JP3724041B2 - ハロゲン含有縮合生成物の製造方法 - Google Patents

Description

【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、医薬、染料、合成繊維または写真用素材として有用なハロゲン含有縮合生成物の製造方法に関し、特に写真用の機能性カプラー中間体の合成に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、カルボン酸とアミンを出発原料としてアミド基含有化合物を製造する方法としては、カルボン酸から一旦酸クロライドを製造した後、当該酸クロライドとアミンとを反応させる方法や、カルボン酸から一旦酸無水物を製造した後、当該酸無水物とアミンとを反応させる方法が一般的であった。しかしながら、これらの製造方法においては、カルボン酸から酸クロライドまたは酸無水物を別途に合成する必要があるため操作が繁雑である。また更に、酸無水物を経由する方法においては１分子のアミド基含有化合物を製造するためには２分子のカルボン酸を必要とするため化学量論的には１分子のカルボン酸が無駄になり、高価なカルボン酸を使用してアミド基含有化合物を合成する場合には不適切である。
【０００３】
更に、酸クロライド及び酸無水物は反応性に富む化合物であるため、カルボン酸誘導体の分子内に求核性等反応性に富む置換基（例えば水酸基など）が存在する場合には、分子内あるいは分子間での反応が起こり、目的物を収率よく合成することは困難であった。
【０００４】
一方、多数の反応段階を経由するのを避ける方法としては、例えばカルボキシル基とアミンとの反応において縮合剤としての役割を果たすＤＣＣ（ジシクロヘキシルカルボジイミド）を用いることにより直接アミド化反応を行うことも可能である。しかしながら、ＤＣＣを用いる工程においては温度調整が比較的難かしく、過熱するとＤＣＣを由来とする副反応が起こり目的物の収率が低くなってしまうという問題がある。また、ＤＣＣの取扱においてはかぶれ防止のために十分に注意を図る必要がある。更に、このＤＣＣは高価な反応試薬であるという問題点もあるということと、副生成物であるジシクロヘキシル尿素の廃棄に関して環境問題の観点から十分に留意する必要もあるため、ＤＣＣを用いない直接アミド化反応を見い出すことが当業者間で望まれていた。
【０００５】
ところで、１−ヒドロキシ−２−ナフトアミド誘導体は、カラー写真の分野でカプラーとして広く使用されている化合物であるが、特に４−位にハロゲノメチルアリールオキシ基が置換した化合物は、ＤＩＲカプラー等、現像主薬と反応して現像抑制剤などの写真性有用基を放出させる化合物を合成する際の重要な中間体である。従来、ハロゲノメチル基を有する１−ヒドロキシ−２−ナフトアミド誘導体の合成は例えば特開昭５７−１５４２３号、同６０−２１４３５８号、特開平５−４５８１３号に記載されているようにカルボキシル部位からアミド部位を合成するためのアミド化反応と、ヒドロキシメチル部位からハロゲノメチル部位を合成するためのハロゲン化反応は各々別工程で行い合成していた。即ち、アミド化反応は、カルボキシ基含有化合物から一旦フェニルエステルを合成した後、これとアミンとを高温で反応させるか、または、カルボキシ基含有化合物とアミンを前述のDCC等の縮合剤を用いて直接アミド化反応するという方法を採っていた。そしてその後、塩化チオニル、五塩化燐あるいは臭化水素酸等によりハロゲン化反応を行っていた。こういった従来の合成法では、工程数が長くなる等、諸問題を抱えていた。例えば、アミド化反応を一旦フェニルエステルを経由して行った場合、別途フェニルエステルを製造する必要があるという点、非常に高い反応温度を必要とするか、あるいは減圧下でフェノールを除去しながら反応させる必要があるという点が、操作上繁雑であった。更にこの副生成物であるフェノールを含有する廃液の処理についての環境問題の観点から十分に留意する必要がある等、効率的な合成法とはいえなかった。
【０００６】
またDCC等の縮合剤を用いる場合には前述と同様に、副反応を抑えるための反応条件の綿密な制御が必要であること、取扱に特に注意する必要があること、高価であること、副生成物であるジシクロヘキシル尿素の廃棄等の問題があり、DCCを用いない方法の開発が望まれていた。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
従って本発明の目的は、上記従来技術の問題点を解決することにあり、より簡便な操作、即ち中間体を取り出すことなく、また反応試薬および副生成物の取扱に苦慮することなく、かつ収率よく目的物を製造することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明の上記目的は、
（１）下記一般式（ I ）で表される化合物と、下記一般式（ II ）で表されるアミン類又は下記一般式（ III ）で表されるフェノール類とを、三塩化燐、塩化チオニル、オキシ塩化燐、五塩化燐、三臭化燐及びオキシ臭化燐から選ばれる少なくとも１種のハロゲン化剤を用いて脱水縮合及びハロゲン化を同時に行うことを特徴とするハロゲン含有縮合生成物の製造方法、
【０００９】
【化９】

