JP3694138B2 - 反射体の製造方法およびその反射体を備えた液晶表示装置 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、反射型の液晶表示装置などに用いられる反射体の製造方法とその反射体を備えた液晶表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置は、軽量化、小型化、薄型化が可能な表示装置として広く用いられており、中でも、反射板を組み込んでなる反射型液晶表示装置が低消費電力型の表示装置として注目されている。
【０００３】
図１２は、従来の反射型液晶表示装置の一構造例を示すもので、この例の反射型液晶表示装置Ａは、上下に対向配置された一対の透明の基板１、２と、それらの間に封止材３により封入された液晶層４と、上の基板１の上面側に上から順に設けられた偏光板６、位相差板７、８と、下の基板２の下面側に設けられた反射体１０とを具備して構成されている。この反射体１０は、上面に微細な凹凸部１１ａを形成したガラス基板１１と該ガラス基板１１上に被覆されたＡｌ反射膜１２とＡｌ反射膜１２上に被覆された粘着層１３から構成されている。 また、上の基板１の下面側にはＩＴＯからなる電極層１５とトップコート層１６と配向膜１７とが積層され、下の基板２の上面側はカラー表示構造の場合に必要なカラーフィルタ１８とオーバーコート層１９と電極層２０と配向膜２１とが積層されている。
【０００４】
前記の構造の反射型液晶表示装置Ａは、上の基板１の上方側からの入射光が液晶層４を通過した後に反射膜１２で反射され、再度液晶層４を通過した後に上の基板１を通過して戻る際に、液晶層４で光の偏光方向を調整するか否かの切り替えを行い、反射光が偏光板６を通過できるか否かを切り替えることにより明状態と暗状態を切り替えることができる。また、ガラス基板１１に形成する凹凸部１１ａは、反射膜１２を凹凸形状にすることで、内外からの不要な光の反射を抑制し、必要な方向の光の反射を行うために設けられている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、以上のような構造を有する反射型液晶表示装置Ａにあっては、ガラスからなる厚い透明の基板２の外側に反射体１０を設けた構造であったので、入射光は液晶層４を通過した後に透明の基板２を通過する必要があった。すると、透明基板２による視差が生じ、コントラストが低くなり、かつ表示画像が２重になる問題を有していた。
また、従来、反射体１０のガラス基板１１の凹凸部１１ａを形成する方法として、特開昭５９−１９８４９０号等に開示されているように、ガラス表面をフッ酸で処理して表面に微細な凹凸部を形成する技術が知られているが、このような酸処理による凹凸形成技術では、微細凹凸部の形状制御が困難な問題がある。
この反射体１０の凹凸部１１ａの形状制御を十分な精度で行うならば、内外からの不要な光の反射を抑制し、必要な方向の光の反射を効率良く行うことができるので反射体１０の凹凸部１１ａの形状を制御することは重要な技術的課題とされている。
【０００６】
本発明は前記事情に鑑みてなされたものであり、反射体に設ける微細な凹凸部の形状を制御することができ、所望の形状の凹凸部を備えた反射効率の良好な反射体を得ることができるとともに、その反射体を備えた液晶表示装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は前記課題を解決するために、基体上にアクリル系レジスト、ポリスチレン系レジスト、アジドゴム系レジスト、イミド系レジストのうちの少なくとも１種の感光性樹脂を塗布して感光性樹脂層を形成し、該感光性樹脂層を４０〜１５０℃の温度範囲にて１０秒以上、１０分以下の時間プリベークしてから、該感光性樹脂層に対して、表面に微細な高さ０.５μｍ〜１μｍの凸部を有する凹凸部を有するシリコン樹脂からなる型を押し付けた状態で光線を照射して前記感光性樹脂層を硬化させて硬化樹脂層を形成し、次いで前記型を前記硬化樹脂層から剥離させて表面に微細な凹凸部を転写し、次いで該微細な凹凸部上に金属反射膜を形成することを特徴とする。
