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JP3524630B2 - Multilayer dielectric filter and method of manufacturing the same - Google Patents

Multilayer dielectric filter and method of manufacturing the same

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JP3524630B2
JP3524630B2 JP10716095A JP10716095A JP3524630B2 JP 3524630 B2 JP3524630 B2 JP 3524630B2 JP 10716095 A JP10716095 A JP 10716095A JP 10716095 A JP10716095 A JP 10716095A JP 3524630 B2 JP3524630 B2 JP 3524630B2
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Japan
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conductor film
pattern
terminal conductor
dielectric
ground conductor
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智彦 番
和久 山崎
祐二 松下
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FDK Corp
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、UHF帯やマイクロ波
帯の移動体通信機器等の回路素子として利用される積層
誘電体フィルタ及びその製造方法に関し、特に、フィル
タチップの上面に形成されるアース導体膜と端子導体膜
のパターンに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laminated dielectric filter used as a circuit element of a UHF band or microwave band mobile communication device or the like and a method for manufacturing the same, and more particularly to a laminated dielectric filter formed on the upper surface of a filter chip. The present invention relates to patterns of a ground conductor film and a terminal conductor film.

【0002】[0002]

【従来の技術】積層誘電体フィルタは、大面積の誘電体
シート(所定の誘電体シートの表面には、スクリーン印
刷等により所定形状の金属膜パターンが形成されてい
る)を多数枚積層して誘電体基板を形成することによ
り、同一構成の多数の誘電体フィルタが同時に一体に集
積形成され、ある段階で大きな誘電体基板を切断して個
々のフィルタチップに分離する(この切断分離工程をダ
イシングという)。このようにして製作されるチップ型
の積層誘電体フィルタの代表的な形態を図1に示してい
る。積層誘電体チップ1の内部には素材シート間にパタ
ーン形成された帯状共振電極が埋め込まれており、チッ
プ1の下面には全面的にアース導体膜が形成され、その
上面の一部には以下に詳述するパターンでアース導体膜
2が形成され、この上面のアース導体膜2と下面のアー
ス導体膜を接続するアース導体膜5がチップ側面にパタ
ーン形成されている。また、チップ上面には2つの端子
導体膜3,4がパターン形成され、この端子導体膜3,
4はそれぞれ側面に回り込んだ導体膜につながってい
る。
2. Description of the Related Art A laminated dielectric filter is formed by laminating a large number of large-area dielectric sheets (on a surface of a predetermined dielectric sheet, a metal film pattern having a predetermined shape is formed by screen printing or the like). By forming a dielectric substrate, a large number of dielectric filters having the same structure are simultaneously integrated and formed. At a certain stage, a large dielectric substrate is cut and separated into individual filter chips (this cutting and dicing process is performed by dicing). That). A typical form of the chip type laminated dielectric filter manufactured in this manner is shown in FIG. A strip-shaped resonant electrode patterned between material sheets is embedded inside the laminated dielectric chip 1, and a ground conductor film is entirely formed on the lower surface of the chip 1. The ground conductor film 2 is formed in the pattern described in detail below, and the ground conductor film 5 for connecting the ground conductor film 2 on the upper surface and the ground conductor film on the lower surface is patterned on the side surface of the chip. Also, two terminal conductor films 3 and 4 are patterned on the upper surface of the chip.
4 are connected to the conductor films that wrap around the side surfaces.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】図1の誘電体フィルタ
のチップ上面の導体膜パターンを図2に詳しく示してい
る。チップ上面は横の長さが2dで、縦の長さが2kの
長方形である。この長方形の中心を原点としてx軸・y
軸がそれぞれチップの横・縦に平行な2次元座標(x,
y)を想定する。するとアース導体膜2および端子導体
膜3と4のパターンは次のように表わされる。
The conductor film pattern on the upper surface of the chip of the dielectric filter shown in FIG. 1 is shown in detail in FIG. The top surface of the chip is a rectangle having a horizontal length of 2d and a vertical length of 2k. With the center of this rectangle as the origin, the x-axis / y
Two-dimensional coordinates whose axes are parallel to the horizontal and vertical directions of the chip (x,
y) is assumed. Then, the patterns of the ground conductor film 2 and the terminal conductor films 3 and 4 are expressed as follows.

【0004】一方の端子導体膜3は、b≦x≦dかつh
≦y≦iの領域にパターン形成されており、これに対し
て座標原点を中心とする180度の回転対称に他方の端
子導体膜4がパターン形成されている。
One terminal conductor film 3 has b ≦ x ≦ d and h
A pattern is formed in the region of ≦ y ≦ i, and the other terminal conductor film 4 is formed in a pattern of 180 ° rotational symmetry with respect to the origin of coordinates.

【0005】またアース導体膜2の半分2aは、−d≦
x≦aかつ0≦y≦kの領域にパターン形成されてお
り、これに対して座標原点を中心とする180度の回転
対称にアース導体膜2の残りの半分2bがパターン形成
されている。つまりチップ上面の中心部分でアース導体
膜2a,2bがつながっている。
The half 2a of the ground conductor film 2 has -d≤.
The pattern is formed in the region of x≤a and 0≤y≤k, while the other half 2b of the ground conductor film 2 is patterned in a rotational symmetry of 180 degrees about the coordinate origin. That is, the ground conductor films 2a and 2b are connected at the central portion of the chip upper surface.

【0006】ここで、大面積の積層誘電体基板に同一の
多数のフィルタを集積形成する場合に、個々のフィルタ
形成エリアが相互に接していて、各エリア間にまったく
隙間のない状態で製作できれば、素材の誘電体基板を最
大限に活用してより多数のフィルタを能率よく製作でき
ることになる(これを無隙間集積方式と呼ぶことにす
る)。
Here, when a large number of the same filters are integrated and formed on a large-area laminated dielectric substrate, if the individual filter forming areas are in contact with each other and there is no gap between the respective areas, it is possible to manufacture them. , It will be possible to efficiently produce a larger number of filters by making maximum use of the dielectric substrate of the material (this is called a non-gap integration method).

