JP3552621B2 - エポキシ樹脂組成物、樹脂付き金属箔及び多層板 - Google Patents
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- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims description 137
- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims description 137
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 title claims description 124
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 title claims description 124
- 239000011888 foil Substances 0.000 title claims description 52
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 52
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims description 49
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims description 49
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 55
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 54
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 35
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 claims description 29
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 claims description 24
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 claims description 18
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 claims description 18
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 18
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 1,1-Diethoxyethane Chemical compound CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- -1 phosphorus compound Chemical class 0.000 claims description 17
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 16
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 14
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 10
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 101
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 24
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 20
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 16
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 15
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 13
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 13
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 11
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 11
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 8
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 8
- LHENQXAPVKABON-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-1-ol Chemical compound CCC(O)OC LHENQXAPVKABON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 7
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 7
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 6
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 6
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 5
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 5
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 5
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 5
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 5
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 description 5
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 5
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 4
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 3
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 3
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 3
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 3
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical compound C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 2
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 2
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 2
- NTXGQCSETZTARF-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;prop-2-enenitrile Chemical compound C=CC=C.C=CC#N NTXGQCSETZTARF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 2
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N dicyandiamide Chemical compound NC(N)=NC#N QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 2
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 2
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 2
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 2
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000764238 Isis Species 0.000 description 1
- 229930194542 Keto Natural products 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 1
- 238000009529 body temperature measurement Methods 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 230000031709 bromination Effects 0.000 description 1
- 238000005893 bromination reaction Methods 0.000 description 1
- 229920005549 butyl rubber Polymers 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 1
- 229940126214 compound 3 Drugs 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- NFBOHOGPQUYFRF-UHFFFAOYSA-N oxanthrene Chemical class C1=CC=C2OC3=CC=CC=C3OC2=C1 NFBOHOGPQUYFRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 125000000467 secondary amino group Chemical class [H]N([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 238000013112 stability test Methods 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000002341 toxic gas Substances 0.000 description 1
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- Laminated Bodies (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、多層プリント配線板の製造に用いられるエポキシ樹脂組成物、このエポキシ樹脂組成物を用いて得られる樹脂付き金属箔及びこの樹脂付き金属箔を用いて得られる多層板に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、難燃性エポキシ樹脂組成物としては、樹脂に難燃性を付与するために臭素を主とするハロゲン系化合物を含有させたものが用いられていた。この難燃性エポキシ樹脂組成物は、自己消火性、良好な機械的強度、電気的特性等を有しており、様々な電気絶縁材料の成形材料として使用されてきた。
