[go: up one dir, main page]

JP3489276B2 - Manufacturing method of shadow mask - Google Patents

Manufacturing method of shadow mask

Info

Publication number
JP3489276B2
JP3489276B2 JP17875295A JP17875295A JP3489276B2 JP 3489276 B2 JP3489276 B2 JP 3489276B2 JP 17875295 A JP17875295 A JP 17875295A JP 17875295 A JP17875295 A JP 17875295A JP 3489276 B2 JP3489276 B2 JP 3489276B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
shadow mask
etching
gravure
ink
prevention layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP17875295A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0935631A (en
Inventor
龍彦 山本
博之 冨保
智史 綱島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toppan Inc filed Critical Toppan Inc
Priority to JP17875295A priority Critical patent/JP3489276B2/en
Publication of JPH0935631A publication Critical patent/JPH0935631A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3489276B2 publication Critical patent/JP3489276B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • ing And Chemical Polishing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、フォトエッチング法に
よってシャドウマスクを製造する方法に係わり、特に開
孔の径が小さく開孔の数が多い高精細シャドウマスクの
製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a shadow mask by a photoetching method, and more particularly to a method for producing a high-definition shadow mask having a small diameter of apertures and a large number of apertures.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、カラー受像管に用いるシャドウマ
スクは、図5に示すような工程で造られる。すなわち、
シャドウマスク材1として例えば板厚0.13mmの低炭素鋼
板を用い、その両面を脱脂、整面、洗浄処理した後、そ
の両面にカゼインやポリビニルアルコールと重クロム酸
アンモニウムからなる水溶性感光液を塗布乾燥して、フ
ォトレジスト膜2を形成する。次いで、シャドウマスク
材1の一方の面に小孔像のネガパターンを、他方の面に
大孔像のネガパターンを露光する。その後、温水にて、
未露光未硬化のフォトレジスト膜を溶解する現像処理を
行なえば、図5(a)に示すように、小孔レジスト膜2a
と大孔レジスト膜2bを表裏に有するシャドウマスク材1
が得られる。
2. Description of the Related Art Conventionally, a shadow mask used for a color picture tube is manufactured by a process as shown in FIG. That is,
As the shadow mask material 1, for example, a low carbon steel plate having a thickness of 0.13 mm is used, and after degreasing, surface conditioning and washing treatment on both sides, casein or polyvinyl alcohol and ammonium dichromate are applied to the water-soluble photosensitive solution. After drying, the photoresist film 2 is formed. Next, one surface of the shadow mask material 1 is exposed with a negative pattern of a small hole image and the other surface is exposed with a negative pattern of a large hole image. After that, with warm water,
If the developing treatment for dissolving the unexposed and uncured photoresist film is performed, as shown in FIG. 5A, the small-hole resist film 2a is formed.
Shadow mask material 1 having a large hole resist film 2b on both sides
Is obtained.

【0003】その後、レジスト膜2に対して硬膜処理お
よびバーニング処理を施し、第一段階のエッチングを表
裏両面から行なう。エッチング液には塩化第二鉄のボー
メ濃度35〜50を用い、スプレー圧 1.5〜3.5kg/cm2 のス
プレーエッチングで行なうのが一般的である。この第一
エッチング工程では、図5(b)に示すように、エッチ
ング進度は、途中で止めるのが肝要である。また、この
第一エッチング工程では、シャドウマスク材1の大孔レ
ジスト膜2bを有する面に保護フィルムを貼り付け、小孔
側からのみシャドウマスク材1を中途までエッチングす
る方法もある。
After that, the resist film 2 is subjected to a hardening treatment and a burning treatment, and first-stage etching is performed from both front and back surfaces. The etching solution is a ferric chloride having a Baume concentration of 35 to 50, and spray etching is generally performed at a spray pressure of 1.5 to 3.5 kg / cm 2 . In this first etching step, as shown in FIG. 5B, it is important to stop the etching progress in the middle. Further, in this first etching step, there is also a method in which a protective film is attached to the surface of the shadow mask material 1 having the large hole resist film 2b and the shadow mask material 1 is etched halfway only from the small hole side.

【0004】次いで、図5(c)に示すように、前段の
エッチングで形成された小孔側の凹部3aを完全に埋め尽
くすエッチング防止層4を塗布形成する。続いて、図5
(d)に示すように、大孔側からのみシャドウマスク材
1をエッチングする第二エッチング工程を行ない、大孔
側から小孔に貫通する開孔5を形成する。最後に、エッ
チング防止層4およびレジスト膜2を剥がし、水洗乾燥
して図5(e)に示すフラット型のシャドウマスク6を
得る。
Next, as shown in FIG. 5 (c), an etching prevention layer 4 is formed by coating so as to completely fill the recess 3a on the small hole side formed by the preceding etching. Then, FIG.
As shown in (d), the second etching step of etching the shadow mask material 1 only from the large hole side is performed to form the opening 5 penetrating from the large hole side to the small hole. Finally, the etching prevention layer 4 and the resist film 2 are peeled off, washed with water and dried to obtain a flat shadow mask 6 shown in FIG.

【0005】この従来法では、フォトエッチング法では
避けることのできないサイドエッチング現象を小孔側で
抑えている、ということができる。すなわち、小孔側の
凹部にエッチング防止層を充填し、第二エッチング工程
では小孔はサイドエッチングされないことにより、第一
エッチング工程における精確な小孔パターンを維持でき
る。したがって、例えば材料金属板の厚さより小さい孔
径の開孔も可能としていた。
In this conventional method, it can be said that the side etching phenomenon, which cannot be avoided by the photoetching method, is suppressed on the small hole side. That is, by filling the recesses on the small hole side with the etching prevention layer and not side-etching the small holes in the second etching step, the accurate small hole pattern in the first etching step can be maintained. Therefore, for example, it is possible to open a hole having a hole diameter smaller than the thickness of the material metal plate.