【００１０】
【化１０】

【００１１】
【化１１】

【００１２】
〔式中、Ｒ₁〜Ｒ₅はそれぞれ水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｌ₁は連結基を表し、ｐは０又は１を表し、ｎ¹は０〜５の整数を表し、ｎ¹が２以上のときＲ₅は同じでも異なっていてもよく、また隣接する複数のＲ₅が互いに結合して環を形成してもよい。〕
（２）上記一般式（I）で表される化合物が、下記一般式（IV）又は（V）で表されることを特徴とする（１）に記載のハロゲン含有縮合生成物の製造方法、
【００１３】
【化１２】

【００１４】
【化１３】

【００１５】
〔式中、Ｒ₆〜Ｒ₁₁はそれぞれ水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、ｎ²は０〜３の整数を表し、ｎ²が２以上のときはＲ₆は同じでも異なっていてもよく、また隣接する複数のＲ₆が互いに結合して環を形成してもよい。ｎ³は０〜５の整数を表し、ｎ³が２以上のときはＲ₉は同じでも異なっていてもよく、また隣接する複数のＲ₉が互いに結合して環を形成してもよい。Ｌ₂及びＬ₃は連結基を表し、ｑ及びｒは０又は１を表し、Ｚは芳香族基、又は複素芳香族性基を形成する原子群を表す。〕
（３）下記一般式（VI）で表される化合物と、下記一般式（VII）で表されるアミン類又は下記一般式（VIII）で表されるフェノール類とを、三塩化燐、塩化チオニル、オキシ塩化燐、五塩化燐、三臭化燐及びオキシ臭化燐から選ばれる少なくとも１種のハロゲン化剤を用いて脱水縮合及びハロゲン化を同時に行うことを特徴とするハロゲン含有縮合生成物の製造方法、
【００１６】
【化１４】

