JP3596512B2 - Manufacturing method of electronic components - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子部品の製造方法及び電子部品載置テーブルに関するものであり、例えば、液晶表示パネルに接続される液晶駆動用ICの電極等に適用されるものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、半導体部品等の電子部品の接続、例えば液晶表示パネルと液晶駆動用ICの接続は、フェイスダウンによるはんだ付けが一般的であり、電極端子にはんだ突起を形成した液晶駆動用ICを液晶表示パネルに位置合わせし、ホットプレートで加熱してはんだ付けしていた。そのため、融点を越えるまではんだを加熱する必要があるので、この加熱によって液晶表示パネルが劣化するという問題を有していた。このため、はんだ付け方法を用いないで、液晶表示パネルに液晶駆動用ICを実装する方法が望まれており、このような方法として、文献「IMC’90(International Microelectronics Conference)」に発表された「CHIP−ON−GLASS TECHNOLOGY USING CONDUCTIVE PARTICLES AND LIGHT−SETTING ADHESIVES」に示されるように、導電粒子による接続構造が用いられており、液晶駆動用ICの電極端子に導電粒子が搭載された構造となっていた。 図17は、この従来の液晶駆動用ICの電極端子上に導電粒子を搭載する方法を工程順に示す製造工程図である。図において、1は液晶駆動用IC、2は液晶駆動用IC1の電極端子、3aは未硬化の紫外線硬化樹脂、3bは既硬化の紫外線硬化樹脂、4は液晶駆動用ICの電極端子2パターンが形成されたフォトマスク、5は露光装置、6は導電粒子で、例えば樹脂球の表面に金などの金属がめっきされたものであり、具体的には例えばミクロパール(登録商標、積水ファインケミカル株式会社製)である。なお、この図では明確化のため、断面部には一部を除いてハッチングを施さないで示しており、これは他の図面でも同じである。
【0003】
次に、従来の液晶駆動用IC1の電極端子2に導電粒子6を搭載する方法について説明する。
まず、図17(a)に示すように、液晶駆動用IC1の表面に紫外線硬化樹脂3aをスピンコート法により塗布する。次に、図17(b)に示されるように、液晶駆動用IC1とフォトマスク4とを位置合わせし、液晶駆動用IC1に塗布された紫外線硬化樹脂3aを露光装置5によって露光する。これによって、図17(c)に示すように、液晶駆動用ICの電極端子2上の紫外線硬化樹脂3aは未硬化、またハッチングを施して示した電極端子2以外の紫外線硬化樹脂3bは硬化状態となる。次に、図17(d)に示されるように、電極端子2上の未硬化紫外線硬化樹脂3aの粘着力を利用して、液晶駆動用ICの電極端子2上にのみ導電粒子6を搭載していた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前述のような従来の電子部品や該電子部品の製造方法では、電極端子上の未硬化紫外線硬化樹脂3aの粘着力を利用して導電粒子6を搭載するために、未硬化紫外線硬化樹脂3aの表面状態のコントロールが難しく、紫外線硬化樹脂3aの経時変化,異物の付着などにより、導電粒子6の固定が不安定であった。
【0005】
本発明は係る課題を解決するためになされたものであって、電極端子上に導電粒子を確実に搭載することができる電子部品の製造方法及び電子部品載置テーブルを提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
請求項1記載の発明に係る電子部品の製造方法は、導電粒子のみを含む揮発性の溶剤を転写基板に塗布した後に上記溶剤を蒸発させるものである。
【0007】
請求項2記載の発明に係る電子部品の製造方法は、請求項1記載の転写基板にシリコン基板を用いるものである。
【0008】
請求項3記載の発明に係る電子部品の製造方法は、請求項1または2記載の転写基板に所定間隔で凹部を形成したものを用いるものである。
【0009】
請求項4記載の発明に係る電子部品載置テーブルは、突起電極または電極端子を有する電子部品を上記突起電極または電極端子以外の部分で支持するように構成したものである。
【0010】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の電子部品の製造方法及び電子部品載置テーブルについて図面を参照しながら説明する。なお、以下の実施例では、電子部品として液晶駆動用ICを例にとって説明するが、これに限定されるものではなく、密着型イメージセンサやサーマルヘッド用駆動用IC,チップ抵抗,チップコンデンサなどの電子部品やフレキシブル基板,TAB(Tape Automated Bonding)などの接続配線などでも同様に、本発明を適用できる。
【0011】
実施の形態1.
図1は請求項1〜4の発明に関係する電子部品及びその製造方法の一実施の形態例で、電子部品の製造工程を示す図である。図において、7は液晶駆動用IC1の電極端子上に形成されたAu,Cuなどの突起電極、8は導電粒子6が分散配置された転写基板、9は液晶駆動用IC1を転写基板8に加熱加圧するヘッドである。
【0012】
まず、図1(a)に示されるように、導電粒子6が分散配置された転写基板8と液晶駆動用IC1とを、ヘッド9によって加熱加圧する。この際、圧力は導電粒子6と突起電極7の接触部に集中するため、突起電極7は容易に変形を生じ、凹部が形成される。この凹部は導電粒子6の形に形成され、導電粒子6は突起電極7に圧入されることになる。この場合、導電粒子6および突起電極7の接触部は、突起電極7の変形とともに、表面層が僅かではあるものの削られるため、自然酸化膜などの除去も同時に実施され、両者間の接続不良を防ぎ、良好なオーミックコンタクトを得ることもできる。突起電極7に導電粒子6が圧入されることにより、接触面積が増加すること、また加熱することにより転写基板8と導電粒子6との間の付着力が弱まるため、突起電極7に導電粒子6が確実に転写される。 これによって、図1(b)に示されるように、導電粒子6は突起電極7に圧入されて突起電極7に導電粒子6が搭載される。
【0013】
この電極構造においては、突起電極7と導電粒子6の間に、紫外線硬化樹脂3などの接着層がないため、突起電極7と導電粒子6は確実に接触し、オープン不良が発生することはない。また、ファトリソグラフィー工程が不要であり生産性が向上する。さらにフォトマスク4などの材料および露光装置5などの製造装置が不要となり、コストを低減することができる。また、この製造方法においては、突起電極7に導電粒子6を圧入する際に、ヘッド9により液晶駆動用IC1が転写基板8に押し付けられるため、突起電極7に高さのバラツキがあっても、突起電極7および導電粒子6が変形し、導電粒子6を含む突起電極の高さが均一になる。そのため、液晶表示パネルに接続する際、液晶駆動用IC1を僅かに加圧するだけで、液晶表示パネルと液晶駆動用ICの電極端子を電気的に接続することができる。また、この液晶駆動用IC1を液晶表示パネルに押し付けることにより、液晶表示パネルの点灯検査を行なうこともできる。さらに、この製造方法においては、突起電極7に導電粒子6を圧入する際に、加熱しながら行うので、圧入が容易である。
【0014】
また、実施の形態1においては、ヘッド9によって転写基板8に液晶駆動用IC1を加熱加圧しているが、転写基板8を加熱しヘッド9で転写基板8に液晶駆動用IC1を加圧しても、同様の効果を有する。
【0015】
実施の形態2.