【0006】しかしながら、この従来法にも問題がない
わけではない。従来法によれば、エッチング防止層の形
成は、スプレーコート法またはメッシュ状の溝のインキ
セルを有するメッシュセルグラビアコート法等で行なわ
れているが、この方法では以下のような欠点があげられ
る。すなわち、スプレーコート法においては、 スプレーノズルを多数並べるのでコート装置が大型化
する。 スプレー飛沫による汚染、コート液の滞留のため、コ
ート装置の保守管理に手間がかかる。 エッチング防止層内に気泡が取り込まれて残存しやす
い等、の欠点があげられる。 次いで、メッシュセルグラビアコート法においては、 コート液を凹部に押し込む性質が弱い。 エッチング防止層内に気泡が取り込まれて残存しやす
い等の、欠点があげられる。 特に、上記の二方法に共通するエッチング防止層内に気
泡が取り込まれて残存しやすいという欠点は、シャドウ
マスクの孔形不良の原因となる重大な欠点といえる。す
なわち、図6(a)に示すようにエッチング防止層4内
に残存した気泡25が、第二エッチング工程で、小孔のサ
イドエッチング現象を助長することがあり、その結果、
図6(b)に示すように開孔の形状が拡大したり、所定
の円形にならないなどの孔形不良の原因となっていた。
However, this conventional method is not without problems. According to the conventional method, the etching prevention layer is formed by a spray coating method, a mesh cell gravure coating method having ink cells having mesh-shaped grooves, or the like, but this method has the following drawbacks. That is, in the spray coating method, since a large number of spray nozzles are arranged, the coating apparatus becomes large. Maintenance of the coater is troublesome due to contamination by spray droplets and accumulation of coat liquid. There are drawbacks such as bubbles being easily taken in and remaining in the etching prevention layer. Next, in the mesh cell gravure coating method, the property of pushing the coating liquid into the concave portion is weak. There are drawbacks such as bubbles being easily taken in and remaining in the etching prevention layer. In particular, the defect that air bubbles are likely to be taken in and remain in the etching prevention layer common to the above two methods can be said to be a serious defect that causes defective shape of the shadow mask. That is, as shown in FIG. 6A, the bubbles 25 remaining in the etching prevention layer 4 may promote the side etching phenomenon of small holes in the second etching step, and as a result,
As shown in FIG. 6B, the shape of the opening was enlarged, or the shape of the opening was not formed into a predetermined circle, which was a cause of defective shape of the hole.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な事情に鑑み、シャドウマスクの製造方法において、気
泡が取り込まれて残存することのないエッチング防止層
の形成法を立案して、本発明に至ったものであり、得ら
れるシャドウマスクに形状不良の開孔が生じないシャド
ウマスクの製造方法を提供しようとするものである。
In view of the above-mentioned circumstances, the present invention proposes a method for forming an etching preventive layer in which a bubble is not taken in and remains in a method for manufacturing a shadow mask. The present invention has been accomplished, and an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a shadow mask in which the resulting shadow mask does not have defective openings.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決すべ
く、本願出願人は、既に以下の提案を行なっていたもの
である。すなわち、シャドウマスク材1にエッチング防
止層を塗布手段として、図3に示す、斜め螺旋溝26のイ
ンキセルを有するグラビアロール17によるグラビアコー
ト法とし、グラビアロール17の回転方向を、シャドウマ
スク材1の進行方向と逆になる回り方とするものであ
る。しかし、上記提案の方法では、以下に記す不具合点
が新たに発見されたものである。すなわち、斜め螺旋溝
26のインキセルにより波状的にインキが供給され、か
つ、斜め螺旋の方向にのみインキが供給されるため、斜
め螺旋の方向にあるシャドウマスク材1の端部領域、図
3に示す端部領域Aにインキ14が溜まりやすいといえ
た。シャドウマスク材1の端部領域Aに溜まったインキ
14は、グラビアロール17を設けたシャドウマスク材1の
面と反対面側、すなわちエッチング防止層4を形成しな
い面側に回り込み、不要なエッチング防止層を形成して
しまうものである。これにより、第二エッチング工程に
おいて、本来エッチングが行われるべき部位にエッチン
グが行われないという問題である。
In order to solve the above-mentioned problems, the applicant of the present application has already made the following proposal. That is, the shadow mask material 1 is applied with an etching prevention layer, and a gravure coating method using a gravure roll 17 having ink cells of the oblique spiral groove 26 shown in FIG. 3 is used. The direction of rotation is opposite to the direction of travel. However, in the method proposed above, the following problems have been newly discovered. That is, diagonal spiral groove
Since the ink is supplied in a wavy manner by the 26 ink cells and the ink is supplied only in the direction of the oblique spiral, the end region of the shadow mask material 1 in the direction of the oblique spiral, the end region A shown in FIG. It could be said that the ink 14 was likely to collect on the. Ink accumulated in the end area A of the shadow mask material 1.
Numeral 14 wraps around the surface opposite to the surface of the shadow mask material 1 provided with the gravure roll 17, that is, the surface on which the etching prevention layer 4 is not formed, and forms an unnecessary etching prevention layer. As a result, in the second etching step, there is a problem in that etching is not performed on a portion that should be originally etched.

【0009】また、グラビアロール17に設けた斜め螺旋
溝26の方向にのみインキが波状的に供給されるため、図
4に示すように、凹部3の斜め螺旋の方向側にのみイン
キ14が充填され、斜め螺旋の方向と反対側の凹部領域に
気泡25を抱き込み易いという問題もあった。さらに図3
に示すように、斜め螺旋の方向に、塗布部位により塗布
膜厚が異なるスジ状の塗布ムラ13が生じるという問題も
あった。
Further, since the ink is supplied in a wavy form only in the direction of the oblique spiral groove 26 provided on the gravure roll 17, as shown in FIG. 4, the ink 14 is filled only in the direction of the oblique spiral of the concave portion 3. However, there is also a problem that the bubble 25 is easily held in the recessed area on the side opposite to the direction of the oblique spiral. Furthermore, FIG.
As shown in, there is also a problem that streaky coating unevenness 13 having different coating film thickness depending on the coating site occurs in the direction of the oblique spiral.

