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JP3063530B2 - Manufacturing method of shadow mask - Google Patents

Manufacturing method of shadow mask

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Publication number
JP3063530B2
JP3063530B2 JP6175669A JP17566994A JP3063530B2 JP 3063530 B2 JP3063530 B2 JP 3063530B2 JP 6175669 A JP6175669 A JP 6175669A JP 17566994 A JP17566994 A JP 17566994A JP 3063530 B2 JP3063530 B2 JP 3063530B2
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JP
Japan
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etching
shadow mask
roll
coater
coat
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邦晶 三田
智史 綱島
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Toppan Inc
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、フォトエッチング法に
よってシャドウマスクを製造する方法に係わり、特に開
孔の径が小さく開孔の数が多い高精細シャドウマスクの
製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a shadow mask by a photoetching method, and more particularly to a method of manufacturing a high-definition shadow mask having a small number of openings and a large number of openings.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、カラー受像管に用いるシャドウマ
スクは、図3に示すような工程で造られる。すなわち、
シャドウマスク材1として例えば板厚0.13mmの低炭素鋼
板を用い、その両面を脱脂、整面、洗浄処理した後、そ
の両面にカゼインやポリビニルアルコールと重クロム酸
アンモニウムからなる水溶性感光液を塗布乾燥して、フ
ォトレジスト膜2を形成する。次いで、シャドウマスク
材1の一方の面に小孔像のネガパターンを、他方の面に
大孔像のネガパターンを露光する。その後、温水にて、
未露光未硬化のフォトレジスト膜を溶解する現像処理を
行なえば、図3(a)に示すように、小孔レジスト膜2a
と大孔レジスト膜2bを表裏に有するシャドウマスク材1
が得られる。
2. Description of the Related Art Conventionally, a shadow mask used for a color picture tube is manufactured by a process as shown in FIG. That is,
For example, a low carbon steel sheet having a thickness of 0.13 mm is used as the shadow mask material 1, and both sides are degreased, leveled, and cleaned, and then coated with a water-soluble photosensitive solution composed of casein, polyvinyl alcohol, and ammonium bichromate on both sides. After drying, a photoresist film 2 is formed. Next, one side of the shadow mask material 1 is exposed to the negative pattern of the small hole image, and the other side is exposed to the negative pattern of the large hole image. Then, with warm water,
If a developing process for dissolving the unexposed and uncured photoresist film is performed, as shown in FIG.
Mask material 1 which has a resist film 2b on both sides
Is obtained.

【0003】その後、レジスト膜2に対して硬膜処理お
よびバーニング処理を施し、第一段階のエッチングを表
裏両面から行なう。エッチング液には塩化第二鉄のボー
メ濃度35〜50を用い、スプレー圧 1.5〜3.5kg/cm2 のス
プレーエッチングで行なうのが一般的である。この第一
エッチング工程では、図3(b)に示すように、エッチ
ング進度は、途中で止めるのが肝要である。また、この
第一エッチング工程では、シャドウマスク材1の大孔レ
ジスト膜2bを有する面に保護フィルムを貼り付け、小孔
側からのみシャドウマスク材1を中途までエッチングす
る方法もある。
After that, a hardening process and a burning process are performed on the resist film 2, and a first stage etching is performed from both front and back surfaces. The etching solution is generally performed by spray etching with a Baume concentration of ferric chloride of 35 to 50 and a spray pressure of 1.5 to 3.5 kg / cm 2 . In the first etching step, as shown in FIG. 3B, it is important to stop the etching progress halfway. In the first etching step, there is also a method of attaching a protective film to the surface of the shadow mask material 1 having the large hole resist film 2b and etching the shadow mask material 1 only from the small hole side.

【0004】次いで、図3(c)に示すように、前段の
エッチングで形成された小孔側の凹部3bを完全に埋め尽
くすエッチング防止層4を塗布形成する。続いて、図3
(d)に示すように、大孔側からのみシャドウマスク材
1をエッチングする第二エッチング工程を行ない、大孔
側から小孔に貫通する開孔5を形成する。最後に、エッ
チング防止層4およびレジスト膜2を剥がし、水洗乾燥
して図3(e)に示すフラット型のシャドウマスク6を
得る。
Next, as shown in FIG. 3C, an etching prevention layer 4 that completely fills the small-hole-side recess 3b formed by the preceding etching is applied and formed. Subsequently, FIG.
As shown in (d), a second etching step of etching the shadow mask material 1 only from the large hole side is performed, and an opening 5 penetrating from the large hole side to the small hole is formed. Finally, the etching prevention layer 4 and the resist film 2 are peeled off, washed with water and dried to obtain a flat type shadow mask 6 shown in FIG.