【0003】
しかし、この従来の難燃性エポキシ樹脂組成物はハロゲン系化合物を含有するため、難燃性エポキシ樹脂を含む成形材料が火災等で燃焼した際に、燃焼条件によってはポリ臭素化されたジベンゾダイオキシン及びフラン等、人体に悪影響を及ぼす化合物が発生してしまうものであった。
【0004】
さらに、特に臭素含有エポキシ樹脂組成物は、加熱された際に臭素が分解しやすく、長期耐熱性が悪いものであった。
【0005】
そのため臭素等のハロゲン系化合物を添加しないで、要求される難燃性を達成することの出来るエポキシ樹脂組成物が要望されていた。
【0006】
一方、多層プリント配線板の製造方法として、従来から、導電用の金属箔の表面にエポキシ樹脂組成物等の絶縁用樹脂を塗布し、半硬化して樹脂層を形成して樹脂付き金属箔を形成し、この樹脂付き金属箔を、回路パターンが形成された内層用回路基板に積層成形して樹脂付き金属箔の樹脂層を絶縁層として形成すると共に金属箔を導体層として形成して多層板を製造し、更にこの多層板の導体層にエッチング処理等を施して外層回路を形成し、多層プリント配線板を製造する方法が知られている。
【0007】
しかし、樹脂付き金属箔における半硬化状態の樹脂層は一般に脆く、取扱い等において樹脂層に大きな力が加わると樹脂層が割れ、その樹脂層から割れた樹脂粉が金属箔から剥がれる場合があった。そして、樹脂層が割れたり剥がれたりした樹脂付き金属箔を用いて製造したプリント配線板は、樹脂層が割れたり剥がれた部分において絶縁層に空洞が生じ、内層回路と外層回路の間の絶縁性が低下する場合があった。また、樹脂層が剥がれた樹脂付き金属箔を使用した場合、樹脂層から剥がされた樹脂粉が積層成形時に浮遊して、金属箔の樹脂層を形成していない側の面に付着し、得られる多層板の導体層上に微細な樹脂硬化物が形成される場合があった。そして、このような多層板の外層の導体層をエッチング処理して外層回路を形成することにより多層プリント配線板を製造した場合、樹脂硬化物が形成された部分がエッチングされずに残って、外層回路の配線間にショート不良が発生する場合があり、多層プリント配線板製造の歩留まりが低いという問題もあった。
【0008】
そこで、樹脂付き金属箔の樹脂層を形成するための樹脂組成物中に、フェノキシ樹脂や非架橋のゴムを可撓性付与成分として適当量配合することにより、樹脂組成物を柔構造とし、樹脂付き金属箔の樹脂層が割れたり、剥がれたりし難くすることが検討されている。
【0009】
しかし、このような可撓性付与成分が配合された樹脂組成物を用いた樹脂付き金属箔では、樹脂層の硬化物のガラス転移温度が低く、それらを積層成形して製造した多層プリント配線板の耐熱性が低いという問題があった。
【0010】
また、その他の可撓性付与成分としてブチラール樹脂があるが、従来ではブチラール樹脂の添加量が少ないと、樹脂層が割れたり、剥がれたりしやすくなり、逆にこの添加量が多いと、多層プリント配線板としての吸湿特性が低下し、吸湿時の電気的信頼性(特に層間絶縁信頼性)が低下するものであった。また、添加するブチラール樹脂の重合度が低いと、樹脂層が割れたり、剥がれたりしやすくなり、逆にこの重合度が高いと、樹脂層の割れや剥がれが抑制されて樹脂付き金属箔としての取扱い性が向上するが、樹脂層を構成する樹脂成分との相溶性が低下し、吸湿時の電気的信頼性が低下するものであった。
【0011】
そのため、樹脂層が割れたり、剥がれたりし難く、かつ、電気的信頼性及び耐熱性に優れた多層プリント配線板を製造することができる樹脂付き金属箔が求められていた。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記のような問題に鑑みてなされたものであって、その目的とするところは、燃焼時に有害な物質を生成しない難燃性組成物であり、また、樹脂付き金属箔の樹脂層を形成するために使用した場合には、得られる樹脂付き金属箔の樹脂層が割れたり、剥がれたりし難く、かつこの樹脂付き金属箔を用いて製造される多層板が優れた電気的信頼性及び耐熱性を有するものとなるエポキシ樹脂組成物、このエポキシ樹脂組成物を用いて製造される樹脂付き金属箔、及びこの樹脂付き金属箔を用いて製造される多層板を提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項1に係るエポキシ樹脂組成物は、リン含有化合物及び重合度300〜1500のポリビニルアセタール樹脂を必須成分として含有し、このポリビニルアセタール樹脂成分をエポキシ樹脂成分の総量に対して3〜15質量%含有すると共に、上記リン含有化合物として下記化学構造式(3)に示すリン化合物を用いて成ることを特徴とするものである。
【0014】
【化2】
また請求項2の発明は、請求項1の構成に加えて、粒子径が1.0μm以下の架橋エラストマーをエポキシ樹脂成分の総量に対して3〜15質量%含有して成ることを特徴とするものである。
【0015】
また請求項3の発明は、請求項1又は2の構成に加えて、リン含有量をエポキシ樹脂成分の総量の0.8〜5.0質量%として成ることを特徴とするものである。
【0016】
また本発明の請求項4に係る樹脂付き金属箔は、請求項1乃至3のいずれかに記載のエポキシ樹脂組成物を金属箔に塗布した後、乾燥半硬化させることによりエポキシ樹脂組成物のBステージ樹脂からなる樹脂層を形成して成ることを特徴とするものである。
【0017】
また本発明の請求項5に係る多層板は、内層用回路基板と、請求項4に記載の樹脂付き金属箔とを積層成形して成ることを特徴とするものである。
【0018】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を説明する。尚、本明細書中において、エポキシ樹脂を加熱乾燥することにより半硬化させたものをBステージ樹脂、これを更に加熱硬化させたものを硬化物と呼称する。
【0019】
エポキシ樹脂成分としては、分子内に平均して2個のエポキシ基を有するものを用いた場合、Bステージ樹脂及び硬化物の可塑性を効果的に向上することができる。
【0020】