【0007】図1および図2に示したチップ上面パター
ンのフィルタを無隙間集積方式で製作する場合、大面積
の積層誘電体基板の上面に形成する導体膜集積パターン
は図3のようになる。つまり、図2に示す個々のフィル
タの導体膜パターンが縦横に隙間なく連続したパターン
になる。図3において、PとQはダイシング工程での縦
横の切断ラインを示している。なお、この切断は、図外
(大面積の積層誘電体基板の周縁所定位置)に形成され
るマーカーを基準に行われる。
When the filter having the chip upper surface pattern shown in FIGS. 1 and 2 is manufactured by the gapless integration method, the conductor film integrated pattern formed on the upper surface of the large-area laminated dielectric substrate is as shown in FIG. That is, the conductor film patterns of the individual filters shown in FIG. 2 are continuous patterns without gaps in the vertical and horizontal directions. In FIG. 3, P and Q indicate vertical and horizontal cutting lines in the dicing process. Note that this cutting is performed with reference to a marker formed outside the drawing (a predetermined position on the peripheral edge of the large-area laminated dielectric substrate).

【0008】図3のような集積パターンにより無隙間集
積方式でフィルタを製作する場合、ダイシング工程で切
断ラインがごく僅かでも狂うと、隣のエリアの導体膜を
切り込んでしまい、例えば図4のように端子導体膜4と
アース導体膜2aがショートしたり(イ部)、アース導
体膜2bに無用なヒゲ状導体膜(ロ部)がつながってし
まい、これが実装時にショート原因になる。ダイシング
工程で、1本の切断ラインで2つのエリアを常に正確に
切り分けることは不可能であり、ある程度の誤差は避け
られない。したがって、図3のような集積パターンによ
り無隙間集積方式でフィルタを製作すると、歩留まりが
悪く実用に供し得ないものとなる。
When a filter is manufactured by the non-gap integration method with the integrated pattern as shown in FIG. 3, if the cutting line is slightly deviated in the dicing process, the conductor film in the adjacent area is cut, and as shown in FIG. 4, for example. In addition, the terminal conductor film 4 and the ground conductor film 2a are short-circuited (a portion), and the unwanted conductor film (b) is connected to the ground conductor film 2b, which causes a short circuit during mounting. In the dicing process, it is impossible to always accurately separate the two areas with one cutting line, and some error cannot be avoided. Therefore, if a filter is manufactured by the non-gap integration method using the integration pattern as shown in FIG. 3, the yield is poor and it cannot be put to practical use.

【0009】一方、係る問題を解決するため、各フィル
タエリアの間に適当な隙間をあけて集積パターンを形成
する(これを有隙間集積方式と呼ぶことにする)ことも
考えられる。しかし、係る場合には。フィルタエリア間
に形成された隙間の両側を切断する必要が生じ、切断工
程が増加する。さらに、この有隙間集積方式では、同じ
面積の基板で製作できるフィルタの個数が少なくなり、
また製作能率も悪いという問題がある。
On the other hand, in order to solve such a problem, it is conceivable to form an integrated pattern by forming an appropriate gap between each filter area (this will be referred to as a gap-integrated system). However, in such cases. It becomes necessary to cut both sides of the gap formed between the filter areas, which increases the cutting process. Furthermore, with this gap integration method, the number of filters that can be manufactured on substrates of the same area is reduced,
There is also the problem that production efficiency is poor.

【0010】本発明は、上記した背景に鑑みてなされた
もので、その目的とするところは、上記した問題点を解
決し、従来のパターン(例えば図1および図2に示した
パターン)にほとんど類似したチップ上面パターンの積
層誘電体フィルタを無隙間方式で製作でき、しかも特性
は従来と同等となるようにした積層誘電体フィルタ及び
その製造方法を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above background, and its object is to solve the above-mentioned problems and to use the conventional patterns (for example, the patterns shown in FIGS. 1 and 2) in most cases. It is an object of the present invention to provide a laminated dielectric filter having a similar chip top surface pattern, which can be manufactured by a non-gap method, and has the same characteristics as conventional ones, and a manufacturing method thereof.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記した目的を達成する
ため、本発明に係る積層誘電体フィルタでは、内部に共
振子パターン(11)を有する積層誘電体チップ(1
0)の長方形の上面に大きなアース導体膜(12)と2
つの小さな端子導体膜(13,14)とがパターン形成
された積層誘電体フィルタを前提とし、前記一方の端子
導体膜(13)は、前記長方形の一辺(A)に接続さ
れ、前記他方の端子導体膜(14)は前記一辺と反対側
の対辺(B)に接続されるとともに、前記両端子導体膜
は前記長方形の中心を挟んで反対側に配置される。一
方、前記アース導体膜は、前記端子導体膜と非接触状態
に配置される。そして、前記端子導体膜が接続された長
方形の各辺との接続縁の両側端にそれぞれ第1の切欠部
(16)が形成され、前記長方形の残りの2辺との接続
縁の中央側端部に、第2の切欠部(17)が形成される
ようにした。
In order to achieve the above object, a laminated dielectric filter according to the present invention has a laminated dielectric chip (1) having a resonator pattern (11) therein.
2) A large ground conductor film (12) and 2
Assuming a laminated dielectric filter in which two small terminal conductor films (13, 14) are patterned, the one terminal conductor film (13) is connected to one side (A) of the rectangle and the other terminal. The conductor film (14) is connected to the opposite side (B) opposite to the one side, and the both terminal conductor films are arranged on the opposite side with the center of the rectangle interposed therebetween. On the other hand, the ground conductor film is arranged in a non-contact state with the terminal conductor film. Then, first notches (16) are formed at both ends of the connection edge with each side of the rectangle to which the terminal conductor film is connected, and the center side end of the connection edge with the remaining two sides of the rectangle is formed. A second notch (17) is formed in the section.

