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JP3522261B2 - ナノチューブ、近接場光検出装置および近接場光検出方法 - Google Patents

ナノチューブ、近接場光検出装置および近接場光検出方法

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JP3522261B2
JP3522261B2 JP2002116148A JP2002116148A JP3522261B2 JP 3522261 B2 JP3522261 B2 JP 3522261B2 JP 2002116148 A JP2002116148 A JP 2002116148A JP 2002116148 A JP2002116148 A JP 2002116148A JP 3522261 B2 JP3522261 B2 JP 3522261B2
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NEC Corp
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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、近接場光（エバネ
ッセント光）の検出が可能な、ナノチューブ、近接場光
検出装置および近接場光検出方法に関する。さらに、本
発明は、近接場光を利用して試料の表面状態（形状や特
性）を解析または観察する装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】屈折率が変化する境界面に光を全反射
（一般には、入射角が９０度以上）を生じる角度で入射
させた場合に、入射光は全て境界面（反射面）で反射さ
れるが、このとき反射面の反対側に光のしみだしが生じ
る。このしみだした光を近接場光と呼ぶ。この近接場光
には、上記の他、光をその波長より小さい微小開口に通
す場合に、その微小開口からしみだす光もある。
【０００３】上記の近接場光を利用することで、試料
（半導体材料、有機又は無機材料、生体試料（細胞）な
どを含む）の表面状態（形状や特性）を解析することが
できる。通常の光学顕微鏡では、光の回折のために、光
の波長以下の解像度で試料を測定することはできない
（光の回折限界）。近接場光を利用した解析では、その
光の回折限界を超える解像度での測定が可能であるた
め、最近では、近接場光を利用した種々の解析装置が検
討されている。
【０００４】近接場光を利用した状態解析装置の１つと
して、近接場光学顕微鏡が知られている。この近接場光
学顕微鏡は、試料表面で発生した近接場光が入射する部
分（開口部）をガラスファイバーで構成したものが主流
となっている。このような近接場光学顕微鏡では、開口
部において測定対象物体表面より出る近接場光が通常光
へと変換され、その通常光がガラスファイバー内を伝播
して光信号処理部へ導かれる。そして、光信号処理部に
て、その通常光が電気信号に変換されて信号処理が行わ
れる。この場合、近接場光から通常光への変換及びファ
イバーへの光伝播を実現するためには近接場光学顕微鏡
の開口部のサイズが光の波長と同程度でなければならな
いため、開口部のサイズはどんなに大きくともマイクロ
ンオーダーで構成する必要がある。
【０００５】近接場光学顕微鏡としては、上記の他、特
開平１０−１７０５２３号公報に記載された走査型プロ
ーブ顕微鏡もある。図１２は、その公報に記載された走
査型プローブ顕微鏡の概略構成を示すブロック図であ
る。
【０００６】試料８３が表面に載置された石英板９２が
ホルダー９３に固定されている。石英板９２の裏面側に
は、対物レンズ９４、光チョッパー９６および光源９５
が配置されており、光源９５からの光が光チョッパー９
６、対物レンズ９６を順次経て石英板９２の裏面に所定
の入射角（近接場光が生じる角度）で照射される。
【０００７】試料８３の表面と対向するように探針付き
カンチレバー８１が配置されている。この探針付きカン
チレバー８１は、積層型ピエゾ素子８２を介して３次元
駆動機構８５により支持されているとともに、その一部
が銅線８９を介してキャパシタンスセンサー９０に接続
されている。このキャパシタンスセンサー９０の出力
は、ロックインアンプ９１に供給される。
【０００８】３次元駆動機構８５には、探針付きカンチ
レバー８１の所定の部位を照明するための半導体レーザ
８６が設けられており、その所定の部位で反射される、
半導体レーザ８６からの光の進行方向に２分割光検出器
８７が配置されている。この２分割光検出器８７の出力
は、ロックインアンプ８８に供給される。
【０００９】積層型ピエゾ素子８２は、探針付きカンチ
レバー８１を試料８３の表面に対して垂直方向に振動さ
せるものであり、信号発生装置８４からその振動を制御
するための電圧信号が供給される。信号発生装置８４
は、積層型ピエゾ素子８２への電圧信号供給の他に、ロ
ックインアンプ８８、９１に対して予め設定された周波
数の参照信号を供給したり、光チョッパー９６に対して
予め設定された周波数の動作指示信号を供給したりす
る。ロックインアンプ８８、９１、３次元駆動機構８
５、信号発生装置８４は、それぞれ制御装置９７に接続
されている。
【００１０】図１３に、探針付きカンチレバー８１の概
略構成を示す。この探針付きカンチレバー８１は、パイ
レックス（登録商標）ガラス支持体１２１と、一端がこ
の支持体１２１に支持されたレバー部１２６と、レバー
部１２６のもう一端に形成された探針１２７とからな
る。探針１２７は、窒化シリコン１２２、金属膜１２３
および光導電体膜１２４を順次積層した構造で、その断
面形状はＶ字状である。光導電体膜１２４は、光が照射
されない状態では絶縁体であるが、試料８３からの近接
場光が探針１２７の先端（尖った部分）の領域１２５に
当たると、領域１２５において導体として振舞う。この
ため、探針付きカンチレバー８１では、近接場光が領域
１２５に入射すると、金属膜１２３とその周囲の導体と
のキャパシタンスが変化する。このキャパシタンス変化
は、入射する近接場光の強度に応じたものである。
【００１１】図１２に示した走査型プローブ顕微鏡で
は、上記の探針付きカンチレバー８１における、近接場
光の強度の違いによるキャパシタンス変化を利用して試
料８３の表面の観察が以下のようにして行われる。
【００１２】ピエゾ素子８２が、探針付きカンチレバー
８１をその共振周波数付近の周波数ω１で振動させ、ロ
ックインアンプ８８が、２分割光検出器８７の検出結果
からレバー部１２６における周波数ω１の成分の振動振
幅を計測する。この周波数ω１の成分の振動振幅が一定
になるように、制御装置９７が３次元移動機構８５によ
る探針付きカンチレバー８１の移動を制御しながら試料
８３の表面をスキャンさせる。この制御により、探針付
きカンチレバー８１の探針１２７と試料８３の表面との
距離が一定に保たれる。
【００１３】一方、光源９５からの光は光チョッパー９
６により周波数ω２で変調され、この変調光が石英板９
２の裏面に照射されることで、試料８３の表面に近接場
光が生じる。この試料８３の表面の面内方向における近
接場光の強度変化（強度分布）を、探針付きカンチレバ
ー８１でスキャンすることで検出する。具体的には、近
接場光の強度変化は、探針付きカンチレバー８１におけ
るキャパシタンス変化のうちの、周波数（ω２−ω１）
の成分としてロックインアンプ９１により検出される。
【００１４】制御装置９７は、ロックインアンプ９１に
よる検出結果から、試料８３の表面における近接場光の
強度分布を示す画像を作成し、それを不図示の表示装置
に出力する。
【００１５】上記の顕微鏡の他、特開２００１−２８１
１２４号公報に記載の、カーボンナノチューブを備える
走査型近接場光顕微鏡（ＳＮＯＭ： Scanning Near-fie
ld Optical Microscope）用プローブを用いたものもあ
る。図１４は、そのＳＮＯＭプローブの概略構成を示す
図で、（ａ）は斜視図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ’の部
分の断面図である。
【００１６】図１４（ａ）に示すように、ＳＮＯＭプロ
ーブは、カンチレバーベース１０１から所定の方向に伸