【００１７】
【化１５】

【００１８】
【化１６】

【００１９】
〔式中、Ｒ₁₂〜Ｒ₁₈はそれぞれ水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、ｎ⁴は０〜３の整数を表し、ｎ⁴が２以上のときはＲ₁₆は同じでも異なっていてもよく、また隣接する複数のＲ₁₆が互いに結合して環を形成してもよい。Ｌ₄及びＬ₅はそれぞれ連結基を表し、ｓ、ｔはそれぞれ０又は１を表す。〕
によって解決される。
【００２０】
以下本発明について詳しく説明する。
【００２１】
本発明の一般式（I）〜（III）で表される化合物において、Ｒ₁〜Ｒ₅はそれぞれ水素原子、アルキル基、又はアリール基を表す。具体的にはアルキル基としてはメチル基、エチル基、シアノエチル基等が挙げられ、アリール基としては、フェニル基、４−ドデシルフェニル基、３−ピリジル基等が挙げられる。一般式（II）においてＲ₃及びＲ₄が表すアルキル基としてはメチル基、ドデシル基、エトキシカルボニルエチル等が挙げられ、アリール基としてはフェニル基、２−テトラデシルオキシフェニル基、２−クロロ−５−ドデシルオキシカルボニルフェニル基等が挙げられる。これらのうちでもＲ₁、Ｒ₂、Ｒ₃は水素原子が好ましく、Ｒ₄は総炭素数が１０以上の置換フェニル基が好ましい。一般式（III）において、Ｒ₅で表す基は、アルキル基、アリール基の他に、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アシルアミノ基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、スルホニルアミノ基、複素環基等を用いてもよい。ｎ¹は０〜５の整数を表し、ｎ¹が２以上の場合Ｒ₅は同じでも異なっていてもよく、また隣接する複数のＲ₅が互いに結合して環を形成していてもよい。特に一般式に示されるベンゼン環と共にナフタレン環を形成していることが好ましい。一般式（I）においてＬ₁で表される連結基としては、エチレン、メチレン等のアルキレン、フェニレン等のアリーレンを表し、更にこれらが置換基を有していてもよい。ｐは０又は１を表す。
【００２２】
本願発明の一般式（I）で表される化合物は、一般式（IV）または一般式（V
）で表される化合物であることが好ましい。
【００２３】
一般式（IV）、（V）において、Ｒ₆〜Ｒ₁₁はそれぞれ水素原子、アルキル基、又はアリール基を表し、具体的には、アルキル基としてはメチル基、エチル基、シアノエチル基等が挙げられ、アリール基としては、フェニル基、４−ドデシルフェニル基、３−ピリジル基等が挙げられる。これらのなかでもＲ₇、Ｒ₈、Ｒ₁₀及びＲ₁₁は水素原子であることが好ましい。Ｒ₆及びＲ₉が表す基としては、アルキル基、アリール基の他、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アシルアミノ基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、スルホニルアミノ基、複素環基等を用いてもよく、Ｒ₆及びＲ₉としては水素原子が好ましい。一般式（IV）において、ｎ²は０〜３の整数を表し、ｎ²が２以上のときには結合して更に環状構造を形成してもよい。Ｌ₂で表される連結基としてはエチレン、メチレン等のアルキレンや、フェニレン等のアリーレンなどを表し、更にこれらが置換基を有するものも含む。ｑは０又は１を表す。一般式（V）において、Ｌ₃で表される連結基としてはエチレン、メチレン等のアルキレンや、フェニレン等のアリーレンなどを表し、更にこれらが置換基を有するものも含む。ｒは０又は１を表し、ｎ³は０〜５の整数を表し、０〜３の整数であることが好ましい。ｎ³が２以上のときには結合して更に環状構造を形成してもよい。Ｚは芳香族基、または複素芳香族性基を形成する原子群を表し、具体的には１−フェニル−３−メチル−５−ピラゾリル、１−（４−ニトロフェニル）−３−ウンデシル−５−ピラゾリル、２−ピリジル等が挙げられる。
【００２４】
本発明の一般式（VI）〜（VIII）で表される化合物において、Ｒ₁₂〜Ｒ₁₈はそれぞれ水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。具体的にはアルキル基としてはメチル基、エチル基、シアノエチル基等が挙げられ、アリール基としては、フェニル基、４−ドデシルフェニル基、３−ピリジル基等が挙げられる。一般式（VII）においてＲ₁₃が表すアルキル基としてはメチル基、ドデシル基、エトキシカルボニルエチル等が挙げられ、アリール基としてはフェニル基、２−テトラデシルオキシフェニル基、２−クロロ−５−ドデシルオキシカルボニルフェニル基等が挙げられる。これらのうちでもＲ₁₃は水素原子が好ましい。