【0010】そこで、本研究者らはさらに鋭意検討を行
い、新たに以下の方法を提案するものである。すなわ
ち、本発明は、両面に所定パターンに従って一部金属面
を露出させているレジスト膜が形成されている板状のシ
ャドウマスク金属素材の少なくとも一方の面をエッチン
グして、少なくともこの一方の面の金属露出部分に凹部
を形成する第一エッチング工程と、前記第一エッチング
工程にて形成された凹部を有する一方の面にエッチング
防止層を塗布して、この凹部内部にエッチング防止層を
充填する工程と、前記エッチング防止層の設けられた面
とは反対の面をエッチングして、この反対の面から前記
一方の面に形成された凹部に通じる凹孔を形成する第二
エッチング工程と、前記エッチング防止層とレジスト膜
を除去する剥膜工程とを少なくとも有するシャドウマス
クの製造方法において、図1に示すように、前記のエッ
チング防止層の塗布手段として、斜め螺旋溝26のインキ
セルを有する二本のグラビアロール17によるグラビアコ
ート法を用い、かつ、前記二本のグラビアロール17に設
けた斜め螺旋溝26の旋回方向を互いに逆回り方向とした
ことを特徴とするシャドウマスクの製造方法である。
Therefore, the present inventors have made further studies and propose a new method below. That is, the present invention etches at least one surface of a plate-shaped shadow mask metal material on which a resist film exposing a part of the metal surface according to a predetermined pattern is formed on both surfaces, A first etching step of forming a recess in the exposed metal portion, and a step of applying an etching prevention layer on one surface having the recess formed in the first etching step and filling the inside of the recess with the etching prevention layer. And a second etching step of etching a surface opposite to the surface provided with the etching prevention layer to form a concave hole leading from this opposite surface to a concave portion formed in the one surface, and the etching In a method of manufacturing a shadow mask, which comprises at least a prevention layer and a film removing step of removing a resist film, as shown in FIG. As a coating means, a gravure coating method using two gravure rolls 17 having ink cells of diagonal spiral grooves 26 is used, and the turning directions of the diagonal spiral grooves 26 provided in the two gravure rolls 17 are opposite to each other. And a method for manufacturing a shadow mask.

【0011】しかし、本発明のシャドウマスクの製造方
法の実施態様には、以下の変形がありうる。すなわち、
斜め螺旋溝26のインキセルを有する二本のグラビアロー
ル17によるグラビアコーターが、各々リバースグラビア
コーターであることである。「リバース」とは、被塗布
物と接するグラビアロール17の回転方向が、被塗布物の
進行方向と逆になるような回り方をいう。以下、とくに
ことわらないかぎり、単に「グラビアコーター」という
場合は、グラビアロールの回転方向が、被塗布物の進行
方向と同じであるナチュラルグラビアコーターを意味
し、リバースグラビアコーターとは区別するものとす
る。
However, the embodiment of the shadow mask manufacturing method of the present invention may have the following modifications. That is,
The gravure coater using the two gravure rolls 17 having the ink cells of the oblique spiral groove 26 is a reverse gravure coater. “Reverse” means a rotating direction in which the rotation direction of the gravure roll 17 that is in contact with the object to be coated is opposite to the traveling direction of the object to be coated. Hereinafter, unless otherwise specified, when simply referred to as “gravure coater”, it means a natural gravure coater in which the rotation direction of the gravure roll is the same as the traveling direction of the coated object, and is distinguished from the reverse gravure coater. To do.

【0012】次いで、本発明の二本で一対としたグラビ
アロール17の前後に圧胴22を設けることも本課題解決の
手段として望ましい。何故かならば、圧胴22を用いて金
属素材、すなわちシャドウマスク材1に張力をかけるこ
とにより金属素材のたるみを防止し、金属素材とグラビ
アロール17との密着性を高めることで、より効率よく金
属素材の凹部内部にエッチング防止層を充填することが
可能となるからである。
Next, it is also desirable to provide impression cylinders 22 in front of and behind the pair of gravure rolls 17 of the present invention as means for solving this problem. For some reason, the impression cylinder 22 is used to apply tension to the shadow mask material 1 to prevent the slack of the metal material, and to improve the adhesion between the metal material and the gravure roll 17, thereby increasing efficiency. This is because it becomes possible to fill the inside of the recess of the metal material with the etching prevention layer.

【0013】また、グラビアコーター10のインキ供給方
式は、リバースであるとナチュラルであるとを問わず、
インキ循環方式であることが望ましい。何故かならば、
インキ循環経路にフィルター21を付けることにより、イ
ンキを常に清浄な状態で版に供給できるからである。
The ink supply system of the gravure coater 10 is reverse or natural,
Ink circulation system is desirable. Because
This is because the ink can always be supplied to the plate in a clean state by attaching the filter 21 to the ink circulation path.

【0014】本発明が適応できるシャドウマスクの製造
方法としては、図5を用いて説明した従来技術が適応で
きることは勿論である。より一般的に言えば、エッチン
グを二段階に分け、その間に片面に中途までエッチング
した凹部内にエッチング防止層を充填する工程を有する
シャドウマスクの製造方法であれば、本発明は適応でき
る。エッチング防止層を充填する凹部は、小孔側であっ
ても大孔側であっても、差し支えないが、多くの場合、
小孔側である。
As a method of manufacturing a shadow mask to which the present invention can be applied, it goes without saying that the conventional technique described with reference to FIG. 5 can be applied. More generally speaking, the present invention can be applied to any method of manufacturing a shadow mask, which includes a step of dividing etching into two stages and filling an etching prevention layer into a recessed portion on one side of which halfway is etched. The recess for filling the etching prevention layer may be on the small hole side or the large hole side, but in many cases,
It is a small hole side.