びたカンチレバー１０２を有し、このカンチレバー１０
２の先端側にティップ（探針）１０３が設けられてい
る。ティップ１０３は、図１４（ｂ）に示すように、内
部が空洞になった四角錐であって、先端部分に１μｍ×
１μｍの四角形の面を有し、この面の中央付近に開口１
０３ａが設けられている。ティップ１０３の先端部分の
縁部には取り付け溝１０４ａが設けられており、この取
り付け溝１０４ａに、先端部分の面から略垂直方向に伸
びるカーボンナノチューブ１０４が取り付けられてい
る。カーボンナノチューブ１０４は、導電性を有する。
【００１７】上記のＳＮＯＭプローブを用いる走査型プ
ローブ顕微鏡では、カーボンナノチューブ１０４を用い
た原子間力顕微鏡（ＡＦＭ： Atomic Force Microscop
e）としての第１の動作と、ティップ１０３を用いた走
査型近接場光顕微鏡として第２の動作の２つを併用す
る。第１の動作では、ＳＮＯＭプローブのカンチレバー
１０２をその共振周波数近傍で振動させ、振動振幅が一
定の減衰量あるいは位相シフト量を受けるように、カー
ボンナノチューブ１０４と試料との間の距離をピエゾ素
子などのアクチュエーターで制御して、試料表面の凹凸
を測定する。第２の動作では、カンチレバー１０２の振
動を停止し、第１の動作で得られた測定結果（凹凸情
報）を参照して、ティップ１０３の開口１０３ａと試料
表面との距離が一定になるように制御しながら走査す
る。同時に、ティップ１０３の裏面側から開口１０３ａ
に光を集光させることで、この開口１０３ａの近傍に近
接場光を発生させ、その発生した近接場光で試料表面を
励起し、観測する。
【００１８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の技術には、それぞれ以下のような問題がある。
【００１９】試料表面で発生した近接場光が入射する部
分（開口部）をガラスファイバーで構成する場合、空間
解像度は開口部の大きさによって決まる。ガラスファイ
バーは、近接場光を変換した通常光を伝搬させる必要が
あるため、その直径は通常光の波長以下の大きさにする
ことはできない。開口部の大きさは、ガラスファイバー
の直径に相当することから、この従来の構成では、空間
解像度を通常光の波長以下の大きさにすることはできな
い。このため、近接場光を利用して、例えば超ＬＳＩデ
バイス、あるいはその製造技術を用いて加工された素子
などの試料の表面を観察する場合に、近接場光の発生位
置を特定できるほどの空間解像度を有していなかった。
また、近接場光を利用して材料評価を行う場合に、分子
レベルでの近接場光発光体の位置の特定は難しかった。
【００２０】特開平１０−１７０５２３号公報に記載さ
れた走査型プローブ顕微鏡の場合、空間解像度は探針付
きカンチレバー８１の探針１２７の先端（尖った部分）
の領域１２５の大きさによって決まり、この領域１２５
を小さくすることで空間解像度を高くすることはでき
る。しかし、領域１２５を構成する窒化シリコン１２２
には、通常、ある程度の量の不純物をドープする必要が
あり、この構造の場合、窒化シリコン１２２が近接場光
の入射により導電体として作用するためには、十分な膜
厚を確保してやる必要がある。このように、領域１２５
を小さくすることには制約があることから、やはり、上
記近接場光の発生位置の特定や分子レベルでの近接場光
発光体の位置の特定を行うことが可能な空間解像度を実
現することは困難であった。また、窒化シリコン１２２
の膜厚を極端に薄くすると、探針１２７が試料表面に接
触した際に領域１２５の部分が破損する恐れがある、と
いう問題も生じる。
【００２１】特開２００１−２８１１２４号公報に記載
のＳＮＯＭ用プローブを用いるものの場合、空間解像度
はティップ１０３の開口１０３ａの大きさによって決ま
る。この開口１０３ａを小さくすることで空間解像度を
高くすることはできるが、この場合も、やはり、上記近
接場光の発生位置の特定や分子レベルでの近接場光発光
体の位置の特定を行うことが可能な空間解像度を実現す
ることは困難であった。
【００２２】本発明の目的は、上記各問題を解決し、更
なる微細領域の評価・分析への対応が可能な、空間解像
度の高い、ナノチューブ、近接場光検出装置および近接
場光検出方法を提供することにある。
【００２３】本発明の他の目的は、そのようなナノチュ
ーブを備える状態解析装置および近接場光学顕微鏡を提
供することにある。
【００２４】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明のナノチューブは、近接場光を電気信号に変
換するナノチューブであって、絶縁領域と、前記絶縁領
域により隔てられた第１および第２の領域とを有し、前
記第１および第２の領域が前記近接場光により電子励起
されることで前記電気信号への変換が行われることを特
徴とする。
【００２５】本発明の近接場光検出装置は、絶縁領域お
よび該絶縁領域により隔てられた第１および第２の領域
を有するナノチューブと、前記ナノチューブに所定のバ
イアス電圧を供給する電圧電源と、前記所定のバイアス
電圧の供給によって前記ナノチューブに流れる第１の電
流および前記第１および第２の領域が外部からの近接場
光によって電子励起されることで前記ナノチューブに流
れる第２の電流をそれぞれ検出する検出手段とを有する
ことを特徴とする。
【００２６】本発明の近接場光検出方法は、絶縁領域と
該絶縁領域により隔てられた第１および第２の領域とを
有するナノチューブの、前記第１および第２の領域の間
に所定のバイアス電圧を供給するステップと、前記所定
のバイアス電圧の供給によって前記ナノチューブに流れ
る第１の電流を測定するステップと、前記第１および第
２の領域が検出対象である近接場光によって電子励起さ
れることで前記ナノチューブに流れる第２の電流を測定
するステップとを含むことを特徴とする。
【００２７】本発明の状態解析装置は、絶縁領域および
該絶縁領域により隔てられた第１および第２の領域を備
えるナノチューブと、前記ナノチューブに所定のバイア
ス電圧を供給する電圧電源と、前記所定のバイアス電圧
の供給によって前記ナノチューブに流れる第１の電流お
よび前記第１および第２の領域が試料の表面に生じた近
接場光によって電子励起されることで前記ナノチューブ
に流れる第２の電流をそれぞれ検出する検出手段と、前
記検出手段にて検出された前記第１および第２の電流に
基づいて前記試料の表面の状態を解析する解析手段とを
有することを特徴とする。
【００２８】本発明の走査型近接場光学顕微鏡は、絶縁
領域および該絶縁領域により隔てられた第１および第２
の領域を備えるナノチューブと、前記ナノチューブに所
定のバイアス電圧を供給する電圧電源と、前記所定のバ
イアス電圧の供給によって前記ナノチューブに流れる第
１の電流および前記第１および第２の領域が試料の表面
に生じた近接場光によって電子励起されることで前記ナ
ノチューブに流れる第２の電流をそれぞれ検出する検出
手段と、前記ナノチューブが先端部に取り付けられたプ
ローブと、前記ナノチューブと前記試料の表面との間を
一定の距離で保持しながら前記プローブを所定の方向に
走査する移動制御手段と、前記検出手段にて検出された
前記第１および第２の電流に基づいて、前記試料の表面
に関する前記近接場光の像を生成するイメージ生成手段
とを有することを特徴とする。
【００２９】上述したとおりの本発明においては、絶縁
領域により隔てられた第１および第２の領域が近接場光
により電子励起されることで、近接場光が電気信号に変
換される。具体的には、第１および第２の領域が近接場
光により電子励起されると第２の電流が発生する。この
発生した第２の電流は、第１および第２の領域の両領域
に対して所定のバイアス電圧が供給されることで生じる
トンネル電流（第１の電流）より大きく、かつ、その大
きさは近接場光の光強度に応じて変化する。よって、こ
の第２の電流を検出することで、近接場光を検出するこ
とができる。
【００３０】上記の場合、第２の電流は、第１および第
２の領域および絶縁領域からなる部位から近接場光が外
れた場合には生じないので、空間解像度はその部位の大
きさで決まることになる。例えば、ナノチューブの直径
が数１０Åの場合、上記部位の実効サイズは数十Åと小
さくなる。このように、本発明によれば、空間分解能を