この分子内に平均して2個のエポキシ基を有するエポキシ樹脂として、ビスフェノールA型エポキシ樹脂を用いると、接着力等の良好な硬化物を得ることができる。また、ビスフェノールF型エポキシ樹脂を用いた場合、エポキシ樹脂組成物やその硬化物の難燃性が得られ易くなる。また、ビフェニル型エポキシ樹脂を用いた場合、吸水率が低く、ガラス転移温度が高い硬化物を得ることができる。また、ナフタレン型エポキシ樹脂を用いると、ガラス転移温度が高い硬化物を得ることができる。
【0021】
また、エポキシ樹脂成分として、分子内に平均3個のエポキシ基を有するエポキシ樹脂を用いると、ガラス転移温度が更に高い硬化物を得ることができる。
【0022】
この分子内に平均3個のエポキシ基を有するエポキシ樹脂として、3官能型エポキシ樹脂を用いると、低吸水性を有すると共にガラス転移温度が高い硬化物を得ることができる。また、フェノールノボラック型エポキシ樹脂を用いた場合には、ガラス転移温度が高く、かつ難燃性に優れた硬化物を得ることができる。
【0023】
これらのエポキシ樹脂の硬化剤としては、ジシアンジアミドを用いると、接着性、耐熱性、電気絶縁性、高ガラス転移温度等の、性能バランスの良好な硬化物を得ることができる。硬化剤の配合量は、エポキシ樹脂に対する当量比で0.3〜0.7の範囲とすることが好ましい。
【0024】
リン含有化合物としては、下記化学構造式(3)に示すリン化合物を必須成分として用い、下記化学構造式(1)(2)に示すリン化合物も用いることができる。尚、化学構造式(3)に示すリン化合物は、二種の構造が平衡状態となって共存するものである。
【0025】
【化3】
また、リン含有化合物としては、既述のようなエポキシ樹脂を上記のようなリン化合物にて変性したリン変性エポキシ樹脂を用いることもできる。このとき、リン変性エポキシ樹脂は、エポキシ樹脂成分とリン含有化合物の双方を兼ねるものとして配合される。この場合は、エポキシ樹脂組成物に配合されるエポキシ樹脂の全部又は一部と、フェノール性水酸基又はカルボキシル基を有する化学構造式(1)〜(3)に示すようなリン化合物とを、予め3級アミン又はトリフェニルホスフィン等の促進剤を用いて加熱、反応させてリン含有エポキシ樹脂を生成するものである。このようなリン変性エポキシ樹脂を用いると、硬化物の耐熱、耐水特性が大幅に向上するものであり、更に、Bステージ樹脂の長期保存時の粘度上昇が抑制されて保存安定性が良くなり、樹脂付き金属箔等の状態で長期保管しても成形性等が悪化することが防止される。
【0026】
このリン含有エポキシ樹脂を生成するための予備反応に供されるエポキシ樹脂とリン化合物との割合は特に限定するものではないが、反応に供されるエポキシ樹脂のエポキシ基のモル数1.0に対してリン化合物のフェノール性水酸基及びカルボン酸の総モル数0.
4〜1.0の範囲で行うことが好ましく、この場合、特に優れた保存安定性を有する良好なBステージ樹脂や硬化物を得ることができる。
【0027】
また、この予備反応に供されるエポキシ樹脂としては、2官能又は3官能のエポキシ樹脂が望ましく、これらの官能基数の少ないエポキシ樹脂を予備反応に供した場合、特に安定した生成物が得られる。
【0028】
エポキシ樹脂組成物中におけるリン含有化合物の最適な配合量は使用するエポキシ樹脂により異なるものではあるが、リン含有化合物中のリン原子がエポキシ樹脂組成物のエポキシ樹脂成分の総量に対して0.8〜5.0質量%の範囲となるようにすることが好ましく、この場合、安定した難燃性を付与することができる。リン原子の含有量が、エポキシ樹脂成分の総量の0.8質量%未満の場合、安定した難燃性が得られ難く、逆に5.0質量%を超える場合は、硬化物の特性が悪化したり、可撓剤として配合されるブチラール樹脂との相溶性や、架橋エラストマー成分との分散性が悪化するおそれがある。
【0029】
また、ポリビニルアセタール樹脂は、特に限定するものではないが、重合度が300〜1500であるものが用いられる。この重合度が300未満であると、Bステージ樹脂や硬化物の可撓性を向上することができず、Bステージ樹脂にて樹脂付き金属箔の樹脂層を形成した場合、樹脂層が割れたり、剥がれたりし易くなる。逆にこの重合度が1500を超えると、エポキシ樹脂組成物にて樹脂付き金属箔の樹脂層を形成した場合、樹脂層が割れたり、剥がれたりし難いものが得られるものの、リン化合物やリン変性エポキシ樹脂等のリン含有化合物との相溶性が低下し、樹脂付き金属箔の樹脂層にて多層板の絶縁層を形成した場合の電気的信頼性(層間絶縁信頼性)が著しく低下する。
【0030】
また、このポリビニルアセタール樹脂の添加量は、エポキシ樹脂成分の総量に対して3〜15質量%とするものである。この添加量が3質量%未満であると、Bステージ樹脂や硬化物の可撓性を向上することができず、Bステージ樹脂にて樹脂付き金属箔の樹脂層を形成した場合、樹脂層が割れたり、剥がれたりし易くなる。逆にこの添加量が15質量%を超えると、エポキシ樹脂組成物にて樹脂付き金属箔の樹脂層を形成した場合、樹脂層が割れたり、剥がれたりし難いものが得られるものの、樹脂層の吸湿特性が低下すると共にリン化合物やリン変性エポキシ樹脂等のリン含有化合物との相溶性も低下し、樹脂付き金属箔の樹脂層にて多層板の絶縁層を形成した場合の電気的信頼性(層間絶縁信頼性)が低下する。
【0031】
また、エポキシ樹脂組成物は、ゴム成分として粒子径が1.0μm以下の架橋エラストマーを配合すると、Bステージ樹脂や硬化物の可撓性を更に効果的に向上することができて好ましい。ここで、架橋エラストマーとは、溶媒に分散させた場合に溶解せずにゲルとして存在するエラストマーを意味し、少なくともメチルエチルケトン(MEK)、メトキシプロパノール(MP)、又はジメチルホルムアミド(DMF)中に分散させた状態においてゲルとして存在するものである。例えば通常NBR(ニトリル・ブタジエン・ラバー)骨格を有する線状エラストマー(非架橋エラストマー)は、MEK、MP、DMF、MIBK(メチルイソブチルケトン)、クロロフォルム等の溶媒に溶解するものであり、それに対して、このNBR骨格を有する線状エラストマーを架橋させた例えば日本合成ゴム社製の商品名「XER−91」は、これらの溶媒に分散させた場合に溶解せず、ゲル含有量90数%で存在するものである。