感光性樹脂層に４０〜１５０℃の温度範囲にてプリベークしてから型押しして微細な高さ０.５μｍ〜１μｍの凸部を有する凹凸部を形成し、この微細な凹凸部上に金属反射膜を形成するので、型に形成した微細な高さ０.５μｍ〜１μｍの凸部を有する凹凸部の型どおりの形状の微細な凹凸部を有する反射面を備えた反射体を得ることができる。本発明において、前記プリベークする時間を１０秒以上、１０分以下とする必要がある。このプリベーク時間を１０秒とすることで反射体を製造する際の転写面積を確保することができ、最大表面凹凸を１００％にできる。
【０００８】
本発明において、前記基体上に設けた感光性樹脂層に対して、この感光性樹脂層を４０〜１５０℃の温度範囲にてプリベークを行うものとする。
このプリベークを行うことで感光性樹脂中の不要な揮発成分を飛ばして除去することができ、型押しする場合の型と感光性樹脂との間に気泡が混入するのを防止することができるので、型押しする場合の凹凸型の転写が確実になされて所望の形状の微細な凹凸部が得られる。
ここで、プリベークの温度を４０℃未満とすると、プリベークが不十分になるので、感光性樹脂層中に溶媒が必要以上に残留するようになり、この残留した溶媒が後述する紫外線硬化の際の発熱現象により気化し、気泡となって型押しした際に型と感光性樹脂との間に混入するおそれがあるので好ましくない。また、プリベークの温度を１５０℃を越える温度とすると、樹脂の流動性が悪くなって後述する型押しの際に凹凸が満足に転写されなくなるので好ましくない。
【０００９】
本発明において、前記感光性樹脂として、アクリル系レジスト、ポリスチレン系レジスト、アジドゴム系レジスト、イミド系レジストのうちの少なくとも１種を用いることができ、前記金属反射膜として、ＡｌまたはＡｌ合金もしくはＡｇまたはＡｇ合金からなるものを用いることができる。これらの感光性樹脂あるいは金属反射膜を用いることで、型の転写による凹凸部の形状が正確で反射率の高い反射体が得られる。
【００１０】
また、前述のプリベーク時間を３０秒以上、１０分以下とすることがより好ましい。ここで、プリベーク時間を３０秒以下とすると、プリベークが不十分になる可能性があり、感光性樹脂中に溶媒が必要以上に残留するようになり、この残留した溶媒が後述する紫外線硬化の際の発熱現象により気化し、気泡となって型押しした際に型と感光性樹脂との間に挿入するおそれがある。また、プリベークの時間を１０分を超える時間とすると、樹脂の流動性が悪くなって後述する型押しの際に凹凸が満足に転写されなくなるので好ましくない。
【００１１】
本発明において前記基体として透明の基体を用い、該基体の裏面側から光線を照射することで型押しした感光性樹脂層を硬化させることにより、型押ししたままの状態で感光性樹脂層を硬化させて転写した凹凸部の形状をそのまま保持することができる。
また、前記凹凸部として、基体の一方向に沿って頂上部をほぼ同じ高さに連続させた長尺凸部を複数、相互の間に凹部を形成し前記一方向に対して直交する方向に並設してなり、各長尺凸部の高さと幅をランダムに形成したものを用いることができる。
このような特殊な形状の凹凸部を設けた反射体であるならば、不要な方向からの光の反射を抑え、特定の方向から入射した光を特定の方向を中心として効率良く反射できる。
次に本発明は、前記の型を前記感光性樹脂層に押し付ける際の圧力を３０〜５０Ｋｇ／ｃｍ ^２ とすることを特徴とする。
更に本発明は、凸部の高さ０ . ５〜１μｍ、凸部の幅５〜１０μｍ、凹部の幅５〜１０μｍの微細凹凸部を具備するシリコン型を用いることを特徴とする。
これらの具体的な数値範囲の大きさの凹凸部を有するシリコン型を用いて先の押し付け操作により形状を転写することにより、傾斜角が−８゜〜＋８゜の範囲にある微細凸部を有する、広い角度幅でもって反射する反射特性の良好な反射体を提供できる。
【００１２】
