JP3800747B2 - 触媒ヒータおよびこの触媒ヒータを使用した触媒装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、厨芥処理機器等から発生する臭気成分や油煙などを浄化する触媒ヒータと、この触媒ヒータを冷房装置などに装着して室内空気を浄化する触媒装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、調理機器・厨芥処理機などから発生する臭いや油煙は、排ガス経路に配置したセラミックス担体を用いたハニカム状の酸化触媒を、外部から加熱することによって酸化分解して、室内の空気を清浄に保つようにしているものである。また、冷房装置等には吸着剤と前記酸化触媒とを取り付け、冷房中は室内空気に含まれるタバコの煙や臭気成分を一旦吸着材に吸着させ、間欠的に加熱して吸着成分を酸化分解して、室内の空気を浄化しているものである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
前記従来の方法は、酸化触媒の温度上昇が遅く、分解温度に達するまでに時間が長くかかるという課題を有している。例えば、セラミックス担体を用いた酸化触媒の場合には、触媒の熱容量が大きいということ、セラミックスの熱伝導率が低いということが原因しているものである。また、触媒をハニカム形状とした場合には温度分布が不均一となって、排ガスと触媒との接触効率が悪くなるものである。また、異物によってハニカムが詰まった場合には、その部分の浄化能力が低下し、耐久性も低下するものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】
本発明は、エキスパンドメタル基材の表面に触媒層を形成し、エキスパンドメタル基材を通電した時の発熱を利用して触媒層を加熱して、温度上昇が早く、排ガスの浄化能力が大きく、異物が詰まっても浄化性能が低下しない触媒ヒータとしている。また、この触媒ヒータを使用することによって、圧力損失が小さく、効率の優れた触媒装置としているものである。
【0005】
【発明の実施の形態】
請求項1に記載した発明は、エキスパンドメタルの基材の表面に触媒層を形成し、前記触媒層は、基材の表面に形成したセルフクリーニング触媒層と、前記セルフクリーニング触媒層の表面に形成した再生触媒層とからなり、前記セルフクリーニング触媒層は、ホーローフリットとアルミナとマンガン酸化物を主成分としたスラリーを焼成して形成し、前記再生触媒層は、非加熱時に作用し加熱時に再活性化する吸着剤と加熱時に作用する貴金 属触媒とを組み合わせた構成とし、エキスパンドメタルを通電した時の発熱を利用して触媒層を加熱するようにすることにより、セルフクリーニング触媒層の表面は、凹凸を有したホーローフリットによるガラス層が形成され、この凹凸によるアンカー効果と化学的結合とを併用してエキスパンドメタル基材と触媒層との密着性は高く強固な触媒層を形成でき、さらにこのセルフクリーニング触媒層の表面の凹凸部に再生触媒層が強固に結合され、表面部分が貴金属濃度の高い状態となり、セルフクリーニング触媒と再生触媒の相乗効果により、従来に比べて触媒の浄化能力が高く、かつ耐久性に優れた触媒ヒータを実現できるものである。
【0006】
また、再生触媒層は、吸着剤と貴金属触媒を有して、常時は排ガス中の有害成分を吸着し、定期的に触媒ヒータに通電して吸着した有害成分を分解し、同時に吸着剤を活性化でき、メンテナンスフリーの触媒ヒータを実現できるものである。
【0007】
そしてさらに、エキスパンドメタル基材を通電した時の発熱を利用して触媒層を加熱することによって、温度上昇が早く、排ガスの浄化能力が大きく、異物が詰まっても浄化性能が低下しない触媒ヒータを実現できるものである。
【0008】
請求項2に記載した発明は、吸着剤は、シリカゲルまたはゼオライトの少なくとも一方を含む構成として、特に吸着性能が高くメンテナンスフリーの触媒ヒータを実現できるものである。
【0009】
請求項3に記載した発明は、前記触媒ヒータを排ガスの吸気口と排気口を備えた触媒ケースに収容して、圧力損失が小さく、効率の優れた触媒装置を実現できるものである。
【0010】
【実施例】
以下、本発明の実施例について図面を参照して説明する。
【0011】
(実施例1)