【0032】
この架橋エラストマーとしては、特に限定するものではないが、例えばスチレン・ブタジエンゴム(SBR)、ブタジエンゴム(BR)、ブチルゴム等、あるいは構造式中にこれらのゴムの構造を有する共重合体等を使用することができる。特にブタジエン−アクリロニトリル共重合ゴムを用いた場合、Bステージ樹脂や、硬化物において適正な可塑性が得られると共に、Bステージ樹脂や硬化物の成形後のガラス転移温度(Tg)の低下を抑制することができ、更に架橋エラストマーのエポキシ樹脂組成物やそのBステージ樹脂及び硬化物中における分散性等も良好なものである。
【0033】
ここで、架橋エラストマーの粒径が1.0μmを超える場合は、エポキシ樹脂組成物やそのBステージ樹脂及び硬化物中における架橋エラストマーの分散性が低下して、均一な可塑性を得ることが困難となる。従って、この架橋エラストマーの粒径はより微細な方が
望ましく、特に0.5μm以下であることが更に望ましい。ただし、可塑性を効果的に付与するためには、架橋エラストマーの粒径は0.02μm以上であることが好ましい。
【0034】
この粒子径が1.0μm以下の架橋エラストマーの、エポキシ樹脂組成物中における添加量は、エポキシ樹脂成分の総量に対して3質量%以上であると、充分な可撓性付与の効果を得ることができて好ましく、添加量が3質量%に満たないと可塑化付与の効果が小さくなる。またこの添加量をエポキシ樹脂成分の総量に対して15質量%以下とすると、適正な可塑性が得られると共に、成形後のガラス転移温度(Tg)の低下を更に抑制することができ、添加量が15質量%を超えると硬化物の強度が低下するおそれがある。
【0035】
一方、ゴム成分として非架橋エラストマーを用いた場合は、成形後のガラス転移温度(Tg)が低下したり、加熱時に強度が低下したりするおそれがある。
【0036】
また、上記以外の他の添加剤として、2−エチル−4−メチルイミダゾール等の硬化促進剤や、その他の特性付与剤を必要に応じて添加しても良い。特に、可撓剤としてブチラール樹脂を配合すると、Bステージ樹脂や硬化物の可撓性を更に効果的に向上することができる。
【0037】
上記の各成分を充分に混合することにより、エポキシ樹脂組成物を調製することができる。ここで、リン含有エポキシ樹脂を用いる場合は、予め既述のような予備反応によるリン含有エポキシ樹脂の生成を行った後、他の配合成分を加えて充分に混合するものである。このとき必要に応じて粘度調整等のためにメチルエチルケトン(MEK)、メトキシプロパノール(MP)、ジメチルホルムアミド(DMF)等の溶剤を用いることもできるが、必ずしも溶剤を用いる必要はない。
【0038】
エポキシ樹脂組成物の調製方法を例示すると、リン含有エポキシ樹脂を用いない場合は、リン化合物、エポキシ樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、並びに予めメチルエチルケトン溶媒等に均一に分散した架橋エラストマー粒子を、溶媒中に投入して充分に撹拌混合した後、更に硬化促進剤を配合して更に撹拌混合し、その後、脱気して、25℃における粘度が500〜1000poiseであるエポキシ樹脂組成物を得るものである。
【0039】
またリン含有エポキシ樹脂を用いる場合は、リン含有エポキシ樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、及び予めメチルエチルケトン溶媒等に均一に分散した架橋エラストマー粒子、並びに必要に応じて他のエポキシ樹脂及びリン化合物を溶媒中に投入して充分に撹拌混合した後、硬化促進剤を配合して更に撹拌混合し、その後、脱気することにより、25℃における粘度が500〜1000poiseであるエポキシ樹脂組成物を得るものである。
【0040】
このようにして得られたエポキシ樹脂組成物を、コンマコーター、転写コーター、カーテンコーター、ダイコータ等を使用して銅箔、アルミニウム箔等の金属箔に塗布し、連続又は非連続的に加熱乾燥してBステージ化して、Bステージ樹脂からなる樹脂層を形成して、樹脂付き金属箔を得ることができる。
【0041】
この際の金属箔厚及び形成される樹脂層の厚みは任意であるが、金属箔の厚みとしては 3μm〜80μm、樹脂層の厚みとしては20μm〜200μmが一般的である。
【0042】
このようにして得られる樹脂付き金属箔を、回路パターンが形成された内層用回路基板の片面又は両面に、樹脂付き金属箔の樹脂層が内層用回路基板の回路層と重なるように積層加熱成形して、樹脂付き金属箔の樹脂層の硬化物にて絶縁層を形成すると共に金属箔にて導体層を形成し、多層板を製造することができる。そして多層板の外面の導体層に、回路成形を施すことにより、多層プリント配線板が得られる。
【0043】
【実施例】
以下、本発明を実施例によって詳述する。
【0044】
エポキシ樹脂としては、次に示すものを用いた。
・エポキシ樹脂1:エポキシ当量190のビスフェノールA型2官能エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ株式会社製;商品名「エピコート828」)
・エポキシ樹脂2:エポキシ当量172のビスフェノールF型2官能エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業株式会社製;商品名「EPICLON−830」)
・エポキシ樹脂3:エポキシ当量195のビフェニル型2官能エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ株式会社製;商品名「YX4000H」)
・エポキシ樹脂4:エポキシ当量150のナフタレン型2官能エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業株式会社製;商品名「EPICLON−HP4032」)
・エポキシ樹脂5:エポキシ当量210の3官能エポキシ樹脂(三井化学株式会社製;商品名「VG3101」)
・エポキシ樹脂6:エポキシ当量190のフェノールノボラック型官能エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業株式会社製;商品名「EPICLON−N770」)