次に本発明は、一対の透明の基板間に液晶が配設され、前記一方の基板側に偏光板と位相差板とが付設され、前記他方の基板側に請求項１に記載の製造方法で得られた反射体が一体化されてなることを特徴とするものである。
表面に微細な凹凸部を有する反射体を一対の基板のうちの他方の基板に一体化することで、反射型液晶表示装置として入射光が反射される場合に内外からの不要な光の反射を抑制し、必要な方向の光の反射を効率良く行うものが得られる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の一実施形態について説明する。
図１は本発明に係る方法で製造された反射体を備えた液晶表示装置の一形態を示すもので、この形態の液晶表示装置Ｂは、上下に対向配置された一対の透明の基板（基体）１１、１２と、それらの間に封止材１３により封入された液晶層１４と、上の基板１１の上面側に上から順に設けられた偏光板１６と、位相差板１７、１８とを具備して構成されている。
そして上記基板１２の上面には微細な凹凸部２０を上面に有する感光性硬化樹脂層２１が形成され、上記凹凸部２０を覆って金属反射膜２２が形成され、金属反射膜２２を覆ってオーバーコート層２３が形成されるとともに、基板１２と感光性硬化樹脂層２１と金属反射膜２２とオーバーコート層２３とにより反射体２４が構成されていて、反射体２４は基板１２の内側に積層された構造にされている。
また、上の基板１１の下面側にはＩＴＯからなる電極層２５とトップコート層２６と配向膜２７が積層され、オーバーコート層２３の上面側にはカラー表示構造の場合に必要なカラーフィルタ２８を介してオーバーコート層２９と電極層３０と配向膜３１とが積層されている。
【００１４】
次に、前記構造の反射体２４を製造する方法の一例について以下に説明する。まず、ガラス基板１２の上面に、アクリル系レジスト、ポリスチレン系レジスト、アジドゴム系レジスト、イミド系レジストのうちの少なくとも１種の感光性樹脂液をスピンコート法、スクリーン印刷法、吹き付け法などの塗布法により塗布する。ここでスピンコート法で塗布する場合は、基板１２を５００〜７００ｒｐｍ程度の回転速度で回転させながら感光性樹脂液を滴下して基板１２の上面全体に均一に塗布することが好ましい。
【００１５】
感光性樹脂液の塗布が終了したならば、加熱炉あるいはホットプレート等の加熱装置を用いて基板上の感光性樹脂液を４０℃以上、１５０℃以下の温度範囲で１０秒以上、１０分以下加熱するプリベークを行って基板１２上に感光性樹脂層４０を形成する。プリベークの条件として好ましくは、６０℃以上、１３０℃以下の温度範囲で３０秒以上、５分以下加熱する条件、更に好ましくは、８０℃以上、１１０℃以下の温度範囲にて３０秒以上、３分以下加熱する条件である。但し、用いる感光性樹脂の種類によってプリベーク条件は異なるので、上記範囲外の温度と時間で処理しても良いのは勿論である。
ここで、プリベークの温度を４０℃未満とすると、プリベークが不十分になるので、感光性樹脂層中に溶媒が残留するようになり、この残留した溶媒が後述する紫外線硬化の際の発熱現象により気化し、気泡となって型押しした際に型と感光性樹脂との間に混入するおそれがあるので好ましくない。また、プリベークの温度を１５０℃を越える温度とすると、樹脂の流動性が悪くなって後述する型押しの際に凹凸が満足に転写されなくなるので好ましくない。
なおここで形成する感光性樹脂層４０の膜厚は０.５〜５μｍの範囲とすることが好ましい。
【００１６】
次に図３に示すように表面に微細な凹凸部４１を予め形成した型４２を用い、図４に示すように型４２の凹凸部４１をガラス基板１２上の感光性樹脂層４０に押し付けて感光性樹脂層４０の上面部に凹凸部４１を転写して凹凸部２０を形成する。
ここで用いる型４２は、シリコン樹脂、エポキシ樹脂などの合成樹脂から、あるいは、Ｎｉ、Ａｕ、Ｃｕ、Ａｌなどの金属材料からなることが好ましい。シリコン樹脂からなる型であれば、後に行う離型工程において型４２を感光性樹脂層４０から外すことが容易にできる。また、シリコン樹脂以外の樹脂からあるいは金属材料からなる型４２を用いる場合は、後工程において離型作業が容易にできるようにシリコンオイル等の離型剤を塗布した上で型押しすることが好ましい。
