１６．１゜、２０．８゜、２３．３゜、２６．３°、２７．１゜に主たる回折ピークを持つオキシチタニウムフタロシアニン１０重量部を１，２−ジメトキシエタン１５０重量部に加え、サンドグラインドミルによって粉砕、分散処理を行ない分散液Ｑ１を作製した。
【００４１】
［分散液Ｑ２］
Ｘ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角（２θ±０．２゜）９．７゜、２４．２゜、２７．３゜に主たる回折ピークを持つオキシチタニウムフタロシアニンを用いた他は、分散液Ｑ１と同様にして分散液Ｑ２を作製した。
【００４２】
予め作製した分散液Ｑ１、４８重量部と、分散液Ｑ２、１１２重量部を混合し、得られた１６０重量部の顔料分散液をポリビニルブチラール（電気化学工業（株）製、商品名＃６０００−Ｃ）の５％１，２−ジメトキシエタン溶液１００重量部に加え、最終的に固形分濃度４．０％の分散液である電荷発生層用塗布液を作製した。
【００４３】
（電荷輸送層用塗布液の作製）
下記のＮ，Ｎ−ジ−ｐ−トリルアミノベンズアルデヒドジフェニルヒドラゾン５４重量部と
【化１】

【００４４】
下記のＮ−メチルカルバゾールアルデヒドジフェニルヒドラゾン６重量部、
【化２】

【００４５】
下記のシアノ化合物１重量部、
【化３】

【００４６】
３，５-ジ- t ブチル-４-ヒドロキシトルエン（以下、BHTと略する）１６部及び、特開平３−２２１９６２号公報の実施例中に記載された製造法により製造された、２つの繰り返し構造単位を有する下記ポリカーボネート樹脂（モノマーモル比１：１）１００部
【００４７】
【化４】

【００４８】
をトルエン、テトラヒドロフランの混合溶媒に溶解させ、電荷輸送層塗布液とした。
【００４９】
（実施例１）
電子写真感光体用支持体としてアルミニウム合金製の、表面を鏡面仕上げした長さ３５０ｍｍ、直径１００ｍｍ、肉厚２ｍｍの円筒状アルミニウム支持体を用い、一般的な前処理（脱脂、中和、水洗）を行った後、硫酸濃度１８０ｇ／ｌ、溶存アルミニウム濃度４．５±０．５ｇ／ｌ、陽極酸化処理液濃度１８℃、電流密度１．２Ａ／ｄｍ²条件下で１８分間陽極酸化処理を行い、陽極酸化被膜６μｍを得た。
【００５０】
次いで、高温ニッケル封孔処理液（奥野製薬製、ＤＸ−５００，濃度７ｇ／ｌ）を用いて、液温度９０℃、ｐＨ５．５の条件下で２分間高温ニッケル封孔処理を行った。次いで比抵抗が１ＭΩの純水にて、処理液温度９０℃で３０分間高温純水封孔処理を行った。封孔度をＦｉｓｃｈｅｒ製ＡＮＯＴＥＳＴＹＤ（TYPE YD8.1e、測定周波数１ｋＨｚ）と、ガスケット（内径１３ｍｍ、厚さ５ｍｍ）と、試験液として硫酸カリウム（３．５ｗｔ％）を用いて測定したところ、封孔処理直後（封孔処理終了１時間後）の封孔度は、４０μＳであった。また、該支持体を１ヶ月放置した後の封孔度は３５μＳであった。従って、封孔処理直後と封孔処理１ヶ月後の封孔度の差は封孔処理直後の封孔度の１３％であった。
【００５１】
該支持体に上記電荷輸送層及び電荷発生層を順次浸漬塗布法により塗布し感光体を得た。該感光体を感光層塗膜の溶剤を除去するため１３０℃で乾燥させた。目視で観察したところ、得られた感光体表面にはクラックは発生していなかった。また、該感光体を用いたデジタル複写機（ＣＦ９００１：ミノルタ（株）製）にて、画像を形成したところ画像欠陥は発生しなかった。
【００５２】
（実施例２）実施例１と同様にして支持体に６μｍの陽極酸化皮膜を形成した．次いで、低温ニッケル封孔処理液（奥野製薬製、Ｌ−１００，濃度５ｇ／ｌ）を用いて、液温度３５℃、ｐＨ５．５の条件下で１２分間封孔処理を行った。次いで、得られた支持体を１００℃の熱風で６０分間高温乾燥処理を行い、実施例１と同様にして、封孔度を測定したところ封孔処理直後の封孔度は、４５μＳであった。また、該支持体を１ヶ月放置した後の封孔度は３５μＳであった。従って、封孔処理直後と封孔処理１ヶ月後を比較すると、封孔度の差は封孔処理直後の封孔度の２２％であった。該感光体を感光層塗膜の溶剤を除去するため１３０℃で乾燥させた。目視で観察したところ、得られた感光体表面にはクラックは発生していなかった。また、該感光体を用いて、実施例１と同様に画像を形成したところ画像欠陥は発生しなかった。
【００５３】
（比較例１）実施例２と同様にして支持体に低温ニッケル封孔処理を行った。係る処理直後の封孔度を測定したところ、２００μＳ以上であった。また、該支持体を１ヶ月放置した後の封孔度は３５μＳであった。従って、封孔処理直後と封孔処理１ヶ月後を比較すると、封孔度の差は封孔処理直後の封孔度の８３％であった。該感光体を感光層塗膜の溶剤を除去するため１３０℃で乾燥させた。目視で観察したところ、得られた感光体表面にはクラックが全面に発生していた。また、該感光体を用いて、実施例１と同様に画像を形成したところ画像欠陥が発生した。
【００５４】
【発明の効果】
本発明により、クラックを生じない陽極酸化被膜を有する電子写真感光体を得ることができる。特に感光層の塗布工程での熱履歴によるクラック発生のない電子写真感光体を提供することができる。また、該電子写真感光体を用いた画像形成装置を使用することにより、良好な画像を得ることができる。

Claims

電子写真感光体用支持体上に陽極酸化被膜を形成し、該陽極酸化被膜上に感光層を形成してなる電子写真感光体であって、該陽極酸化被膜が封孔処理を施され、封孔処理直後の陽極酸化被膜の封孔度をＸ（μＳ）とし、封孔処理１ヶ月後の封孔度をＹ（μＳ）としたとき、Ｘ ≦ ５０μＳであり、かつ
（Ｘ−Ｙ）／Ｘ ≦ ０．５であることを特徴とする電子写真感光体。
（Ｘ−Ｙ）／Ｘ ≦ ０．３であることを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体。
前記電子写真感光体用支持体がアルミニウム或いはアルミニウム合金からなることを特徴とする請求項１または２に記載の電子写真感光体。
前記封孔処理がニッケル封孔処理であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
前記封孔処理が高温ニッケル封孔処理であることを特徴とする請求項４に記載の電子写真感光体。
前記封孔処理がニッケル封孔処理後に高温純水封孔処理を行うことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
前記封孔処理後、高温加熱乾燥処理されることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
請求項１〜７のいずれか１項に記載の電子写真感光体を用いた画像形成装置。