【0012】[0012]

【0013】[0013]

【0014】また、本発明に係る誘電体フィルタの製造
方法では、製造する積層誘電体フィルタの形状よりも十
分大きな誘電体シートを用い、表面に導体パターンを未
形成の誘電体シートと、表面に共振子パターン等の所定
の導体膜パターンが形成された誘電体シートと、前記ア
ース導体膜及び端子導体膜からなる導体膜パターンが形
成された誘電体シートを所定の順で所定枚数積層して誘
電体基板を形成する。
Further, in the method for manufacturing a dielectric filter according to the present invention, a dielectric sheet having a size sufficiently larger than the shape of the laminated dielectric filter to be manufactured is used, and a dielectric sheet having no conductor pattern formed on the surface and a dielectric sheet formed on the surface are used. A dielectric sheet is formed by laminating a dielectric sheet having a predetermined conductor film pattern such as a resonator pattern and a dielectric sheet having a conductor film pattern including the ground conductor film and the terminal conductor film in a predetermined order. Form a body substrate.

【0015】次いで前記誘電体基板の所定部位を切断し
て個々のチップに分離後、そのチップの側面に所定の導
体膜を形成するようにした誘電体フィルタの製造方法に
おいて、上面に位置する誘電体シートの表面に形成する
前記アース導体膜及び前記端子導体膜からなる導体膜パ
ターンの形状を、長方形の中心を原点とし、前記長方形
の各辺に平行な直交座標系を仮想的に置いた際の座標点
を(x,y)とし、a、b、c、dおよびh、i、j、
kがa<b<c<dおよびh<i<j<kの関係にある
正の数としたときに、b≦x≦dかつh≦y≦iの領域
に一方の前記端子導体膜がパターン形成されており、こ
れに対して座標原点を中心とする180度の回転対称に
他方の前記端子導体膜がパターン形成され、前記アース
導体膜の半分は、−c≦x≦aかつ0≦y≦jの領域、
−c≦x≦−aかつj≦y≦kの領域、−d≦x≦−c
かつh≦y≦iの領域、にパターン形成されており、こ
れに対して座標原点を中心とする180度の回転対称に
残りの半分の前記アース導体膜がパターン形成されるパ
ターンを基準パターンとし、その基準パターンを縦横方
向に連続して繰り返し配置し、その基準パターン単位で
前記切断処理をするようにした。
Next, in a method of manufacturing a dielectric filter in which a predetermined portion of the dielectric substrate is cut to separate individual chips, and then a predetermined conductive film is formed on the side surface of the chip, the dielectric film located on the upper surface is cut. When the conductor film pattern formed of the ground conductor film and the terminal conductor film on the surface of the body sheet has a rectangular center as an origin and an orthogonal coordinate system parallel to each side of the rectangle is virtually placed. Let (x, y) be the coordinate points of a, b, c, d and h, i, j,
When k is a positive number in the relationship of a <b <c <d and h <i <j <k, one of the terminal conductor films is in the region of b ≦ x ≦ d and h ≦ y ≦ i. The other terminal conductor film is patterned in a rotationally symmetrical manner with respect to the origin of coordinates by 180 degrees with respect to the origin of coordinates, and half of the ground conductor film is -c≤x≤a and 0≤. region of y ≦ j,
-C≤x≤-a and j≤y≤k region, -d≤x≤-c
In addition, the pattern is formed in the region of h ≦ y ≦ i, and the pattern in which the other half of the ground conductor film is formed in a rotational symmetry with respect to the origin of coordinates by 180 degrees is used as a reference pattern. The reference pattern is continuously and repeatedly arranged in the vertical and horizontal directions, and the cutting process is performed in units of the reference pattern.

【0016】[0016]

【作用】第1,第2の切欠部を形成するようにしたた
め、たとえ切断部位がずれたとしても、端子導体膜とア
ース導体膜が接続されてしまうことがなく、非接触状態
が保たれる。
Since the first and second notches are formed, the terminal conductor film and the ground conductor film are not connected even if the cut portions are displaced, and the non-contact state is maintained. .

【0017】具体的には図6に示したチップ上面パター
ンのフィルタを無隙間集積方式で製作する場合、大面積
の積層誘電体基板の上面に形成する導体膜集積パターン
は図7のようになる。つまり、図6に示す個々のフィル
タの導体膜パターンが縦横に隙間なく連続したパターン
になる。図7,図8において、PとQはダイシング工程
での縦横の切断ラインを示している。アース導体膜(1
2)に切り欠き部(16),(17)に相当する導体膜
の未形成領域(21)を設けてあるので、ダイシング工
程で切断ラインがP、Qから多少ずれても、端子導体膜
とアース導体膜がショートしたり、アース導体膜に無用
なヒゲ状導体膜がつながるという不都合はなくなる。
Specifically, when the filter having the chip upper surface pattern shown in FIG. 6 is manufactured by the gapless integration method, the conductor film integrated pattern formed on the upper surface of the large-area laminated dielectric substrate is as shown in FIG. . That is, the conductor film patterns of the individual filters shown in FIG. 6 are continuous patterns without gaps in the vertical and horizontal directions. 7 and 8, P and Q indicate vertical and horizontal cutting lines in the dicing process. Ground conductor film (1
Since the conductor film unformed region (21) corresponding to the notches (16) and (17) is provided in 2), even if the cutting line is slightly deviated from P and Q in the dicing process, There is no problem that the ground conductor film is short-circuited or that an unnecessary mustache-shaped conductor film is connected to the ground conductor film.