一般式（VII）及び一般式（VIII）において、Ｒ ₁₄、Ｒ₁₅、Ｒ₁₇及びＲ₁₈が表すアルキル基としてはメチル基、エチル基、シアノエチル基等が挙げられ、アリール基としては、フェニル基、４−ドデシルフェニル基、３−ピリジル基等が挙げられる。Ｒ ₁₄及びＲ₁₅は水素原子であることが好ましい。Ｒ₁₆が表す基としては、アルキル基、アリール基の他、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アシルアミノ基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルファモイル基、スルホニルアミノ基、複素環基等を用いてもよく、Ｒ₁₆としては水素原子が好ましい。Ｌ₄及びＬ₅で表される連結基としては、エチレンメチレン等のアルキレンや、フェニレン等のアリーレンなどを表し、更にこれらが置換基を有するものも含む。ｓ及びｔは０又は１で表される。一般式（VIII）において、ｎ⁴は０〜４の整数を表し、ｎ⁴が２以上の場合Ｒ₁₆は同じでも異なっていてもよく、また隣接する複数のＲ₁₆が互いに結合して環を形成していてもよい。特に一般式に示されるベンゼン環と共にナフタレン環を形成していることが好ましい。
【００２５】
本発明で用いるハロゲン化剤としては、三塩化燐、塩化チオニル、オキシ塩化燐、五塩化燐、三臭化燐、オキシ臭化燐等があげられる。この中でハロゲン化剤としては、本発明の目的である、収率良く目的物を得るということを達成する上で、特に副反応の少ない三塩化燐が好ましい。用いるハロゲン化剤の理論量は、出発物質である原料１モルに対して脱水縮合する数とハロゲン化したいヒドロキシ基の数の和の当量数だけ必要となるが、過剰に使用したハロゲン化剤を除く処理を軽減し、しかも反応を円滑に完結させるためには理論量の１から２．０倍の範囲で用いられることが好ましい。更に好ましいのは１．０５〜１．５倍の範囲で使用することである。
【００２６】
本発明の製造方法では触媒として、３級アミド、または３級アミンを存在させることにより更に収率よく目的物を得ることができる。用いられる３級アミドとしては例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリジノン、Ｎ，Ｎ−ジメチルイミダゾリジノン、ヘキサメチルフォスフォリルトリアミド等が挙げられる。３級アミンとしては、ピリジン、キノリン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン等が挙げられる。用いられる触媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ピリジンが好ましい。用いることのできる触媒の量は、出発物質である原料１モルに対して、０．００１モル〜１モルの範囲で用いることが好ましい。更に好ましくは０．０１モルから０．２モルの範囲で用いられる。これらの触媒も反応後後処理により除く必要があるため、反応が円滑に進行する範囲でできるだけ少量使用することが好ましい。
【００２７】
本発明の製造方法は必要に応じて種々の有機溶媒中で行うことができる。用いることのできる有機溶媒としては例えば、アセトニトリル、トルエン、酢酸エチル、キシレン、ジオキサン、クロロホルム、ｎ−ヘキサン等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。用いる有機溶媒としてはトルエンが好ましい。
【００２８】
本発明の製造方法に係る化学反応は加熱することにより促進される。反応温度としては−２０〜１５０℃の範囲で行うことができ、反応に用いる基質およびハロゲン化剤の反応性に応じて調整することが好ましい。好ましくは低温で水酸基のハロゲン化を行った後に、温度を上げてアミド化を行った方が収率が良い。例えば、１−ヒドロキシ−４−（４−ヒドロキシメチルフェノキシ）−２−ナフトエ酸誘導体と、アニリン誘導体からトルエン中で三塩化燐を用いて１−ヒドロキシ−４−（４−クロロメチルフェノキシ）−２−ナフトアニリド酸誘導体を製造する際には、５０〜８０℃の範囲で水酸基のクロロ化を行った後、温度を上げて、９０〜１１０℃の範囲でアミド化を進めることが好ましい。
【００２９】
本発明の製造方法において用いる第一アミンまたは第二アミンの理論必要量は、出発物質である原料のヒドロキシカルボン酸１モルに対して、アミド化するカルボキシル基の数のモル数である。しかし、例えば出発原料であるヒドロキシカルボン酸に対して、用いる第一または第二アミンが非常に高価である等の場合にはアミンに対する収率を上げる目的で理論量より少ない量のアミンを使用してもかまわない。また逆に出発原料のヒドロキシカルボン酸が非常に高価で、用いる第一または第二アミンが安価である場合にはアミンを過剰に使用することもできる。好ましい使用量は、理論量の０．８〜１．２モルの範囲である。
【００３０】
以下に本発明の製造法により製造できる化合物の具体例を示す。
【００３１】
【化１７】