【0005】この従来法では、フォトエッチング法では
避けることのできないサイドエッチング現象を小孔側で
抑えている、ということができる。すなわち、小孔側の
凹部にエッチング防止層を充填し、第二エッチング工程
では小孔はサイドエッチングされないことにより、第一
エッチング工程における精確な小孔パターンを維持でき
る。したがって、例えば材料金属板の厚さより小さい孔
径の開孔も可能としていた。
In this conventional method, it can be said that the side etching phenomenon which cannot be avoided by the photo etching method is suppressed on the small hole side. That is, the concave portion on the small hole side is filled with the etching prevention layer, and the small hole is not side-etched in the second etching step, so that a precise small hole pattern in the first etching step can be maintained. Therefore, for example, it is possible to form a hole having a hole diameter smaller than the thickness of the material metal plate.

【0006】しかしながら、この従来法にも問題がない
わけではない。従来法によれば、エッチング防止層の形
成は、スプレーコート法で行なわれているが、この方法
では以下のような欠点があげられる。 スプレーノズルを多数並べるのでコート装置が大型化
する。 スプレー飛沫による汚染、コート液の滞留のため、コ
ート装置の保守管理に手間がかかる。 エッチング防止層内に気泡が取り込まれて残存しやす
い。 特に、第番目の欠点は、残存した気泡が、第二エッチ
ング工程で、小孔のサイドエッチング現象を助長するこ
とがあり、その結果、開孔の形状が拡大したり、所定の
円形にならないなどの孔形不良の原因となった。
However, this conventional method is not without its problems. According to the conventional method, the formation of the etching prevention layer is performed by a spray coating method, but this method has the following disadvantages. Since a large number of spray nozzles are arranged, the coater becomes large. Maintenance and management of the coating device is troublesome due to contamination due to spray droplets and retention of the coating liquid. Bubbles are easily taken in and left in the etching prevention layer. In particular, the second disadvantage is that the remaining air bubbles may promote the side etching phenomenon of the small holes in the second etching step, and as a result, the shape of the opening may not be enlarged or a predetermined circular shape may not be obtained. Caused the hole shape to be poor.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な事情に鑑み、シャドウマスクの製造方法において、気
泡が取り込まれて残存することのないエッチング防止層
の形成法を立案して、本発明に至ったものであり、得ら
れるシャドウマスクに形状不良の開孔が生じないシャド
ウマスクの製造方法を提供しようとするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and in a method of manufacturing a shadow mask, a method of forming an etching prevention layer in which air bubbles are not captured and remains does not exist. It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a shadow mask in which an opening of a defective shape does not occur in the obtained shadow mask.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、両
面に所定パターンに従って一部金属面を露出させている
レジスト膜が形成されている板状のシャドウマスク金属
素材の少なくとも一方の面をエッチングして、少なくと
もこの一方の面の金属露出部分に凹部を形成する第一エ
ッチング工程と、前記第一エッチング工程にて形成され
た凹部を有する一方の面にエッチング防止層を塗布し
て、この凹部内部にエッチング防止層を充填する工程
と、前記エッチング防止層の設けられた面とは反対の面
をエッチングして、この反対の面から前記一方の面に形
成された凹部に通じる凹孔を形成する第二エッチング工
程と、前記エッチング防止層とレジスト膜を除去する剥
膜工程とを少なくとも有するシャドウマスクの製造方法
において、前記のエッチング防止層の塗布手段として、
ロールコーターの前段コートと、グラビアコーターの後
段コートとの二段塗布法を用いることを特徴とするシャ
ドウマスクの製造方法である。
That is, according to the present invention, at least one surface of a plate-shaped shadow mask metal material on which a resist film partially exposing a metal surface is formed in accordance with a predetermined pattern on both surfaces. A first etching step of forming a recess in at least one of the metal exposed portions of the surface, and applying an etching prevention layer to one surface having the recess formed in the first etching step, A step of filling the inside with an etching prevention layer, and etching a surface opposite to the surface provided with the etching prevention layer to form a concave hole from the opposite surface to the concave portion formed on the one surface. A method of manufacturing a shadow mask, the method comprising at least a second etching step for removing the etching prevention layer and a resist film. As the coating means ring preventing layer,
A shadow mask manufacturing method characterized by using a two-stage coating method of a former coat of a roll coater and a later coat of a gravure coater.