【0015】[0015]

【作用】本発明は、シャドウマスクの製造工程におい
て、エッチング防止層の塗布手段として、斜め螺旋溝の
インキセルを有する二本のグラビアロールによるリバー
スグラビアコート法とし、かつ、前記二本のグラビアロ
ールに設けた斜め螺旋溝の旋回方向を互いに逆回り方向
としたことを特徴としたものである。斜め螺旋溝のイン
キセルを有するグラビアロールコーターは、被塗布面へ
充分量のインキを供給し、かつエッチングした凹部内へ
インキを押し込む性質が優れる。特に、リバースコート
の場合、斜め螺旋溝のインキセルを有するグラビアロー
ルコーターは、エッチングした凹部に対して、波状的に
インキを押し込むように働く。
In the shadow mask manufacturing process, the present invention employs a reverse gravure coating method using two gravure rolls having ink cells with oblique spiral grooves as means for applying the etching preventive layer, and the two gravure rolls are applied. It is characterized in that the turning directions of the provided oblique spiral grooves are opposite to each other. The gravure roll coater having an ink cell with a diagonal spiral groove has an excellent property of supplying a sufficient amount of ink to the surface to be coated and pushing the ink into the etched recess. In particular, in the case of reverse coating, the gravure roll coater having the ink cells of the oblique spiral groove works to press the ink in a wavy shape into the etched recess.

【0016】さらに、二本のグラビアロールに設けられ
た斜め螺旋溝の旋回方向が互いに逆回り方向であるた
め、インキは二方向から供給されることになる。すなわ
ち、例えば一本目のグラビアロールから、金属素材の進
行方向左側の板端部方向に向けインキが供給された場
合、一本目のグラビアロールに設けられた斜め螺旋溝と
逆方向の旋回方向とした斜め螺旋溝を有する二本目のグ
ラビアロールにより、金属素材の進行方向右側の板端部
方向に向けインキが供給されることとなる。
Furthermore, since the turning directions of the oblique spiral grooves provided on the two gravure rolls are opposite to each other, the ink is supplied from two directions. That is, for example, when the ink is supplied from the first gravure roll toward the plate end direction on the left side of the traveling direction of the metal material, the direction of rotation is opposite to the diagonal spiral groove provided in the first gravure roll. By the second gravure roll having the diagonal spiral groove, the ink is supplied toward the plate end portion on the right side in the traveling direction of the metal material.

【0017】このため、一本目のグラビアロールで供給
され、例えば金属素材進行方向左側の板端部領域で余剰
となったインキは、二本目のグラビアロールにより掻き
取られ、金属素材の進行方向右側方向に移動することに
なる。これにより、進行方向左右の金属素材両端部領域
に余剰のインキが溜まることがなくなる。また、一本目
のグラビアロールで斜め螺旋方向に生じたスジ状の塗布
ムラも、二本目のグラビアロールにより掻き取られ平坦
化されると共に、二本目のグラビアロールより新たにイ
ンキが供給されるため、ピンホールのない均一な膜厚の
塗布膜を得ることができる。
Therefore, the ink supplied by the first gravure roll, for example, the excess ink in the plate end region on the left side in the metal material advancing direction is scraped off by the second gravure roll to the right side in the metal material advancing direction. Will move in the direction. As a result, excess ink does not collect in both end regions of the metal material on the left and right in the traveling direction. Further, streak-shaped coating unevenness generated in the oblique spiral direction by the first gravure roll is scraped and flattened by the second gravure roll, and ink is newly supplied from the second gravure roll. It is possible to obtain a coating film having a uniform film thickness without pinholes.

【0018】また、金属素材凹部に二方向からインキが
供給されるため、凹部の一定の領域にのみインキが充填
されることなく、凹部内全体に効率的にインキが充填さ
れる。このように、本発明は、気泡を抱き込むことなく
均一の塗布膜厚にて、エッチングした凹部内にエッチン
グ防止層を充填することができる。
Further, since the ink is supplied to the concave portion of the metal material from two directions, the ink is efficiently filled into the entire concave portion without being filled with the ink only in a certain area of the concave portion. As described above, according to the present invention, the etching prevention layer can be filled in the etched recess with a uniform coating film thickness without enclosing air bubbles.

【0019】[0019]

【実施例】以下に、図面の図1から図2に基づいて、本
発明を詳述する。図2において、シャドウマスク材1
は、巻取りロールから供給された長尺物の金属板であっ
て、例えば、板厚0.13mmの低炭素鋼や低膨張性のアンバ
ー材を用いる。すでに(従来の技術)の項で説明したよ
うな工程を行なえば、図5(a)に示すような、小孔レ
ジスト膜2aと大孔レジスト膜2bを表裏に有するシャドウ
マスク材1が得られる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described in detail below with reference to FIGS. In FIG. 2, the shadow mask material 1
Is a long metal plate supplied from a winding roll, and uses, for example, low carbon steel having a plate thickness of 0.13 mm or low expansion amber material. By performing the steps already described in the section (Prior Art), a shadow mask material 1 having a small hole resist film 2a and a large hole resist film 2b on the front and back sides as shown in FIG. 5A is obtained. .