図1は本実施例で使用している触媒ヒータを構成する素材を示す平面図である。1は表面に触媒層を形成したエキスパンドメタルで、両端に給電端子2を設けている。(以下エキスパンドメタルの各部を示す用語は、JIS G 3351に準拠して使用する。)エキスパンドメタル1は、図2に示す構成となっている。すなわち、フープ状の基材4を刻み幅Kに応じて順送し、かまぼこ型の刃物で打ち抜いているものである。このためアヤメ3は押し広げられるものであり、前記順送の条件を調整することによって短目方向の中心間距離SWと長目方向の中心間距離LWを所定の寸法としているものである。本実施例では、LWは3mm、SWは2mm、Lは800mm、Sは20mmの設定としている。また基材4としては、FeーCrーAl系耐熱鋼、NiーCr系耐熱鋼のいずれかが適している。この理由は、固有抵抗が大きく、従って触媒ヒータとしてのサイズを小さくできるためである。本実施例では、基材4の表面に形成する触媒層の熱膨張係数と整合するために、相対的に熱膨張係数が小さいFeーCrーAl系耐熱鋼(NTK NO.4L(日本金属工業製))を材厚0.1mmで使用している。
【0012】
前記したアヤメ3を形成する加工時に基材4は加工硬化を生じ、このため折り曲げ等の二次加工によって折れたりするものである。そこで、本実施例では加工硬化を緩和するために焼鈍処理を施している。焼鈍処理は本実施例では大気中で行っているが、もちろん不活性ガス雰囲気中で行うこともできる。この焼鈍温度は、発明者らの試験結果によれば900〜1000℃が適切である。この理由は、900℃未満では酸化皮膜の形成量が不十分であり、1000℃を越えると結晶粒が成長して脆くなってくるためである。
【0013】
こうして焼鈍を終了した基材4の表面に、触媒として使用しているマンガン酸化物を含むセルフクリーニングホーロー(以後SCホーローと称す)を塗布・乾燥した後、焼成するものである。なお、本実施例ではSCホーローを触媒として用いているが特にSCホーローに限定されるものではない。
【0014】
こうして完成したエキスパンドメタル1を、図3に示しているように複数枚積層して触媒ヒータ5としているものである。なお図3中の2は、給電端子である。
【0015】
以下本実施例の動作を説明する。給電端子2間に図示していない商用交流電源を接続すると、触媒ヒータ5は動作を開始する。すなわち、素材であるエキスパンドメタル1は通電によって発熱し、表面に形成した触媒層が活性化する。この状態で、排ガスが触媒ヒータ5を通過すると、排ガス中に含まれているタバコの煙や臭気成分は、基材4の表面に形成している触媒層によって吸着され、分解されるものである。こうして、浄化された排ガスが外部に流れるものである。
【0016】
このとき本実施例によれば、基材4の表面に触媒層を形成し、エキスパンドメタル1を通電した時の発熱を利用して触媒層を加熱するようにしているため、触媒層の温度上昇が早く、触媒層の活性化までの時間が非常に短くなるものである。また、エキスパンドメタル1を素材として使用しているため、異物が詰まることが無く、浄化性能が低下しない触媒ヒータを実現している。
【0017】
発明者らの実験では、同一容量で加熱した場合には、本実施例の触媒ヒータの表面温度は従来の構成の酸化物触媒の表面温度の約2倍に達するものである。また300℃に達するまでの時間は本実施例のものでは100Wで40秒であるが、従来のものでは300Wで7分を要している。つまり、触媒活性温度に達するために必要となるエネルギーは従来の1/2でよいものである。
【0018】
またこのとき、エキスパンドメタル1を触媒層を加熱するヒータとして使用しているため、抵抗値の設定を自由に行え、任意の電力を触媒層に供給できるものである。すなわち、エキスパンドメタル1の基材4の板厚・幅S・長さL・きざみ幅K・LW・SWのいずれを調整することによっても抵抗値を変えることが出来るものである。
【0019】
また本実施例では、エキスパンドメタル1は、アヤメ3の数を一定とするように切断加工しているものである。このため、抵抗値のばらつきが小さく、量産したときに特性が一定となるものである。外形寸法を一定にしたときにエキスパンドメタル1をランダムに切断して制作したものと、アヤメの数を一定に揃えて切断して制作したものとを比較すると、前者の抵抗値のバラツキは±21%で、後者の抵抗値のバラツキは±2%であった。
【0020】
また本実施例では、エキスパンドメタル1は、LW/SWの比を1〜5に設定しているものである。発明者らの試験結果によれば、LW/SWの比が1以下になると、ボンドの強度が弱くなり二次加工ができなくなるものである。またこの比が5以上になると、エキスパンドメタル1の平坦度が極端に悪くなるものである。従って実用的にはLW/SWの比は1〜5が適切であり、2〜3とする方がより好ましいものである。