・エポキシ樹脂7:エポキシ当量220の蛍光を発する4官能エポキシ樹脂(米国シェル株式会社製;商品名「Epon1031」)
・エポキシ樹脂8:エポキシ当量400の臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂(東都化成株式会社製;商品名「YDB400」;臭素化率約48%)
・エポキシ樹脂9:エポキシ当量220のクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(東都化成株式会社製;商品名「YDCN704」)
硬化剤としては、次に示すものを用いた。
・硬化剤1:ジシアンジアミド(分子量84;理論活性水素当量21g/eq)
・硬化剤2:フェノールノボラック樹脂(群栄化学工業株式会社製;商品名「PSM6200」;水酸基当量105g/eq;融点約80℃)
リン化合物としては、次に示すものを用いた。
・リン化合物1:上記化学構造式(1)に示すリン化合物(三光株式会社製;商品名「HCA−HQ」;水酸基当量約162g/eq;リン含有量約9.6質量%)
・リン化合物2:上記化学構造式(2)に示すリン化合物(三光株式会社製;商品名「HCA−NQ」;水酸基当量約188g/eq;リン含有量約8.2質量%)
・リン化合物3:上記化学構造式(3)に示すリン化合物(カルボキシル基当量約173g/eq;リン含有量約9.0質量%)
ポリビニルアセタール樹脂としては、次に示すものを用いた。
・ポリビニルアセタール樹脂1:積水化学工業株式会社製;商品名「KS1」;重合度500
・ポリビニルアセタール樹脂2:積水化学工業株式会社製;商品名「KS3」;重合度2000
架橋エラストマーとしては、ブタジエン−アクリロニトリル共重合体の粒径0.5μm以下の架橋エラストマー粒子(日本合成ゴム社製;商品名「XER−91」)を用いた。
【0045】
溶媒としては、次に示すものを用いた。
・溶媒1:メチルエチルケトン(MEK)
・溶媒2:メトキシプロパノール(MP)
・溶媒3:ジメチルホルムアミド(DMF)
(リン含有エポキシ樹脂1の調製)
エポキシ樹脂1(70質量部)と、リン化合物1(30質量部)を無溶媒で130℃でフラスコ内で加熱撹拌し、その後、促進剤としてトリフェニルホスフィン(0.2質量部)を添加し、3時間加熱撹拌を継続した。その結果、エポキシ当量約540g/eq、150℃における溶融粘度約40poise、リン含有量約2.9質量%の、リン含有エポキシ樹脂1を得た。
【0046】
(リン含有エポキシ樹脂2の調製)
エポキシ樹脂2(70質量部)と、リン化合物1(30質量部)を無溶媒で130℃でフラスコ内で加熱撹拌し、その後、促進剤としてトリフェニルホスフィン(0.2質量部)を添加し、4時間加熱撹拌を継続した。その結果、エポキシ当量約580g/eq、150℃における溶融粘度約100poise、リン含有量約2.5質量%の、リン含有エポキシ樹脂2を得た。
【0047】
(実施例1、参考例1〜18、比較例1〜7)
各実施例、参考例及び比較例につき、表1乃至3に示す各成分にて、次のA法又はB法によりエポキシ樹脂組成物を調製した。
【0048】
<A法>
リン化合物、エポキシ樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、並びに予めメチルエチルケト
ン溶媒に約20%の含有率で均一に分散した架橋エラストマー粒子を、溶媒中に投入して、特殊機化工工業社製の「ホモミキサー」にて、1000rpmの回転速度で90分間混合した。その後、硬化促進剤として2−エチル−4−メチルイミダゾールを配合し、更に15分間撹拌した後、脱気して、25℃における粘度が500〜1000poiseであるエポキシ樹脂組成物を得た。
【0049】
<B法>
リン含有エポキシ樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、及び予めメチルエチルケトン溶媒に約20%の含有率で均一に分散した架橋エラストマー粒子、並びに必要に応じて他のエポキシ樹脂及びリン化合物を溶媒中に投入して、特殊機化工工業社製の「ホモミキサー」にて、1000rpmの回転速度で90分間混合した。その後、硬化促進剤として2−エチル−4−メチルイミダゾールを配合し、更に15分間撹拌した後、脱気して、25℃における粘度が500〜1000poiseであるエポキシ樹脂組成物を得た。
【0050】
このようにして得られたエポキシ樹脂組成物を、厚み0.018mmの銅箔(古河サーキットフォイル株式会社製;商品名「GT」)の粗化面に、室温にてコンマコーターで塗布し、その後、非接触タイプの加熱ユニットにより160℃で加熱することにより組成物中の溶媒を乾燥すると共にBステージ化させ、樹脂層の厚みが75μmの樹脂付き銅箔を得た。
【0051】
(評価試験)
・樹脂付き銅箔の樹脂割れ角度試験
各実施例、参考例及び比較例にて得られた樹脂付き銅箔を、100×100mmの寸法に切断した。この樹脂付き銅箔1を、図1に示すように、樹脂層側が下面側となるように試験台2上に載置し、上面の銅箔表面に、直径10mmの円棒状の折曲治具3を、その外周面が銅箔表面に接触するように配置し、この折曲治具3に沿って樹脂付き金属箔1を上方に向けて折り曲げた。このときの、樹脂層に割れ(クラック)が発生する最低折り曲げ角度θを測定した。
【0052】
・樹脂付き銅箔の樹脂保存安定性試験
各実施例、参考例及び比較例にて得られた樹脂付き銅箔を40℃の乾燥機内に放置して加熱した後、その樹脂層のみを削り落として得られる試料の130℃における溶融粘度を測定した。この溶融粘度が、加熱前における初期の試料の溶融粘度に対して50%増加するまでに要する加熱時間を測定した。
【0053】
・難燃性評価
難燃性の厚み0.2mm両面銅張積層板(松下電工株式会社製;「CR1766」)の両面の銅箔を全面除去したものを内層板とした。この内層板の両面に、各実施例、参考例及び比較例にて得られた樹脂付き銅箔を、樹脂層が内層板側を向くようにそれぞれ一枚ずつ重ね、170℃、2.94MPaの条件で90分間加熱加圧成形した。この成形板の表面の銅箔を除去した後、125mm×13mmの寸法に切断し、Underwriters Laboratoriesの”Testfor Flammability of Plastic Materials−UL94”に従って、燃焼挙動のテストを実施した。また消炎性の差異を把握するために、消炎までに要する平均時間を導出した。
【0054】
・耐熱性試験
厚み0.2mm、銅箔厚み35μmの両面銅張積層板(松下電工株式会社製;「CR1766」)の表面の銅箔に黒化処理を施したものを内層用回路基板とした。この内層用回路基板の両面に、各実施例、参考例及び比較例にて得られた樹脂付き銅箔を、樹脂層が内層用回路基板側を向くようにそれぞれ一枚ずつ重ね、170℃、2.94MPaの条件で90分間加熱加圧成形して多層板を得た。この多層板を切断して50mm×50mmの寸法の四枚のサンプルを得た。このサンプルをオーブンにて60分間加熱した後、サンプル表面を観察し、四枚共にフクレ等の外観異常が発生しない最高温度を測定した。
【0055】
・吸水率評価
各実施例、参考例及び比較例にて得られた2枚の樹脂付き銅箔を、樹脂層同士を対向させて重ね、170℃、2.94MPaの条件で90分間加熱加圧成形した後、両面の銅箔
を除去して、樹脂厚約160μmの硬化物を得た。この硬化物を500mm×400mmの寸法に切断し、水中で100℃にて2時間煮沸し、煮沸後の吸水率を測定した。ここで吸水率は、次の計算式にて導出した。
吸水率={(吸水後の重量−吸水前の重量)/吸水前の重量}×100(%)
・ガラス転移温度測定
吸水率評価に供したサンプルと同様の硬化物を、30mm×5mmの寸法に切断し、粘弾性スペクトロメータ装置にて温度変化に対する動的粘弾性及び損失正接tanδの変化を測定し、tanδのピーク温度からガラス転移温度を求めた。
【0056】
・層間絶縁信頼性(HAST)試験
厚み0.5mm、銅箔厚み18μmのFR−4タイプの両面銅張積層板(松下電工株式会社製;「CR1766」)の一面の銅箔を除去すると共に他面の銅箔に回路形成を施して内層回路を形成し、内層用回路基板を形成した。この内層用回路基板の内層回路形成面に、各実施例、参考例及び比較例にて得られた樹脂付き銅箔を樹脂層が回路形成面側に向くように重ね、170℃、2.94MPaの条件で90分間加熱加圧成形して多層板を得た。この多層板の表面の銅箔に、ライン幅150μm、ライン間隔150μmの格子状の外層回路を形成した。これにより、図2に示すような、内層用回路基板の絶縁層にて形成された内層絶縁層4、外層回路5、樹脂付き金属箔の樹脂層にて形成された外層絶縁層6及び外層回路7が順に積層成形された多層プリント配線板9を形成し、更にその外層回路7形成面の全面にソルダーレジスト8を形成した。
【0057】
この多層プリント配線板9について、温度121℃、湿度85%の雰囲気下で、外層回路7と内層回路5の間にDC20Vの電圧を印加し、そのときの外層回路7と内層回路5の層間の絶縁抵抗を、連続電圧印加時間50時間ごとに測定した。この絶縁抵抗が108Ω以上であるものを合格、それ未満のものを不合格として、合格となる最大連続電圧印加時間にて層間絶縁信頼性を評価した。
【0058】
以上の結果を表1乃至3に示す。
【0059】
【表1】
【0060】
【表2】
【0061】
【表3】
表1乃至3から明らかなように、比較例1では、リン化合物を混入せずにブロム化エポキシ樹脂を配合したため、難燃性が優れているがハロゲン含有量が高く、燃焼時において有毒ガスが発生する危険がある。また比較例2,3では、リン化合物を含有せず、難燃性が低いものである。また比較例3,4ではポリビニルアセタール樹脂を含まず、比較例6ではポリビニルアセタール樹脂の含有量が低いため、いずれも樹脂割れ角度の評価が低く、樹脂層の可撓性が低いものである。また比較例5,7ではポリビニルアセタール樹脂を含有してはいるが、比較例5ではその重合度が高すぎ、比較例7ではその配合量が高すぎるため、層間絶縁信頼性の評価が低く、特に比較例7では吸水性の評価も低くなっている。
【0062】
それに対して、実施例1及び参考例1乃至18では、ハロゲン含有量が低く、エポキシ樹脂組成物からなる樹脂層の可撓性、絶縁層の難燃性、層間絶縁信頼性において、いずれも優れた評価結果が得られ、また他の評価項目についても、良好な結果が得られた。
【0063】
更に、架橋エラストマーを配合した参考例8及び参考例16では、樹脂層の可撓性が特に優れたものとなった。
【0064】
【発明の効果】
上記のように、本発明の請求項1に係るエポキシ樹脂組成物は、リン含有化合物及び重合度300〜1500のポリビニルアセタール樹脂を必須成分として含有し、このポリビニルアセタール樹脂成分をエポキシ樹脂成分の総量に対して3〜15質量%含有すると共に、上記リン含有化合物として上記化学構造式(3)に示すリン化合物を用いるものであり、ハロゲンを含有していないにも係わらず優れた難燃性を有し、またこのエポキシ樹脂組成物を半硬化させたBステージ樹脂や、その硬化物の可撓性を向上することができるものであり、しかも硬化物の絶縁信頼性を向上することができるものである。
【0065】
また請求項2の発明は、請求項1の構成に加えて、粒子径が1.0μm以下の架橋エラ
ストマーをエポキシ樹脂成分の総量に対して3〜15質量%含有するため、このエポキシ樹脂組成物を半硬化させたBステージ樹脂や、その硬化物の可撓性を更に向上することができるものである。
【0066】
また請求項3の発明は、請求項1又は2の構成に加えて、リン含有量をエポキシ樹脂成分の総量の0.8〜5.0質量%とするため、難燃性を更に向上することができるものである。
【0067】
また本発明の請求項4に係る樹脂付き金属箔は、請求項1乃至3のいずれかに記載のエポキシ樹脂組成物を金属箔に塗布した後、乾燥半硬化させることによりエポキシ樹脂組成物のBステージ樹脂からなる樹脂層を形成するため、樹脂層はハロゲンを含有していないにも係わらず優れた難燃性を有すると共に優れた可撓性を有し、しかも樹脂層の硬化物にて絶縁層を形成した場合の絶縁層の絶縁信頼性を向上することができるものである。
【0068】
また本発明の請求項5に係る多層板は、内層用回路基板と、請求項4に記載の樹脂付き金属箔とを積層成形するため、樹脂付き金属箔の樹脂層からなる絶縁層は、ハロゲンを含有していないにも係わらず優れた難燃性を有すると共に優れた可撓性を有し、しかもこの絶縁層の絶縁信頼性を向上することができるものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例における樹脂付き銅箔の樹脂割れ角度試験の試験方法を説明する断面図である。
【図2】実施例における層間絶縁信頼性試験の試験方法を説明するものであり、(a)は正面の断面図、(b)は(a)のソルダーレジストを設けていない状態の平面図である。
Claims (5)
- 粒子径が1.0μm以下の架橋エラストマーをエポキシ樹脂成分の総量に対して3〜15質量%含有して成ることを特徴とする請求項1に記載のエポキシ樹脂組成物。
- リン含有量をエポキシ樹脂成分の総量の0.8〜5.0質量%として成ることを特徴とする請求項1又は2に記載のエポキシ樹脂組成物。
- 請求項1乃至3のいずれかに記載のエポキシ樹脂組成物を金属箔に塗布した後、乾燥半硬化させることによりエポキシ樹脂組成物のBステージ樹脂からなる樹脂層を形成して成ることを特徴とする樹脂付き金属箔。
- 内層用回路基板と、請求項4に記載の樹脂付き金属箔とを積層成形して成ることを特徴とする多層板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP36498099A JP3552621B2 (ja) | 1999-12-22 | 1999-12-22 | エポキシ樹脂組成物、樹脂付き金属箔及び多層板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP36498099A JP3552621B2 (ja) | 1999-12-22 | 1999-12-22 | エポキシ樹脂組成物、樹脂付き金属箔及び多層板 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001181475A JP2001181475A (ja) | 2001-07-03 |
JP3552621B2 true JP3552621B2 (ja) | 2004-08-11 |
Family
ID=18483148
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP36498099A Expired - Fee Related JP3552621B2 (ja) | 1999-12-22 | 1999-12-22 | エポキシ樹脂組成物、樹脂付き金属箔及び多層板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3552621B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101842408B (zh) * | 2007-03-20 | 2013-10-16 | 三井金属矿业株式会社 | 用于形成印刷布线板的绝缘层的树脂组合物 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001302887A (ja) * | 2000-04-25 | 2001-10-31 | Matsushita Electric Works Ltd | エポキシ樹脂組成物、樹脂付き金属箔及び絶縁性フィルム |
JP2002003702A (ja) * | 2000-06-21 | 2002-01-09 | Matsushita Electric Works Ltd | エポキシ樹脂組成物、絶縁フィルム、樹脂付き金属箔及び多層プリント配線板 |
JP2004231788A (ja) * | 2003-01-30 | 2004-08-19 | Hitachi Chem Co Ltd | 絶縁樹脂シートおよび絶縁樹脂付き金属箔の製造方法 |
JP2012172054A (ja) * | 2011-02-21 | 2012-09-10 | Panasonic Corp | 液状エポキシ樹脂組成物とそれを用いた電子部品 |
-
1999
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101842408B (zh) * | 2007-03-20 | 2013-10-16 | 三井金属矿业株式会社 | 用于形成印刷布线板的绝缘层的树脂组合物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2001181475A (ja) | 2001-07-03 |
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Date | Code | Title | Description |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20031216 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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S533 | Written request for registration of change of name |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100514 Year of fee payment: 6 |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110514 Year of fee payment: 7 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514 Year of fee payment: 9 |
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