【0020】次いで、図2の第一エッチングチャンバー
7に、シャドウマスク材1を通せば、上下に設置された
スプレーノズル8から吹き出すエッチング液により、シ
ャドウマスク材1の表裏が途中までエッチングされ、図
5(b)に示すような凹部3a、凹部3bが形成され
る。
Next, when the shadow mask material 1 is passed through the first etching chamber 7 shown in FIG. 2, the front and back of the shadow mask material 1 are partly etched by the etching liquid ejected from the spray nozzles 8 provided above and below, The recesses 3a and 3b are formed as shown in FIG. 5 (b).

【0021】第一エッチングチャンバー7を通過したシ
ャドウマスク材1は、上方へ搬送され、エッチング防止
層が充填される小孔側を下面となるよう反転される。シ
リンダーロールによる塗布では、塗布面を下側とするの
が適しているからである。反転して小孔面を下側とした
シャドウマスク材1に対して、旋回方向が互いに逆回り
とした斜め螺旋溝26a 、螺旋溝26b のインキセルを各々
有する二本のグラビアロール17a 、グラビアロール17b
によるグラビアコーター10でグラビアコートを行なう。
これが、本発明の特徴である。
The shadow mask material 1 which has passed through the first etching chamber 7 is conveyed upward and inverted so that the small hole side filled with the etching prevention layer is the lower surface. This is because in the case of coating with a cylinder roll, it is suitable that the coating surface is on the lower side. Two gravure rolls 17a and 17b, each having ink cells of an oblique spiral groove 26a and a spiral groove 26b whose turning directions are opposite to each other with respect to the shadow mask material 1 with the small hole surface facing down
Gravure coater 10 will be used for gravure coating.
This is the feature of the present invention.

【0022】この点を図1に基づいて説明すると、シャ
ドウマスク材1は紙面右方から搬送されてくる。次い
で、斜め螺旋溝26a のインキセルを有する一本目のグラ
ビアロール17a 、および、一本目のグラビアロール17a
に設けられた斜め螺旋溝26a と逆方向の旋回方向とした
斜め螺旋溝26b を有する二本目のグラビアロール17b よ
りなるグラビアコーター10でコートを行なう。すなわ
ち、旋回方向が互いに逆回りとした斜め螺旋溝26のイン
キセルを各々有する二本で一対としたグラビアロール17
と圧胴22の間にシャドウマスク材1を通すのであるが、
図1の実施例ではグラビアロール17の回転方向は、各々
リバースとし、シャドウマスク材1の搬送方向と逆とし
ている。
To explain this point with reference to FIG. 1, the shadow mask material 1 is conveyed from the right side of the drawing. Next, the first gravure roll 17a having the ink cells of the oblique spiral groove 26a, and the first gravure roll 17a
The coating is performed by the gravure coater 10 including the second gravure roll 17b having the diagonal spiral groove 26b formed in the opposite direction to the diagonal spiral groove 26a provided in the. That is, a pair of two gravure rolls 17 each having an ink cell of an oblique spiral groove 26 whose turning directions are opposite to each other.
The shadow mask material 1 is passed between the impression cylinder 22 and
In the embodiment shown in FIG. 1, the gravure rolls 17 are rotated in the reverse direction, which is opposite to the conveying direction of the shadow mask material 1.

【0023】リバースグラビアロール17の場合、シャド
ウマスク材1との相対速度が大で、しかも逆方向での接
触であるから、接触面で塗布液を凹部3へ押し込む働き
が強く、かつ、斜め螺旋溝26のインキセルは波状的にイ
ンキを押し込むように働く。そのうえ、グラビアコータ
ー10の性質として、塗布液を均一に展開するのに適して
いるから、ピンホール等の塗布欠陥を生じることがな
い。
In the case of the reverse gravure roll 17, since the relative speed with the shadow mask material 1 is large and the contact is in the opposite direction, the action of pushing the coating liquid into the concave portion 3 at the contact surface is strong, and the diagonal spiral. The ink cells of the groove 26 work to press the ink in a wavy manner. Moreover, since the gravure coater 10 is suitable for uniformly spreading the coating liquid, it does not cause coating defects such as pinholes.

【0024】なお、本発明者らによれば、二本のグラビ
アロール上に設ける斜め螺旋溝26は、各々山から山まで
のピッチを 100〜 500μm とし、螺旋の角度をロール軸
に対し25〜65°で設定し、インキセルの深度を10〜 200
μm とすることで良好な塗布結果を得られるという事実
を経験的に得ている。また、二本のグラビアロール17に
設ける螺旋の旋回方向は互いに反対回りとしたものであ
る。
According to the present inventors, the diagonal spiral grooves 26 provided on the two gravure rolls each have a pitch from peak to peak of 100 to 500 μm, and the angle of the spiral is 25 to 25 degrees with respect to the roll axis. Set at 65 ° and the depth of ink cell is 10 ~ 200
We have empirically obtained the fact that good coating results can be obtained with a thickness of μm. In addition, the spirals provided on the two gravure rolls 17 are rotated in opposite directions.

【0025】また、本実施例では図1中に示すように二
本で一対としたグラビアロール17の前後に圧胴22を設け
ている。この圧胴22を用いてシャドウマスク材1に張力
をかけることで、長尺物のシャドウマスク材1を搬送す
る際に生じるシャドウマスク材1のたるみを防止すると
ともに、シャドウマスク材1をグラビアロール17に押し
つける役目をはたしている。これにより、シャドウマス
ク材1とグラビアロール17の密着性が高まり、より効率
よく塗布液を均一にシャドウマスク材1の凹部内部に充
填することが可能となる。
Further, in this embodiment, as shown in FIG. 1, the impression cylinders 22 are provided in front of and behind the gravure roll 17 which is a pair of two. By applying tension to the shadow mask material 1 using the impression cylinder 22, the slack of the shadow mask material 1 that occurs when the long shadow mask material 1 is conveyed is prevented and the shadow mask material 1 is gravure-rolled. It has a role of pressing against 17. As a result, the adhesion between the shadow mask material 1 and the gravure roll 17 is enhanced, and it becomes possible to more efficiently and uniformly fill the concave portion of the shadow mask material 1 with the coating liquid.