【0009】しかし、本発明のシャドウマスクの製造方
法の実施態様には、様々の変形がありうる。そのひとつ
は、ロールコーターの前段コートに代えて、前段コート
もグラビアコーターにすることである。この場合は、グ
ラビアコーターが2連並ぶことになる。
However, there may be various modifications in the embodiment of the shadow mask manufacturing method of the present invention. One of them is to use a gravure coater for the former coat instead of the former coat for the roll coater. In this case, two gravure coaters are arranged.

【0010】次ぎの変形は、グラビアコーターが、リバ
ースグラビアコーターであることである。「リバース」
とは、被塗布物と接するグラビアロールの回転方向が、
被塗布物の進行方向と逆になるような回り方をいう。以
下、とくにことわらないかぎり、単に「グラビアコータ
ー」という場合は、グラビアロールの回転方向が、被塗
布物の進行方向と同じであるナチュラルグラビアコータ
ーを意味し、リバースグラビアコーターとは区別するも
のとする。
[0010] A second modification is that the gravure coater is a reverse gravure coater. "reverse"
Means that the rotation direction of the gravure roll in contact with the coating object is
It refers to the direction in which the direction of movement of the object is reversed. Hereinafter, unless otherwise specified, simply referred to as `` gravure coater '' means a natural gravure coater in which the direction of rotation of the gravure roll is the same as the traveling direction of the object to be coated, and is distinguished from a reverse gravure coater. I do.

【0011】また、グラビアコーターのインキ供給方式
は、リバースであるとナチュラルであるとを問わず、イ
ンキ循環方式であることが望ましい。何故かならば、イ
ンキ循環経路にフィルターを付けることにより、インキ
を常に清浄な状態で版に供給できるからである。
The ink supply system of the gravure coater is desirably an ink circulation system regardless of whether it is reverse or natural. This is because by attaching a filter to the ink circulation path, the ink can always be supplied to the plate in a clean state.

【0012】本発明が適応できるシャドウマスクの製造
方法としては、図3を用いて説明した従来技術が適応で
きることは勿論である。より一般的に言えば、エッチン
グを二段階に分け、その間に片面に中途までエッチング
した凹部内にエッチング防止層を充填する工程を有する
シャドウマスクの製造方法であれば、本発明は適応でき
る。エッチング防止層を充填する凹部は、小孔側であっ
ても大孔側であっても、差し支えないが、多くの場合、
小孔側である。
As a method of manufacturing a shadow mask to which the present invention can be applied, it goes without saying that the conventional technique described with reference to FIG. 3 can be applied. More generally speaking, the present invention can be applied to any method of manufacturing a shadow mask including a step of dividing the etching into two stages and filling a concave portion etched halfway on one side with an etching prevention layer. The concave portion filling the etching prevention layer may be on the small hole side or the large hole side, but in many cases,
It is a small hole side.

【0013】[0013]

【作用】本発明は、シャドウマスクの製造工程におい
て、エッチング防止層の塗布手段として、ロールコータ
ーの前段コートと、グラビアコーターの後段コートとを
組み合わせたものである。ロールコーターは、被塗布面
へ充分量のインキを供給すること、かつエッチングした
凹部内へインキを押し込むことに長け、グラビアコータ
ーは、エッチングした凹部内へインキを押し込むこと
と、ピンホールのない均一な膜厚の塗布膜を得ることに
長じている。ロールコーターをグラビアコーターに代え
ることもできるが、いずれにしても、本発明は、気泡を
抱き込むことなく、エッチングした凹部内にエッチング
防止層を充填することができる。
According to the present invention, in the manufacturing process of the shadow mask, as a means for applying the etching preventing layer, a former coat of a roll coater and a latter coat of a gravure coater are combined. A roll coater is good at supplying a sufficient amount of ink to the surface to be coated and pushing ink into etched recesses, while a gravure coater is capable of pushing ink into etched recesses and has no pinholes. It is good at obtaining a coating film having a large thickness. The roll coater can be replaced with a gravure coater, but in any case, the present invention can fill the etched recess with an etching prevention layer without embracing bubbles.