【0021】
また、基材4として、Ni−CrまたはFe−Cr−Alのいずれかを使用しているため、耐久性に優れた、また固有抵抗が大きいため触媒ヒータ5を小型に形成できるものである。
【0022】
またエキスパンドメタル1は、900〜1000℃の雰囲気中で焼鈍するようにしているため、表面に酸化物の緻密な不働態皮膜を形成でき、耐熱性・耐食性が高く、かつ強度の高い触媒ヒータを実現しているものである。
【0023】
また本実施例では、触媒層は、基材4の表面に形成したSC触媒層と、SC触媒層の表面に担持した再生触媒層とから形成しているものである。図4は、この触媒層の構成を示す断面図である。基材4にSC触媒のスラリーを7.0g塗布した後、130℃で20分乾燥し、850℃で2分焼成してSC触媒層8を形成する。
【0024】
前記SC触媒のスラリーはガラスフリットと耐火成分としてのアルミナと触媒成分としてのマンガン酸化物を主成分として有し、懸濁剤として粘土などを少量有している。粘土には懸濁効果と乾燥塗膜の強度を高める作用がある。またガラス成分として本実施例ではステンレス用のホーローフリットを使用している。このスラリーを焼成したSC触媒層8は、多孔質な塗膜であり、触媒作用を有している。また、SC触媒層8によって形成した塗膜は、表面に凹凸を有するものであり、アンカー効果を有している。
【0025】
こうして形成したSC触媒層8の表面に、少なくとも吸着剤と貴金属触媒を有する再生触媒のスラリーを7.0g塗布し、130℃で20分乾燥し、500℃で5分焼成する。前記吸着剤として本実施例では、シリカゲルまたはゼオライトの少なくとも一方を含むものである。
【0026】
こうして形成した触媒層は、焼鈍処理によって基材4の表面に形成されている緻密な酸化物層に、アンカー効果を有するSC触媒層8が強固に結合し、SC触媒層8の表面の凹凸部に再生触媒層9が強固に結合されるものとなっている。表面部分が貴金属濃度の高い状態となって、従来に比べて触媒の浄化能力が高く、また耐久性に優れた触媒装置を実現できるものである。このため、触媒層は基材4との密着性が非常に高く、耐久性に優れた触媒ヒータを実現しているものである。
【0027】
このとき本実施例では、SC触媒層8として、ガラスフリットに少なくともマンガン酸化物を含むスリップを塗布・焼成して形成しているものである。このため、再生触媒層9との密着性を確保でき、さらに、再生触媒層9を補完して排ガスの浄化能を向上できる触媒ヒータを実現するものである。
【0028】
また、SC触媒層8を構成するガラスフリットとして、ステンレス用のホーローフリットを使用しているものである。ステンレス用のホーローフリットは、一般のガラス粉末に対して融点が低く、従って焼成温度を低く設定できるものであり製造が容易にできる。また形成したガラス層が凹凸を有したものとなっており、触媒ヒータとして非常に適しているものである。
【0029】
また本実施例では、再生触媒層9として、吸着剤と貴金属触媒を使用しているものである。このため、例えば本実施例の触媒ヒータを冷房装置や空気清浄機等に使用した場合には、非常に都合の良いものである。つまり冷房装置や空気清浄機では、運転中は熱の放出を極力抑える必要がある。従って触媒層を常時加熱する構成は避ける必要がある。本実施例では、再生触媒層9をゼオライト等の吸着剤と、貴金属触媒とを組み合わせた構成としているものである。このため、常時は排ガス中の有害成分を吸着材によって吸着し、定期的に触媒ヒータに通電することによって吸着した有害成分を貴金属触媒によって分解し、同時に吸着剤を活性化できるものである。従って、メンテナンスフリーの触媒ヒータを実現するものである。
【0030】
また本実施例では前記吸着剤として、シリカゲルまたはゼオライトの少なくとも一方を含む構成としており、有害成分に対する吸着力が高く、メンテナンスフリーの触媒ヒータを実現している。
【0031】
(実施例2)
続いて本発明の第2の実施例について説明する。図5は本実施例の構成を示す一部切り欠き斜視図である。15は、排ガスの吸気口15aと排ガスの排気口15bを備えている触媒ケースであり、内部に実施例1で説明した触媒ヒータ5を収容している。以上の構成の触媒装置は、例えば冷房装置や空気清浄機中に組み込まれているものである。
【0032】
