JP3562162B2 - Dielectric resonator and method of adjusting resonance frequency of dielectric resonator - Google Patents
Dielectric resonator and method of adjusting resonance frequency of dielectric resonator Download PDFInfo
- Publication number
- JP3562162B2 JP3562162B2 JP24055196A JP24055196A JP3562162B2 JP 3562162 B2 JP3562162 B2 JP 3562162B2 JP 24055196 A JP24055196 A JP 24055196A JP 24055196 A JP24055196 A JP 24055196A JP 3562162 B2 JP3562162 B2 JP 3562162B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dielectric
- resonance frequency
- dielectric substrate
- openings
- dielectric resonator
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Control Of Motors That Do Not Use Commutators (AREA)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、マイクロ波帯やミリ波帯で使用される誘電体共振器及び誘電体共振器の共振周波数調整方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、移動体通信システムの需要の急速な増加およびマルチメディア化に対応して大容量で且つ高速な通信システムが要求されている。このような通信すべき情報量の拡大に伴って、マイクロ波帯からミリ波帯へ使用共振周波数帯域が拡大されようとしている。このようなミリ波帯でも、従来から知られている円柱形状の誘電体からなるTE01 δ モード誘電体共振器をマイクロ波帯と同様に使用することが可能である。この時、TE01 δ モード誘電体共振器の共振周波数は円柱形状の誘電体の外形寸法で決定されていたため厳しい加工精度が必要となっていた。
【0003】
また、TE01 δ モード誘電体共振器を複数個、所定間隔を隔てて金属ケース内に配置することによって誘電体フィルタを構成した場合、金属ループ等の入出力手段と誘電体共振器、または、誘電体共振器と誘電体共振器との結合は、相互間の距離によって決定されるため、高い位置精度で配置されることが必要であった。 そこで本願出願人は特願平7−62625号においてこれらの問題を解消した加工精度に優れた誘電体共振器及び位置精度に優れた誘電体フィルタを提案している。
【0004】
上記出願に係る誘電体共振器の基本的な構成を図5、図6に示す。図5は上記出願に係る誘電体共振器の断面図、図6は上記出願の誘電体共振器に用いられる誘電体基板の拡大斜視図である。
【0005】
図5、図6に示すように、誘電体基板102は一定の比誘電率を有する基板であり、その両主面には所定寸法の円形の開口部を除いて全面に電極102a、102bが形成されており、両主面の開口部は図4に示すように対向している。導体板104a、104bは誘電体基板2から所定間隔隔てて、誘電体基板2を挟むように配置されている。
【0006】
この時、電極102a、102bの対向する開口部に挟まれた部分付近に電磁界エネルギーが閉じ込められ、共振領域103が形成され共振器として使用可能になる。したがって、図4、図5に示す電極102a、102bの開口部を複数個連続的に配置することによって誘電体フィルタが構成できる。
【0007】
この構成により、共振領域を電極の開口部の大きさで規定できるので、製造時にエッチング等の手法を用いることができ、共振周波数に対する共振器の寸法精度を極めて正確に再現した誘電体共振器を作製することができるようになった。
【0008】
このような誘電体共振器の共振周波数の調整は、作製された誘電体共振器を構成する誘電体基板の両主面に形成された電極の開口部の大きさを変化させることによって行っていた。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、電極の開口部の大きさを変化させると、開口部の形状によっては電磁界が乱れて、不要なスプリアスが発生することがある。
【0010】
また、開口部を複数個配置した誘電体フィルタの場合、電極の開口部の大きさを変化させると開口部間の距離が変化することになって共振領域間の結合度が変化してしまうため、単に適当に電極の開口部の大きさを変化させることはできず、全体のフィルタ特性を確かめつつ、開口部の大きさを変化させるという繁雑な手法を用いていた。
【0011】
さらに、開口部の大きさを変化させることによって共振周波数を変化させた場合、共振周波数の変化幅が大きいため、共振周波数の微調整を行うことができなかった。
【0012】
本発明は、これらの問題点を鑑みてなされたもので、共振周波数調整が容易で微調整が可能な誘電体共振器及び誘電体共振器の共振周波数調整方法を提供することを目的としている。
【0013】
【課題を解決するための手段】
そこで、請求項1に係る発明では、誘電体基板の両主面に略同一形状の開口部を有する電極を前記開口部が互いに対向するように形成するとともに、前記誘電体基板を該誘電体基板から所定間隔隔てて互いに対向する第1、第2の導体板の間に配置して、前記誘電体基板の前記対向する開口部間を共振領域とし、前記電極の前記開口部から露出している誘電体基板上に共振周波数調整用の誘電体が付着されている。これにより、共振周波数調整用の誘電体を増減させることによって共振周波数が変化するため、共振周波数の調整を容易に行うことができる。
【0014】
また、請求項2に係る発明では、前記共振周波数調整用の誘電体が複数の島形状に形成されている。これにより、共振周波数調整は複数の島形状誘電体膜のうち一つずつもしくはいくつかをまとめて除去することによって、段階的に行うことができる。
【0015】
さらに、請求項3に係る発明では、誘電体基板の両主面に略同一形状の開口部を有する電極を前記開口部が互いに対向するように形成するとともに、前記誘電体基板を該誘電体基板から所定間隔隔てて互いに対向する第1、第2の導体板の間に配置して、前記誘電体基板の前記対向する開口部間を共振領域とした誘電体共振器の共振周波数調整方法であって、前記電極の前記開口部から露出している誘電体基板上に誘電体を部分的に付着させることにより共振周波数を変化させている。これにより、電極の前記開口部から露出している誘電体基板上に形成する誘電体の量または誘電率を調整することによって所定の共振周波数に調整することができる。
【0016】
次に、請求項4に係る発明では、前記開口部から露出した誘電体基板上に形成した前記共振周波数調整用の誘電体を部分的に除去することにより共振周波数を変化させている。これにより、誘電体の量が多すぎるまたは誘電率が高すぎる所定のフィルタ特性よりもずれた場合でも、所定のフィルタ特性を得ることができる。
【0017】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の第1の実施の形態を説明する。本実施の形態では上記図5で説明した誘電体共振器を複数個配置した、すなわち、誘電体基板の電極の開口部を複数個並べて共振領域を複数個配置して構成した誘電体フィルタを用いて説明する。
【0018】
図1に示すように、誘電体フィルタ1は、両主面に電極を形成した誘電体基板2と導体板4a、4bから構成されている。
【0019】
誘電体基板2は一定の比誘電率を有する基板で、その両主面に3つの円形状の開口部を有する電極2a、2bが、両主面の開口部が互いに対向するように配置して形成されている。また、誘電体基板2の一方主面側(図4における上側)には、3つの開口部のうち両端の開口部に近接するように入力用スロットライン5aと出力用スロットライン5bが形成されている。
【0020】
導体板4a、4bは、開口部付近で誘電体基板2から所定間隔隔てて、誘電体基板2を挟むように配置固定されており、入力用スロットライン5aと出力用スロットライン5bとが導体板4a、4bから突出している。
【0021】
また、誘電体基板2の一方主面側(図4における上側)の電極2a、2bの開口部から露出した誘電体基板上に共振周波数調整用誘電体膜6が形成されている。
【0022】
このような誘電体フィルタ1に用いられる誘電体基板2は、以下のような製造工程で作製される。
【0023】
まず、図2(A)に示すように所定の比誘電率を有する誘電体母基板10を用意する。
【0024】
次に、図2(B)に示すように誘電体母基板10の両主面に蒸着等の手法で両主面に電極10a、10bを形成する。
【0025】
さらに、図2(C)に示すように、一方主面側で2つのスロットラインと3つの開口部をからなるフィルタパターン1aを複数個配列するようにエッチングする。さらに、その後、図示していないが、他方主面側で一方主面側の開口部と対向する位置、3つの開口部を形成する。
【0026】
そして、図2(D)に示すように2つのスロットラインと3つの開口部をからなるフィルタパターン1aごとに切断して誘電体基板2を得ている。
【0027】
なお、誘電体膜6は、図2(C)もしくは図2(D)の段階で開口部から露出している誘電体上にスピニング形成により、例えばポリイミド樹脂等を変化させる共振周波数に応じて選択し、所定の量だけ膜状に付着させることによって形成する。もちろん、付着方法はスピニング形成だけでなく、プラズマCVD等により例えば窒化シリコン・酸化シリコン等を付着させても良く、付着方法・付着材料は問わない。
【0028】
このように誘電体膜6を形成することによって、誘電体フィルタ1の開口部付近の各共振領域の電界に影響を与えているため、共振周波数を各共振領域ごとに変化させることができ、誘電体膜6の誘電率・厚み・大きさで共振周波数を調整することができる。
【0029】
次に、第2の実施の形態について図3を用いて説明する。図3は、図1に示す誘電体基板2の電極2a、2bの一つの開口部付近を拡大した斜視図である。
【0030】
本実施の形態では、開口部から露出した誘電体基板上に設けた誘電体膜6をレーザー8によって焼き飛ばしている。したがって、誘電体膜6が所定量以上に付着しても所定の共振周波数に調整することができる。
【0031】
なお、本実施の形態ではレーザー8による焼き飛ばしを用いたがこれに限るものではなく、機械的に削り取る、あるいは、エッチング等で科学的に除去するという手法を用いても良く、要は誘電体膜を除去できればどのような手法を用いても良い。もちろん、この場合の誘電体膜の除去とは、誘電体膜の特性を変質させることによる特性から見た実質的な除去も含むものである。
【0032】
次に、第3の実施の形態について図4を用いて説明する。図4は、図3と同様に図1に示す誘電体基板3の電極2a、2bの一つの開口部付近を拡大した斜視図である。
【0033】
本実施の形態では、共振周波数調整用誘電体膜を複数の島形状の誘電体膜7の集合で形成している。このような誘電体膜7を形成することによって、共振周波数調整のためにレーザー8で焼き飛ばす際に島形状の誘電体膜7の一つ一つを完全に焼き飛ばすことができる。したがって、焼き飛ばした誘電体膜の周縁の誘電体膜が炭化して、共振器のQが低下することを防止することができる。しかも、段階的に共振周波数の微調整を行うことができる。
【0034】
なお、第1、第2、第3の実施の形態では誘電体基板の一方主面側の電極の開口部から露出した誘電体基板上に誘電体膜を形成しているが、これに限るものではなく、他方主面側の開口部から露出した誘電体基板上に形成しても良く、それら両方に形成しても良い。
【0035】
【発明の効果】
以上のように、本発明では誘電体基板の電極の開口部から露出した誘電体基板上に誘電体膜を形成しているので、加工精度・位置精度に優れた誘電体共振器の共振周波数調整を容易に行うことができる。誘電体共振器を複数個配置した誘電体フィルタでは、他の共振器(共振領域)に影響を与えることなく個別に共振周波数調整ができるので、共振周波数調整作業を容易に行うことができる。また、誘電体膜の大きさや誘電率によって調整できるため、調整が容易である。
【0036】
また、請求項2記載の誘電体共振器によれば、共振周波数調整用誘電体膜を島形状にして複数個形成しているので、誘電体膜を一つずつあるいは幾つかまとめて、形成、除去することによって段階的に共振周波数調整することができる。さらに、島形状にした誘電体膜の大きさをレーザーで完全に焼き飛ばせる程度の大きさにすれば、焼き飛ばした誘電体膜周縁の誘電体膜が炭化することに起因するQの劣化を抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の実施形態を説明するための誘電体フィルタの断面図である。
【図2】図1の誘電体フィルタを構成する誘電体基板の製造工程を示す斜視図である。
【図3】第2の実施形態を説明するための一部拡大斜視図である。
【図4】第3の実施形態を説明するための一部拡大斜視図である。
【図5】本願出願人が先に提案した誘電体共振器の断面図である。
【図6】図5の誘電体共振器を構成する誘電体基板の斜視図である。
【符号の説明】
1 誘電体フィルタ
1a フィルタパターン
2 誘電体基板
2a、2b、 電極
3 共振領域
4a、4b 導体板
5a 入力用スロットライン
5b 出力用スロットライン
6、7 誘電体膜
8 レーザー
10 誘電体母基板
10a、10b、 電極[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a dielectric resonator used in a microwave band or a millimeter wave band and a method of adjusting a resonance frequency of the dielectric resonator.
[0002]
[Prior art]
In recent years, large-capacity and high-speed communication systems have been demanded in response to a rapid increase in demand for mobile communication systems and multimedia applications. With the increase in the amount of information to be communicated, the used resonance frequency band is being expanded from the microwave band to the millimeter wave band. Even in such a millimeter wave band, TE 01 δ made of a conventionally known cylindrical dielectric material is used. It is possible to use a mode dielectric resonator as in the microwave band. At this time, TE 01 δ Since the resonance frequency of the mode dielectric resonator was determined by the external dimensions of the cylindrical dielectric, strict processing accuracy was required.