【0018】[0018]

【実施例】以下、本発明に係る積層誘電体フィルタ及び
その製造方法の好適な実施例を添付図面を参照にして詳
述する。図5,図6は本発明の一実施例を示している。
同図に示すように、基本的な構成は従来と同様で、複数
の誘電体シート(グリーンシート)を積層して構成され
る直方体状の積層誘電体チップ10の内部にはそのシー
ト間にパターン形成された帯状の共振子パターン(内導
体)11が埋め込まれている。チップ10の下面には全
面的にアース導体膜が形成され、その上面の一部には以
下に詳述するパターンでアース導体膜12が形成され、
この上面のアース導体膜12と下面のアース導体膜を接
続するアース導体膜15がチップ側面にパターン形成さ
れている。また、チップ上面には2つの小さな端子導体
膜13,14がパターン形成され、この端子導体膜1
3,14はそれぞれ側面に回り込んだ導体膜につながっ
ている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the laminated dielectric filter and the method for manufacturing the same according to the present invention will be described in detail below with reference to the accompanying drawings. 5 and 6 show an embodiment of the present invention.
As shown in the figure, the basic structure is the same as the conventional one, and a rectangular parallelepiped laminated dielectric chip 10 formed by laminating a plurality of dielectric sheets (green sheets) has a pattern between the sheets. The formed band-shaped resonator pattern (inner conductor) 11 is embedded. An earth conductor film is formed on the entire lower surface of the chip 10, and an earth conductor film 12 is formed on a part of the upper surface of the chip 10 in a pattern described in detail below.
A ground conductor film 15 for connecting the ground conductor film 12 on the upper surface and the ground conductor film on the lower surface is patterned on the side surface of the chip. In addition, two small terminal conductor films 13 and 14 are patterned on the upper surface of the chip.
Reference numerals 3 and 14 are connected to the conductor films that wrap around the side surfaces.

【0019】さらに、本例では、共振子パターン11の
両端を積層誘電体チップ10の側面にまで至るように形
成している。すなわち、共振子パターン11の長さと、
その配置方向の積層誘電体チップ10の長さを等しくし
ている。これにともない、共振子パターン11の一端は
開放端(アースと非接触)となるため、それに対応して
積層誘電体チップ10の側面に形成するアース導体膜1
5のうち、上記開放端に対応する部分にはアース導体膜
を未形成とした。
Further, in this example, both ends of the resonator pattern 11 are formed so as to reach the side surfaces of the laminated dielectric chip 10. That is, the length of the resonator pattern 11 and
The lengths of the laminated dielectric chips 10 in the arrangement direction are made equal. Along with this, one end of the resonator pattern 11 becomes an open end (not in contact with the ground), so that the ground conductor film 1 formed on the side surface of the laminated dielectric chip 10 correspondingly.
Of 5, the ground conductor film was not formed in the portion corresponding to the open end.

【0020】なお、共振子パターン11が露出しないタ
イプ、すなわち、共振子パターン11の長さが積層誘電
体チップ10のそれよりも短い場合には、上記した未形
成部分にもアース導体膜を形成して良いのはもちろんで
ある。
When the resonator pattern 11 is not exposed, that is, when the length of the resonator pattern 11 is shorter than that of the laminated dielectric chip 10, the ground conductor film is formed on the above-mentioned unformed portion. Of course you can do it.

【0021】また、本実施例では両端子導体膜13,1
4は、ともに長方形に構成し、一方の端子導体膜13
は、積層誘電体チップ10の上面(長方形)の一辺Aに
接続され、他方の端子導体膜14は前記一辺Aと反対側
の対辺Bに接続されるようにした。そして理想的には、
両者は同一形状となり、上面の辺との接続部位は、上記
した各辺A,Bのみになるようにした。さらに、両端子
導体膜13,14は前記長方形の中心を挟んで反対側に
配置している。すなわち、上面の中心を通り、4辺と平
行な2つの線分にて4つの区画に分割した場合に、隣接
しない対角線上に位置する2つの区画内に配置する。
Also, in this embodiment, both terminal conductor films 13, 1
4 are both formed in a rectangular shape, and one of the terminal conductor films 13 is formed.
Is connected to one side A of the upper surface (rectangle) of the laminated dielectric chip 10, and the other terminal conductor film 14 is connected to the opposite side B opposite to the side A. And ideally,
Both have the same shape, and the connecting portion with the side of the upper surface is configured to be only the sides A and B described above. Further, both terminal conductor films 13 and 14 are arranged on opposite sides of the center of the rectangle. That is, when divided into four sections by two line segments that pass through the center of the upper surface and are parallel to the four sides, they are arranged in two sections that are located on diagonal lines that are not adjacent to each other.

【0022】一方、上記した積層誘電体チップ10の上
面に形成するアース導体膜12は、両端子導体膜13,
14と非接触状態に配置され、上記した4つの区画のう
ち残りの2つの区画のほぼ全面を覆う(12aと12
b)とともに、中央部分でそれらを接続するような所定
のパターン形状から構成される。
On the other hand, the ground conductor film 12 formed on the upper surface of the above-mentioned laminated dielectric chip 10 is composed of both terminal conductor films 13,
14 is placed in a non-contact state with 14 and covers almost the entire surface of the remaining two sections of the above-mentioned four sections (12a and 12a).
Along with b), it is composed of a predetermined pattern shape that connects them in the central portion.

【0023】ここで本発明では、アース導体膜12の周
縁のうち、積層誘電体チップ10の上面の各辺との接続
縁の各端部にそれぞれ所定の切欠部を形成した。具体的
には、前記端子導体膜13,14が接続された長方形の
各辺A,Bとの接続縁の両側端にそれぞれ第1の切欠部
16を形成し、長方形の残りの2辺との接続縁の中央側
端部に、第2の切欠部17を形成した。そして、図から
明らかなように、同一辺上に形成された第1の切欠部1
6,16間の距離が、端子導体膜13,14の幅と一致
するようにしている。
Here, in the present invention, a predetermined notch is formed at each end of the peripheral edge of the ground conductor film 12 which is connected to each side of the upper surface of the laminated dielectric chip 10. Specifically, the first notches 16 are formed at both ends of the connection edge with the sides A and B of the rectangle to which the terminal conductor films 13 and 14 are connected, and the two remaining sides of the rectangle are formed. The second cutout portion 17 was formed at the end portion on the center side of the connection edge. Then, as is clear from the figure, the first notch 1 formed on the same side.
The distance between 6 and 16 matches the width of the terminal conductor films 13 and 14.