【0026】グラビアコーター10の塗布液は、循環方式
で供給されている。塗布液供給装置18の先端部23はリバ
ースグラビアロール17の表面に摺接して、グラビアロー
ルの表面に刻設されたインキセルの中に充填された塗布
液以外の余分な塗布液を掻き落とす。余分な塗布液は、
インキ受け19からポンプ20、フィルター21を経て循環さ
れる。この方式の優れた点は、フィルターを通して塗布
液が常に清浄なことである。
The coating liquid of the gravure coater 10 is supplied in a circulating system. The tip 23 of the coating liquid supply device 18 slides on the surface of the reverse gravure roll 17 to scrape off excess coating liquid other than the coating liquid filled in the ink cells engraved on the surface of the gravure roll. Excess coating liquid
It is circulated from the ink receiver 19 through the pump 20 and the filter 21. The advantage of this method is that the coating solution is always clean through the filter.

【0027】次いで、図2においてエッチング防止層の
塗布が終了したシャドウマスク材1は、さらに上の乾燥
・硬化のエリア24を経て、第二エッチングチャンバー11
に通し、大孔側にエッチングを行う。こうして大孔側か
ら小孔に通じる貫通孔を開け、図5(d)に示す状態と
し、最後に剥膜チャンバー12にてエッチング防止層およ
びレジスト膜2を除去して、図5(e)に示すフラット
型のシャドウマスクを得た。
Next, in FIG. 2, the shadow mask material 1 for which the application of the etching prevention layer has been completed passes through the drying / curing area 24 further above, and then passes through the second etching chamber 11.
Through, and etching is performed on the large hole side. In this way, a through hole communicating from the large hole side to the small hole is opened, and the state shown in FIG. 5D is obtained. Finally, the etching prevention layer and the resist film 2 are removed in the film peeling chamber 12, and the state shown in FIG. The flat type shadow mask shown was obtained.

【0028】[0028]

【発明の効果】本発明は、シャドウマスクの製造工程に
おいて、エッチング防止層の塗布手段として、斜め螺旋
溝のインキセルを有する二本のグラビアロールによるリ
バースグラビアコート法とし、かつ、前記二本のグラビ
アロールに設けた斜め螺旋溝の旋回方向を互いに逆回り
としたことを特徴としたものである。斜め螺旋溝のイン
キセルを有するグラビアロールコーターは、被塗布面へ
充分量のインキを供給し、かつエッチングした凹部内へ
インキを押し込む性質が優れる。特に、リバースコート
の場合、斜め螺旋溝のインキセルを有するグラビアロー
ルコーターは、エッチングした凹部に対して、波状的に
インキを押し込むように働く。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention uses a reverse gravure coating method using two gravure rolls having ink cells with oblique spiral grooves as means for applying an etching preventive layer in a shadow mask manufacturing process, and said two gravure coating methods. It is characterized in that the oblique spiral grooves provided on the roll are rotated in opposite directions. The gravure roll coater having an ink cell with a diagonal spiral groove has an excellent property of supplying a sufficient amount of ink to the surface to be coated and pushing the ink into the etched recess. In particular, in the case of reverse coating, the gravure roll coater having the ink cells of the oblique spiral groove works to press the ink in a wavy shape into the etched recess.

【0029】さらに、二本のグラビアロールに設けられ
た斜め螺旋溝の旋回方向が互いに逆回りであるため、イ
ンキは二方向から供給されることになる。すなわち、例
えば一本目のグラビアロールから、金属素材の進行方向
左側の板端部方向に向けインキが供給された場合、一本
目のグラビアロールに設けられた斜め螺旋溝と逆方向の
旋回方向とした斜め螺旋溝を有する二本目のグラビアロ
ールにより、金属素材の進行方向右側の板端部方向に向
けインキが供給されることとなる。
Furthermore, since the oblique spiral grooves provided on the two gravure rolls rotate in opposite directions, the ink is supplied from two directions. That is, for example, when the ink is supplied from the first gravure roll toward the plate end direction on the left side in the traveling direction of the metal material, the direction of rotation is opposite to that of the oblique spiral groove provided in the first gravure roll. By the second gravure roll having the diagonal spiral groove, the ink is supplied toward the plate end portion on the right side in the traveling direction of the metal material.

【0030】このため、一本目のグラビアロールで供給
され、例えば金属素材進行方向左側の板端部領域で余剰
となったインキは、二本目のグラビアロールにより掻き
取られ、金属素材の進行方向右側方向に移動することに
なる。これにより、進行方向左右の金属素材両端部領域
に余剰のインキが溜まることがなくなる。また、一本目
のグラビアロールで斜め螺旋方向に生じたスジ状の塗布
ムラも、二本目のグラビアロールにより掻き取られ平坦
化されると共に、二本目のグラビアロールより新たにイ
ンキが供給されるため、ピンホールのない均一な膜厚の
塗布膜を得ることができる。また、金属素材凹部に二方
向からインキが供給されるため、凹部の一定の領域にの
みインキが充填されることなく、凹部内全体に効率的に
インキが充填される。
Therefore, the ink supplied by the first gravure roll, for example, the excess ink in the plate end region on the left side in the metal material advancing direction is scraped off by the second gravure roll to the right side in the advancing direction of the metal material. Will move in the direction. As a result, excess ink does not collect in both end regions of the metal material on the left and right in the traveling direction. Further, streak-shaped coating unevenness generated in the oblique spiral direction by the first gravure roll is scraped and flattened by the second gravure roll, and ink is newly supplied from the second gravure roll. It is possible to obtain a coating film having a uniform film thickness without pinholes. Further, since the ink is supplied to the concave portion of the metal material from two directions, the ink is efficiently filled in the entire concave portion without being filled with the ink only in a certain area of the concave portion.