請求項1〜4の発明に関連する他の実施の形態として、耐熱性の低い電子部品においては、導電粒子6を加圧によってのみ突起電極7に搭載することも可能である。
【0016】
実施の形態3.
さらに、請求項1〜4記載の発明に関連する一実施の形態について説明する。液晶駆動用IC1の突起電極7および導電粒子6の表面に、低温において合金層を形成し易い組み合わせによって金属層を形成することにより、ヘッド9で液晶駆動用IC1を加熱加圧すると、導電粒子6と突起電極7とで合金層が形成され、確実に接続され、接続信頼性を一層向上させることができる。金属層の組み合わせ例としては、AuとSn,はんだとはんだ,はんだとAu、はんだとAg,はんだとCuなどがある。
【0017】
実施の形態4.
請求項1〜4記載の発明に関連する一実施の形態について説明する。実施の形態1〜3では、液晶駆動用IC1を転写基板8に加熱加圧したが、この際にヘッド9を通じて超音波を印加することも極めて有効である。超音波により、突起電極7は僅かの圧力でも変形を生じ、かつ表面の酸化膜除去の効果もある。また、超音波を転写基板8側から印加してもよい。さらに、超音波をヘッド9と転写基板8の両側から印加することにより、一層効果があることは言うまでもない。
【0018】
実施の形態5.
図2に請求項1〜4記載の発明に関連する一実施の形態を示す。図において、10はエアーノズルである。導電粒子6の転写工程において、隣接する突起電極7間に導電粒子6が入り、電極端子相互間が導通することがあった。そこで、突起電極7に導電粒子6を圧入後、突起電極7の周囲にエアーノズル10からエアーを吹き付け、突起電極7間に存在する余分な導電粒子を吹き飛ばす。これによって、突起電極7間の導電粒子6は効率的、かつ確実に除去される。その結果、液晶駆動用IC1の電極端子間で導電粒子3による短絡が生じることはなく、信頼性および歩留まりが向上する。
【0019】
実施の形態6.
また、請求項1〜4記載の発明に関連した他の実施の形態として、突起電極7部以外の導電粒子6の多くは静電気により付着しているため、イオン化エアーを吹き付けることにより、突起電極7間の導電粒子6を一層効果的に除去することができる。さらに、静電気の印加による液晶駆動用IC1の破壊も防止できる。
【0020】
実施の形態7.
さらにまた、請求項1〜4記載の発明に関連する一実施の形態として、導電粒子6を突起電極7に転写後、突起電極7すなわち液晶駆動用IC1に振動、例えば超音波や衝撃波を加えることにより、上記実施の形態5および6と同様に、突起電極7部以外の導電粒子6を除去することができる。このとき、振動は例えば加熱加圧ヘッド9を介して超音波を与えてもよく、加熱加圧ヘッド9の加熱をわざわざ冷却しないで液晶駆動用IC1を加熱しながら振動させてもよい。また、ハンマー等で軽く叩いてもよい。
【0021】
実施の形態8.
また、図3に請求項1〜4記載の発明に関連する一実施の形態を示す。図において、11は液晶表示パネル、12は液晶表示パネル11に形成された出力配線パターン、13は液晶駆動用IC1に入力信号を供給するフレキシブル基板であり、液晶表示パネル11の実装部にフレキシブル基板13が配置されている。14はフレキシブル基板13に形成された入力配線パターンである。15は転写基板8に形成された突部であり、突部の高さすなわち圧入方向の段差はフレキシブル基板13と入力配線パターン14の厚みの和から出力配線パターン12の厚みを引いた値に等しい。
図3(a)に示すように、フレキシブル基板13により液晶駆動用IC1に入力信号を供給する場合、入力配線パターン14は出力配線パターン12より、フレキシブル基板13の厚みだけ高い位置にある。そのため、出力配線パターン12と液晶駆動用IC1の電極端子2が接触しにくく、オープン不良が発生することがあった。そこで、図3(b)に示すように、突部15が形成された転写基板8に導電粒子を搭載し、液晶駆動用ICの入力用突起電極を突部15上に配置して、ヘッド9で液晶駆動用IC1を加圧し、導電粒子6を突起電極7に圧入する。そして、図3(c)に示すように、液晶駆動用IC1の入力用突起電極には導電粒子6の圧入深さを深くしてその高さを、フレキシブル基板13と入力配線パターン14の厚みの和から出力配線パターン12の厚みを引いた値だけ低くする。これにより、液晶駆動用IC1を僅かに加圧するだけで、液晶表示パネルと液晶駆動用ICの電極端子が電気的に接続し、オープン不良が発生することがない。
【0022】
実施の形態9.
なお、液晶表示パネル11と液晶駆動用IC1を接続するボンダに実施の形態1〜8で述べたような加熱加圧ヘッド9や転写基板8等の転写機構を設けることにより、導電粒子6の圧入、および液晶駆動用IC1と液晶表示パネル11の接続が一台の装置で一貫して行なえるため、生産性が一層向上する。
【0023】
実施の形態10.