更に、型押しする場合の圧力は用いる感光性樹脂の種類に合った値を選択することが好ましく、例えば、３０〜５０ｋｇ／ｃｍ²程度の圧力とする。更に、型４２の凹凸部４１は後に詳述する凹凸部２０の形状を転写するために必要な形状とする。
【００１７】
前記型４２を感光性樹脂層４０に押しつける時間は用いる感光性樹脂の種類に合った値を選択することが好ましく、例えば３０秒〜１０分程度の時間とする。
【００１８】
型押しを行ったならば、次に、透明の基板１２の裏面側から感光性樹脂層４０を硬化させるための紫外線（ｇ、ｈ、ｉ線）等の光線を照射し、感光性樹脂層４０を硬化させる。ここで照射する紫外線等の光線は、前記種類の感光性樹脂層４０であるならば、５０ｍＪ／ｃｍ²以上の強度であれば感光性樹脂層４０を硬化させるのに十分であるが、感光性樹脂層４０の種類によってはこれ以外の強度で光照射しても良いのは勿論である。
感光性樹脂層４０が硬化したならば、型４２を感光性樹脂層４０から取り外すことで図５に示すように基板１２上に凹凸部２０を有する感光性硬化樹脂層２１を得ることができる。ここで得られる凹凸部２０の拡大構造を図６に示す。
【００１９】
この例の凹凸部２０は、横断面不定形の波形状に形成され、基体１２の一方向（図６の矢印ａ方向）に沿って各々頂上部をほぼ同じ高さに連続させた長尺凸部４５１、４５２、４５３、４５４・・・と、上記一方向（ａ方向）に直交する方向（図６の矢印ｂ方向）に長尺凸部４５１、４５２、４５３、４５４・・・を間隔をあけて並設することで各長尺凸部間に設けられる深さと幅のランダムな凹部４７１、４７２、４７３、４７４、４７５・・・とからなる。また、前記凹凸部２０において凹部４７１、４７２、４７３、４７４、４７５は、好ましくは、深さ０.５μｍ〜３μｍ、幅５μｍ〜３０μｍの大きさに形成される。なお、各長尺凸部４５１、４５２・・・の高さはほぼ同じ高さに形成されるが、各頂上部に多少の起伏があっても良いのは勿論である。
【００２０】
なお、上記凹凸部２０において傾斜角分布は−１０゜以上、＋１０゜以下の範囲であることが好ましい。
ここで傾斜角度分布とは、長尺凸部の横断面を図６に示すように見た場合に、横断面に現れるＳＩＮカーブ状の波形の任意の点Ｐにおける接線Ｓと水平線Ｈとの成す角度θのことを意味する。従って、傾斜角分布が−１０゜以上、＋１０゜以下の範囲とは、長尺凸部の図６に示す任意の横断面においてθが−１０゜〜＋１０゜の範囲内にあることを意味する。
【００２１】
次に凹凸部２０の上にスパッタ、蒸着、ＣＶＤ（化学気相蒸着）、イオンプレーティング、無電界メッキ等の方法により厚さ１０００〜２０００Åの金属製の反射膜２２を成膜し、この反射膜２２上に反射膜２２による凹凸を覆って上面を均すようにオーバーコート層２３を形成することで、図１に示す反射体２４を得ることができる。ここで形成する反射膜２２として、ＡｌまたはＡｌ合金、もしくはＡｇまたはＡｇ合金からなるものを用いることができるが、この他の材料であっても反射特性の優れたものであれば、適宜用いることができるのは勿論である。
【００２２】
以上の如く製造された反射体２４を図１に示す構造の反射型液晶表示装置Ｂに適用することができる。
前記構造の反射体２４であるならば、凹凸部２０として、横断面不定形の波形状に形成され、基体１２のａ方向に沿って各々ほぼ同じ高さの頂上部を連続させた各々高さと幅をランダムとした凸部４６１、４６２、４６３、４６４・・・と、凹部４７１、４７２、４７３・・・とからなるものが用いられているので、図６のｂ方向に沿って所定の入射角度で反射膜２１に入射した光を特に効率良く反射させることができるので、ｂ方向の前方側の斜め上方を使用者の視認方向とすると、極めて明るい表示形態とすることができる。
【００２３】
図７は本発明により得られた反射体を備えた液晶表示装置の他の形態を示すもので、この形態の反射型液晶表示装置Ｃは、先の形態の反射型液晶表示装置Ａのカラーフィルタ２８を基板１１側に配置した点のみが異なっており、その他の構造は先の形態の反射型液晶表示装置Ａと同等であるので同等の部分の説明は省略する。
この形態の反射型液晶表示装置Ｃにおいても先の形態と同じように反射効率の良好な反射体２４を備えることで明るい表示形態を得ることができる。
【００２４】
なお、先に記載した形態においては、反射体を反射型液晶表示装置Ｂ、Ｃの反射板として用いた例について説明したが、本発明に係る反射体を自動車用の反射板、道路用の反射板等に適用しても良いのは勿論である。なおまた、このように液晶表示装置以外の用途に反射体を用いる場合は、反射体に形成する凹凸部の形状を先に説明したものではなく、他の形状としても良いのは勿論である。
【００２５】
【実施例】
（実施例１）
ガラス基板をスピンコーターにセットして回転数５００ｐｒｍ、３０秒の条件でガラス基板上に東京応化（株）製レジスト（ＣＦＰＲＣＬ−０１６Ｓ：感光性樹脂）を厚さ５μｍになるように塗布した。
このガラス基板をホットプレートにより８０℃に１０秒間保持してプリベークし、レジスト膜（感光性樹脂膜）を得た。
次に、微細な凹凸部（凸部の高さが０.５μｍ〜１μｍ程度、幅が５μｍ〜１０μｍ程度、凹部の幅が５〜１０μｍ程度）が表面に形成されているシリコン型を用意し、レジスト膜に５０ｋｇ／ｃｍ²の圧力で押し付けてレジスト膜上部にシリコン型の凹凸部を転写した。シリコン型をレジスト膜に押しつけたままで基板裏面側から紫外線を照射量５００ｍＪ／ｃｍ²の条件で照射した。
紫外線照射後、レジスト膜上面の凹凸部に厚さ１５００ÅのＡｌ膜を蒸着して反射体を得た。
【００２６】
（実施例２）
ガラス基板をスピンコーターにセットして回転数７００ｐｒｍ、２０秒の条件でガラス基板上に日本合成ゴム（株）製感光性材料（ＪＮＰＣ−１８−Ｒ１０）を厚さ３μｍになるように塗布した。
このガラス基板をホットプレートにより６０℃に５秒間保持してプリベークしてレジスト膜（感光性樹脂膜）を得た。
次に、先の実施例１で用いたものと同じ凹凸部が表面に形成されているシリコン型を用意し、レジスト膜に３０ｋｇ／ｃｍ²の圧力で押し付けてレジスト膜上部にシリコン型の凹凸部を転写した。シリコン型をレジスト膜に押しつけたままで基板裏面側から紫外線を照射量４００ｍＪ／ｃｍ²の条件で照射した。
紫外線照射後、レジスト膜上面の凹凸部に厚さ１２００ÅのＡｌ膜を蒸着して反射体を得た。
【００２７】
実施例１で得られた反射体を製造する際に得られた最大表面凹凸とプリベーク時間の関係を図８に示す。最大表面凹凸とは、
（転写領域における最大凹凸）／（型の表面凹凸）×１００ （％）で示されるものであり、１００％を下回ると凹凸の転写が充分になされなくなることを意味する。
図８に示す結果から明らかなように、５００秒までは最大表面凹凸が１００％であるのに対し、６００秒で最大表面凹凸が７０％に低下し、７００秒で５０％に低下している。この結果から、感光性樹脂層をプリベークする時間は６００秒以内が好ましいことがわかる。
【００２８】
実施例２で得られた反射体を製造する際に得られた転写面積とプリベーク時間の関係を図９に示す。転写面積とは、
（感光性樹脂層上に凹凸形状が形成できた面積）／（型に形状が形成されている面積）×１００ （％）で示されるものである。
図９に示す結果から明らかなように、プリベーク時間１０秒から転写面積が１００％になり、６００秒までは転写面積が１００％であるのに対し、７００秒で８０％に低下し、１０００秒で６０％に低下している。この結果から、プリベーク時間は１０秒以上、６００秒以内が好ましいことがわかる。
【００２９】
次に、図１０は実施例１で得られた反射体の傾斜角と存在確率との関係を示したものである。ここで存在確率とは、ある面積内に占める傾斜角の確率を意味する。
図１０に示す結果から、実施例１の反射体は傾斜角が−８゜から８゜の範囲にのみあることが明らかである。従って、この実施例の反射体は、反射強度の大きい反射板を形成するために好適な形状を有していることが明らかである。