【0024】そして、各導体膜の寸法形状についてより
具体的に説明すると、前記長方形の中心を原点とし、前
記長方形の各辺に平行な直交座標系を仮想的に置いた際
の座標点を(x,y)とし、a、b、c、dおよびh、
i、j、kがa<b<c<dおよびh<i<j<kの関
係にある正の数としたときに、本発明の積層誘電体フィ
ルタでは、前記アース導体膜12と前記端子導体膜1
3,14のパターンが次の条件を満たすようなパターン
形状とした。 前記チップ上面は−d≦x≦dかつ−k≦y≦kの長
方形をなしている。 b≦x≦dかつh≦y≦iの領域に一方の前記端子導
体膜13がパターン形成されており、これに対して座標
原点を中心とする180度の回転対称に他方の端子導体
膜4がパターン形成されている。 前記アース導体膜12の半分12aは、−c≦x≦a
かつ0≦y≦jの領域、−c≦x≦−aかつj≦y≦k
の領域、−d≦x≦−cかつh≦y≦iの領域、にパタ
ーン形成されており、これに対して座標原点を中心とす
る180度の回転対称に前記アース導体膜12の残りの
半分12bがパターン形成されている。
More specifically, the size and shape of each conductor film will be described in more detail. A coordinate point when an orthogonal coordinate system parallel to each side of the rectangle is virtually set with the center of the rectangle as the origin. x, y), a, b, c, d and h,
In the laminated dielectric filter of the present invention, when i, j, and k are positive numbers in the relationship of a <b <c <d and h <i <j <k, the ground conductor film 12 and the terminal are used. Conductor film 1
The pattern shapes of the patterns 3 and 14 satisfy the following conditions. The upper surface of the chip has a rectangular shape of -d≤x≤d and -k≤y≤k. One of the terminal conductor films 13 is patterned in the region of b ≦ x ≦ d and h ≦ y ≦ i, and the other terminal conductor film 4 is rotationally symmetrical with respect to the origin of coordinates by 180 degrees. Are patterned. The half 12a of the ground conductor film 12 has -c≤x≤a.
And a region of 0≤y≤j, -c≤x≤-a and j≤y≤k
Area, and the area of -d≤x≤-c and h≤y≤i, on the other hand, the remaining portion of the ground conductor film 12 is rotationally symmetrical with respect to the origin of coordinates by 180 degrees. Half 12b is patterned.

【0025】そして、上記した条件は、理想状態で各パ
ターン成形ならびに切断処理等が行われた場合の理想
(基本)的なパターン(移動距離が0)であり、製造時
の公差などにより切断位置がずれた場合には、上記基本
パターンのまま、X軸方向またはY軸方向の少なくとも
一方側に所定距離だけ平行移動することもある。その場
合に、各パターンのうち条件、すなわち上面の範囲を
越える部分は当然排除された形状となる。換言すれば、
理想的なパターンの場合には、各導体膜のパターン形状
は原点を中心とし、180度回転させた時の点対称とな
るが、それをずれると、各パターンの寸法形状が多少異
なるとともに、対応する各切欠部同士の長さや幅も異な
ることになる。
The above-mentioned conditions are ideal (basic) patterns (moving distance is 0) when each pattern is formed and cut in an ideal state, and the cutting position depends on manufacturing tolerances. When there is a deviation, the basic pattern may be moved parallel to at least one side in the X-axis direction or the Y-axis direction by a predetermined distance. In that case, the condition of each pattern, that is, the portion exceeding the range of the upper surface is naturally excluded. In other words,
In the case of an ideal pattern, the pattern shape of each conductor film is point-symmetrical when it is rotated 180 degrees around the origin, but if it is deviated, the size and shape of each pattern will be slightly different and The lengths and widths of the respective cutouts to be formed will also be different.

【0026】また、係る積層誘電体フィルタを製造する
場合には、大きな積層誘電体基板に複数の誘電体フィル
タのパターンを形成し、それを切断するため、切断位置
がずれて上記のように平行移動した場合には、本来存在
しないパターン(別の誘電体フィルタ用のパターン)が
上面に形成されることがあるが、後述したように係る不
要なパターンは、上記した各導体膜12,13,14の
いずれとも接触しない。
Further, in the case of manufacturing such a laminated dielectric filter, a pattern of a plurality of dielectric filters is formed on a large laminated dielectric substrate and the patterns are cut. When moved, a pattern that does not originally exist (a pattern for another dielectric filter) may be formed on the upper surface. However, as described later, unnecessary patterns are formed by the conductive films 12, 13, No contact with any of the 14

【0027】そして、上面に形成するアース導体膜12
の所定部位には上記したように切欠部16,17が形成
されるため、その設置面積が若干減少するものの、その
減少量はごく僅かであるので、フィルタとしての特性は
従来のものと変わらない。
The ground conductor film 12 formed on the upper surface
Since the notches 16 and 17 are formed in the predetermined portion of the above-mentioned portion, the installation area thereof is slightly reduced, but the reduction amount is very small, and therefore the characteristics of the filter are the same as those of the conventional one. .

【0028】また、側面に形成するアース導体膜15
は、従来の構成と全く同じものを使用することができる
ので、本実施例の積層誘電体フィルタを製造するための
マスクパターンとしては、上面用のものを作り直すだけ
で、その他は従来のものをそのまま使用でき、さらに、
具体的な製造工程も従来のものと同一とすることができ
る。なお、側面パターンを適宜変更するようにしてもも
ちろん良い。
Further, the ground conductor film 15 formed on the side surface.
Since the completely same structure as the conventional one can be used, the mask pattern for manufacturing the laminated dielectric filter of the present embodiment only needs to be remade for the upper surface, and the other ones have the same conventional ones. You can use it as it is,
The specific manufacturing process can be the same as the conventional one. Of course, the side surface pattern may be changed appropriately.