【００３２】
【化１８】

【００３３】
【化１９】

【００３４】
【化２０】

【００３５】
【化２１】

【００３６】
【実施例】
実施例１
例示化合物（１）の製造
１−ヒドロキシ−４−（４−ヒドロキシメチル−２−ニトロフェノキシ）−２−ナフトエ酸（７．００ｇ，０．０２ｍｏｌ）、２−テトラデシルオキシアニリン（６．０２ｇ，０．０２ｍｏｌ）をトルエン７０ｍｌに懸濁させ、ピリジン０．３５ｇを添加し撹拌した後、三塩化燐 ２．３５ｇを滴下した。滴下終了後、加熱を開始して６０−６５℃で、約３時間加温撹拌した。その後、反応液を内温１００℃前後に保ち、８時間反応させた。
【００３７】
加温を停止して反応液の温度を下げ、内温が６０℃程度になったら、温水１００ｍｌで２度有機層を洗浄した。不溶物を濾去した後、トルエンを留去し、酢酸エチル／アセトニトリルから再結晶して例示化合物の灰白色結晶１０．４ｇ（８０％）を得た。
【００３８】
ｍｐ ７８−９４℃
¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ（ｐｐｍ）＝０．８７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９
Ｈｚ），１．１−１．６（２Ｈ，ｍ），１．７−１．９（２Ｈ，ｍ），４．０５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），４．５７（２Ｈ，ｓ），６．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ），６．９−７．０（１Ｈ，ｍ），７．０−７．１（１Ｈ，ｍ），７．１−７．２（１Ｈ，ｍ），７．２１（１Ｈ，ｓ），７．３９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．６−７．７（２Ｈ，ｍ），７．８−７．９（１Ｈ，ｍ），８．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），８．３８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），８．５−８．６（１Ｈ，ｍ），８．６４（１Ｈ，ｂｓ），１３．６８（１Ｈ，ｓ）。
【００３９】
実施例２
例示化合物（２）の製造
１−ヒドロキシ−４−（４−ヒドロキシメチル−２−ニトロフェノキシ）−２−ナフトエ酸（５３．３ｇ，０．１５ｍｏｌ）、３−アミノ−４−クロロ安息香酸ドデシル（５１．９８ｇ，０．１５ｍｏｌ）をトルエン３２０ｍｌに懸濁させ、ピリジン２．６７ｇを添加し撹拌した後、三塩化燐１７．９ｇを滴下した。滴下終了後、加熱を開始して６０−６５℃で、約３時間加温撹拌した。その後、反応液を内温１００℃前後に保ち、８時間反応させた。
【００４０】
加温を停止して反応液の温度を下げ、内温が６０℃程度になったら、温水１００ｍｌで２度有機層を洗浄した。不溶物を濾去した後、トルエンを留去し、酢酸エチル／アセトニトリルから再結晶して例示化合物の灰白色結晶８６．６ｇ（８３％）を得た。
【００４１】
ｍｐ１４３−１４５℃
¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ（ｐｐｍ）＝０．８７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９
Ｈｚ），１．１−１．６（１８Ｈ，ｍ），１．７−１．９（２Ｈ，ｍ），４．３５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），４．５８（２Ｈ，ｓ），６．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．２３（１Ｈ，ｓ），７．４３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．６−７．７（２Ｈ，ｍ），７．８１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．９−８．０（１Ｈ，ｍ），８．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），８．３７（１Ｈ，ｂｓ），８．５−８．６（１Ｈ，ｍ），９．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），１３．３０（１Ｈ，ｓ）。
【００４２】
実施例３
例示化合物（３）の製造
１−ヒドロキシ−４−（４−ヒドロキシメチル−２−ニトロフェノキシ）−２−ナフトエ酸（１０．６６ｇ，０．０３ｍｏｌ）、５−アミノ−２−ブロモ−４−クロロ安息香酸ドデシル（１２．５６ｇ，０．０３ｍｏｌ）をトルエン６０ｍｌに懸濁させ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド ０．５０ｇを添加し撹拌した後、三塩化燐３．５８ｇを滴下した。滴下終了後、加熱を開始して６０−６５℃で、約３時間加温撹拌した。その後、反応液を内温１００℃前後に保ち、８時間反応させた。
【００４３】
加温を停止して反応液の温度を下げ、内温が６０℃程度になったら、温水１００ｍｌで２度有機層を洗浄した。不溶物を濾去した後、トルエンを留去し、トルエン／アセトニトリルから再結晶して例示化合物の灰白色結晶１８．４ｇ（８３％）を得た。
【００４４】
¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ（ｐｐｍ）＝０．８７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９