図4は請求項4記載の発明の一実施の形態を示す断面構成図である。図において、16は電子部品例えば液晶駆動用IC1を載置するIC載置テーブル、17aはIC載置テーブル16に形成された凹部である。
導電粒子6が転写された液晶駆動用IC1と液晶表示パネルとを接続する際に、突起電極7上の導電粒子6がIC搭載テーブル16に接触し、導電粒子6が突起電極7から外れる恐れがある。そこで、IC載置テーブル16の突起電極7部に凹部17aを設けて液晶駆動用IC1を突起電極7以外の部分で支持することにより、突起電極7はIC載置テーブル16に接触して導電粒子6の外れることがなくなり、接続信頼性および歩留まりが向上する。
【0024】
実施の形態11.
さらにまた、請求項4記載の発明の他の実施の形態をとして図5に示すように、突起電極7が接触しないように、IC載置テーブル16の一部に突部17bを設けても、同様の効果がある。
【0025】
実施の形態12.
請求項1〜4記載の発明に関連する一実施の形態について説明する。実施の形態1〜11で述べたような電子部品においては、突起電極または電極端子はICチップやチップ抵抗やチップコンデンサ等のチップ部品に形成されていてもよいし、ICチップを切り出す前のICウェハに形成されていてもよい。すなわち、1チップずつ処理を行なってもよいし、全工程をウェハ状態で行なってもよい。さらにまた、ウェハが1/2,1/4などに分割された状態でも問題ない。導電粒子6圧入をウェハで行なうことにより、生産性を向上することができる。このように、ウェハ状態で転写処理を行なった場合には、転写工程終了後、ウェハを個々のICチップにダイシングを行なう必要がある。一方、チップ部品の場合は良品のみに導電粒子6を搭載できる。
【0026】
実施の形態13.
図6は請求項1および2記載の発明の一実施の形態を示す製造工程図である。図において、18は導電粒子6を含む揮発性の溶剤すなわちエタノールである。製造方法は、まず、図6(a)に示すように、転写基板8に、導電粒子6を分散させたエタノール18をスピンコート法や吹き付け方などによって塗布する。次に、この転写基板8を室温で放置する。図6(b)に示すように、エタノール18が蒸発するため、導電粒子6が転写基板8に均一にかつ接着層なしに緩く固定される。
なお、導電粒子6を分散させる揮発性の溶剤の種類や乾燥条件などを適切に選ぶことにより、接着層は形成しないものの、導電粒子6は転写基板8上に緩く固定された状態とすることができ、その後のハンドリングなどで導電粒子6は転写基板8から脱落することはない。さらに、導電粒子6は転写基板8に接着剤によってしっかりと固定されているわけではないので、容易に転写基板8から剥がれる。そのため、加熱加圧によって液晶駆動用IC1の突起電極7に導電粒子6を確実かつ容易に圧入することができ、歩留まりを向上させることができる。
なお、転写基板8としては、例えばシリコン基板が用いられるが、導電粒子6の固定のされ易さには基板の表面荒さが関係しているようであり、鏡面では難しいようである。
【0027】
実施の形態14.
請求項1記載の発明の他の実施の形態について説明する。実施の形態13では、導電粒子6を分散させる揮発性の溶剤として、エタノールを使用したが、ゴミや不純物などを含まず、蒸発後残さの残りにくい液体、例えばアセトン、IPA(イソプロピルアルコール)、純水等を用いてもよい。また、塗布後の乾燥を室温で行なっているが、使用する溶剤に応じて、温度や加熱方法を選べばよく、例えば、純水を使用する場合は、80℃程度のホットプレートで加熱する方法が有効である。
また、転写基板8に搭載される導電粒子6の数は、溶剤14に分散する導電粒子6の含有率やスピン回転数によって容易に調整可能であり、導電粒子6の転写信頼性を向上することができる。
【0028】
実施の形態15.
請求項1記載の発明のさらに他の実施の形態について説明する。突起電極7等に圧入されずに残った転写基板8上の導電粒子6は、アセトンやエタノールなどの溶剤で簡単に除去できるため、残った導電粒子6を回収し、転写基板8に再塗布することにより、製造コストを低減することができる。このとき、転写基板8も再利用できることは言うまでもない。
さらに、転写基板8を図7に示すように周縁部を持ち上げた箱形状とすることにより、溶剤で洗い流された導電粒子6は、転写基板8上に溜まる。この状態で、この転写基板8ごとスピンさせることによって、導電粒子6を簡単かつ均一に再塗布することができ、生産性が一層向上する。
【0029】
実施の形態16.
請求項3記載の発明の一実施の形態について説明する。転写基板8の表面に所定間隔で凹部を形成したものを用いると、導電粒子6を含む溶剤を転写基板に塗布したときに上記凹部に導電粒子6が保持されて所定間隔で分散される。よって、凹部の間隔を制御することにより導電粒子6を所望の間隔で転写基板8に分散させることが可能となる。
【0030】
実施の形態17.
請求項1〜4記載の発明に関連する他の実施の形態に関し、突起電極7が形成されていない液晶駆動用ICの接続方法について、図8を用いて説明する。図において、15は液晶駆動用IC1の電極端子2に対応する突部であり、エッチング法などによって形成する。図8(a)に示すように、突部15により圧入方向に段差を有する転写基板8の表面に導電粒子6を搭載する。導電粒子6の搭載は例えば実施例14の方法による。次に、図8(b)に示すように、液晶駆動用IC1の電極端子2と転写基板の突部15とを相対向させて位置合わせし、ヘッド9によって加熱加圧する。これにより、図8(c)に示すように、液晶駆動用IC1の電極端子2に導電粒子6を圧入する。また、液晶駆動用IC1を押し付ける加圧力により、導電粒子6と電極端子2表面部に僅かに変形が生じ、表面の自然酸化膜も除去され、確実な接続が得られる。
【0031】
実施の形態18.