【0014】[0014]

【実施例】以下に、図面の図1から図2に基づいて、本
発明を詳述する。図1において、シャドウマスク材1
は、巻取りロールから供給された長尺物の金属板であっ
て、例えば板厚0.13mmの低炭素鋼や低膨張性のアンバー
材を用いる。すでに(従来の技術)の項で説明したよう
な工程を行なえば、図3(a)に示すような、小孔レジ
スト膜2aと大孔レジスト膜2bを表裏に有するシャドウマ
スク材1が得られる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail with reference to FIGS. In FIG. 1, a shadow mask material 1
Is a long metal plate supplied from a winding roll, for example, low-carbon steel or a low-expansion invar material having a plate thickness of 0.13 mm is used. By performing the steps already described in the section (Prior Art), the shadow mask material 1 having the small-hole resist film 2a and the large-hole resist film 2b on both sides as shown in FIG. 3A can be obtained. .

【0015】次いで、図1の第一エッチングチャンバー
7に、シャドウマスク材1を通せば、上下に設置された
スプレーノズル8から吹き出すエッチング液により、シ
ャドウマスク材1の表裏が途中までエッチングされ、図
3(b)に示すような凹部3a、3bが形成される。
Next, if the shadow mask material 1 is passed through the first etching chamber 7 of FIG. 1, the front and back surfaces of the shadow mask material 1 are etched halfway by an etching solution blown out from spray nozzles 8 provided above and below. Concave portions 3a and 3b are formed as shown in FIG.

【0016】第一エッチングチャンバー7を通過したシ
ャドウマスク材1は、上方へ搬送され、エッチング防止
層が充填される小孔側を下面となるよう反転される。シ
リンダーロールによる塗布では、塗布面を下側とするの
が適しているからである。反転して小孔面を下側とした
シャドウマスク材1に対して、ロールコーター9の前段
コートと、グラビアコーター10の後段コートとの二段塗
布法を行なう。これが、本発明の特徴のひとつである。
The shadow mask material 1 that has passed through the first etching chamber 7 is transported upward, and is turned upside down such that the side of the small hole filled with the etching prevention layer faces downward. This is because, in the application by the cylinder roll, it is suitable that the application surface is on the lower side. The two-stage coating method of the former coat of the roll coater 9 and the latter coat of the gravure coater 10 is performed on the shadow mask material 1 with the small hole surface facing downward. This is one of the features of the present invention.

【0017】この点を図2に基づいて説明すると、右方
から搬送されてくるシャドウマスク材1を、塗布ロール
13と圧ロール16で挟み、塗布ロール13の表面に供給ロー
ル14によってインキパン15の塗布液が供給されることに
より、シャドウマスク材1の下面小孔側に塗布液が展開
される。塗布ロール13の役割は、被塗布面へ充分量のイ
ンキを供給すること、かつエッチングした凹部内へイン
キを押し込むことである。しかし、ロールコーターの性
質として、エッチングした凹部内へインキを押し込むこ
と、および塗布液を均して均一な膜厚の塗布膜を得るこ
とについては、幾分不十分なところがある。
This point will be described with reference to FIG. 2. The shadow mask material 1 conveyed from the right is applied to a coating roll.
The application liquid of the ink pan 15 is supplied to the surface of the application roll 13 by the supply roll 14, so that the application liquid is developed on the small hole side of the lower surface of the shadow mask material 1. The role of the coating roll 13 is to supply a sufficient amount of ink to the surface to be coated and to push the ink into the etched recess. However, as properties of the roll coater, there are some inadequacies in pushing the ink into the etched concave portions and in obtaining a coating film having a uniform film thickness by leveling the coating liquid.

【0018】次いで、グラビアコーター10による後段コ
ートを行なう。前段と同様、グラビアロール17と圧胴22
の間にシャドウマスク材1を通すのであるが、図の実施
例ではグラビアロール17の回転方向は、リバースとなっ
ている。リバースグラビアロール17の場合、シャドウマ
スク材1との相対速度が大で、しかも逆方向での接触で
あるから、接触面で塗布液を凹部へ押し込む働きが強
い。そのうえ、グラビアコーター10の性質として、塗布
液を均一に展開するのに適しているから、ピンホール等
の塗布欠陥を生じることがない。
Next, a second coat is performed by the gravure coater 10. As before, the gravure roll 17 and impression cylinder 22
In the illustrated embodiment, the rotation direction of the gravure roll 17 is reversed. In the case of the reverse gravure roll 17, since the relative speed to the shadow mask material 1 is high and the contact is made in the opposite direction, the function of pushing the coating liquid into the concave portion on the contact surface is strong. In addition, since the gravure coater 10 is suitable for uniformly spreading the coating liquid, it does not cause coating defects such as pinholes.

【0019】グラビアコーター10の塗布液は、循環方式
で供給されている。塗布液供給装置18の先端部23はリバ
ースグラビアロール17の表面に摺接して、グラビアロー
ルの表面に刻設されたインキセルの中に充填された塗布
液以外の余分な塗布液を掻き落とす。余分な塗布液は、
インキ受け19からポンプ20、フィルター21を経て循環さ
れる。この方式の優れた点は、フィルターを通して塗布
液が常に清浄なことである。
The coating solution of the gravure coater 10 is supplied in a circulation system. The tip portion 23 of the coating liquid supply device 18 slides on the surface of the reverse gravure roll 17 to scrape off excess coating liquid other than the coating liquid filled in the ink cells engraved on the surface of the gravure roll. Excess coating liquid
The ink is circulated from the ink receiver 19 through the pump 20 and the filter 21. The advantage of this method is that the coating solution is always clean through the filter.

【0020】図2に示す実施例について、いくつかの変
形があり得る。例えば、前段コートのロールコーター
を、2連以上の複数列のロールコーターにする。こうす
ると、塗布液の供給を充分なものにすることができる。
あるいは、ロールコーターの前段コートに代えて、前段
コートもグラビアコーターとすることもできる。この場
合は、塗布膜の厚さをよりいっそう均一にできる。
There are several possible variations on the embodiment shown in FIG. For example, the roll coater of the former coat is a roll coater of two or more rows. In this case, the supply of the coating liquid can be made sufficient.
Alternatively, instead of the former coat of the roll coater, the former coat can also be a gravure coater. In this case, the thickness of the coating film can be made more uniform.

【0021】エッチング防止層の塗布が終了したシャド
ウマスク材1は、さらに上の乾燥・硬化のエリア24を経
て、第二エッチングチャンバー11に通す。スプレーノズ
ルは大孔側すなわち下方からエッチング液を噴き付け
る。こうして大孔側から小孔に通じる貫通孔を開け、図
3(d)に示す状態とし、最後に剥膜チャンバー12にて
エッチング防止層およびレジスト膜2を除去して、図3
(e)に示すフラット型のシャドウマスクを得た。
The shadow mask material 1 on which the application of the etching prevention layer has been completed passes through the second etching chamber 11 through the drying / curing area 24 on the upper side. The spray nozzle sprays the etching liquid from the large hole side, that is, from below. In this way, a through hole is opened from the large hole side to the small hole, and the state shown in FIG. 3D is obtained. Finally, the etching prevention layer and the resist film 2 are removed in the stripping chamber 12 to obtain the state shown in FIG.
A flat type shadow mask shown in (e) was obtained.

【0022】[0022]

【発明の効果】以上のように、本発明のシャドウマスク
の製造方法よれば、エッチング防止層の塗布方法とし
て、ロールコート方式を採用したので、ロールコーター
は、被塗布面へ充分量のインキを供給すること、かつエ
ッチングした凹部内へインキを押し込むことに長け、グ
ラビアコーターは、エッチングした凹部内へインキを押
し込むことと、ピンホールのない均一な膜厚の塗布膜を
得ることに長じている。
As described above, according to the method of manufacturing a shadow mask of the present invention, a roll coat method is employed as a method of applying an etching prevention layer, so that a roll coater applies a sufficient amount of ink to a surface to be coated. The gravure coater is good at supplying ink and pushing ink into etched recesses, and is good at pushing ink into etched recesses and obtaining a coating film with a uniform thickness without pinholes. I have.

【0023】したがって、 スプレー方式に比べて、エッチング防止層内に気泡が
取り込まれない。したがって、残存した気泡が、第二段
階のエッチングで、小孔のサイドエッチング現象を助長
することがなく、その結果、開孔の形状が拡大したり、
所定の円形にならないなどの孔形不良が抑えられる。。 ロールコーター方式の塗布法であるので、スプレー方
式に比べてコート装置が小型である。 スプレー飛沫による汚染、コート液の滞留ということ
がなく、コート装置の保守管理が楽である。という、実
用上すぐれた効果がある。
Therefore, bubbles are not taken into the etching prevention layer as compared with the spray method. Therefore, the remaining bubbles do not promote the side etching phenomenon of the small holes in the second-stage etching, and as a result, the shape of the opening increases,
Poor hole shape, such as not being a predetermined circle, can be suppressed. . Since the coating method is a roll coater method, the coating apparatus is smaller than a spray method. There is no contamination due to spray droplets or stagnation of the coating liquid, and maintenance of the coating apparatus is easy. That is an effect that is excellent in practical use.

【0024】[0024]

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のシャドウマスクの製造方法の一実施例
を示す説明図。
FIG. 1 is an explanatory view showing one embodiment of a method of manufacturing a shadow mask of the present invention.

【図2】本発明のシャドウマスクの製造方法の一実施例
の要部を示す説明図。
FIG. 2 is an explanatory view showing a main part of one embodiment of a method of manufacturing a shadow mask of the present invention.

【図3】シャドウマスクの製造方法の一例を工程順に示
す説明図。
FIG. 3 is an explanatory view showing an example of a method of manufacturing a shadow mask in the order of steps.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 シャドウマスク材 2 レジスト膜 3 凹部 4 エッチング防止層 5 開孔 6 シャドウマスク 7 第一エッチングチャンバー 8 ノズル 9 ロールヒーター 10 グラビアコーター 11 第二エッチングチャンバー 12 剥膜チャンバー 13 塗布ロール 14 供給ロール 15 インキパン 16 圧ロール 17 グラビアロール 18 塗布液供給装置 19 インキ受け 20 ポンプ 21 フィルター 22 圧胴 23 先端部 24 乾燥・硬化のエリア REFERENCE SIGNS LIST 1 shadow mask material 2 resist film 3 concave portion 4 etching prevention layer 5 opening 6 shadow mask 7 first etching chamber 8 nozzle 9 roll heater 10 gravure coater 11 second etching chamber 12 stripping chamber 13 coating roll 14 supply roll 15 ink pan 16 Pressure roll 17 Gravure roll 18 Coating liquid supply device 19 Ink receiver 20 Pump 21 Filter 22 Impression cylinder 23 Tip 24 Drying / curing area

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】両面に所定パターンに従って一部金属面を
露出させているレジスト膜が形成されている板状のシャ
ドウマスク金属素材の少なくとも一方の面をエッチング
して、少なくともこの一方の面の金属露出部分に凹部を
形成する第一エッチング工程と、前記第一エッチング工
程にて形成された凹部を有する一方の面にエッチング防
止層を塗布して、この凹部内部にエッチング防止層を充
填する工程と、前記エッチング防止層の設けられた面と
は反対の面をエッチングして、この反対の面から前記一
方の面に形成された凹部に通じる凹孔を形成する第二エ
ッチング工程と、前記エッチング防止層とレジスト膜を
除去する剥膜工程とを少なくとも有するシャドウマスク
の製造方法において、 前記のエッチング防止層の塗布手段として、ロールコー
ターの前段コートと、グラビアコーターの後段コートと
の二段塗布法を用いることを特徴とするシャドウマスク
の製造方法。
At least one surface of a plate-shaped shadow mask metal material on which a resist film partially exposing a metal surface is formed in accordance with a predetermined pattern on both surfaces is etched, and at least one surface of the metal is removed. A first etching step of forming a concave portion in an exposed portion, and a step of applying an etching preventing layer to one surface having the concave portion formed in the first etching step, and filling the inside of the concave portion with the etching preventing layer; A second etching step of etching a surface opposite to the surface provided with the etching prevention layer, and forming a recess from the opposite surface to a recess formed in the one surface; and A method of manufacturing a shadow mask having at least a film removing step of removing a layer and a resist film, wherein a roll is used as a means for applying the etching prevention layer. A method for producing a shadow mask, comprising using a two-step coating method including a coat at a former stage of a coater and a coat at a latter stage of a gravure coater.
【請求項2】ロールコーターの前段コートに代えて、前
段コートもグラビアコーターである請求項1記載のシャ
ドウマスクの製造方法。
2. The method according to claim 1, wherein the first coat is a gravure coater instead of the first coat of the roll coater.
【請求項3】前段コートのロールコーターが、2連以上
の複数列のロールコーターからなる請求項1記載のシャ
ドウマスクの製造方法。
3. The method of manufacturing a shadow mask according to claim 1, wherein the roll coater of the first coat comprises a plurality of rows of roll coaters of two or more.
【請求項4】グラビアコーターが、リバースグラビアコ
ーターである請求項1,2または3記載のシャドウマス
クの製造方法。
4. The method according to claim 1, wherein the gravure coater is a reverse gravure coater.
【請求項5】グラビアコーターの塗布液供給方式が、塗
布液循環方式である請求項1,2,3または4記載のシ
ャドウマスクの製造方法。
5. The method of manufacturing a shadow mask according to claim 1, wherein the gravure coater has a coating liquid supply system of a coating liquid circulation system.
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