【0029】そして、上記した各部の寸法の一例を示す
と、次のように設定することができる。
Then, an example of the dimensions of the above-mentioned respective parts can be set as follows.

【0030】2d=7.00mm 2k=5.00mm a=0.35mm b=0.75mm c=0.25mm h=0.40mm i=2.10mm j=3.35mm 次に、本発明に係る誘電体フィルタの製造方法の一実施
例を説明する。基本的な製造プロセスは、従来のものと
同様で、大面積の誘電体シート(グリーンシート)を用
い、それらを所定枚数積層して積層誘電体基板を製造す
る。この時、中間の所定の誘電体シートの表面には、共
振子パターンなどを構成する所定の導体膜を形成してお
く。最上方に位置する誘電体シートの上面には、所定形
状からなる導体膜パターンを形成する。本発明では、こ
の導体膜パターンの形状を改良している。
2d = 7.00 mm 2k = 5.00 mm a = 0.35 mm b = 0.75 mm c = 0.25 mm h = 0.40 mm i = 2.10 mm j = 3.35 mm Next, the present invention will be described. An example of a method of manufacturing a dielectric filter will be described. The basic manufacturing process is similar to the conventional one, and a large-area dielectric sheet (green sheet) is used, and a predetermined number of these are laminated to manufacture a laminated dielectric substrate. At this time, a predetermined conductor film forming a resonator pattern or the like is formed on the surface of a predetermined intermediate dielectric sheet. A conductor film pattern having a predetermined shape is formed on the upper surface of the uppermost dielectric sheet. In the present invention, the shape of this conductor film pattern is improved.

【0031】すなわち、本実施例では図5,図6に示す
チップ上面のパターンからなる本発明のフィルタを無隙
間集積方式で製作する方法で、具体的には図6に示す導
体膜パターンを基準パターンとし、その基準パターンを
縦横に隙間なく連続した導体膜パターンとなる。そし
て、係る導体膜パターンの一例を示すと、図7のように
なる。そしてダイシング工程での縦横の切断は、大面積
の積層誘電体基板の周縁所定位置に形成されるマーカー
位置(矢印で示す)を基準に行われる。このマーカーで
切断すると、基準パターン単位で切り出されるようにな
っている。
That is, in this embodiment, the filter of the present invention having the pattern on the chip upper surface shown in FIGS. 5 and 6 is manufactured by the gapless integration method. Specifically, the conductor film pattern shown in FIG. The pattern is used as a conductive film pattern in which the reference pattern is continuous in the vertical and horizontal directions with no gaps. An example of such a conductor film pattern is shown in FIG. The vertical and horizontal cutting in the dicing process is performed with reference to a marker position (indicated by an arrow) formed at a predetermined position on the peripheral edge of the large-area laminated dielectric substrate. When cut with this marker, it is cut out in units of reference patterns.

【0032】そして、図8に拡大して示すように、アー
ス導体膜となるパターン部分20の側縁20aは、交互
に相手側にはみだすようになり、同一直線上に位置する
側縁20aを結ぶ線間の距離m1がマージンとなる。上
記した切欠部に対応する部分が導体膜の未形成領域21
となり、隣接するパターン部分20間には一定の隙間が
存在する。また、上記パターン部分20の先端には端子
導体膜となるパターン部分22も連続して形成される
が、上記未形成領域21のためにそのパターン部分22
の幅wは、パターン部分20の幅w′よりも狭くなって
いる。
Then, as shown in an enlarged manner in FIG. 8, the side edges 20a of the pattern portion 20 serving as the ground conductor film alternately project to the other side, and connect the side edges 20a located on the same straight line. The distance m1 between the lines is the margin. A portion corresponding to the above-mentioned cutout portion is a non-formed region 21 of the conductor film.
Therefore, there is a constant gap between the adjacent pattern portions 20. Further, a pattern portion 22 serving as a terminal conductor film is also continuously formed at the tip of the pattern portion 20, but the pattern portion 22 is formed due to the unformed region 21.
Width w is smaller than the width w ′ of the pattern portion 20.

【0033】従って、理想的には上記したダイシング工
程では同図中P,Qで示すように側縁20aにより決定
される上記マージンm1の中央の線上P(同図(B)参
照)と、パターン部分20と22の接続部位に近接し、
未形成領域21の中央Q(同図(C)参照)となり、当
該部位で切断をした場合には、図9中破線で囲まれた長
方形の領域が切り出され、ハッチングで示すパターン部
分が各導体膜となり、これが上記した図7の状態に相当
する。そして、上記未形成領域21がそれぞれ各切欠部
16,17になる。
Therefore, ideally, in the above-mentioned dicing process, as shown by P and Q in the figure, the line P at the center of the margin m1 determined by the side edge 20a (see FIG. 7B) and the pattern. Close to the connection between parts 20 and 22,
It becomes the center Q of the unformed area 21 (see (C) in the same figure), and when cutting is performed at that portion, a rectangular area surrounded by a broken line in FIG. 9 is cut out, and a pattern portion shown by hatching is formed on each conductor. It becomes a film, which corresponds to the state of FIG. 7 described above. Then, the unformed regions 21 become the notches 16 and 17, respectively.

【0034】ところで、本実施例では未形成領域21を
形成したため、図8(B),(C)に示すように各切断
位置P,Qには、それぞれ所定幅のマージンm1,m2
が形成される。そして、各マージンm1,m2は、 m1=2(k−j) m2=2(d−c) となる。
By the way, since the unformed region 21 is formed in the present embodiment, margins m1 and m2 of predetermined widths are respectively provided at the cutting positions P and Q as shown in FIGS. 8 (B) and 8 (C).
Is formed. The margins m1 and m2 are as follows: m1 = 2 (k−j) m2 = 2 (d−c).