図9は請求項1〜4記載の発明に関連する一実施の形態を示す製造工程図である。図において、19は絶縁性樹脂層、例えばネガ型感光性レジストである。
次に製造方法について説明する。まず、図9(a)に示されるように、液晶駆動用IC1の表面にネガ型感光性レジスト19をスピンコート法や印刷法によって塗布する。次に、液晶駆動用IC1を90℃程度で加熱しネガ型感光性レジスト19をプリベークする。そして図9(b)に示されるように、液晶駆動用IC1と液晶区駆動用ICの電極端子2パターンが形成されたフォトマスク4とを位置合わせし、露光装置5によってネガ型感光性レジスト19を露光する。露光後現像を行なうことによって、図9(c)に示されるように、ネガ型感光性レジスト19は突起電極7上に選択的に残り、突起電極7上に可塑性を有する既硬化の絶縁性樹脂19層を形成することができる。
このように、フォトリソグラフィ法を適用して、液晶駆動用IC1の突起電極7上に選択的にネガ型感光性レジスト19層を形成することができるため、ファインピッチ,多端子化する傾向にある液晶駆動用IC1の電極端子2ピッチに容易に対応できるという効果を有する。また、ネガ型感光性レジスト19層により電極端子2が覆われているため、静電気の印加による液晶駆動用IC1の破壊を防止することができる。
なお、、ネガ型感光性レジストの場合について述べたが、ポジ型感光性レジストにおいても、同様の効果を有することは言うまでもない。
【0032】
実施の形態19.
さらに、絶縁性樹脂層19としては、加圧力により容易に塑性変形を生じ易い特性を有する樹脂であればよく、上記感光性レジストに限らず例えばシリコン樹脂,アクリル樹脂,エポキシ樹脂,ポリイミド樹脂などでもよい。
【0033】
実施の形態20.
また、電極端子2に絶縁性樹脂層19を形成する方法としては、例えば印刷法では、スクリーン印刷法,パッド印刷法,転写印刷法などがある。
図10によりパッド印刷法を簡単に説明する。図において、20は弾力性のあるラバーパッド,21は液晶駆動用ICの電極端子2パターンに対応して凹部21aが形成された金属ブレード、22は絶縁性樹脂19を金属ブレード21に擦り付けるスキージである。まず、図10(a)に示すように、金属ブレード21に絶縁性樹脂19を塗布する。次に図10(b)に示すように、スキージ22により金属ブレード21の凹部21aに絶縁性樹脂19を詰め込む。そして、金属ブレード21にラバーパッド20を押し付けることによって、金属ブレード21の凹部21aの絶縁性樹脂19をラバーパッド20に転写する。次に、図10(c)に示すように、液晶駆動用IC1にラバーパッド20を押し付け、絶縁性樹脂19層を突起電極7に転写する。最後に絶縁性樹脂19を硬化させ、突起電極7に可塑性を有する既硬化の絶縁性樹脂19層を形成する。
【0034】
また、図11を用いて転写印刷方法を簡単に説明する。図において、23は絶縁性樹脂19が塗布された樹脂塗布基板である。まず、図11(a)に示すように、樹脂塗布基板23上に絶縁性樹脂19をスクリーン印刷法などによって均一の厚みに塗布する。次に図11(b)に示すように、突起電極7が形成された液晶駆動用IC1を樹脂塗布基板23に押し付けて液晶駆動用IC1の突起電極7に絶縁性樹脂19を付着させる。そして図11(c)に示すように、絶縁性樹脂を硬化させ、突起電極7に可塑性を有する既硬化の絶縁性樹脂19層を形成する。
このような印刷法は量産性にすぐれており、さらに印刷機のみで絶縁性樹脂19層を形成できるため、生産性の向上,コストの低減が実現できる。
【0035】
実施の形態21.
また、請求項1〜4記載の発明に関連する他の実施の形態に関し、突起電極7が形成されていない液晶駆動用IC1に、転写印刷法で絶縁性樹脂19層を形成する方法について、図12を用いて説明する。図において、24は液晶駆動用IC1の電極端子2に対応して形成された樹脂塗布基板23の突部である。まず、図12(a)に示すように、突部24を含む樹脂塗布基板23の表面に絶縁性樹脂19を塗布する。次に、図12(b)に示すように、液晶駆動用IC1と樹脂塗布基板の突部24とを相対向させて位置合わせし押し付ける。そして図12(c)に示すように、液晶駆動用IC1の電極端子2に絶縁性樹脂19を付着させ、次に絶縁性樹脂19を硬化させ、電極端子2に可塑性を有する既硬化の絶縁性樹脂19層を形成する。
【0036】
このように、スクリーン印刷法,パッド印刷法およびフォトリソグラフィ法においては、突起電極7はあってもなくてもよく、全てのICチップに対応できる。 さらに、突起電極7の材質について、特に制約はなく、Au,Cuなど通常の材質構造で対応できる。さらにまた、突起電極7が形成されていない電極端子2においても、特別な電極材質は不要であり、Alなどの通常の電極メタライズでよい。
【0037】
実施の形態22.
図13は請求項1〜4記載の発明に関連する他の実施の形態を示す断面図である。この例では図13に示されるように、液晶駆動用IC1の全面に可塑性を有する既硬化の絶縁性樹脂19層が形成されている。製造方法は、液晶駆動用IC1の配線パターン面に絶縁性樹脂、例えばポリイミド樹脂19をスピンコート法,スクリーン印刷法,パッド印刷法,転写印刷法などによって約数μmの膜厚に塗布する。次に、この液晶駆動用IC1を加熱してポリイミド樹脂19をキュアすることにより硬化させ、液晶駆動用IC1の全面にポリイミド樹脂19層を形成する。
このように、液晶駆動用IC1の全面にポリイミド樹脂19を塗布するため、電極端子2のピッチや電極端子数に影響されず、ファインピッチ,多端子化する液晶駆動用IC1に容易に対応できる。また、ポリイミド樹脂19層により電極端子2が覆われているため、静電気が印加して液晶駆動用IC1の破壊を防止することができる。
【0038】
また、絶縁性樹脂としてポリイミド樹脂の場合について説明したが、これに限るものではなく、加圧力により容易に塑性変形を生じ易い特性を有する樹脂であればよく、シリコン樹脂,アクリル樹脂,エポキシ樹脂,感光性レジストなどであってもよい。さらに、耐熱性の低い電子部品においては、室温硬化型絶縁性樹脂、例えば吸湿硬化型シリコーン樹脂などを適用すれば、電子部品を加熱する必要がない。
【0039】
さらにまた、液晶駆動用ICの突起電極7はあってもなくてもよい。さらに、電極端子2や突起電極7の材料構造には特に制約はなく、例えば通常のAl,Au,Cuなどのメタライズが用いられる。
【0040】
実施の形態23.
請求項1〜4記載の発明に関連する一実施の形態について説明する。実施の形態18〜22で述べたような電子部品においては、突起電極または電極端子はICチップやチップ抵抗やチップコンデンサ等のチップ部品に形成されていてもよいし、ICチップを切り出す前のICウェハに形成されていてもよい。すなわち、1チップずつ処理を行なってもよいし、全工程をウェハ状態で行なってもよい。さらにまた、ウェハが1/2,1/4などに分割された状態でも問題ない。絶縁性樹脂19層の形成をウェハで行なうことにより、生産性をさらに向上することができる。このように、ウェハ状態で絶縁性樹脂19層の形成を行なった場合には、絶縁性樹脂19層形成後、ウェハを個々のICチップにダイシングを行なう必要がある。一方、チップ部品の場合は良品のみに絶縁樹脂層19を形成できる。
【0041】
実施の形態24.
図14は請求項1〜4記載の発明に関連する一実施の形態を示す製造工程図である。実施例18〜23で詳細に説明したように突起電極7または電極端子2に形成された可塑性を有する既硬化の絶縁性樹脂19層に、導電粒子6を圧入した電極端子構造およびその製造方法に関するものである。
製造方法は、まず図14(a)に示されるように、突起電極7の先端部に絶縁性樹脂19層が形成された液晶駆動用IC1を、導電粒子6が搭載された転写基板8に押し付ける。ここで、導電粒子6は実施例13〜16で詳細に説明した請求項16記載の方法によって、容易に転写基板8に搭載することができる。次に図14(b)に示すように、導電粒子6が絶縁性樹脂19層に圧入され、導電粒子6が突起電極7に接触し、突起電極7に導電粒子6を固定することができる。導電粒子6と突起電極7が接触した後も、圧力を加えることにより、突起電極7に変形を生じせ、介在する絶縁性樹脂19が排除されるとともに、その際の摩擦力などにより突起電極7および導電粒子6の表面酸化層が破壊され、良好なコンタクトが得られる。
このように、すでに硬化した絶縁性樹脂19層に導電粒子6を圧入していくことから、少なくとも導電粒子6の球面の一部は絶縁性樹脂19層から露出した状態となり、この部分で該ICチップと他の配線基板との接続を達成することになる。この液晶駆動用IC1を液晶表示パネルに押し付けることにより、液晶表示パネルの点灯検査を行なうこともできる。また、導電粒子6は突起電極7上にのみ固定されるため、隣接する突起電極7相互間で短絡不良が発生することはなく、接続信頼性が向上する。また、圧力により塑性変形を生じ易い可塑性を有する絶縁性樹脂19層が突起電極7上に形成されているため、導電粒子6は圧入し易く、転写基板8から確実に突起電極7上に転写され、接続信頼性,歩留まりが向上する。さらに、絶縁性樹脂19は既硬化の状態であり、経時変化やゴミの付着などがないため、導電粒子6を確実に圧入することができる。
また、導電粒子6を転写する際に、ヘッド9により液晶駆動用IC1を転写基板8に押し付けられるため、突起電極7に高さのバラツキがあっても、突起電極7および導電粒子6が変形し、導電粒子6含む突起電極の高さが均一になる。 そのため、液晶表示パネル11に接続する際、液晶駆動用IC1を僅かに加圧するだけで、液晶表示パネルと液晶駆動用ICの電極端子を電気的に接続することができる。
【0042】
実施の形態25.
また、図15は請求項1〜4記載の発明に関連する他の実施の形態を示し、全面に絶縁性樹脂19が塗布された液晶駆動用IC1への導電粒子6圧入方法を示す製造工程図である。まず、図15(a)に示すように、液晶駆動用ICの突起電極7に対応するように突部15が形成された転写基板8の表面に、導電粒子6を搭載する。導電粒子6は請求項1記載の方法によって、転写基板8に搭載することができる。次に、図15(b)に示すように、液晶駆動用ICの突起電極7と転写基板の突部15とを相対向させて位置合わせし、ヘッド9で押し付ける。これにより、図15(c)に示すように、突起電極7上の絶縁性樹脂19に導電粒子6を圧入させ固定する。
この方法によれば、突起電極7上にのみ導電粒子6が搭載されるため、突起電極7間で短絡不良が発生することはなく、接続信頼性,歩留まりが向上する。
【0043】
実施の形態26.
請求項1〜4記載の発明に関連する他の実施の形態について説明する。上記実施の形態24および25においては、液晶駆動用IC1に突起電極7が形成されている場合について説明したが、突起電極7が形成されていない液晶駆動用IC1においても同じ工程によって、導電粒子6を搭載できることは言うまでもない。なお、液晶駆動用ICが突起電極7を有しない場合、電極端子2上に導電粒子6を搭載後、さらに圧力を加えることにより、導電粒子6と電極端子2表面部に僅かに変形が生じ、この際介在する樹脂が除去され、また摩擦力により表面の自然酸化膜も除去され、確実な接続が得られる。
【0044】
実施の形態27.
さらに、請求項1〜4記載の発明に関連する他の実施の形態として、実施の形態17や実施の形態25の図8や図15で示されたような転写基板8に形成された突部15の面積を、液晶駆動用ICの電極端子2サイズよりも小さく形成する。これによって、導電粒子6は電極端子2の中央部に搭載されるため、隣接する電極端子2間でショート不良が発生しにくく、接続信頼性が向上する。
【0045】
実施の形態28.
さらにまた、請求項1〜4記載の発明に関連する他の実施の形態として、導電粒子6を絶縁性樹脂層19に圧入する際に、図16に示すように、液晶駆動用IC1の電極端子2に導電粒子6が接触しない段階で止めてもよい。この場合、液晶表示パネル11に液晶駆動用IC1を加圧接続する際に、導電粒子6が絶縁性樹脂層19にさらに圧入され、液晶表示パネル11と液晶駆動用IC1の電極端子が、導電粒子6を介して電気的に接続される。
【0046】
実施の形態29.
さらに、請求項1〜4記載の発明に関連する他の実施の形態として、ヘッド9で液晶駆動用IC1を転写基板8に押し付ける際に、加圧のみならず、加熱と加圧を同時行なってもよい。さらにまた、超音波を印加することにより、絶縁性樹脂19は僅かの圧力でも変形を生じ、導電粒子6を確実に圧入することができる。また、導電粒子6および電極端子2表面の酸化膜除去の効果もある。また、超音波を転写基板8側から印加してもよいし、ヘッド9と転写基板8の両側から印加すれば、一層効果があることは言うまでもない。
さらに図3で示した一実施例8と同様に、転写基板8に突部15を形成することにより、ICチップを接続する回路基板の実装部に凹凸がある場合にも対応できる。そのため、ICチップと回路基板との接続信頼性が向上する。
【0047】
実施の形態30.
さらに、請求項1〜4記載の発明に関連する他の実施の形態として、実施の形態24〜29で述べたような電子部品においては、突起電極または電極端子はICチップやチップ抵抗やチップコンデンサ等のチップ部品に形成されていてもよいし、ICチップを切り出す前のICウェハに形成されていてもよいのは、実施の形態12、23で説明したのと同様である。
【0048】
【発明の効果】
請求項1記載の発明によれば、導電粒子のみを含む揮発性の溶剤を転写基板に塗布した後に上記溶剤を蒸発させるので、導電粒子が転写基板に緩く固定された状態で分散保持され、電子部品の突起電極に導電粒子を確実かつ容易に圧入することができ、歩留まりを向上させることができる。
【0049】
請求項2記載の発明によれば、転写基板にはシリコン基板を用いるので、導電粒子が転写基板に緩く固定された状態で分散保持されるのに好都合である。
【0050】
請求項3記載の発明によれば、転写基板には所定間隔で凹部を形成したものを用いるので、導電粒子が凹部に保持されて所定間隔で分散される。
【0051】
請求項4記載の発明によれば、電子部品を突起電極または電極端子以外の部分で支持するように構成したので、例えば突起電極または電極端子に搭載した導電粒子が電子部品載置テーブルに接触して外れることがなく、接続信頼性および部留まりが向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施の形態1による電子部品およびその製造方法を示す製造工程図である。
【図2】実施の形態5よる電子部品の製造方法を示す断面構成図である。
【図3】実施の形態8による電子部品およびその製造方法を示す製造工程図である。
【図4】実施の形態10による電子部品載置テーブルを示す断面構成図である。
【図5】実施の形態11による電子部品載置テーブルを示す断面構成図である。
【図6】実施の形態13による電子部品の製造方法を示す製造工程図である。
【図7】実施の形態15による電子部品の製造方法を説明する断面構成図である。
【図8】実施の形態17による電子部品の製造方法を示す製造工程図である。
【図9】実施の形態18による電子部品およびその製造方法を示す製造工程図である。
【図10】実施の形態20による電子部品の製造方法を示す製造工程図である。
【図11】実施の形態20による電子部品の製造方法を示す製造工程図である。
【図12】実施の形態21による電子部品の製造方法を示す製造工程図である。
【図13】実施の形態22よる電子部品を示す断面構成図である。
【図14】実施の形態24による電子部品の製造方法を示す製造工程図である。
【図15】実施の形態25による電子部品およびその製造方法を示す製造工程図である。
【図16】実施の形態28よる電子部品を示す断面構成図である。
【図17】従来の電子部品およびその製造方法の一例を示す製造工程図である。
【符号の説明】
1 液晶駆動用IC
2 電極端子
3a 未硬化の紫外線硬化樹脂
3b 既硬化の紫外線硬化樹脂
4 フォトマスク
5 露光装置
6 導電粒子
7 突起電極
8 転写基板
9 ヘッド
10 エアーノズル
11 液晶表示パネル
12 出力配線パターン
13 フレキシブル基板
14 入力配線パターン
15 転写基板に形成された突部
16 IC載置テーブル
17a 凹部
17b 凸部
18 揮発性の溶剤
19 絶縁性樹脂
20 ラバーパッド
21 金属ブレード
22 スキージ
23 樹脂塗布基板
24 樹脂塗布基板に形成された突部[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a method of manufacturing an electronic component and an electronic component mounting table, and is applied to, for example, an electrode of a liquid crystal driving IC connected to a liquid crystal display panel.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, connection of electronic components such as semiconductor components, for example, connection between a liquid crystal display panel and a liquid crystal driving IC, is generally performed by face-down soldering, and a liquid crystal driving IC having solder projections formed on electrode terminals is used for liquid crystal display. It was positioned on the panel and heated on a hot plate for soldering. For this reason, it is necessary to heat the solder until the temperature exceeds the melting point, and this heating has a problem that the liquid crystal display panel is deteriorated. Therefore, a method of mounting a liquid crystal driving IC on a liquid crystal display panel without using a soldering method is desired. Such a method has been disclosed in the document "IMC'90 (International Microelectronics Conference)". As shown in “CHIP-ON-GLASS TECHNOLOGY USING CONDUCTIVE PARTICLES AND LIGHT-SETTING ADHESIVES”, a connection structure using conductive particles is used. I was FIG. 17 is a manufacturing process diagram showing a method of mounting conductive particles on the electrode terminals of the conventional liquid crystal driving IC in order of process. In the drawing, 1 is a liquid crystal driving IC, 2 is an electrode terminal of the liquid crystal driving IC 1, 3a is an uncured ultraviolet curing resin, 3b is a previously cured ultraviolet curing resin, and 4 is a pattern of two electrode terminals of the liquid crystal driving IC. The formed photomask, 5 is an exposure apparatus, 6 is conductive particles, for example, a metal ball such as gold is plated on the surface of a resin ball. Specifically, for example, Micropearl (registered trademark, Sekisui Fine Chemical Co., Ltd.) Made). In this figure, for the sake of clarity, the cross section is not hatched except for a part thereof, and this is the same in other drawings.
[0003]
Next, a method of mounting the
First, as shown in FIG. 17A, an ultraviolet curable resin 3a is applied to the surface of the liquid crystal driving IC 1 by spin coating. Next, as shown in FIG. 17B, the liquid crystal driving IC 1 and the photomask 4 are aligned, and the ultraviolet curing resin 3a applied to the liquid crystal driving IC 1 is exposed by the exposure device 5. As a result, as shown in FIG. 17C, the ultraviolet curable resin 3a on the
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the conventional electronic component and the method of manufacturing the electronic component as described above, since the
[0005]
The present invention has been made to solve the above-described problem, and has as its object to provide a method for manufacturing an electronic component and an electronic component mounting table capable of reliably mounting conductive particles on an electrode terminal. .
[0006]
[Means for Solving the Problems]
The method for manufacturing an electronic component according to the first aspect of the present invention is a method for manufacturing an electronic component. only including volatility After the above solvent is applied to the transfer substrate, the solvent is evaporated.
[0007]
According to a second aspect of the invention, there is provided a method of manufacturing an electronic component, wherein a silicon substrate is used as the transfer substrate according to the first aspect.
[0008]
According to a third aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing an electronic component, wherein the transfer substrate according to the first or second aspect is provided with concave portions formed at predetermined intervals.
[0009]
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided an electronic component mounting table configured to support an electronic component having a protruding electrode or an electrode terminal at a portion other than the protruding electrode or the electrode terminal.
[0010]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Next, a method for manufacturing an electronic component and an electronic component mounting table according to the present invention will be described with reference to the drawings. In the following embodiments, a liquid crystal driving IC will be described as an example of an electronic component, but the present invention is not limited to this. For example, a contact image sensor, a thermal head driving IC, a chip resistor, a chip capacitor, and the like can be used. The present invention can be similarly applied to connection wiring such as an electronic component, a flexible substrate, and TAB (Tape Automated Bonding).
[0011]
Embodiment 1 FIG.
FIG. 1 is a diagram showing an electronic component manufacturing process according to an embodiment of an electronic component and a method of manufacturing the electronic component according to the first to fourth aspects of the present invention. In the figure,
[0012]
First, as shown in FIG. 1A, a
[0013]
In this electrode structure, since there is no adhesive layer such as the ultraviolet curable resin 3 between the protruding
[0014]
In the first embodiment, the liquid crystal driving IC 1 is heated and pressed on the
[0015]
As another embodiment related to the first to fourth aspects of the present invention, in an electronic component having low heat resistance, the
[0016]
Embodiment 3 FIG.
Further, an embodiment related to the inventions described in claims 1 to 4 will be described. By forming a metal layer on the surface of the projecting
[0017]
Embodiment 4 FIG.
One embodiment related to the inventions described in claims 1 to 4 will be described. In the first to third embodiments, the liquid crystal driving IC 1 is heated and pressurized on the
[0018]
Embodiment 5 FIG.
FIG. 2 shows an embodiment relating to the inventions according to the first to fourth aspects. In the figure,
[0019]
Further, as another embodiment related to the first to fourth aspects of the present invention, since most of the
[0020]
Furthermore, as one embodiment related to the inventions described in claims 1 to 4, after transferring the
[0021]
FIG. 3 shows an embodiment relating to the inventions of claims 1 to 4. In the figure, 11 is a liquid crystal display panel, 12 is an output wiring pattern formed on the liquid crystal display panel 11, 13 is a flexible substrate for supplying an input signal to the liquid crystal driving IC 1, and a flexible substrate is mounted on the mounting portion of the liquid crystal display panel 11. 13 are arranged.
As shown in FIG. 3A, when an input signal is supplied to the liquid crystal driving IC 1 by the flexible substrate 13, the
[0022]
By providing the transfer mechanism such as the heating /
[0023]
FIG. 4 is a sectional view showing an embodiment of the present invention. In the figure,
When connecting the liquid crystal driving IC 1 onto which the
[0024]
Embodiment 11 FIG.
Further, as shown in FIG. 5 as another embodiment of the invention according to claim 4, even if a
[0025]
One embodiment related to the inventions described in claims 1 to 4 will be described. In the electronic components described in the first to eleventh embodiments, the protruding electrodes or electrode terminals may be formed on a chip component such as an IC chip, a chip resistor or a chip capacitor, or may be formed on an IC chip before cutting out the IC chip. It may be formed on a wafer. That is, processing may be performed one chip at a time, or all steps may be performed in a wafer state. Furthermore, there is no problem even if the wafer is divided into 2 ,, な ど, and the like. By performing the press-fitting of the
[0026]
Embodiment 13 FIG.
FIG. 6 is a manufacturing process diagram showing one embodiment of the first and second aspects of the present invention. In the figure,
Incidentally, the volatile property of dispersing the
Note that, for example, a silicon substrate is used as the
[0027]
Another embodiment of the present invention will be described. In the thirteenth embodiment, ethanol is used as a volatile solvent for dispersing the
Further, the number of the
[0028]
Another embodiment of the present invention will be described. Since the
Further, the
[0029]
An embodiment of the invention described in claim 3 will be described. If a
[0030]
Embodiment 17 FIG.
Regarding another embodiment related to the first to fourth aspects of the present invention, a method of connecting a liquid crystal driving IC in which the
[0031]
FIG. 9 is a manufacturing process diagram showing one embodiment relating to the inventions of claims 1 to 4. In the figure,
Next, a manufacturing method will be described. First, as shown in FIG. 9A, a negative photosensitive resist 19 is applied to the surface of the liquid crystal driving IC 1 by spin coating or printing. Next, the liquid crystal driving IC 1 is heated at about 90 ° C. to pre-bake the negative photosensitive resist 19. Then, as shown in FIG. 9B, the liquid crystal driving IC 1 and the photomask 4 on which the
As described above, since the negative photosensitive resist 19 layer can be selectively formed on the
Although the case of a negative photosensitive resist has been described, it goes without saying that a positive photosensitive resist has the same effect.
[0032]
Further, the insulating
[0033]
As a method for forming the insulating
The pad printing method will be briefly described with reference to FIG. In the figure, 20 is an elastic rubber pad, 21 is a metal blade having a
[0034]
The transfer printing method will be briefly described with reference to FIG. In the figure,
Such a printing method is excellent in mass productivity, and since the insulating
[0035]
Further, regarding another embodiment related to the first to fourth aspects of the present invention, a method for forming a 19-layer insulating resin by transfer printing on the liquid crystal driving IC 1 on which the protruding
[0036]
As described above, in the screen printing method, the pad printing method, and the photolithography method, the protruding
[0037]
FIG. 13 is a sectional view showing another embodiment related to the inventions of claims 1 to 4. In this example, as shown in FIG. 13, a 19-layer cured and insulative resin having plasticity is formed on the entire surface of the liquid crystal driving IC 1. In the manufacturing method, an insulating resin, for example, a
As described above, since the
[0038]
Also, the case of a polyimide resin has been described as the insulating resin. However, the present invention is not limited to this. Any resin may be used as long as it has a property of easily causing plastic deformation by a pressing force. Silicon resin, acrylic resin, epoxy resin, It may be a photosensitive resist or the like. Further, in the case of an electronic component having low heat resistance, it is not necessary to heat the electronic component if a room-temperature-curable insulating resin, for example, a moisture-curable silicone resin is used.
[0039]
Furthermore, the
[0040]
One embodiment related to the inventions described in claims 1 to 4 will be described. In the electronic components as described in
[0041]
FIG. 14 is a manufacturing process diagram showing one embodiment relating to the inventions of claims 1 to 4. As described in detail in Examples 18 to 23, the present invention relates to an electrode terminal structure in which
In the manufacturing method, first, as shown in FIG. 14A, the liquid crystal driving IC 1 in which the insulating
As described above, since the
Further, when transferring the
[0042]
Embodiment 25 FIG.
FIG. 15 shows another embodiment related to the first to fourth aspects of the present invention, and is a manufacturing process diagram showing a method of press-fitting
According to this method, since the
[0043]
Embodiment 26 FIG.
Another embodiment related to the first to fourth aspects of the present invention will be described. In the
[0044]
Further, as another embodiment related to the invention as set forth in claims 1 to 4, a protrusion formed on the
[0045]
Embodiment 28 FIG.
Further, as another embodiment related to the first to fourth aspects of the present invention, when the
[0046]
Embodiment 29 FIG.
Further, as another embodiment related to the first to fourth aspects of the present invention, when the
Further, as in the case of the eighth embodiment shown in FIG. 3, by forming the
[0047]
Further, as another embodiment related to the invention as set forth in claims 1 to 4, in an electronic component as described in the
[0048]
【The invention's effect】
According to the first aspect of the present invention, the conductive particles only including volatility After the solvent is applied to the transfer substrate, the solvent is evaporated, so that the conductive particles are dispersed and held in a state of being loosely fixed to the transfer substrate. In addition, the conductive particles can be reliably and easily pressed into the protruding electrodes of the electronic component, thereby improving the yield. .
[0049]
According to the second aspect of the present invention, since a silicon substrate is used as the transfer substrate, it is convenient that the conductive particles are dispersed and held in a state of being loosely fixed to the transfer substrate.
[0050]
According to the third aspect of the invention, since the transfer substrate having the concave portions formed at the predetermined intervals is used, the conductive particles are held in the concave portions and dispersed at the predetermined intervals.
[0051]
According to the fourth aspect of the invention, since the electronic component is configured to be supported by a portion other than the protruding electrode or the electrode terminal, for example, the conductive particles mounted on the protruding electrode or the electrode terminal come into contact with the electronic component mounting table. The connection reliability and the yield rate are improved.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a manufacturing process diagram showing an electronic component and a method for manufacturing the same according to a first embodiment.
FIG. 2 is a cross-sectional configuration diagram illustrating a method for manufacturing an electronic component according to a fifth embodiment.
FIG. 3 is a manufacturing step diagram showing an electronic component and a method for manufacturing the same according to an eighth embodiment.
FIG. 4 is a sectional configuration diagram showing an electronic component mounting table according to a tenth embodiment.
FIG. 5 is a sectional configuration diagram showing an electronic component mounting table according to an eleventh embodiment.
FIG. 6 is a manufacturing step diagram showing a method for manufacturing an electronic component according to a thirteenth embodiment.
FIG. 7 is a sectional view illustrating a method of manufacturing an electronic component according to a fifteenth embodiment.
FIG. 8 is a manufacturing step diagram showing a method for manufacturing an electronic component according to a seventeenth embodiment.
FIG. 9 is a manufacturing step diagram showing an electronic component and a method for manufacturing the same according to an eighteenth embodiment.
FIG. 10 is a manufacturing step diagram showing a method for manufacturing an electronic component according to a twentieth embodiment.
FIG. 11 is a manufacturing process diagram showing a method for manufacturing an electronic component according to a twentieth embodiment.
FIG. 12 is a manufacturing step diagram showing a method for manufacturing an electronic component according to a twenty-first embodiment.
FIG. 13 is a sectional view showing an electronic component according to a twenty-second embodiment.
FIG. 14 is a manufacturing step diagram showing a method for manufacturing an electronic component according to a twenty-fourth embodiment.
FIG. 15 is a manufacturing step diagram showing an electronic component and a method for manufacturing the same according to a twenty-fifth embodiment.
FIG. 16 is a sectional view showing an electronic component according to a twenty-eighth embodiment.
FIG. 17 is a manufacturing process diagram illustrating an example of a conventional electronic component and a method for manufacturing the same.
[Explanation of symbols]
1 LCD drive IC
2 electrode terminals
3a Uncured UV curable resin
3b Pre-cured UV curable resin
4 Photomask
5 Exposure equipment
6 conductive particles
7 Protruding electrode
8 Transfer substrate
9 heads
10 Air nozzle
11 LCD panel
12 Output wiring pattern
13 Flexible board
14 Input wiring pattern
15 Projection formed on transfer substrate
16 IC mounting table
17a recess
17b convex part
18 Volatile solvents
19 Insulating resin
20 rubber pad
21 Metal blade
22 Squeegee
23 Resin coated substrate
24 Projection formed on resin coated substrate
Claims (3)
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