【００３０】
次に、図１１に実施例１で得られた反射体の反射強度と角度の関係を測定した結果を示す。ここで角度とは、長尺凸部の長さ方向に直交する方向（０゜）と、４５゜交差する方向（４５゜）と、長尺凸部の長さ方向（９０゜）のぞれぞれの方向から光を入射した場合に、各方向の延長方向の反射位置においてどの程度の角度幅で反射光の強度が変化したものかを測定した結果である。図１１に示す結果から、長尺凸部の長さ方向に直交する方向（０゜）から入射した光を反射体が広い角度幅をもって反射していることが明らかであり、他の方向から入射した光は狭い角度幅で反射している。従ってこの実施例の反射体は反射型液晶表示装置用として好適な反射特性を有していることが明らかである。
【００３１】
「比較例１」
実施例１と同等の方法を実施する際にホットプレートの温度を３０℃とし、５分間プリベークした。それ以外の条件は実施例１と同じである。
その結果、感光性樹脂中に残留していた溶媒が紫外線硬化の際の発熱現象により気化し、気泡となって型押しした際に型と感光性樹脂との間に混入し、全面均一に転写できなかった。
「比較例２」
実施例１と同等の方法を実施する際にホットプレートの温度を１８０℃とし、３分間プリベークした。それ以外の条件は実施例１と同じである。
その結果、感光性樹脂の流動性が悪くなって凹凸が満足に転写されなかった。
【００３２】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、基体上のアクリル系レジスト、ポリスチレン系レジスト、アジドゴム系レジスト、イミド系レジストのうちの少なくとも１種の感光性樹脂層を４０〜１５０℃の温度範囲にて１０秒以上、１０分以下プリベークしてから、該感光性樹脂層に微細な高さ０.５μｍ〜１μｍの凸部を有する凹凸部を有するシリコン樹脂からなる型を押し付けて光線を照射して感光性樹脂層を硬化させて硬化樹脂層に微細な凹凸部を転写形成し、この後に該微細な凹凸部上に金属反射膜を形成するので、正確な形状の高さ０.５μｍ〜１μｍの凸部を有する微細な凹凸部を有する反射体を得ることができる。
また、基体上に感光性樹脂層を形成した後、４０〜１５０℃でプリベークすることで、感光性樹脂層中の溶剤を充分に揮発させて除去することができる。本発明において、前記プリベークする時間を１０秒以上、１０分以下とすることで型の表面凹凸に対応した転写領域での最大凹凸を得ることができ、高さ０ . ５μｍ〜１μｍの凸部を有する微細な凹凸部を型から転写領域に正確に転写することができる。
よって、後工程の感光性樹脂層の硬化時の発熱等によって気泡を生じることが無く、高さ０.５μｍ〜１μｍの凸部を有する型の凹凸部を正確に転写する際の阻害とならないようにすることができる。
更に、前記型を感光性樹脂層に押しつけることで、型の凹凸部の面積に応じた正確な面積の凹凸部を感光性樹脂層に転写できるとともに、型の微細な凹凸部の形状を変えることなく正確な凹凸形状の凹凸部を転写することができる。
本発明において、型を前記感光性樹脂層に押し付ける際の圧力を３０〜５０Ｋｇ／ｃｍ^２とすることで、凹凸形状の転写ができる。
本発明によれば、前記凸部の高さ０.５〜１μｍ、凸部の幅５〜１０μｍ、凹部の幅５〜１０μｍの微細凹凸部を具備するシリコン型を用いて前記基体上の感光性樹脂層に前記の大きさの微細凹凸部の転写を行うことができ、これらの微細な凹凸部の転写を確実に行うことができるとともに、傾斜角が−８゜〜＋８゜の範囲にある微細凸部を有する広い角度幅でもって反射する反射特性の良好な反射体を提供できる。
【００３３】
前記凸部として、長尺凸部を複数、相互の間に凹部を形成して並設し、各長尺凸部の高さと幅をランダムに形成したものを用いることで、長尺凸部の長さ方向に直交する方向に沿う入射光を効率良く反射させて反射光とすることができ、特定の方向の反射効率に特に優れる反射体を得ることができる。
【００３４】