【0031】以上のように、本発明のシャドウマスクの
製造方法によれば、エッチング防止層の塗布方法とし
て、斜め螺旋溝のインキセルを有するグラビアコーター
は、被塗布面へ充分量のインキを供給し、かつエッチン
グした凹部内へインキを押し込むことに長けるため、凹
部内に気泡が取り込まれることなく、ピンホールのない
均一な膜厚の塗布膜を得ることに長じている。
As described above, according to the method for producing a shadow mask of the present invention, a gravure coater having an ink cell with oblique spiral grooves supplies a sufficient amount of ink to the surface to be coated as a method for coating the etching prevention layer. In addition, since it is good at pushing the ink into the etched recess, it is good at obtaining a coating film having a uniform film thickness without pinholes without entrapment of bubbles in the recess.

【0032】したがって、 スプレー方式またはメッシュセルグラビアコート方式
に比べて、エッチング防止層内に気泡が取り込まれな
い。したがって、残存した気泡が、第二段階のエッチン
グで、小孔のサイドエッチング現象を助長することがな
く、その結果、開孔の形状が拡大したり、所定の円形に
ならないなどの孔形不良が抑えられる。 本来エッチング防止層を形成すべき金属素材の面と反
対面に、不要なエッチング防止層が形成されエッチング
が妨げられることで生じる、エッチング不良を防止でき
る。 従来の塗布方法で生じていた塗布ムラによるエッチン
グ不良、すなわち、エッチング液が塗布膜の薄い部位を
浸透し、金属素材と接触することで生じていたエッチン
グ不良は、本発明により均一な膜厚の塗布膜を得られる
ことで、防止できる。 グラビアコーター方式の塗布法であるので、スプレー
方式に比べてコート装置が小型である。 スプレー飛沫による汚染、コート液の滞留ということ
がなく、コート装置の保守管理が楽である。 という、実用上すぐれた効果がある。
Therefore, as compared with the spray method or the mesh cell gravure coating method, bubbles are not taken into the etching prevention layer. Therefore, the remaining bubbles do not promote the side etching phenomenon of the small holes in the second-stage etching, and as a result, the shape of the openings is enlarged, or a defective shape such as the shape of the opening is not formed into a predetermined circle. It can be suppressed. It is possible to prevent an etching failure caused by an unnecessary etching prevention layer being formed on the surface opposite to the surface of the metal material on which the etching prevention layer should be originally formed and the etching being disturbed. Etching defects due to coating unevenness that have occurred in the conventional coating method, that is, etching defects caused by the etching liquid penetrating a thin portion of the coating film and coming into contact with a metal material, have a uniform film thickness according to the present invention. This can be prevented by obtaining a coating film. Since the coating method is the gravure coater method, the coater is smaller than the spray method. Maintenance of the coater is easy because there is no contamination due to spray droplets and no coating liquid retention. That is, it has an excellent effect in practical use.

【0033】[0033]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明のシャドウマスクの製造方法の一実施例
の要部を示す斜視図。
FIG. 1 is a perspective view showing a main part of an embodiment of a method for manufacturing a shadow mask of the present invention.

【図2】本発明のシャドウマスクの製造方法の一実施例
を示す説明図。
FIG. 2 is an explanatory view showing an embodiment of a shadow mask manufacturing method of the present invention.

【図3】従来のシャドウマスクの製造方法の一例の要部
を示す平面図。
FIG. 3 is a plan view showing a main part of an example of a conventional shadow mask manufacturing method.

【図4】従来のシャドウマスクの製造方法における気泡
の例を示す平面図。
FIG. 4 is a plan view showing an example of bubbles in a conventional shadow mask manufacturing method.

【図5】シャドウマスクの製造方法の一例を工程順に示
す説明図。
FIG. 5 is an explanatory view showing an example of a method of manufacturing a shadow mask in the order of steps.

【図6】(a)〜(b)はエッチング防止層内に残留し
た気泡による二次エッチング不良の一例を示す説明図。
FIGS. 6A and 6B are explanatory views showing an example of a secondary etching defect due to bubbles remaining in the etching prevention layer.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 シャドウマスク材 2 レジスト膜 3 凹部 4 エッチング防止層 5 開孔 6 シャドウマスク 7 第一エッチングチャンバー 8 ノズル 10 グラビアコーター 11 第二エッチングチャンバー 12 剥膜チャンバー 13 塗布ムラ 14 インキ 17 グラビアロール 18 塗布液供給装置 19 インキ受け 20 ポンプ 21 フィルター 22 圧胴 23 先端部 24 乾燥・硬化のエリア 25 気泡 26 斜め螺旋溝 1 Shadow mask material 2 Resist film 3 recess 4 Etching prevention layer 5 holes 6 shadow mask 7 First etching chamber 8 nozzles 10 Gravure coater 11 Second etching chamber 12 Stripping chamber 13 Uneven coating 14 ink 17 Gravure roll 18 Coating liquid supply device 19 Ink tray 20 pumps 21 filters 22 impression cylinder 23 Tip 24 Drying and curing area 25 bubbles 26 diagonal spiral groove

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平8−111174(JP,A) 特開 平7−121870(JP,A) 特開 平2−52066(JP,A) 特開 昭63−204249(JP,A) 特開 平6−280051(JP,A) 特開 平5−255868(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01J 9/14 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) Reference JP-A-8-111174 (JP, A) JP-A-7-121870 (JP, A) JP-A-2-52066 (JP, A) JP-A-63- 204249 (JP, A) JP-A-6-280051 (JP, A) JP-A-5-255868 (JP, A) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) H01J 9/14