[0003]
Also, TE 01 δ When a dielectric filter is configured by arranging a plurality of mode dielectric resonators in a metal case at predetermined intervals, an input / output unit such as a metal loop and a dielectric resonator, or a dielectric resonator Since the coupling with the dielectric resonator is determined by the distance between them, it is necessary to arrange them with high positional accuracy. In view of this, the applicant of the present application has proposed in Japanese Patent Application No. 7-62625 a dielectric resonator excellent in processing accuracy and a dielectric filter excellent in positional accuracy that have solved these problems.
[0004]
The basic configuration of the dielectric resonator according to the above application is shown in FIGS. FIG. 5 is a sectional view of the dielectric resonator according to the above-mentioned application, and FIG. 6 is an enlarged perspective view of a dielectric substrate used for the dielectric resonator of the above-mentioned application.
[0005]
As shown in FIGS. 5 and 6, the
[0006]
At this time, the electromagnetic field energy is confined in the vicinity of the portion sandwiched between the opposed openings of the
[0007]
With this configuration, the resonance region can be defined by the size of the opening of the electrode, so that a method such as etching can be used at the time of manufacturing, and a dielectric resonator that reproduces the dimensional accuracy of the resonator with respect to the resonance frequency extremely accurately is provided. It can be made.
[0008]
Adjustment of the resonance frequency of such a dielectric resonator has been performed by changing the size of the openings of the electrodes formed on both main surfaces of the dielectric substrate constituting the manufactured dielectric resonator. .
[0009]
[Problems to be solved by the invention]
However, when the size of the opening of the electrode is changed, the electromagnetic field is disturbed depending on the shape of the opening, and unnecessary spurious may be generated.
[0010]
Also, in the case of a dielectric filter having a plurality of openings, if the size of the openings of the electrodes is changed, the distance between the openings changes, and the degree of coupling between the resonance regions changes. However, the size of the opening of the electrode cannot be simply changed appropriately, and a complicated method of changing the size of the opening while checking the overall filter characteristics has been used.
[0011]
Furthermore, when the resonance frequency is changed by changing the size of the opening, the resonance frequency cannot be finely adjusted because the change width of the resonance frequency is large.
[0012]
The present invention has been made in view of these problems, and an object of the present invention is to provide a dielectric resonator that can easily and finely adjust the resonance frequency and a method of adjusting the resonance frequency of the dielectric resonator.
[0013]
[Means for Solving the Problems]
Therefore, in the invention according to
[0014]
In the invention according to
[0015]
Further, in the invention according to
[0016]
Next, in the invention according to claim 4, the resonance frequency is changed by partially removing the dielectric for adjusting the resonance frequency formed on the dielectric substrate exposed from the opening. Thereby, even when the amount of the dielectric substance is too large or the dielectric constant is too high, the predetermined filter characteristic can be obtained.
[0017]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described. In the present embodiment, a dielectric filter is used in which a plurality of dielectric resonators described in FIG. 5 are arranged, that is, a plurality of resonance regions are arranged by arranging a plurality of openings of electrodes of a dielectric substrate. Will be explained.
[0018]
As shown in FIG. 1, the
[0019]
The
[0020]
The
[0021]
A
[0022]
The
[0023]
First, as shown in FIG. 2A, a
[0024]
Next, as shown in FIG. 2B,
[0025]
Further, as shown in FIG. 2C, etching is performed so that a plurality of filter patterns 1a each including two slot lines and three openings are arranged on one main surface side. Then, although not shown, three openings are formed on the other main surface side at positions facing the openings on the one main surface side.
[0026]
Then, as shown in FIG. 2 (D), the
[0027]
The
[0028]
By forming the
[0029]
Next, a second embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 3 is an enlarged perspective view of the vicinity of one opening of the
[0030]
In this embodiment, the
[0031]
In this embodiment, burn-out by the
[0032]
Next, a third embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 4 is an enlarged perspective view of the vicinity of one opening of the
[0033]
In this embodiment, the dielectric film for adjusting the resonance frequency is formed of a group of a plurality of island-shaped
[0034]
In the first, second, and third embodiments, the dielectric film is formed on the dielectric substrate exposed from the opening of the electrode on the one main surface side of the dielectric substrate, but is not limited to this. Instead, it may be formed on the dielectric substrate exposed from the opening on the other main surface side, or may be formed on both of them.
[0035]
【The invention's effect】
As described above, in the present invention, since the dielectric film is formed on the dielectric substrate exposed from the opening of the electrode of the dielectric substrate, the resonance frequency adjustment of the dielectric resonator excellent in processing accuracy and position accuracy is performed. Can be easily performed. In a dielectric filter in which a plurality of dielectric resonators are arranged, the resonance frequency can be individually adjusted without affecting other resonators (resonance regions), so that the resonance frequency adjustment operation can be easily performed. In addition, since the adjustment can be performed by the size and the dielectric constant of the dielectric film, the adjustment is easy.
[0036]
Further, according to the dielectric resonator of the second aspect, since a plurality of dielectric films for resonance frequency adjustment are formed in an island shape, a plurality of dielectric films are formed one by one or several together. By removing it, the resonance frequency can be adjusted stepwise. Furthermore, if the size of the island-shaped dielectric film is set to a size that can be completely burned off by a laser, the deterioration of Q due to carbonization of the dielectric film on the periphery of the burned-out dielectric film is reduced. Can be suppressed.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view of a dielectric filter for describing a first embodiment.
FIG. 2 is a perspective view showing a manufacturing process of a dielectric substrate constituting the dielectric filter of FIG.
FIG. 3 is a partially enlarged perspective view for explaining a second embodiment.
FIG. 4 is a partially enlarged perspective view for explaining a third embodiment.
FIG. 5 is a cross-sectional view of a dielectric resonator previously proposed by the present applicant.
FIG. 6 is a perspective view of a dielectric substrate constituting the dielectric resonator of FIG.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF
Claims (4)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24055196A JP3562162B2 (en) | 1996-09-11 | 1996-09-11 | Dielectric resonator and method of adjusting resonance frequency of dielectric resonator |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24055196A JP3562162B2 (en) | 1996-09-11 | 1996-09-11 | Dielectric resonator and method of adjusting resonance frequency of dielectric resonator |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1093312A JPH1093312A (en) | 1998-04-10 |
JP3562162B2 true JP3562162B2 (en) | 2004-09-08 |
Family
ID=17061216
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24055196A Expired - Fee Related JP3562162B2 (en) | 1996-09-11 | 1996-09-11 | Dielectric resonator and method of adjusting resonance frequency of dielectric resonator |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3562162B2 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5287390B2 (en) * | 2009-03-16 | 2013-09-11 | ソニー株式会社 | Semiconductor device, transmission system, semiconductor device manufacturing method, and transmission system manufacturing method |
-
1996
- 1996-09-11 JP JP24055196A patent/JP3562162B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH1093312A (en) | 1998-04-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2733621B2 (en) | Frequency adjustment method for three-conductor filter | |
US7343067B2 (en) | Precise and permanent modification of the resonant frequency of a dielectric microcavity and correction of frequency shifts in dielectric coupled-resonator filters | |
US5926078A (en) | Dielectric filter including various means of adjusting the coupling between resonators | |
US20080143458A1 (en) | Filter element and method for manufacturing the same | |
EP0886335A2 (en) | Dielectric waveguide | |
CN1134085C (en) | Dielectric resonator device | |
EP0865053B1 (en) | Multilayer microelectronic circuit with trimmable capacitors | |
EP0415558B1 (en) | Bandpass filter and method of trimming response characteristics thereof | |
JP3562162B2 (en) | Dielectric resonator and method of adjusting resonance frequency of dielectric resonator | |
US6545568B2 (en) | Dual-mode band-pass filter | |
EP1926174B1 (en) | Dual-mode bandpass filter | |
JPH11312903A (en) | Dielectric filter, dielectric duplexer and communication equipment | |
US7880567B2 (en) | Overlay electromagnetic bandgap (EBG) structure and method of manufacturing the same | |
JP2765396B2 (en) | Stripline filter and microstrip line filter | |
JP3554947B2 (en) | Dielectric resonator and bandpass filter | |
JPH06216607A (en) | Dielectric filter and manufacture therefor | |
JP3361073B2 (en) | Filter and method of adjusting resonance frequency of resonator constituting filter | |
EP0838875B1 (en) | Dielectric filter | |
US6281763B1 (en) | Dielectric resonator, dielectric filter, dielectric duplexer, and method for manufacturing dielectric resonator | |
JPH05315806A (en) | Frequency adjustment method for filter of threeconductor structure | |
JP3524630B2 (en) | Multilayer dielectric filter and method of manufacturing the same | |
JPH09223904A (en) | Dielectric filter | |
GB2339341A (en) | Duplexer dielectric filter | |
KR20010085436A (en) | Method of producing band-pass filter and band-pass filter | |
JP2725904B2 (en) | Frequency Adjustment Method of Microwave Stripline Filter |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040407 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040511 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040524 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080611 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090611 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090611 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100611 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110611 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120611 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130611 Year of fee payment: 9 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |