JP3431222B2 - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 15
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 42
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 32
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 16
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 14
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 11
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 10
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 10
- 230000003068 static effect Effects 0.000 claims description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 6
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 claims description 4
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 claims description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 12
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 4
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 2
- 208000001840 Dandruff Diseases 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000013013 elastic material Substances 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- 238000011086 high cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000007763 reverse roll coating Methods 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000000576 supplementary effect Effects 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/26—Processes for applying liquids or other fluent materials performed by applying the liquid or other fluent material from an outlet device in contact with, or almost in contact with, the surface
- B05D1/265—Extrusion coatings
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- B05D3/12—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by mechanical means
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C14/021—Cleaning or etching treatments
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、塗布型の磁気記録媒体
の製造方法に関する。
の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】この種の磁気記録媒体は、非磁性支持体
上に磁性膜を形成する工程を経て製造される。磁性膜の
形成方法としては、従来より、塗布方式、蒸着方式及び
スパッタ方式等が周知である。
上に磁性膜を形成する工程を経て製造される。磁性膜の
形成方法としては、従来より、塗布方式、蒸着方式及び
スパッタ方式等が周知である。
【0003】
【発明が解決しよとする課題】塗布型磁気記録媒体の磁
性膜、バックコート等の厚さは、通常0.3μm〜4.
0μmの範囲である。塗布時の塗料の厚さ(ウェット膜
厚)に換算すると約2μm〜40μmになっている。こ
のような塗膜形成(塗布)をノズルのような静止型塗布
治具を用いた静止型塗布方式によって形成する場合、塗
布治具と、PET、PENまたはアラミドフィルム等か
らなる非磁性支持体との間隙(ウェット膜厚)を超える
サイズの異物が存在すると、塗布治具に異物が引っ掛か
り塗布スジを発生させる。また塗布スジにならなくて
も、異物はドロップアウトの原因となる。従って、製品
の品質、製造時の歩留まり向上のために、異物の除去対
策が非常に重要な課題となっている。