Ｈｚ），１．１−１．６（１８Ｈ，ｍ），１．７−１．９（２Ｈ，ｍ），４．３６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），４．５８（２Ｈ，ｓ），６．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．１９（１Ｈ，ｓ），７．４３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．６−７．７（２Ｈ，ｍ），７．７４（１Ｈ，ｓ），７．９−８．０（１Ｈ，ｍ），８．０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），８．３１（１Ｈ，ｂｓ），８．５−８．６（１Ｈ，ｍ），８．９１（１Ｈ，ｓ），１３．１６（１Ｈ，ｓ）。
【００４５】
実施例４
例示化合物（４）の製造
１−ヒドロキシ−４−（４−ヒドロキシメチル−２−ニトロフェノキシ）−２−ナフトエ酸（７．１０ｇ，０．０２ｍｏｌ）、５−アミノ−２，４−ジクロロ安息香酸ドデシル（８．１８ｇ，０．０２ｍｏｌ）をトルエン４５ｍｌに懸濁させ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド０．３７ｇを添加し撹拌した後、三塩化燐２．３８ｇを滴下した。滴下終了後、加熱を開始して６０−６５℃で、約３時間加温撹拌した。その後、反応液を内温１００℃前後に保ち、１６時間反応させた。加温を停止して反応液の温度を下げ、内温が６０℃程度になったら、温水１００ｍｌで２度有機層を洗浄した。不溶物を濾去した後、トルエンを留去し、アセトニトリルから再結晶して例示化合物の灰白色結晶１０．０８ｇ（６６％）を得た。
【００４６】
¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ（ｐｐｍ）＝０．８７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９
Ｈｚ），１．１−１．６（１８Ｈ，ｍ），１．７−１．９（２Ｈ，ｍ），４．３５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ），４．５８（２Ｈ，ｓ），６．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．４−７．５（２Ｈ，ｍ），７．５０（１Ｈ，ｓ），７．６−７．８（２Ｈ，ｍ），７．８４（１Ｈ，ｂｓ），７．８−７．９（１Ｈ，ｍ），８．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），８．５−８．６（１Ｈ，ｍ），１３．０６（１Ｈ，ｓ）。
【００４７】
実施例５
例示化合物（２）の製造
実施例（２）の操作をピリジンを加えずに行った以外は同様の操作で行ったところ、例示化合物（２）が得られたが、その収量は実施例（２）で得られた収量より少なかった。
【００４８】
実施例６
例示化合物（１６）の製造
１−ヒドロキシ−４−（４−ヒドロキシメチル−２−ニトロフェノキシ）−２−ナフトエ酸（３．５５ｇ，０．０１ｍｏｌ）、ｐ−クレゾール（１．３０ｇ，０．０１２ｍｏｌ）をトルエン３０ｍｌに懸濁させ、ＤＭＦ０．１ｇを添加し撹拌した後、三塩化燐（１．１９ｇ，０．００８７ｍｏｌ）を滴下した。滴下終了後、加熱を開始して６０−６５℃で、約３時間加温撹拌した。その後、反応液を内温１００℃前後に保ち、２０時間反応させた。
【００４９】
加温を停止して反応液の温度を下げ、内温が６０℃程度になったら、温水１００ｍｌで２度有機層を洗浄した。不溶物を濾去した後、トルエンを留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して化合物３．４３ｇ（７４％）を得た。 ¹Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δ（ｐｐｍ）＝２．３８（３Ｈ，ｓ），４
．５７（２Ｈ，ｓ），６．８６（１Ｈ，ｄ，ｊ＝８．７Ｈｚ），７．０−７．１（２Ｈ，ｍ），７．２−７．３（２Ｈ，ｍ），７．４３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．６−７．８（３Ｈ，ｍ），７．９−８．０（１Ｈ，ｍ），８．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），８．５−８．６（１Ｈ，ｍ），１１．７６（１Ｈ，ｓ）。
【００５０】
比較例
例示化合物（２）の合成（ジシクロヘキシルカルボジイミドおよび塩化チオニルを用いての合成）
１−ヒドロキシ−４−（４−ヒドロキシメチル−２−ニトロフェノキシ）−２−ナフトエ酸（５．３３ｇ，０．０１５ｍｏｌ）、３−アミノ−４−クロロ安息香酸ドデシル（５．２０ｇ，０．０１５ｍｏｌ）を酢酸エチル３０ｍｌに懸濁させ、氷冷下で０〜５℃の範囲でジシクロヘキシルカルボジイミド３．０３ｇを酢酸エチルに溶解し滴下した。同温度で２時間撹拌した後、室温で一晩撹拌した。不溶物を濾去した後、酢酸エチルを留去し、粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。得られた結晶を酢酸エチル２０ｍｌに溶解して塩化チオニル２．６ｇを添加して１時間環流した。有機層を水洗した後、減圧留去して得られた粗生成物を酢酸エチル／アセトニトリルより再結晶して例示化合物（２）の結晶２．２３ｇを得た。
【００５１】
【発明の効果】
本発明により、簡便な操作で、即ち中間体を取り出すことなく、また反応試薬および副生成物の取扱に苦慮することなく、かつ収率よく目的物を製造することができる。