数十Å程度にまで向上することが可能であり、上述の課
題で説明した、近接場光の発生位置の特定や分子レベル
での近接場光発光体の位置の特定が可能となる。
【００３１】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施形態について
図面を参照して説明する。
【００３２】図１は、本発明の一実施形態の近接場光検
出装置の要部を示すブロック図である。この近接場光検
出装置は、試料４の表面からの近接場光を電気信号に変
換する、折り曲げたナノチューブよりなる近接場光感知
部３と、配線２と、この配線２を介して近接場光感知部
３のナノチューブ部の両端に所定の電圧を印加する電圧
電源１とを有する。
【００３３】近接場光感知部３を構成するナノチューブ
は、所定の部位（折り曲げ部）に所定のエネルギーバン
ドギャップを有する絶縁部を備え、この折り曲げ部の近
傍に試料４の表面からの近接場光が入射すると、該入射
した近接場光により、絶縁部により隔てられた各領域で
電子励起が誘起されて、それにより電子と正孔が生じる
ような構成になっている。この電子と正孔の発生によ
り、配線２には、電圧電源１に向かう方向に微弱電流が
流れる。このようにしてナノチューブ内で近接場光が微
弱電流に変換され（光電変換）、この微弱電流を検出す
ることで試料４の表面からの近接場光を測定することが
できる。配線２に流れる微弱電流の検出には、周知の電
流計を用いることができる。
【００３４】以下、ナノチューブによる光電変換の原理
について簡単に説明する。
【００３５】図２は、近接場光感知部３を構成する、折
り曲げたナノチューブにより近接場光を検出するときの
状態を示す模式図、図３は、そのナノチューブの折り曲
げ部近傍のエネルギーバンド構造を示す図である。図４
の（ａ）〜（ｄ）は、近接場光とナノチューブに流れる
電流との関係を説明するための図である。
【００３６】近接場光感知部３は、図２に示すように、
ナノチューブの折り曲げ部近傍が、絶縁部３ａと、この
絶縁部３ａの左側、右側（図面に向かって左側、右側）
にそれぞれ隣接する導体部（Ｌ）３ｂ、導体部（Ｒ）３
ｃとから構成されており、この部分で、試料４の表面で
生じた近接場光の光電変換が行われる。絶縁部３ａのバ
ンドギャップは、図３に示すように、導体部（Ｌ）３ｂ
および導体部（Ｒ）３ｃのバンドギャップより十分に大
きくなっている。導体部（Ｌ）３ｂおよび導体部（Ｒ）
３ｃの間には所定のバイアス電圧が印加される。ここで
は、一例として導体部（Ｌ）３ｂ側に負の電位を与えた
場合の動作を説明する。
【００３７】（１）近接場光なし：電子にとって負の電
位はエネルギー準位が上がることになるので、図４
（ａ）に示すように、導体部（Ｌ）のバンド端と導体部
（Ｒ）のバンド端の相対準位が変わり、絶縁部には電界
がかかる。このため、矢印Ａのように、価電子帯部分に
おいて導体部（Ｌ）から導体部（Ｒ）へトンネル電流が
生じる。この矢印Ａは、電子の流れる方向を示したもの
であり、正孔の場合は、矢印Ａとは逆の方向に流れる。
基本的には、ナノチューブ内ではこれら電子および正孔
の流れに対応する電流が流れるが、以下の説明では、混
乱を避けるために、電子の流れの方のみを電流の流れと
して定義する。
【００３８】図４（ａ）に示した状態では、トンネル電
子（矢印Ａ）の行き着く先は、導体部（Ｒ）のバンドギ
ャップ中であるため、ナノチューブ内に流れる電流はわ
ずかである。もし仮にバイアス電圧を大きく掛けすぎた
場合は、導体部（Ｒ）の伝導帯に導体部（Ｌ）の価電子
帯の電子が流れ込むことになり、後で説明する近接場光
による電流の変化を検出することが困難となる。このた
め、バイアス電圧はナノチューブ内にわずかに電流が流
れる程度、すなわち近接場光による電流の変化を検出す
ることができる範囲に設定する必要がある。具体的に
は、バイアス電圧は０．１Ｖ〜１０Ｖの範囲が望まし
い。なお、この段階では、伝導帯においては、キャリア
が存在しないのでトンネル電流は生じないが、後で説明
するように近接場光を受けて伝導帯にキャリアが励起さ
れた場合は、価電子帯よりも高速にトンネル電流を生じ
ることになり、ナノチューブ内に流れる電流が大幅に増
大する。
【００３９】（２）近接場光あり（導体部（Ｌ）、
（Ｒ）ともに電子励起）：試料４の表面で生じた近接場
光１０が、絶縁部３ａ、導体部（Ｌ）３ｂ、導体部
（Ｒ）３ｃからなる部分の全体に入射した場合は、図４
（ｂ）に示すように、導体部（Ｌ）、導体部（Ｒ）のそ
れぞれにおいて電子励起（図４（ｂ）中の矢印Ｂ、Ｂ’
はそれぞれ導体部（Ｌ）、導体部（Ｒ）における電子励
起過程を示す。）が生じる。そして、導体部（Ｒ）の電
子励起によって空になった準位に向かって導体部（Ｌ）
の価電子帯の電子がトンネル現象で流れ込む（矢印Ａ）
とともに、伝導帯部分においても、導体部（Ｌ）から導
体部（Ｒ）へトンネル電流（矢印Ａ’）が生じる。図４
（ｂ）中、矢印Ａ’が矢印Ａより長いのは、伝導帯にお
けるトンネル現象による電子のスピードが速いことを意
味する。このようにして、伝導帯におけるトンネル電流
を得たことで、ナノチューブに流れる電流の量が、近接
場光のない状態（図４（ａ）の状態）に比較して増大す
ることになる。
【００４０】（３）近接場光あり（導体部（Ｌ）のみ電
子励起）：近接場光１０が導体部（Ｌ）３ｂ側にのみ入
射した場合は、図４（ｃ）に示すように、導体部（Ｌ）
においてのみ電子励起（矢印Ｂ）が生じる。この電子励
起により導体部（Ｌ）の価電子帯のキャリアが減って価
電子帯部分におけるトンネル電流が減少するが、その代
わりに伝導帯部分においてトンネル電流（Ａ’）が生じ
る。この場合も、ナノチューブに流れる電流の量は、近
接場光のない状態（図４（ａ）の状態）よりも増えるこ
とになるが、上記（２）の状態ほどまでは増大しない。
【００４１】（４）近接場光あり（導体部（Ｒ）のみ電
子励起）：近接場光１０が導体部（Ｒ）３ｃ側にのみ入
射した場合は、図４（ｄ）に示すように、導体部（Ｒ）
においてのみ電子励起（矢印Ｂ’）が生じる。導体部
（Ｌ）の伝導帯にはキャリアは生じないので、導体部
（Ｒ）の電子励起によって空いた正孔に向かって導体部
（Ｌ）の価電子帯の電子がトンネル現象で流れ込む（矢
印Ａ）。この場合も、ナノチューブに流れる電流の量
は、近接場光のない状態（図４（ａ）の状態）よりも増
えることになるが、上記（２）および（３）の状態ほど
までは増大しない。
【００４２】以上説明した（１）〜（４）の状態（図４
の（ａ）〜（ｄ）の状態）におけるナノチューブ内に流
れる電流量の大きさの関係は、 （１）の状態＜（４）の状態＜（３）の状態＜（２）の
状態 となる。この電流量の大小関係に基づいて、試料４の表
面で生じた近接場光の空間分布を原理的に検出すること
ができる。この場合の空間解像度は、絶縁部３ａ、導体
部（Ｌ）３ｂ、導体部（Ｒ）３ｃからなる部分の大きさ
によって決まるが、理想的には、ナノチューブの直径に
ほぼ一致する。よって、例えば、得たい空間解像度を１
０〜１００Åとする場合は、ナノチューブの直径を１０
〜１００Åとするが望ましい。
【００４３】次に、近接場光とナノチューブ内を流れる
電流の大きさとの関係について説明する。図５は、近接
場光の強度と光電変換により得られる電流の大きさの関
係を示す特性図である。理想的には、近接場光の強度に
比例してナノチューブ内で励起されるキャリアの数が増
え、その数に比例して電流の量が増大する（図５の破
線）。しかし、実際は、キャリアがあまり増え過ぎる
と、ナノチューブ内でキャリア同士の散乱による抵抗が
生じることから、近接場光の強度がある値を超えると電
流の量は一定となって、横這いになる（図５の実線）。
【００４４】上記の特性があることから、ナノチューブ
の設計にあたっては次の点を考慮する必要がある。ナノ
チューブの直径をより小さくすることで空間解像度を上
げることができるが、その場合、光強度の強い近接場光
を検出することはできない。一方、ナノチューブの直径
を大きくすることで、光強度の強い近接場光を検出する
ことが可能になるが、この場合は、空間解像度が低くな
る。このように空間解像度と検出可能な近接場光の光強
度とはトレードオフの関係があることから、空間解像度
は検出対象である近接場光の光強度に応じて設定するこ
とが望ましい。
【００４５】次に、近接場光感知部３を構成する、折り