性膜、バックコート等の厚さは、通常0.3μm〜4.
0μmの範囲である。塗布時の塗料の厚さ(ウェット膜
厚)に換算すると約2μm〜40μmになっている。こ
のような塗膜形成(塗布)をノズルのような静止型塗布
治具を用いた静止型塗布方式によって形成する場合、塗
布治具と、PET、PENまたはアラミドフィルム等か
らなる非磁性支持体との間隙(ウェット膜厚)を超える
サイズの異物が存在すると、塗布治具に異物が引っ掛か
り塗布スジを発生させる。また塗布スジにならなくて
も、異物はドロップアウトの原因となる。従って、製品
の品質、製造時の歩留まり向上のために、異物の除去対
策が非常に重要な課題となっている。
【0004】また、蒸着方式、スパッタ方式のように磁
性膜の厚さが非常に薄く、記録密度が高い場合は微小な
異物でも塗布欠陥がドロップアウトとなる。この非磁性
支持体上の異物は非磁性支持体製造時に発生しユーザー
に納入されるまでに存在するもの、及びユーザにおいて
磁性膜を形成するまでに非磁性支持体上に新たに付着す
るものが含まれる。異物の内容は、主として塵埃、フケ
等の人体組織、繊維、設備の摩耗粉等である。
性膜の厚さが非常に薄く、記録密度が高い場合は微小な
異物でも塗布欠陥がドロップアウトとなる。この非磁性
支持体上の異物は非磁性支持体製造時に発生しユーザー
に納入されるまでに存在するもの、及びユーザにおいて
磁性膜を形成するまでに非磁性支持体上に新たに付着す
るものが含まれる。異物の内容は、主として塵埃、フケ
等の人体組織、繊維、設備の摩耗粉等である。
【0005】磁気記録媒体製造者は、製品の品質向上、
歩留まり向上の為に、特に静止型塗布方式のような異物
の影響を非常に受け易い生産方式の製品の品質、歩留ま
り向上のために様々な検討を行なっている。磁性膜形成
前にこれらの異物を除去するために、様々なクリーニン
グを試みてきた。しかし、静止型塗布方式は、リバース
ロール塗布やグラビアシリンダー塗布方式のような回転
体を使用した塗布方式に比べ、塗布スジの発生率が格段
に高く、従来のクリーニング手段では、充分な効果が得
られていないのが現状である。例えば、クリーニング手
段として従来より知られている洗浄方式、不織布等によ
るワイピング方式、イオン化エアー吹きつけ、吸引によ
るクリーニング等のうち、洗浄方式は、クリーニングの
効果は高いが、インラインでの高速連続クリーニング、
真空中での使用(蒸着、スパッタ等による磁性膜形成
法)、片面に既に機能性膜(磁性膜、非磁性膜等)が形
成されている場合などの対応が困難である。不織布ある
いは織布等によるワイピング方式は、異物の補足効果不
足、布からの発塵等の問題がある。イオン化エアー吹き
つけ・吸引方式によるクリーニングも、異物の除去効果
が万全では無く、数種類の方式を組み合わせて、できる
だけ良い状態を得ているのが現状であり、充分な効果は
得られていない。
歩留まり向上の為に、特に静止型塗布方式のような異物
の影響を非常に受け易い生産方式の製品の品質、歩留ま
り向上のために様々な検討を行なっている。磁性膜形成
前にこれらの異物を除去するために、様々なクリーニン
グを試みてきた。しかし、静止型塗布方式は、リバース
ロール塗布やグラビアシリンダー塗布方式のような回転
体を使用した塗布方式に比べ、塗布スジの発生率が格段
に高く、従来のクリーニング手段では、充分な効果が得
られていないのが現状である。例えば、クリーニング手
段として従来より知られている洗浄方式、不織布等によ
るワイピング方式、イオン化エアー吹きつけ、吸引によ
るクリーニング等のうち、洗浄方式は、クリーニングの
効果は高いが、インラインでの高速連続クリーニング、
真空中での使用(蒸着、スパッタ等による磁性膜形成
法)、片面に既に機能性膜(磁性膜、非磁性膜等)が形
成されている場合などの対応が困難である。不織布ある
いは織布等によるワイピング方式は、異物の補足効果不
足、布からの発塵等の問題がある。イオン化エアー吹き
つけ・吸引方式によるクリーニングも、異物の除去効果
が万全では無く、数種類の方式を組み合わせて、できる
だけ良い状態を得ているのが現状であり、充分な効果は
得られていない。
【0006】本発明は、塗布スジの原因となる異物を効
率よく確実に除去し、塗布欠陥の少ない磁気記録媒体を
製造し得る製造方法を提供することである。
率よく確実に除去し、塗布欠陥の少ない磁気記録媒体を
製造し得る製造方法を提供することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】上述した課題解決のた
め、本発明は、図1に示すように、間隔を隔てて配置さ
れたローラ5ー6間に、非磁性支持体1を張設する。そ
して、非磁性支持体1を、その裏面にローラ5、6を接
触させて、一方向(a)に走行させる。ローラ5ー6間
において、非磁性支持体1の表面に、少なくとも接触面
が粘着性物質で構成された回転クリーニングロール31
を接触させることによってクリーニングする。粘着性物
質のショアー硬度は20°〜40°の範囲にある。その
後、ローラ5ー6間において、非磁性支持体1の表面
に、ノズル4による塗布により、磁性膜2を形成する。
図1において、クリーニング.ステージAは磁性膜塗布
ステージBの前に設定されている。あるいは、図2に示
すように、間隔を隔てて配置されたローラ5ー6間に、
非磁性支持体1を張設し、非磁性支持体1を、その裏面
をローラ5、6に接触させて、一方向(a)に走行させ
る。そして、ローラ5ー6間において、非磁性支持体1
の表面に、少なくとも接触面が多孔性高分子で構成され