Claims (3)

1. 下記一般式（ I ）で表される化合物と、下記一般式（ II ）で表されるアミン類又は下記一般式（ III ）で表されるフェノール類とを、三塩化燐、塩化チオニル、オキシ塩化燐、五塩化燐、三臭化燐及びオキシ臭化燐から選ばれる少なくとも１種のハロゲン化剤を用いて脱水縮合及びハロゲン化を同時に行うことを特徴とするハロゲン含有縮合生成物の製造方法。
   

   

   

   

   〔式中、Ｒ ₁ 〜Ｒ ₅ はそれぞれ水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｌ ₁ は連結基を表し、ｐは０又は１を表し、ｎ ¹ は０〜５の整数を表し、ｎ ¹ が２以上のときＲ ₅ は同じでも異なっていてもよく、また隣接する複数のＲ ₅ が互いに結合して環を形成してもよい。〕
2. 上記一般式（ I ）で表される化合物が、下記一般式（ IV ）又は（ V ）で表されることを特徴とする請求項１に記載のハロゲン含有縮合生成物の製造方法。
   

   

   

   〔式中、Ｒ ₆ 〜Ｒ ₁₁ はそれぞれ水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、ｎ ² は０〜３の整数を表し、ｎ ² が２以上のときはＲ ₆ は同じでも異なっていてもよく、また隣接する複数のＲ ₆ が互いに結合して環を形成してもよい。ｎ ³ は０〜５の整数を表し、ｎ ³ が２以上のときはＲ ₉ は同じでも異なっていてもよく、また隣接する複数のＲ ₉ が互いに結合して環を形成してもよい。Ｌ ₂ 及びＬ ₃ は連結基を表し、ｑ及びｒは０又は１を表し、Ｚは芳香族基、又は複素芳香族性基を形成する原子群を表す。〕
3. 下記一般式（ VI ）で表される化合物と、下記一般式（ VII ）で表されるアミン類又は下記一般式（ VIII ）で表されるフェノール類とを、三塩化燐、塩化チオニル、オキシ塩化燐、五塩化燐、三臭化燐及びオキシ臭化燐から選ばれる少なくとも１種のハロゲン化剤を用いて脱水縮合及びハロゲン化を同時に行うことを特徴とするハロゲン含有縮合生成物の製造方法。
   

   

   

   

   〔式中、Ｒ ₁₂ 〜Ｒ ₁₈ はそれぞれ水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、ｎ ⁴ は０〜３の整数を表し、ｎ ⁴ が２以上のときはＲ ₁₆ は同じでも異なっていてもよく、また隣接する複数のＲ ₁₆ が互いに結合して環を形成してもよい。Ｌ ₄ 及びＬ ₅ はそれぞれ連結基を表し、ｓ、ｔはそれぞれ０又は１を表す。〕