曲げたナノチューブの具体的な構成について説明する。
【００４６】（実施例１）図６は、図１に示した近接場
光感知部３の第１の実施例を示す模式図である。この例
では、近接場光感知部は、２本のカーボンナノチューブ
５ａ、５ｂからなる。カーボンナノチューブ５ａ、５ｂ
は、「Ｖ」字状に配置されており、互いの一方の端部が
近接する部分にギャップ６が設けられている。このギャ
ップ６により、折り曲げ部の絶縁部が形成されている。
カーボンナノチューブ５ａ、５ｂの他方の端部は、それ
ぞれ図１に示した配線２を介して電圧電源１に接続され
る。
【００４７】本実施例の近接場光感知部では、近接場光
が入射していない状態では、配線２にはトンネル現象に
よる電流しか流れない。これは、上述した「（１）の状
態」における動作と同じである。
【００４８】ギャップ６の近傍に試料からの近接場光が
入射すると、ギャップ６により隔てられたカーボンナノ
チューブ５ａ、５ｂの、近接場光が入射した部分におい
て、電子励起が誘起されて電子と正孔が生じる。フェル
ミ準位の高いほうの領域では励起された電子が電圧電源
のほうへ向かって流れ、フェルミ準位の低いほうの領域
では励起で生じた正孔が電圧電源のほうへ向かって流
れ、配線２には上記近接場光が入射していない状態にお
ける電流よりも大きな電流が流れる。これは、上述した
「（２）の状態」における動作と同じである。
【００４９】近接場光がギャップ６から離れた位置、具
体的には、近接場光がギャップ６から数１０Å〜数１０
０Åだけ離れた位置で発生した場合には、電子励起はギ
ャップ６（絶縁部）で隔てられた領域の片側のみで起き
るため、配線２には上記近接場光が入射していない状態
における電流よりもわずかに大きな電流が流れる。ただ
し、その電流量は上記ギャップ６近傍に近接場光が入射
する状態よりも小さい。これは、上述した「（３）の状
態」および「（４）の状態」における動作と同じであ
る。
【００５０】上述した本実施例においては、空間解像度
は、ギャップ６およびカーボンナノチューブ５ａ、５ｂ
の励起領域からなる部分の大きさによって決まる。ギャ
ップ６は、上述した（１）〜（４）の状態における動作
を実現できるのであればどのような大きさにしてもよい
が、空間解像度をより上げるという観点からすれば、カ
ーボンナノチューブ５ａ、５ｂの直径程度にすることが
望ましい。
【００５１】次に、図６に示した近接場光感知部３の作
製手順について説明する。カーボンナノチューブ５ａ、
５ｂは、ギャップ６の側とは反対側の端部が配線２と接
続するための金属電極に良好に接合される必要がある。
ここで、良好な接合とは、低い接触抵抗による接合であ
り、このような接合は、例えばカーボンナノチューブの
触媒となる金属を用いたＣＶＤ法によるカーボンナノチ
ューブの製造手法（Hyongsok T. Soh, Calvin F. Quat
e, Alberto F. Morpugo, Charles M. Marcus, Jing Kon
g, and Hongjie Dai, Applied Physics Letters Vol. 7
5(No. 5), p627-629(1999)参照）を用いて実現すること
ができる。
【００５２】図７の（ａ）〜（ｃ）は、近接場光感知部
の、触媒金属を用いた作製手順の一例を示す工程図であ
る。まず、図７（ａ）に示すように、基板１１上に触媒
電極１２ａ、１２ｂを形成し、それぞれ触媒電極１２
ａ、１２ｂの表面にカーボンナノチューブの触媒となる
金属（触媒金属）を蒸着してナノチューブ成長表面１３
ａ、１３ｂを形成する。触媒金属としては、例えば金属
Ｎｉを用いることができる。金属Ｎｉを用いた場合、ナ
ノチューブは成長表面に垂直な方向に成長する性質があ
ることが知られている（Z. P. Huang, J. W. Xu, Z. F.
Ren, J. H. Wang, M. P. Siegal and P. N. Provenci
o, Applied Physics Letters--December 28, 1998--Vol
ume 73, Isuue 26, pp.3845-3847）。ナノチューブ成長
表面１３ａ、１３ｂは、それぞれの面の所定の部分（成
長部分）からの垂線が基板１１上方のある一点で交わる
ような角度に設定されている。
【００５３】次いで、図７（ｂ）に示すように、アセチ
レンガスなどの炭化水素を用いたＣＶＤ成長を行う。図
７（ｂ）中、矢印はナノチューブの成長方向を示す。こ
のＣＶＤ成長では、ナノチューブは成長表面に垂直な方
向に成長する性質があることを利用し、成長時間を制御
することにより、図７（ｃ）に示すような所定の大きさ
のギャップ６を有する構造を形成する。触媒電極１２
ａ、１２ｂの間隔およびナノチューブ成長表面１３ａ、
１３ｂの傾きを高精度に設定でき、成長時間をうまく制
御することができれば、ナノチューブの直径とほぼ同じ
大きさのギャップ６を形成することが可能である。な
お、成長時間が長すぎた場合には、ナノチューブ成長表
面１３ａ、１３ｂから成長したナノチューブ同士が接触
することになるため、ギャップ６を形成することができ
なくなる。
【００５４】上述した本実施例において、カーボンナノ
チューブ５ａ、５ｂはＶ字状に配置されているが、直線
状に配置した構成も考えられる。ただし、近接場光を検
出するには、ギャップ６の近傍を試料表面に近接して配
置する必要があり、そのような近接配置は、直線状に配
置したのものより、Ｖ字状に配置したもの方がより簡単
に行うことができる。この理由から、実用的な構成とし
ては、Ｖ字状の配置の方がより望ましい。
【００５５】（実施例２）図８は、図１に示した近接場
光感知部３の第２の実施例を示す模式図である。本実施
例の近接場光感知部は、機械的に折り曲げた１本のカー
ボンナノチューブ７よりなる。カーボンナノチューブ７
の折り曲げ部８の部分は、折り曲げた際に生じる応力に
よって、炭素原子同士の結合角がグラファイトの値の１
２０°からダイヤモンドの値の１０５°に近づいてお
り、このために絶縁体化している（Sumio Iijima, Char
les Brabec, Amitesh Maiti and Jerzy Bernholc, Jour
nal ofChemical Physics Vol. 104 (No. 5), p2089(199
6)参照）。その他の部分では、炭素原子同士の結合角は
グラファイトの値の「１２０°」を維持している。な
お、折り曲げ部８の部分とその他の部分の炭素原子同士
の結合角の望ましい例として、ここでは１０５°と１２
０°の組み合わせを示しているが、これ以外の組み合わ
せも考えられる。良好な光電変換を得るには、折り曲げ
部８の部分の炭素原子同士の結合角は１００°〜１１０
°の範囲とし、その他の部分の炭素原子同士の結合角は
１１８°〜１２０°の範囲とすることが望ましい。
【００５６】上記構造によれば、折り曲げ部８の部分で
は、局所的なバンドギャップの開きを引き起こすことに
なる。このことは、実際に、グラファイトの電子構造で
はバンドギャップはないが、ダイヤモンドの電子構造で
は５ｅＶ程度のバンドギャップが存在することからも理
解することができる。このときのバンドギャップの大き
さは炭素原子同士の結合角に依存する。折り曲げ部８に
おける炭素原子同士の結合角は、前述した（１）〜
（４）の状態の動作を行うことができる範囲とする。
【００５７】本実施例の近接場光感知部においても、上
述の第１の実施例の場合と同様な近接場光の検知が可能
である。以下、本実施例の近接場光感知部における近接
場光の検知動作について簡単に説明する。
【００５８】近接場光が入射していない状態では、配線
２にはトンネル現象による電流しか流れない（上述した
「（１）の状態」における動作と同じ）。
【００５９】折り曲げ部８の近傍に試料からの近接場光
が入射すると、折り曲げ部８により隔てられた領域（両
側）の、近接場光が入射した部分において、電子励起が
誘起されて電子と正孔が生じる。フェルミ準位の高いほ
うの領域では励起された電子が電圧電源のほうへ向かっ
て流れ、フェルミ準位の低いほうの領域では励起で生じ
た正孔が電圧電源のほうへ向かって流れ、配線２には上
記近接場光が入射していない状態における電流よりも大
きな電流が流れる（上述した「（２）の状態」における
動作と同じ）。
【００６０】近接場光が折り曲げ部８から離れた位置
（例えば数１０Å〜数１００Åだけ離れた位置）で発生
した場合には、電子励起は折り曲げ部８で隔てられた領
域の片側のみで起きるため、配線２には上記近接場光が
入射していない状態における電流よりもわずかに大きな
電流が流れる（上述した「（３）の状態」および
「（４）の状態」における動作と同じ）。ただし、その
電流量は上記折り曲げ部８近傍に近接場光が入射する状
態よりも小さい。
【００６１】本実施例においては、空間解像度は、折り
曲げ部８およびその両側の励起領域からなる部分の大き
さによって決まる。折り曲げ部８は、上述した（１）〜
（４）の状態における動作を実現できるのであればどの
ような大きさにしてもよいが、空間解像度をより上げる
という観点からすれば、カーボンナノチューブ７の直径
程度にすることが望ましい。
【００６２】次に、本実施例の近接場光感知部の作製手
順について説明する。図９の（ａ）および（ｂ）は、図
８に示したカーボンナノチューブを有する近接場光感知
部の作製手法を説明するための模式図である。
【００６３】機械的に折り曲げたカーボンナノチューブ
７の両端部を電極に接合することは困難である。そこ
で、ここでは、図９（ａ）に示すように、２個の触媒電
極２２ａ、２２ｂ間を跨ぐようなカーボンナノチューブ
２１を形成する。例えば触媒電極２２ａ、２２ｂのナノ
チューブ成長面（触媒金属が予め蒸着されている。）を
互いに向き合うように配置し、一方の面からＣＶＤ法に
よりナノチューブを成長させて、それを他方面に接合す
ることで、カーボンナノチューブ２１を形成する。
【００６４】次いで、触媒電極２２ａ、２２ｂをそれぞ
れ周知のマニピュレータにセットし、図９（ｂ）に示す
ように、別途作製しておいた所望の直径を持つナノチュ
ーブ２３とカーボンナノチューブ２１を交差するように
配置し、触媒電極２２ａ、２２ｂを一定方向に移動させ
てカーボンナノチューブ２１の中央部付近をナノチュー
ブ２３に押し当てる。このとき、ナノチューブ２３はそ
の両端が固定されるとともに、ナノチューブ２３が押し
当てられても曲がらない程度のテンションが加えられて
いる。
【００６５】触媒電極２２ａ、２２ｂをさらに移動する
と、カーボンナノチューブ２１の中央部付近は、ナノチ
ューブ２３の外周に沿って折り曲がる。このときのカー
ボンナノチューブ２１の折り曲げ角度は、ナノチューブ
２３の直径によって決まる。このようにして折り曲げた
状態でナノチューブ２３を抜き取ると、カーボンナノチ
ューブ２１の折れ曲がった部分はそのままその形状を維
持する（準安定構造）こととなり、図８に示したような
折り曲げ構造を有するカーボンナノチューブを得られ
る。
【００６６】上述した第１および第２の実施例におい
て、ナノチューブはＣＶＤ法により成長させているが、
このＣＶＤ法に代えて周知のアーク法を用いてもよい。
【００６７】また、各実施例ではカーボンナノチューブ
を用いた例を挙げているが、本発明は、これに限定され
るものではない。ナノチューブとしては、電子励起によ
る近接場光の検知が可能であれば、どのような材料のも
のを用いてもよい。例えば、ナノチューブに窒化ボロン
を用いてもよい。
【００６８】以上説明した本実施形態の近接場光検出装
置において、図１に示した構成では、近接場光感知部は
１つしか示されていないが、本発明は、これに限定され
るものではなく、近接場光感知部は複数設けてもよい。
【００６９】（状態解析装置）上述した本発明の近接場
光検出装置は、近接場光を利用して試料の表面状態（形
状や特性）を解析する状態解析装置に応用することがで
きる。この状態解析装置の主要構成は、試料（細胞も含
む）を所定の方向から照明してその試料表面に近接場光
を生じさせる照明系と、試料表面に生じた近接場光を電
気信号に変換するナノチューブを備える光電変換部と、
この光電変換部にて変換された電気信号に基づいて試料
表面の状態を解析する解析部とからなる。光電変換部の
構成は、図１に示した構成と同じである。解析部では、
試料表面の微細な構造（形状）や単一分子の光学特性な
どの解析を行う。
【００７０】上記の状態解析装置の一例として、走査型
の近接場光学顕微鏡の構成を以下に説明する。
【００７１】図１０は、図１に示した近接場光検出装置
を適用した走査型近接場光学顕微鏡の概略構成図、図１
１は、その走査型近接場光学顕微鏡に用いられているプ
ローブの概略構成図である。
【００７２】図１０において、プローブ３０は、一端が
３次元駆動部３１に固定されたプローブ基板４０の他端
（先端）に、図１に示したような、１本または２本のナ
ノチューブからなるＶ字状の近接場光感知部３が設けら
れている。近接場光感知部３を構成するナノチューブの
両端は、図１１に示すように、それぞれ電極３７ａ、３
７ｂを介して配線２ａ、２ｂに電気的に接続されてお
り、各配線２ａ、２ｂは電源電圧１に接続されている。
各配線２ａ、２ｂには、それぞれ電流計３２ａ。３２ｂ
が設けられている。
【００７３】３次元駆動部３１は、原子間力顕微鏡（Ａ
ＦＭ）でよく知られているピエゾ素子などよりなるアク
チュエータ（不図示）を備え、プローブ３０をその共振
周波数付近で振動させることができる。さらに、この３
次元駆動部３１は、プローブ３０を試料４の表面に対し
て２次元的に走査することができる移動機構（不図示）
も備えている。
【００７４】制御部３３は、３次元駆動部３１によるプ
ローブ３０の振動および移動の制御を行う。具体的に
は、制御部３３は、よく知られた原子間力顕微鏡（ＡＦ
Ｍ）の動作により試料４表面の凹凸形状を測定する第１
のモードと、そのＡＦＭ測定結果を参照して、近接場光
検知部３と試料４の表面とを一定の距離（ただし、近接
場光を検知できる距離）で保持しつつ、プローブ３０で
試料４の表面を走査しながら試料４の表面で生じた近接
場光を近接場光検知部３により検知させる第２のモード
との２つのモードでの制御が可能である。
【００７５】イメージ生成部３５は、第２のモードでの
制御の際に、電流計２ａ、２ｂの出力から試料４の表面
に関する近接場光像（強度分布）の３次元的なイメージ
を生成する。このイメージ生成部３５で生成されたイメ
ージは表示部３４に出力される。上記制御部３３は、こ
のイメージ生成部３５におけるイメージの生成およびそ
の生成されたイメージの表示部３４への表示の制御も行
う。
【００７６】次に、上述した走査型の近接場光学顕微鏡
における動作を具体的に説明する。試料４の表面で発生
した近接場光はその表面から離れるに従い急激に減少す
る。このため、近接場光感知部３は試料４の表面に対し
て近接場光の検知が可能な距離（例えば〜１０ｎｍ）に
配置するとともに、その表面からの距離が一定に保持さ
れる必要がある。これを実現するために、この近接場光
学顕微鏡では、第１のモード（ＡＦＭ測定）と第２のモ
ード（近接場光測定）の２つモードが行われる。
【００７７】第１のモード（ＡＦＭ測定）では、プロー
ブ３０をその共振周波数付近で振動させながら、プロー
ブ３０で試料４の表面を走査する。この走査の際、プロ
ーブ３０の振動振幅を例えば周知の光てこ方式の検出器
（不図示）で検出する。そして、その検出結果が一定に
なるように、すなわち、近接場光検知部３の先端部（折
り曲げ部）と試料４の表面との間で生じる原子間力の、
プローブ３０の振動振幅への影響（振幅の減衰または振
幅周波数のシフト）が一定になるように、近接場光検知
部３の先端部（折り曲げ部）と試料４の表面との距離を
制御する。このように制御することで、試料４の表面の
凹凸形状を測定する。
【００７８】第２のモードでは、不図示の照明系からの
照明光３６で試料４の裏面を照明することで試料４の表
面に近接場光１０を発生させる。そして、上記第１のモ
ードで取得した試料４の表面の凹凸形状を参照して、近
接場光検知部３と試料４の表面との間を一定の距離で保
持しながら、近接場光検知部３で試料４の表面を走査す
る。このように制御することで、試料４の表面で生じた
近接場光１０を測定することができる。この近接場光測
定結果（近接場光の強度分布）は、３次元的なイメージ
として表示部３４に表示される。
【００７９】図１０に示した例では、近接場光を発生さ
せるために試料４の裏面側から照明光３５を照射してい
るが、近接場光が生じるのであれば照明光はどのように
照射してもよい。例えば、照明光を試料４の表面側から
照射するようにしてもよい。