前記感光性樹脂として具体的に、アクリル系レジスト、ポリスチレン系レジスト、アジドゴム系レジスト、イミド系レジストのうちの少なくとも１種を用いることで優れた反射特性の反射体を得ることができ、前記金属反射膜として、ＡｌまたはＡｌ合金もしくはＡｇまたはＡｇ合金からなるものを用いることで優れた反射特性の反射体を得ることができる。
【００３５】
次に、一対の透明の基板間に液晶を配設し、前記一方の基板側に偏光板と位相差板とを付設し、前記他方の基板に先に記載の製造方法で得られた反射体を一体化してなることで、特定の方向に反射率の優れた反射体を有し、特定の方向に極めて明るい表示形態をとることができる液晶表示装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明に係る反射体の一例を備えた反射型液晶表示装置の一例を示す断面図。
【図２】 基板上に感光性樹脂液を塗布した状態を示す断面図。
【図３】 基板上の感光性樹脂層とそれに押し付ける型を示す側面図。
【図４】 基板上の感光性樹脂層に型を押し付けた状態を示す断面図。
【図５】 得られた感光性樹脂層を示す断面図。
【図６】 得られた感光性樹脂層上の凹凸部の拡大図。
【図７】 本発明に係る反射体の一例を備えた反射型液晶表示装置の他の例を示す断面図。
【図８】 実施例で得られた試料のプリベーク時間と最大表面凹凸の割合を示す図。
【図９】 実施例で得られた試料のプリベーク時間と転写面積の関係を示す図。
【図１０】 実施例で得られた試料の傾斜角と存在確率を示す図。
【図１１】 実施例で得られた反射体の反射強度と角度を示す図。
【図１２】 従来の反射型液晶表示装置の一例を示す断面図。
【符号の説明】
Ｂ 反射型液晶表示装置
１１、１２ 基板（基体）
１４ 液晶
２０ 凹凸部
２１ 感光性硬化樹脂層
２２ 反射膜
２４ 反射体
４０ 感光性樹脂層
４１ 凹凸部
４２ 型
４５１、４５２ 長尺凸部

Claims (6)

1. 基体上にアクリル系レジスト、ポリスチレン系レジスト、アジドゴム系レジスト、イミド系レジストのうちの少なくとも１種の感光性樹脂を塗布して感光性樹脂層を形成し、該感光性樹脂層を４０〜１５０℃の温度範囲にて１０秒以上、１０分以下の時間プリベークしてから、該感光性樹脂層に対して、表面に微細な高さ０.５μｍ〜１μｍの凸部を有する凹凸部を有するシリコン樹脂からなる型を押し付けた状態で光線を照射して前記感光性樹脂層を硬化させて硬化樹脂層を形成し、次いで前記型を前記硬化樹脂層から剥離させて表面に微細な凹凸部を転写し、次いで該微細な凹凸部上に金属反射膜を形成することを特徴とする反射体の製造方法。
2. 前記金属反射膜として、ＡｌまたはＡｌ合金もしくはＡｇまたはＡｇ合金からなるものを用いることを特徴とする請求項１に記載の反射体の製造方法。
3. 前記型を前記感光性樹脂層に押し付ける際の圧力を３０〜５０Ｋｇ／ｃｍ^２とすることを特徴とする請求項１または２に記載の反射体の製造方法。
4. 前記凸部の高さ０.５〜１μｍ、凸部の幅５〜１０μｍ、凹部の幅５〜１０μｍの微細凹凸部を具備するシリコン型を用い、これら微細凹凸部の転写により傾斜角が−８゜〜＋８゜の範囲にある微細凸部を有する反射体を形成することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の反射体の製造方法。
5. 前記凹凸部として、前記基体の一方向に沿って頂上部をほぼ同じ高さに連続させた長尺凸部を複数、相互の間に凹部を形成し前記一方向に対して直交する方向に並設してなり、各長尺凸部の高さと幅をランダムに形成したものを用いることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の反射体の製造方法。
6. 一対の透明の基板間に液晶が配設され、前記一方の基板側に偏光板と位相差板とが付設され、前記他方の基板に請求項１〜５のいずれかに記載の製造方法で得られた反射体が一体化されてなることを特徴とする反射型液晶表示装置。

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