【0035】従って、たとえ切断位置が理想状態からず
れたとしても、未形成領域21を設けたためパターン部
分20と22が導通することがない。その一例を示す
と、例えば横方向の切断位置Pが上側にずれた場合に
は、図10(A)に示すように、一方の端子導体膜13
の近傍に無用の導体膜24が形成されるが、この導体膜
24は、上面に着目してみると他の導体膜12,13,
14のいずれとも接続されず、また、チップ10の側面
は図5に示したようにアース導体膜15の未形成領域に
対向することになり、独立した島状パターンとなる。し
たがって、この導体膜24はフィルタ特性には何等影響
を与えないものとなる。また、図示省略するが内部の共
振子パターンを短くし側面全面にアース導体膜を形成し
た構造のものの場合には、上記導体膜パターンは側面の
アース導体膜と接続されることになるが、いずれにして
も端子導体膜13,14とは非接触状態が保たれるので
問題はない。
Therefore, even if the cutting position deviates from the ideal state, the pattern portions 20 and 22 do not become conductive because the unformed region 21 is provided. As an example thereof, when the cutting position P in the lateral direction is displaced to the upper side, as shown in FIG. 10 (A), one terminal conductor film 13 is formed.
A useless conductor film 24 is formed in the vicinity of the conductor film 24. When the upper surface of the conductor film 24 is focused, the other conductor films 12, 13,
None of them are connected to each other, and the side surface of the chip 10 faces an area where the ground conductor film 15 is not formed, as shown in FIG. 5, thus forming an independent island pattern. Therefore, the conductor film 24 has no influence on the filter characteristics. Although not shown, in the case of the structure in which the internal resonator pattern is shortened and the ground conductor film is formed on the entire side surface, the conductor film pattern is connected to the ground conductor film on the side surface. However, there is no problem because the non-contact state with the terminal conductor films 13 and 14 is maintained.

【0036】一方、縦方向の切断位置Qが図中左側にず
れた場合には、図10(B)に示すように、第1の切欠
部16の幅が異なるものの、やはりアース導体膜12と
端子導体膜13,14が接続されることがなく、不良品
とならない。
On the other hand, when the cutting position Q in the vertical direction is shifted to the left side in the drawing, as shown in FIG. 10B, the width of the first cutout portion 16 is different, but it is still different from that of the ground conductor film 12. Since the terminal conductor films 13 and 14 are not connected to each other, the product does not become a defective product.

【0037】また、図示の状態は、上記したマージンm
1,m2の範囲内で切断位置がずれた場合のパターン例
を示しているが、これ以上ずれたとしても、端子導体膜
の形状が若干変わる(長方形の2つの頂点に小さな突片
が突出する)ものの、上面の範囲内に限ると端子導体膜
とアース導体膜とは非接触状態が保たれるので、側面の
アース導体膜15の形状を適宜に設定することにより所
望のフィルタ特性を維持できる。
Further, the illustrated state is the above-mentioned margin m.
An example of a pattern in which the cutting position is deviated within the range of 1 and m2 is shown, but even if deviated further, the shape of the terminal conductor film is slightly changed (small protrusions project at the two apexes of the rectangle). However, since the terminal conductor film and the ground conductor film are kept in non-contact with each other within the range of the upper surface, desired filter characteristics can be maintained by appropriately setting the shape of the ground conductor film 15 on the side surface. .

【0038】[0038]

【発明の効果】本発明によれば、従来のパターン(図
2)とほとんど同じパターン(図6)のチップ上面導体
膜の積層誘電体フィルタを無隙間集積方式で製作でき
る。したがって従来の有隙間集積方式に比べて、素材の
誘電体基板を最大限に活用してより多数のフィルタを能
率よく製作できることになる。また、切断処理も比較的
ラフに行うことができる。
According to the present invention, a laminated dielectric filter of a chip upper surface conductor film having almost the same pattern (FIG. 6) as the conventional pattern (FIG. 2) can be manufactured by the gapless integration method. Therefore, as compared with the conventional interstitial integration method, it is possible to make the most of the dielectric substrate of the material and efficiently manufacture a larger number of filters. Also, the cutting process can be performed relatively roughly.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】従来の積層誘電体フィルタの斜視図である。FIG. 1 is a perspective view of a conventional laminated dielectric filter.

【図2】同上従来のフィルタのチップ上面パターンの詳
細な平面図である。
FIG. 2 is a detailed plan view of a chip upper surface pattern of the conventional filter.

【図3】同上従来のフィルタを無隙間集積方式で製作す
る場合の集積パターンの平面図である。
FIG. 3 is a plan view of an integrated pattern in the case where the conventional filter is manufactured by the gapless integrated method.

【図4】同上従来のフィルタを無隙間集積方式で製作し
た場合の問題点を示すチップ上面パターンの平面図であ
る。
FIG. 4 is a plan view of a chip top surface pattern showing a problem when a conventional filter is manufactured by a gapless integration method.

【図5】本発明に係る積層誘電体フィルタの一例を示す
斜視図である。
FIG. 5 is a perspective view showing an example of a laminated dielectric filter according to the present invention.

【図6】本発明の一実施例による積層誘電体フィルタの
チップ上面パターンの平面図である。
FIG. 6 is a plan view of a chip top surface pattern of a laminated dielectric filter according to an embodiment of the present invention.

【図7】上記実施例のフィルタを無隙間集積方式で製作
する場合の集積パターンの平面図である。
FIG. 7 is a plan view of an integrated pattern when the filter of the above-described embodiment is manufactured by a non-gap integrated method.

【図8】図7の要部を拡大して示す図である。FIG. 8 is an enlarged view showing a main part of FIG.

【図9】集合パターンのうち、切断して切り出される部
分を説明する図である。
FIG. 9 is a diagram illustrating a part of a set pattern that is cut and cut out.

【図10】切断位置がずれた場合の作用を説明する図で
ある。
FIG. 10 is a diagram illustrating an operation when the cutting position is displaced.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 積層誘電体チップ 11 共振子パターン 12,12a,12b アース導体膜 13,14 端子導体膜 16 第1の切欠部 17 第2の切欠部 10 Multilayer dielectric chip 11 Resonator pattern 12, 12a, 12b Earth conductor film 13, 14 terminal conductor film 16 First notch 17 Second notch

フロントページの続き (56)参考文献 特開 平7−58508(JP,A) 特開 平7−162213(JP,A) 特開 平7−335995(JP,A) 特開 平5−110314(JP,A) 特開 平5−101996(JP,A) 特開 平6−77086(JP,A) 米国特許4821007(US,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01P 1/203 H01P 1/205 H01P 5/08 H01P 11/00 Continuation of front page (56) Reference JP-A-7-58508 (JP, A) JP-A-7-162213 (JP, A) JP-A-7-335995 (JP, A) JP-A-5-110314 (JP , A) JP-A-5-101996 (JP, A) JP-A-6-77086 (JP, A) US Pat. No. 4821007 (US, A) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) H01P 1/203 H01P 1/205 H01P 5/08 H01P 11/00

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 内部に共振子パターン(11)を有する
積層誘電体チップ(10)の長方形の上面に大きなアー
ス導体膜(12)と2つの小さな端子導体膜(13,1
4)とがパターン形成された積層誘電体フィルタであっ
て、 前記一方の端子導体膜(13)は、前記長方形の一辺
(A)に接続され、前記他方の端子導体膜(14)は前
記一辺と反対側の対辺(B)に接続されるとともに、前
記両端子導体膜は前記長方形の中心を挟んで反対側に配
置され、 前記アース導体膜は、前記端子導体膜と非接触状態に配
置され、前記端子導体膜が接続された長方形の各辺との
接続縁の両側端にそれぞれ第1の切欠部(16)が形成
され、前記長方形の残りの2辺との接続縁の中央側端部
に、第2の切欠部(17)が形成されてなることを特徴
とする積層誘電体フィルタ。
1. A large ground conductor film (12) and two small terminal conductor films (13, 1) on a rectangular upper surface of a laminated dielectric chip (10) having a resonator pattern (11) inside.
4) is a patterned laminated dielectric filter, wherein the one terminal conductor film (13) is connected to one side (A) of the rectangle, and the other terminal conductor film (14) is the one side. Is connected to the opposite side (B) on the opposite side, the both terminal conductor films are arranged on the opposite side with the center of the rectangle interposed therebetween, and the ground conductor film is arranged in a non-contact state with the terminal conductor film. First cutouts (16) are formed at both ends of a connection edge with each side of the rectangle to which the terminal conductor film is connected, and a central side end of the connection edge with the remaining two sides of the rectangle is formed. A laminated dielectric filter, characterized in that a second notch (17) is formed in the.
【請求項2】 製造する積層誘電体フィルタの形状より
も十分大きな誘電体シートを用い、表面に導体パターン
を未形成の誘電体シートと、表面に共振子パターン等の
所定の導体膜パターンが形成された誘電体シートと、ア
ース導体膜及び端子導体膜からなる導体膜パターンが形
成された誘電体シートを所定の順で所定枚数積層して誘
電体基板を形成し、 次いで前記誘電体基板の所定部位を切断して個々のチッ
プに分離後、そのチップの側面に所定の導体膜を形成す
るようにした誘電体フィルタの製造方法において、 上面に位置する誘電体シートの表面に形成する前記アー
ス導体膜及び前記端子導体膜からなる導体膜パターンの
形状を、 長方形の中心を原点とし、前記長方形の各辺に平行な直
交座標系を仮想的に置いた際の座標点を(x,y)と
し、a、b、c、dおよびh、i、j、kがa<b<c
<dおよびh<i<j<kの関係にある正の数としたと
きに、 b≦x≦dかつh≦y≦iの領域に一方の前記端子導体
膜がパターン形成されており、これに対して座標原点を
中心とする180度の回転対称に他方の前記端子導体膜
がパターン形成され、 前記アース導体膜の半分は、 −c≦x≦aかつ0≦y≦jの領域、 −c≦x≦−aかつj≦y≦kの領域、 −d≦x≦−cかつh≦y≦iの領域、 にパターン形成されており、これに対して座標原点を中
心とする180度の回転対称に残りの半分の前記アース
導体膜がパターン形成されるパターンを基準パターンと
し、 その基準パターンを縦横方向に連続して繰り返し配置
し、 その基準パターン単位で前記切断処理をするようにした
誘電体フィルタの製造方法。
2. A dielectric sheet, which is sufficiently larger than the shape of the laminated dielectric filter to be manufactured, and on which a conductor pattern is not formed, and a predetermined conductor film pattern such as a resonator pattern is formed on the surface. The dielectric sheet thus formed and a predetermined number of dielectric sheets having a conductor film pattern formed of a ground conductor film and a terminal conductor film are laminated in a predetermined order to form a dielectric substrate. In a method of manufacturing a dielectric filter, wherein a predetermined conductive film is formed on a side surface of the chip after cutting the portion into individual chips, the ground conductor formed on a surface of a dielectric sheet located on an upper surface. With respect to the shape of the conductor film pattern formed of the film and the terminal conductor film, the coordinate point when an orthogonal coordinate system parallel to each side of the rectangle is virtually set with (x, y) as the origin. ) And a, b, c, d and h, i, j, k are a <b <c
<D and h <i <j <k are positive numbers, one of the terminal conductor films is patterned in the region of b ≦ x ≦ d and h ≦ y ≦ i. The other terminal conductor film is formed in a pattern of 180 degrees rotational symmetry with respect to the origin of coordinates, and half of the ground conductor film has a region of −c ≦ x ≦ a and 0 ≦ y ≦ j, The pattern is formed in the area of c ≦ x ≦ −a and j ≦ y ≦ k, and the area of −d ≦ x ≦ −c and h ≦ y ≦ i, and 180 degrees around the coordinate origin. The pattern in which the other half of the ground conductor film is rotationally symmetrically formed is used as a reference pattern, and the reference pattern is continuously and repeatedly arranged in the vertical and horizontal directions, and the cutting process is performed for each reference pattern unit. Manufacturing method of dielectric filter.
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