【００８０】また、２つの電流計３２ａ、３２ｂを用い
ているが、これら電流計の一方のみを用いてもよい。
【００８１】さらに、プローブ３０を複数設けること
で、走査にかかる全体的な時間を短くすることが可能で
ある。ただし、この場合は、各プローブの感度の違いな
どを補正しておく必要がある。
【００８２】図１０に示した例は、本発明の一適用例で
あって、本発明の適用範囲はこれに限定されるものでは
ない。例えば、本発明は、前述した特開平１０−１７０
５２３号公報に記載の走査型プローブ顕微鏡（図１２参
照）にも適用することができる。この場合は、キャパシ
タンスの変化を検出する部分が、本発明における近接場
光による光励起に基づく電流の変化を検出する部分に置
き換わることになる。
【００８３】本発明は、上述した近接場光学顕微鏡以外
のもの、例えば、超高密度光ディスクに記録された情報
を、近接場光を利用して読み出す装置にも適用すること
ができる。例えば、光ディスクの記録面に「０」、
「１」に相当する情報が記録されており、その記録面に
おいて生じる近接場光の光強度が、記録された「０」、
「１」の情報に応じて変化するような場合、図１に示し
た装置を使用してその近接場光の光強度変化を検出する
ことで情報の読み出しを行うことができる。
【００８４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
数十Åの空間分解能を実現することができるので、近接
場光の発生位置の特定や分子レベルでの近接場光発光体
の位置の特定を行うことができ、従来不可能であった微
細領域の評価・分析を行うことができるという効果があ
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態の近接場光検出装置の要部
を示すブロック図である。
【図２】図１に示す近接場光感知部を構成する、折り曲
げたナノチューブにより近接場光を検出するときの状態
を示す模式図である。
【図３】図２に示すナノチューブの折り曲げ部近傍のエ
ネルギーバンド構造を示す模式図である。
【図４】（ａ）〜（ｄ）は、近接場光とナノチューブに
流れる電流との関係を説明するための模式図である。
【図５】近接場光強度と光電変換により得られる電流の
大きさの関係を示す特性図である。
【図６】図１に示す近接場光感知部の第１の実施例を示
す模式図である。
【図７】（ａ）〜（ｃ）は、近接場光感知部の作製手順
の一例を示す工程図である。
【図８】図１に示す近接場光感知部の第２の実施例を示
す模式図である。
【図９】（ａ）および（ｂ）は、図８に示すカーボンナ
ノチューブを有する近接場光感知部の作製手法を説明す
るための模式図である。
【図１０】図１に示す近接場光検出装置を適用した走査
型近接場光学顕微鏡の概略構成図である。
【図１１】図１０に示す走査型近接場光学顕微鏡に用い
られているプローブの概略構成図である。
【図１２】特開平１０−１７０５２３号公報に記載され
た走査型プローブ顕微鏡の概略構成を示すブロック図で
ある。
【図１３】図１２に示す探針付きカンチレバーの概略構
成を示す断面図である。
【図１４】特開２００１−２８１１２４号公報に記載の
走査型近接場光顕微鏡用プローブの概略構成を示す図
で、（ａ）は斜視図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ’の部分
の拡大断面図である。
【符号の説明】
１ 電圧電源 ２、２ａ、２ｂ 配線 ３ 近接場光感知部 ３ａ 絶縁部 ３ｂ 導体部（Ｒ） ３ｃ 導体部（Ｌ） ４、８３ 試料 ５ａ、５ｂ、７、２１ カーボンナノチューブ ６ ギャップ ８ 折り曲げ部 １０ 近接場光 １１ 基板 １２ａ、１２ｂ、２２ａ、２２ｂ 触媒電極 １３ａ、１３ｂ ナノチューブ成長表面 ２３ ナノチューブ ３０ プローブ ３１ ３次元駆動部 ３２ａ、３２ｂ 電流計 ３３ 制御部 ３４ 表示部 ３５ イメージ生成部 ３６ 照明光 ３７ａ ３７ｂ 電極 ４０ プローブ基板 ８１ カンチレバー ８２ 積層ピエゾ素子 ８４ 信号発生装置 ８５ ３次元駆動機構 ８６ 半導体レーザ ８７ ２分割光検出器 ８８、９１ ロックインアンプ ８９ 銅線 ９０ キャパシタンスセンサー ９２ 石英板 ９３ ホルダー ９４ 対物レンズ ９５ 光源 ９６ チョッパー ９７ 制御装置 １２１ パイレックスガラス支持体 １２２ 窒化シリコン膜 １２３ 金属膜 １２４ 光導電体膜 １２５ 領域 １２６ レバー部 １２７ 探針
フロントページの続き (56)参考文献 特開2002−243616（ＪＰ，Ａ) 特開2002−214112（ＪＰ，Ａ) 特開2003−227808（ＪＰ，Ａ) 特開2002−267590（ＪＰ，Ａ) 特開2002−228573（ＪＰ，Ａ) 特開2003−247930（ＪＰ，Ａ) 特開2002−14023（ＪＰ，Ａ) 特開2001−305038（ＪＰ，Ａ) 特開2001−91411（ＪＰ，Ａ) 特開2001−252900（ＪＰ，Ａ) 特開2001−281124（ＪＰ，Ａ) 特開 平10−170523（ＪＰ，Ａ) 特表2000−516708（ＪＰ，Ａ) 特許2541091（ＪＰ，Ｂ２) 国際公開00／51186（ＷＯ，Ａ１) 国際公開00／14476（ＷＯ，Ａ１) Ｓｕｍｉｏ Ｉｉｊｉｍａ， Ｃｈａ ｒｌｅｓ Ｂｒａｂｅｃ， Ａｍｉｔｅ ｓｈ Ｍａｉｔｉ， ａｎｄ Ｊｅｒｚ ｙ Ｂｅｒｎｂｏｌｃ， Ｓｔｒｕｃｔ ｕａｌ ｆｌｅｘｉｂｉｌｉｔｙ ｏｆ ｃａｒｂｏｎ ｎａｎｏｔｕｂｅ ｓ”，Ｔｈｅ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｐｈｙｓｉｃｓ，米 国，Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｉｎｓｔｉｔｕ ｔｅ ｏｆ Ｐｈｙｓｉｃｓ，1996年 ２月 １日，第104巻、第５号，ｐ. 2089−2092 Ｐｈｉｌｉｐ Ｋｉｍ ａｎｄ Ｃｈ ａｒｌｅｓ Ｍ． Ｌｉｅｂｅｒ，”Ｎ ａｎｏｔｕｂｅ Ｎａｎｏｔｗｅｅｚｅ ｒ”Ｓｃｉｅｎｃｅ，米国，Ａｍｅｒｉ ｃａｎ Ａｓｓｏｃｉａｔｉｏｎ ｆｏ ｒ Ａｄｖａｎｃｅｍｅｎｔ ｏｆ Ｓ ｃｉｅｎｃｅ ，1999年12月10日，第 286巻、第5447号，ｐ．2148−2150 (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G01N 13/10 - 13/24 G12B 21/00 - 21/24 B82B 1/00 ＪＩＣＳＴファイル（ＪＯＩＳ)

Claims (27)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 近接場光を電気信号に変換するナノチュ
    ーブであって、 絶縁領域と、 前記絶縁領域により隔てられた第１および第２の領域と
    を有し、 前記第１および第２の領域が前記近接場光により電子励
    起されることで前記電気信号への変換が行われるナノチ
    ューブ。
  2. 【請求項２】 前記近接場光による電子励起によって生
    じる電流が、前記第１および第２の領域の両領域に対し
    て所定のバイアス電圧が供給されることで生じるトンネ
    ル電流より大きいことを特徴とする請求項１に記載のナ
    ノチューブ。
  3. 【請求項３】 前記第１の領域を含む第１のナノチュー
    ブ部と、 前記第２の領域を含む第２のナノチューブ部とを有し、 前記第１および第２のナノチューブ部は、一端が所定の
    大きさの空間ギャップを介して互いに近接して配置され
    ており、 前記絶縁領域が、前記所定の大きさの空間ギャップより
    なることを特徴とする請求項１に記載のナノチューブ。
  4. 【請求項４】 前記第１および第２のナノチューブ部
    は、Ｖ字状に配置されていることを特徴とする請求項３
    に記載のナノチューブ。
  5. 【請求項５】 前記第１および第２のナノチューブ部
    は、カーボンまたは窒化ボロンよりなることを特徴とす
    る請求項３に記載のナノチューブ。
  6. 【請求項６】 前記第１および第２の領域および絶縁領
    域を含む、所定の角度で折り曲げられたナノチューブ部
    を有し、 前記絶縁領域が、前記ナノチューブ部の折り曲げ部より
    なることを特徴とする請求項１に記載のナノチューブ。
  7. 【請求項７】 前記絶縁領域における原子同士の結合角
    が前記第１および第２の領域における原子同士の結合角
    より小さいことを特徴とする請求項６に記載のナノチュ
    ーブ。
  8. 【請求項８】 前記絶縁領域における原子同士の結合角
    が１００°〜１１０°で、前記第１および第２の領域に
    おける原子同士の結合角が１１８°〜１２０°であるこ
    とを特徴とする請求項７に記載のナノチューブ。
  9. 【請求項９】 前記ナノチューブ部は、カーボンまたは
    窒化ボロンよりなることを特徴とする請求項６に記載の
    ナノチューブ。
  10. 【請求項１０】 絶縁領域および該絶縁領域により隔て
    られた第１および第２の領域を有するナノチューブと、 前記ナノチューブに所定のバイアス電圧を供給する電圧
    電源と、 前記所定のバイアス電圧の供給によって前記ナノチュー
    ブに流れる第１の電流および前記第１および第２の領域
    が外部からの近接場光によって電子励起されることで前
    記ナノチューブに流れる第２の電流をそれぞれ検出する
    検出手段とを有することを特徴とする近接場光検出装
    置。
  11. 【請求項１１】 前記第２の電流が、前記第１の電流よ
    り大きいことを特徴とする請求項１０に記載の近接場光
    検出装置。
  12. 【請求項１２】 前記ナノチューブは、第１および第２
    のナノチューブ部からなり、 前記第１および第２のナノチューブ部は、一端が所定の
    大きさの空間ギャップを介して互いに近接して配置され
    ており、 前記絶縁領域が、前記所定の大きさの空間ギャップより
    なることを特徴とする請求項１０に記載の近接場光検出
    装置。
  13. 【請求項１３】 前記第１および第２のナノチューブ部
    は、Ｖ字状に配置されていることを特徴とする請求項１
    ２に記載の近接場光検出装置。
  14. 【請求項１４】 前記ナノチューブは、所定の角度で折
    り曲げられたナノチューブ部よりなり、 前記絶縁領域が、前記ナノチューブ部の折り曲げ部によ
    り形成されていることを特徴とする請求項１０に記載の
    近接場光検出装置。
  15. 【請求項１５】 前記絶縁領域における原子同士の結合
    角が前記第１および第２の領域における原子同士の結合
    角より小さいことを特徴とする請求項１４に記載の近接
    場光検出装置。
  16. 【請求項１６】 前記絶縁領域における原子同士の結合
    角が１００°〜１１０°で、前記第１および第２の領域
    における原子同士の結合角が１１８°〜１２０°である
    ことを特徴とする請求項１５に記載の近接場光検出装
    置。
  17. 【請求項１７】 前記ナノチューブは、カーボンまたは
    窒化ボロンよりなることを特徴とする請求項１０に記載
    の近接場光検出装置。
  18. 【請求項１８】 絶縁領域と該絶縁領域により隔てられ
    た第１および第２の領域とを有するナノチューブの、前
    記第１および第２の領域の間に所定のバイアス電圧を供
    給するステップと、 前記所定のバイアス電圧の供給によって前記ナノチュー
    ブに流れる第１の電流を測定するステップと、 前記第１および第２の領域が検出対象である近接場光に
    よって電子励起されることで前記ナノチューブに流れる
    第２の電流を測定するステップとを含むことを特徴とす
    る近接場光検出方法。
  19. 【請求項１９】 絶縁領域および該絶縁領域により隔て
    られた第１および第２の領域を備えるナノチューブと、 前記ナノチューブに所定のバイアス電圧を供給する電圧
    電源と、 前記所定のバイアス電圧の供給によって前記ナノチュー
    ブに流れる第１の電流および前記第１および第２の領域
    が試料の表面に生じた近接場光によって電子励起される
    ことで前記ナノチューブに流れる第２の電流をそれぞれ
    検出する検出手段と、 前記検出手段にて検出された前記第１および第２の電流
    に基づいて前記試料の表面の状態を解析する解析手段と
    を有することを特徴とする状態解析装置。
  20. 【請求項２０】 前記第２の電流が、前記第１の電流よ
    り大きいことを特徴とする請求項１９に記載の状態解析
    装置。
  21. 【請求項２１】 前記ナノチューブは、第１および第２
    のナノチューブ部からなり、 前記第１および第２のナノチューブ部は、一端が所定の
    大きさの空間ギャップを介して互いに近接して配置され
    ており、 前記絶縁領域が、前記所定の大きさの空間ギャップより
    なることを特徴とする請求項１９に記載の状態解析装
    置。
  22. 【請求項２２】 前記第１および第２のナノチューブ部
    は、Ｖ字状に配置されていることを特徴とする請求項２
    １に記載の状態解析装置。
  23. 【請求項２３】 前記ナノチューブは、所定の角度で折
    り曲げられたナノチューブ部よりなり、 前記絶縁領域が、前記ナノチューブ部の折り曲げ部によ
    り形成されていることを特徴とする請求項１９に記載の
    状態解析装置。
  24. 【請求項２４】 前記絶縁領域における原子同士の結合
    角が前記第１および第２の領域における原子同士の結合
    角より小さいことを特徴とする請求項２３に記載の状態
    解析装置。
  25. 【請求項２５】 前記絶縁領域における原子同士の結合
    角が１００°〜１１０°で、前記第１および第２の領域
    における原子同士の結合角が１１８°〜１２０°である
    ことを特徴とする請求項２４に記載の状態解析装置。
  26. 【請求項２６】 前記ナノチューブは、カーボンまたは
    窒化ボロンよりなることを特徴とする請求項１９に記載
    の状態解析装置。
  27. 【請求項２７】 絶縁領域および該絶縁領域により隔て
    られた第１および第２の領域を備えるナノチューブと、 前記ナノチューブに所定のバイアス電圧を供給する電圧
    電源と、 前記所定のバイアス電圧の供給によって前記ナノチュー
    ブに流れる第１の電流および前記第１および第２の領域
    が試料の表面に生じた近接場光によって電子励起される
    ことで前記ナノチューブに流れる第２の電流をそれぞれ
    検出する検出手段と、 前記ナノチューブが先端部に取り付けられたプローブ
    と、 前記ナノチューブと前記試料の表面との間を一定の距離
    で保持しながら前記プローブを所定の方向に走査する移
    動制御手段と、 前記検出手段にて検出された前記第１および第２の電流
    に基づいて、前記試料の表面に関する前記近接場光の像
    を生成するイメージ生成手段とを有することを特徴とす
    る走査型近接場光学顕微鏡。
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Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7032437B2 (en) * 2000-09-08 2006-04-25 Fei Company Directed growth of nanotubes on a catalyst
ATE426575T1 (de) 2003-01-07 2009-04-15 Univ Ramot Peptidenanostrukturen die fremdmaterial enthalten,und verfahren zur herstellung derselben
EP1678544A1 (de) * 2003-09-25 2006-07-12 Leica Microsystems CMS GmbH Verfahren zur probenuntersuchung und mikroskop mit evaneszenter probenbeleuchtung
WO2006001108A1 (ja) * 2004-06-25 2006-01-05 Japan Science And Technology Agency 探針装置