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】両面に所定パターンに従って一部金属面を
露出させているレジスト膜が形成されている板状のシャ
ドウマスク金属素材の少なくとも一方の面をエッチング
して、少なくともこの一方の面の金属露出部分に凹部を
形成する第一エッチング工程と、前記第一エッチング工
程にて形成された凹部を有する一方の面にエッチング防
止層を塗布して、この凹部内部にエッチング防止層を充
填する工程と、前記エッチング防止層の設けられた面と
は反対の面をエッチングして、この反対の面から前記一
方の面に形成された凹部に通じる凹孔を形成する第二エ
ッチング工程と、前記エッチング防止層とレジスト膜を
除去する剥膜工程とを少なくとも有するシャドウマスク
の製造方法において、前記のエッチング防止層の塗布手
段として、斜め螺旋溝のインキセルを有する二本のグラ
ビアロールによるグラビアコート法を用い、かつ、前記
二本のグラビアロールの斜め螺旋溝の旋回方向を互いに
逆回り方向としたことを特徴とするシャドウマスクの製
造方法。
1. A metal on at least one of the surfaces of a plate-shaped shadow mask metal material having a resist film on which a metal surface is partially exposed according to a predetermined pattern is etched on at least one surface. A first etching step of forming a concave portion in the exposed portion; a step of applying an etching prevention layer on one surface having the concave portion formed in the first etching step and filling the inside of the concave portion with the etching prevention layer; A second etching step of etching a surface opposite to the surface on which the etching prevention layer is provided to form a concave hole communicating from the opposite surface to a concave portion formed on the one surface; In the method for producing a shadow mask, which comprises at least a layer and a film removing step of removing the resist film, an oblique screw is used as a means for applying the etching prevention layer. Using a gravure coating method by two gravure roll having a Inkiseru grooves, and method of manufacturing a shadow mask, characterized in that the opposite direction around each other turning direction of the oblique spiral groove of the two gravure roll.
【請求項2】前記二本のグラビアロールによるコート法
が金属素材の進行方向と逆回転のリバースグラビアコー
ト法である請求項1記載のシャドウマスクの製造方法。
2. The method for producing a shadow mask according to claim 1, wherein the coating method using the two gravure rolls is a reverse gravure coating method of rotating in a direction opposite to the traveling direction of the metal material.
【請求項3】前記二本のグラビアロールの前後に圧胴を
設けた請求項1または2記載のシャドウマスクの製造方
法。
3. The method for producing a shadow mask according to claim 1, wherein an impression cylinder is provided before and after the two gravure rolls.
【請求項4】グラビアコーターの塗布液供給方式が、塗
布液循環方式である請求項1、2または3記載のシャド
ウマスクの製造方法。
4. The method for producing a shadow mask according to claim 1, 2 or 3, wherein the coating solution supply system of the gravure coater is a coating solution circulation system.
JP17875295A 1995-07-14 1995-07-14 Manufacturing method of shadow mask Expired - Fee Related JP3489276B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17875295A JP3489276B2 (en) 1995-07-14 1995-07-14 Manufacturing method of shadow mask

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP17875295A JP3489276B2 (en) 1995-07-14 1995-07-14 Manufacturing method of shadow mask

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0935631A JPH0935631A (en) 1997-02-07
JP3489276B2 true JP3489276B2 (en) 2004-01-19

Family

ID=16053979

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP17875295A Expired - Fee Related JP3489276B2 (en) 1995-07-14 1995-07-14 Manufacturing method of shadow mask

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3489276B2 (en)

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63204249A (en) * 1987-02-20 1988-08-23 Toshiba Corp Method for coating photosensitive liquid
JPH0252066A (en) * 1988-08-11 1990-02-21 Toshiba Mach Co Ltd Gravure roll
JP2795094B2 (en) * 1992-01-17 1998-09-10 凸版印刷株式会社 Manufacturing method of micro perforated plate
JPH06280051A (en) * 1993-03-29 1994-10-04 Toppan Printing Co Ltd Shadow mask manufacturing method
JP3319087B2 (en) * 1993-10-22 2002-08-26 ソニー株式会社 Manufacturing method of magnetic recording medium
JP3079911B2 (en) * 1994-10-06 2000-08-21 凸版印刷株式会社 Manufacturing method of shadow mask

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0935631A (en) 1997-02-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3489276B2 (en) Manufacturing method of shadow mask
JP3079911B2 (en) Manufacturing method of shadow mask
EP0817231B1 (en) Shadow mask manufacturing method
JP3063530B2 (en) Manufacturing method of shadow mask
JP3206416B2 (en) Manufacturing method of shadow mask
JPH059755A (en) Method for forming fine through-hole in metallic thin sheet
JPH10214562A (en) Manufacturing method of shadow mask
JPH11329228A (en) Manufacturing method of shadow mask
JPH09199016A (en) Manufacturing method of shadow mask
JP3092468B2 (en) Manufacturing method of shadow mask
JP2583421Y2 (en) Applicator for thin metal plate
JPH0420993B2 (en)
JP3168878B2 (en) Manufacturing method of shadow mask
JPH10312745A (en) Manufacturing method of shadow mask
JP2000345373A (en) Formation of fine through hole in thin metallic sheet, and manufacture of shadow mask
JP3627583B2 (en) Shadow mask manufacturing method
JP3958969B2 (en) Relief board painting method and relief board.
JPH08283964A (en) Etching parts manufacturing method
JPH04246183A (en) Method and device for washing chemically etched metallic thin sheet
JP3453906B2 (en) Manufacturing method of etched parts
JPH1083758A (en) Manufacturing method of shadow mask
JPH09157867A (en) Manufacturing method of shadow mask
JPH08124479A (en) Shadow mask manufacturing method
JPH08167375A (en) Shadow mask manufacturing method
JP2002231131A (en) Method and device for manufacturing shadow mask

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071107

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081107

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091107

Year of fee payment: 6

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees