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JP3638359B2 - インクジェットヘッド - Google Patents

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JP3638359B2
JP3638359B2 JP33512495A JP33512495A JP3638359B2 JP 3638359 B2 JP3638359 B2 JP 3638359B2 JP 33512495 A JP33512495 A JP 33512495A JP 33512495 A JP33512495 A JP 33512495A JP 3638359 B2 JP3638359 B2 JP 3638359B2
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徹治 兵頭
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Kyocera Corp
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Publication date
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  • Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明はインクを加熱して発泡させ、インク液滴としてオリフィスより吐出させることで記録をおこなうインクジェットヘッドに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
インクジェットヘッドには普通紙に記録できる簡便性と高画質性とがあって、さらにカラー用としてのシリアルタイプが主流となっている。しかし、1枚のカラー画像を印画するための所要時間が長いという問題点があるので、この問題点を解消するためにラインタイプのインクジェットヘッドが望まれている。
【0003】
すでに提案されたラインタイプのインクジェットヘッドを図4と図5により説明する。図4はインクジェットヘッド1の要部構成を示す破断面斜視図であり、図5は図4中の切断面線X−Xによる断面図である。
【0004】
2はSiからなる厚み0.5〜1.0mmの長尺状の基板、3は基板2上に設けた厚み1μm程度のSiO2 からなる蓄熱層、4は蓄熱層3上に設けたTa−Alやポリシリコンなどからなる厚み1000〜2000Å程度の抵抗体層であり、この抵抗体層4上にはAlなどからなる厚み1μm程度の個別電極5と共通電極6とを対向するように配設し、これによって個別電極5と共通電極6との間に発熱領域7を形成し、かかる発熱領域7を多数配列することによって発熱素子アレイとなす。
【0005】
また、SiNなどからなる保護層8を厚み1〜2μm程度で被覆し、この保護層8の上にはTaなどからなる耐キャビテーション層9を厚み0.5〜2μm程度で形成し、そして、発熱領域7の周辺にシリコーンやエポキシなどの樹脂からなる流路用の壁10を設けて、さらにインクドロップレットを排出するための排出口であるオリフィス11が個々の発熱領域7毎に配列されたNiやポリイミド樹脂などからなるオリフィスプレート12(以下、プレート12とする)を配設し、これら壁10とプレート12などで囲まれた空間領域に水溶性インクを各々の発熱領域7へ導入する、いわゆるインク流路を構成する流路部13となす。
【0006】
かくして上記ラインタイプのインクジェットヘッド1によれば、オリフィス11が50μmの径で、300DPIの間隔で2000〜3000素子になるように配列され、この配列でもって副走査方向に各オリフィス11が適宜インク液滴を放出し、このような1次元的な印画とともに、インクジェットヘッド1が主走査方向に移動することで、2次元的に印画がおこなわれる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記構成のインクジェットヘッド1においては、従来の感熱記録タイプのサーマルヘッドとくらべて、保護層8の上に耐キャビテーション層9を配しているので、その層9の耐キャビテーション性を高めるために、一定以上の圧縮応力が内在されるように成膜形成している(特開平6−297713号参照)。
【0008】
そのため、基板2の長手寸法が200mmを越えるような長尺状のインクジェットヘッド1を作製した場合には、図6に示すように耐キャビテーション層9に起因して、過大な応力Fでもって基板2が湾曲し、さらに基板2の端において最も応力が集中するために、この端付近の耐キャビテーション層9が剥離したり、あるいは保護層8が破断していた。
【0009】
したがって本発明の目的は耐キャビテーション層の剥離や保護層の破断が生じない高品質かつ高信頼性のインクジェットヘッドを提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明のインクジェットヘッドは、基板上に蓄熱層と抵抗体層とを順次形成し、この抵抗体層上に個別電極と共通電極とを対向配置して発熱素子となし、この発熱素子を複数個配列して発熱素子アレイを構成し、この発熱素子アレイ上に電気的絶縁材料からなる保護層と水素化アモルファスシリコン層とを順次積層し、水素化アモルファスシリコン層上の各発熱素子の直上に耐キャビテーション層を設けたサーマルヘッドと、このサーマルヘッド上に配してオリフィスが設けられたオリフィスプレートと、これらサーマルヘッドとオリフィスプレートとでインク流路をなす流路部とを具備し、そして、流路部に導入されたインクのうち上記発熱素子付近のインクが加熱されて発泡することにより、オリフィスよりインク液滴を吐出するようにしている。
【0011】
【発明の実施の形態】
本発明のインクジェットヘッドを図1と図2により説明する。図1は実施形態のインクジェットヘッド14の要部構成を示す破断面斜視図、図2はインクジェットヘッド14のうちサーマルヘッド15の長手方向にわたる要部断面図である。なお、図4と図5に示すインクジェットヘッド1と同一箇所には同一符号を付す。
【0012】
インクジェットヘッド14によれば、主としてサーマルヘッド15と、サーマルヘッド15上に配したインク流路を構成する流路部13と、前記オリフィスプレートとしてのインク液滴を吐出するオリフィス11が設けられたプレート12とから構成されている。
【0013】
上記サーマルヘッド15においては、Siからなる厚み0.5〜1.0mmの長尺状の基板2上に厚み1μm程度のSiO2 からなる蓄熱層3、Ta−Alやポリシリコンなどからなる厚み1000〜2000Å程度の抵抗体層4とを順次積層し、抵抗体層4上にはAlなどからなる厚み1μm程度の個別電極5と共通電極6とを対向するように配設し、これによって個別電極5と共通電極6との間に発熱領域7を形成して発熱素子17となし、このような発熱素子17を多数配列することによって300DPIの間隔で2000〜3000素子になる発熱素子アレイを構成する。さらに発熱素子アレイ上に厚み1〜2μm程度のSiNなどの電気的絶縁材料からなる保護層8を被覆し、この保護層8上に厚み0.5〜1μm程度の水素化アモルファスシリコン層19を形成し、そして、水素化アモルファスシリコン層19上の各発熱素子17の直上に厚み0.5〜2μm程度のTaなどからなる耐キャビテーション層18を形成している。
【0014】
この水素化アモルファスシリコン層19はCVDによって成膜形成できて、ダングリングボンドは水素原子によって終端され、その内部応力は0.1〜1.00×109 N/m2 程度にまで小さくなっている。また、水素化アモルファスシリコン層19にドーパントを含有して、電気伝導性を具備してもよく、nタイプにする場合にはPを、pタイプにする場合にはBをドープする。
【0015】
上記層構成については、従来のインクジェットヘッド1を示す図5において、保護層8と耐キャビテーション層9との間に水素化アモルファスシリコン層19設けた構造となっている。したがって、図6に示す如く、サーマルヘッド15上に設けたプレート12と流路部13は次のような構造になっている。すなわち、発熱領域7の周辺にシリコーンやエポキシなどの樹脂からなる流路用の壁10を設けて、さらに50μm径のオリフィス11が個々の発熱領域7毎に配列されたNiやポリイミド樹脂などからなるプレート12を配設し、これら壁10とプレート12とでもって流路部13を構成する。
【0016】
かくして上記インクジェットヘッド14によれば、流路部13に導入されたインクに対して、ある発熱素子17に電力印加されると、その発熱素子17付近のインクは熱エネルギーを受けて発泡し、その発熱素子17に対応するオリフィス11を通してインク液滴が吐出するが、このような印字において、一定以上の圧縮応力のある耐キャビテーション層18を設けても、内部応力の小さい水素化アモルファスシリコン層19を介しているので、その圧縮応力が分散されて、基板2には湾曲が生じなくなり、これによって基板2の端付近の耐キャビテーション層18が剥離しなくなり、また、保護層8が破断しなくなる。
【0017】
【実施例】
水素化アモルファスシリコン層19を配した以外は同じ構成とした本発明のインクジェットヘッド14および従来技術のインクジェットヘッド1について、基板の端付近における耐キャビテーション層の剥離発生不良率を、基板長さに対して測定したところ、図3に示すような結果が得られた。なお、この不良発生率は、100個のインクジェットヘッドを同じ条件で作製した場合に、1か所でも剥離などが発生したものを不良と認定して、その割合をあらわす。
【0018】
図3の結果から明らかなとおり、本発明のインクジェットヘッド14によれば、基板長さが340mmになって、ようやく不良が発生するのであるが、これに対する従来技術のインクジェットヘッド1においては、基板長さが100mmになって不良が発生した。したがって、本発明は従来と比べて約3.4倍の耐性があることがわかる。そして、本発明のインクジェットヘッド14を印画幅がB4サイズに使用することができる。
【0019】
また、本発明のインクジェットヘッド14においては、水素化アモルファスシリコン層19を介して耐キャビテーション層18を設けているが、耐キャビテーション層18に局所的に静電気が発生しても、その静電気は直ちに分散され、静電破壊が生じなくなっていた。
【0020】
なお、本発明は上記実施例および実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の変更や改良などを何ら差し支えない。たとえば、上記実施例によれば、基板長さが340mm未満で使用できるものであったが、耐キャビテーション層17や保護層8の幅や厚み、さらに水素化アモルファスシリコン層19の形状や厚みを適当に変えることで各種サイズの基板に適用できる。
【0021】
【発明の効果】
かくして本発明のインクジェットヘッドによれば、水素化アモルファスシリコン層を介して耐キャビテーション層を設けているので、耐キャビテーション層に圧縮応力があっても、それが水素化アモルファスシリコン層により分散され、これにより、基板には湾曲が生じなくなり、基板の端付近の耐キャビテーション層が剥離しなくなり、さらにその下の保護層が破断しなくなり、その結果、高品質かつ高信頼性のインクジェットヘッドが提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のインクジェットヘッドの要部構成を示す破断面斜視図である。
【図2】本発明のインクジェットヘッドのうちサーマルヘッドの要部断面図である。
【図3】実施例における剥離などの不良が発生する比率をあらわす線図である。
【図4】従来のインクジェットヘッドの要部構成を示す破断面斜視図である。
【図5】図4中の切断面線X−Xによる断面図である。
【図6】従来のインクジェットヘッドにおける耐キャビテーション層や基板などの湾曲状態を示す断面図である。
【符合の説明】
1、14 インクジェットヘッド
2 基板
3 蓄熱層
4 抵抗体層
5 個別電極
6 共通電極
7 発熱領域
8 保護層
9、18 耐キャビテーション層
10 壁
11 オリフィス
12 プレート
13 流路部
15 サーマルヘッド
17 発熱素子
19 水素化アモルファスシリコン層

Claims (1)

  1. 基板上に蓄熱層と抵抗体層とを順次形成し、この抵抗体層上に個別電極と共通電極とを対向配置して発熱素子となすとともに、該発熱素子を複数個配列して発熱素子アレイを構成し、この発熱素子アレイ上に電気的絶縁材料からなる保護層と水素化アモルファスシリコン層とを順次積層し、該水素化アモルファスシリコン層上の各発熱素子の直上に耐キャビテーション層を設けたサーマルヘッドと、該サーマルヘッド上に配してオリフィスが設けられたオリフィスプレートと、これらサーマルヘッドとオリフィスプレートとでインク流路をなす流路部とを具備するとともに、該流路部に導入されたインクのうち上記発熱素子付近のインクが加熱されて発泡することにより、オリフィスよりインク液滴を吐出するようにしたインクジェットヘッド。
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