CN100467367C (zh) * 2004-08-11 2009-03-11 清华大学 碳纳米管阵列结构及其制备方法
US7129467B2 (en) * 2004-09-10 2006-10-31 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Carbon nanotube based light sensor
US7427754B2 (en) * 2005-04-14 2008-09-23 The Regents Of The University Of California Telegraph signal microscopy device and method
US7218803B1 (en) 2006-03-24 2007-05-15 Fitel Usa Corp. Microsphere probe for optical surface microscopy and method of using the same
US7638383B2 (en) * 2006-09-19 2009-12-29 Intel Corporation Faceted catalytic dots for directed nanotube growth
US8045859B2 (en) * 2008-05-02 2011-10-25 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy High-speed underwater data transmission system and method
US8353061B2 (en) * 2008-05-02 2013-01-08 Ofs Fitel, Llc Near-field scanning optical microscopy with nanoscale resolution from microscale probes
US8196217B2 (en) * 2009-08-14 2012-06-05 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University Tip-enhanced resonant apertures
US8695109B2 (en) * 2010-10-13 2014-04-08 The Trustees Of The University Of Pennsylvania Method and system for near-field optical imaging
RU2731164C1 (ru) * 2020-03-11 2020-08-31 Общество с ограниченной ответственностью "НТ-МДТ" Зонд ближнепольного оптического микроскопа
KR102635837B1 (ko) 2022-10-21 2024-02-14 어썸레이 주식회사 전계 방출 조립체 및 이를 포함하는 전자기파 발생 장치

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2541091B2 (ja) 1993-02-26 1996-10-09 日本電気株式会社 炭素材料とその製造方法

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3452659B2 (ja) 1994-09-14 2003-09-29 オリンパス光学工業株式会社 集積型ｓｐｍセンサ及びその製造方法
WO1998005920A1 (en) * 1996-08-08 1998-02-12 William Marsh Rice University Macroscopically manipulable nanoscale devices made from nanotube assemblies
JPH10170523A (ja) * 1996-12-12 1998-06-26 Nikon Corp 走査型プローブ顕微鏡および走査型プローブ顕微鏡用カンチレバー
RU2224978C2 (ru) * 1998-09-07 2004-02-27 Квантум Пресижен Инструментс Пти Лтд. Измерения с использованием туннельного тока между удлиненными проводниками
KR100679547B1 (ko) * 1999-02-22 2007-02-07 조셉 이. 쥬니어 클로손 극미세구조 소자 및 장치
JP2001305038A (ja) * 2000-04-21 2001-10-31 Olympus Optical Co Ltd 近接場光学顕微鏡および近接場光学顕微鏡用探針
JP2001033464A (ja) 1999-05-17 2001-02-09 Olympus Optical Co Ltd 近接場光顕微鏡および近接場光顕微鏡用探針
JP2001091411A (ja) * 1999-09-27 2001-04-06 Meidensha Corp 四輪駆動車台上試験における前後軸負荷制御方式
JP3706523B2 (ja) * 2000-03-08 2005-10-12 喜萬 中山 ナノピンセット及びこれを用いたナノマニピュレータ装置
JP4073603B2 (ja) * 2000-03-30 2008-04-09 エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 走査型プローブ顕微鏡用プローブ及びそれを用いた走査型プローブ顕微鏡走査方法
JP2002014023A (ja) * 2000-06-30 2002-01-18 Canon Inc プローブ回転機構、および該プローブ回転機構を有する走査型プローブ顕微鏡
KR100421375B1 (ko) * 2001-01-15 2004-03-09 제원호 고속 주사탐침 현미경용 고주파 진동 탐침
JP3852287B2 (ja) * 2001-01-15 2006-11-29 富士ゼロックス株式会社 走査型プローブ顕微鏡
JP3809342B2 (ja) * 2001-02-13 2006-08-16 喜萬 中山 受発光プローブ及び受発光プローブ装置
JP4437619B2 (ja) * 2001-03-14 2010-03-24 株式会社リコー 近接場光用のプローブ及びその作製方法、並びに近接場光学顕微鏡、光メモリの情報記録再生方式
JP3924472B2 (ja) * 2002-02-05 2007-06-06 株式会社ジェイテクト カーボンナノチューブを用いたセンサ
JP3796456B2 (ja) * 2002-02-22 2006-07-12 株式会社ユニソク 測定孔付きカンチレバー及びこれを用いたビーム測定方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2541091B2 (ja) 1993-02-26 1996-10-09 日本電気株式会社 炭素材料とその製造方法

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Ｐｈｉｌｉｐ Ｋｉｍ ａｎｄ Ｃｈａｒｌｅｓ Ｍ． Ｌｉｅｂｅｒ，"Ｎａｎｏｔｕｂｅ Ｎａｎｏｔｗｅｅｚｅｒ"Ｓｃｉｅｎｃｅ，米国，Ａｍｅｒｉｃａｎ Ａｓｓｏｃｉａｔｉｏｎ ｆｏｒ Ａｄｖａｎｃｅｍｅｎｔ ｏｆ Ｓｃｉｅｎｃｅ ，１９９９年１２月１０日，第２８６巻、第５４４７号，ｐ．２１４８−２１５０
Ｓｕｍｉｏ Ｉｉｊｉｍａ， Ｃｈａｒｌｅｓ Ｂｒａｂｅｃ， Ａｍｉｔｅｓｈ Ｍａｉｔｉ， ａｎｄ Ｊｅｒｚｙ Ｂｅｒｎｂｏｌｃ， Ｓｔｒｕｃｔｕａｌ ｆｌｅｘｉｂｉｌｉｔｙ ｏｆ ｃａｒｂｏｎ ｎａｎｏｔｕｂｅｓ"，Ｔｈｅ Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｐｈｙｓｉｃｓ，米国，Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ ｏｆ Ｐｈｙｓｉｃｓ，１９９６年 ２月 １日，第１０４巻、第５号，ｐ．２０８９−２０９２

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