以下本実施例の動作について説明する。図示していない冷房装置あるいは空気清浄機のスイッチをオンして、室内を冷房あるいは室内空気の清浄化運転を実行すると、同時に触媒装置が駆動するものである。つまり、吸気口15aから吸気した室内の空気を浄化して排気口15bから清浄な空気として排気するものである。すなわち、室内の空気に含まれているタバコの煙や臭気成分を吸着し、酸化分解して清浄化するものである。この触媒装置の動作は、例えば冷房装置に使用している場合には、冷房装置に付属しているスイッチによって冷房運転とは独立して制御することもできるようになっている。
【0033】
以上のように本実施例によれば、実施例1で説明した触媒ヒータ5を排ガスの吸気口15aと排気口15bを備えた触媒ケースに収容して、圧力損失が小さく、効率の優れた触媒装置を実現するものである。
【0034】
【発明の効果】
請求項1に記載した発明は、エキスパンドメタルの基材の表面に触媒層を形成し、前記触媒層は、基材の表面に形成したセルフクリーニング触媒層と、前記セルフクリーニング触媒層の表面に形成した再生触媒層とからなり、前記セルフクリーニング触媒層は、ホーローフリットとアルミナとマンガン酸化物を主成分としたスラリーを焼成して形成し、前記再生触媒層は、非加熱時に作用し加熱時に再活性化する吸着剤と加熱時に作用する貴金属触媒とを組み合わせた構成とし、エキスパンドメタルを通電した時の発熱を利用して触媒層を加熱するようにすることにより、セルフクリーニング触媒層の表面は、凹凸を有したホーローフリットによるガラス層が形成され、この凹凸によるアンカー効果と化学的結合とを併用してエキスパンドメタル基材と触媒層との密着性は高く強固な触媒層を形成でき、さらにこのセルフクリーニング触媒層の表面の凹凸部に再生触媒層が強固に結合され、表面部分が貴金属濃度の高い状態となり、セルフクリーニング触媒と再生触媒の相乗効果により、従来に比べて触媒の浄化能力が高く、かつ耐久性に優れた触媒ヒータを実現できるものである。
【0035】
また、再生触媒層は、吸着剤と貴金属触媒を有して、常時は排ガス中の有害成分を吸着し、定期的に触媒ヒータに通電して吸着した有害成分を分解し、同時に吸着剤を活性化でき、メンテナンスフリーの触媒ヒータを実現できるものである。
【0036】
そしてさらに、エキスパンドメタル基材を通電した時の発熱を利用して触媒層を加熱することによって、温度上昇が早く、排ガスの浄化能力が大きく、異物が詰まっても浄化性能が低下しない触媒ヒータを実現できるものである。
【0037】
請求項2に記載した発明は、吸着剤は、シリカゲルまたはゼオライトの少なくとも一方を含む構成として、特に吸着性能が高くメンテナンスフリーの触媒ヒータを実現するものである。
【0038】
請求項3に記載した発明は、請求項1または2に記載した触媒ヒータを、排ガスの吸気口と排気口を備えた触媒ケースに収容した構成として、圧力損失が小さく、効率の優れた触媒装置を実現するものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の第1の実施例である触媒ヒータの素材であるエキスパンドメタルの構成を示す平面図
【図2】 同、エキスパンドメタルの詳細な構成を説明する平面図
【図3】 同、触媒ヒータの構成を説明する側面図
【図4】 同、触媒層の構成を説明する断面図
【図5】 本発明の第2の実施例である触媒装置の構成を示す一部切り欠き斜視図
【符号の説明】
1 エキスパンドメタル
4 基材
5 触媒ヒータ
8 SC触媒層
9 再生触媒層
15 触媒ケース
15a 吸気口
15b 排気口
Claims (3)
- エキスパンドメタルの基材の表面に触媒層を形成し、前記触媒層は、基材の表面に形成したセルフクリーニング触媒層と、前記セルフクリーニング触媒層の表面に形成した再生触媒層とからなり、前記セルフクリーニング触媒層は、ホーローフリットとアルミナとマンガン酸化物を主成分としたスラリーを焼成して形成し、前記再生触媒層は、非加熱時に作用し加熱時に再活性化する吸着剤と加熱時に作用する貴金属触媒とを組み合わせた構成とし、エキスパンドメタルを通電した時の発熱を利用して触媒層を加熱する触媒ヒータ。
- 吸着剤は、シリカゲルまたはゼオライトの少なくとも一方を含む請求項1に記載した触媒ヒータ。
- 請求項1または2に記載した触媒ヒータを、排ガスの吸気口と排気口を備えた触媒ケースに収容した触媒装置。
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1997
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