たクリーニング部材32を、静止状態で接触させること
によってクリーニングする。多孔性高分子のショアー硬
度は40°〜65°の範囲にある。その後、ローラ5ー
6間において、非磁性支持体1の表面に、ノズル4によ
る塗布により、磁性膜2を形成する。
め、本発明は、図1に示すように、間隔を隔てて配置さ
れたローラ5ー6間に、非磁性支持体1を張設する。そ
して、非磁性支持体1を、その裏面にローラ5、6を接
触させて、一方向(a)に走行させる。ローラ5ー6間
において、非磁性支持体1の表面に、少なくとも接触面
が粘着性物質で構成された回転クリーニングロール31
を接触させることによってクリーニングする。粘着性物
質のショアー硬度は20°〜40°の範囲にある。その
後、ローラ5ー6間において、非磁性支持体1の表面
に、ノズル4による塗布により、磁性膜2を形成する。
図1において、クリーニング.ステージAは磁性膜塗布
ステージBの前に設定されている。あるいは、図2に示
すように、間隔を隔てて配置されたローラ5ー6間に、
非磁性支持体1を張設し、非磁性支持体1を、その裏面
をローラ5、6に接触させて、一方向(a)に走行させ
る。そして、ローラ5ー6間において、非磁性支持体1
の表面に、少なくとも接触面が多孔性高分子で構成され
たクリーニング部材32を、静止状態で接触させること
によってクリーニングする。多孔性高分子のショアー硬
度は40°〜65°の範囲にある。その後、ローラ5ー
6間において、非磁性支持体1の表面に、ノズル4によ
る塗布により、磁性膜2を形成する。
【0008】
【作用】本発明者は、塗布スジの原因となり易い3μm
以上の異物の除去方法を鋭意研究した結果、図1に示す
ように、少なくとも接触面が粘着性物質で構成された回
転ロール31を接触させてクリーニングすることによ
り、上述した異物を効率よく確実に除去できることを見
出した。或いは、図2に示すように、少なくとも接触面
が多孔性高分子で構成されたクリーニング部材32を、
静止状態で接触させることによってクリーニングするこ
とにより、異物を効率よく確実に除去できることを見出
した。そして、このクリーニング工程の後に、非磁性支
持体1上に磁性膜2を形成することにより、異物による
塗布スジのない磁気記録媒体を製造することができる。
以上の異物の除去方法を鋭意研究した結果、図1に示す
ように、少なくとも接触面が粘着性物質で構成された回
転ロール31を接触させてクリーニングすることによ
り、上述した異物を効率よく確実に除去できることを見
出した。或いは、図2に示すように、少なくとも接触面
が多孔性高分子で構成されたクリーニング部材32を、
静止状態で接触させることによってクリーニングするこ
とにより、異物を効率よく確実に除去できることを見出
した。そして、このクリーニング工程の後に、非磁性支
持体1上に磁性膜2を形成することにより、異物による
塗布スジのない磁気記録媒体を製造することができる。
【0009】図1及び図2において、4はノズル等の静
止型塗布治具、5、6はローラである。非磁性支持体1
は矢印aの方向に走行する。また、図1において、回転
ロール31は矢印b1の方向に回転させる。即ち、回転
ロール31の回転方向b1は、非磁性支持体1の走行方
向aと同一の方向である。
止型塗布治具、5、6はローラである。非磁性支持体1
は矢印aの方向に走行する。また、図1において、回転
ロール31は矢印b1の方向に回転させる。即ち、回転
ロール31の回転方向b1は、非磁性支持体1の走行方
向aと同一の方向である。
【0010】図1において、回転ロール31は、ショア
ー硬度が20〜40°の範囲にある弾性体によって構成
するのが望ましい。このような回転ロール31は、非磁
性支持体1との密着性が良く、かつ、適度な粘着性を有
するために異物の捕捉効果が非常に高いことが分った。
回転ロール31に用いられる粘着性物質としては、塩化
ビニル樹脂に高分子量可塑剤を添加したもの(明和ゴム
工業株式会社製ベタロン)が望ましい。この粘着性物質
は、洗浄等による粘着性回復を含めた繰返しの使用に対
して、一般にゴムの業界でいわれる「ほそり」が少な
く、長期間安定に使用できるものである。回転ロール3
1は回転接触面に粘着性物質を付着させるか、または、
全体を粘着性物質によって形成することによって構成さ
れる。
ー硬度が20〜40°の範囲にある弾性体によって構成
するのが望ましい。このような回転ロール31は、非磁
性支持体1との密着性が良く、かつ、適度な粘着性を有
するために異物の捕捉効果が非常に高いことが分った。
回転ロール31に用いられる粘着性物質としては、塩化
ビニル樹脂に高分子量可塑剤を添加したもの(明和ゴム
工業株式会社製ベタロン)が望ましい。この粘着性物質
は、洗浄等による粘着性回復を含めた繰返しの使用に対
して、一般にゴムの業界でいわれる「ほそり」が少な
く、長期間安定に使用できるものである。回転ロール3
1は回転接触面に粘着性物質を付着させるか、または、
全体を粘着性物質によって形成することによって構成さ
れる。
【0011】一方、図2において、多孔性高分子でなる
クリーニング部材32は、シート状、ブレード状の形状
で使用できる。そして多孔性高分子のみでの使用も可能
であるし、適当な支持体33上に多孔性高分子膜として
設けてもよい。多孔性高分子素材としては耐摩耗性に優
れる発泡性ポリウレタンが特に適している。容易に入手
できる製品例としては、フジボウ愛媛(株)製パルパ
ス、ベルテック(株)製のSMT等がある。
クリーニング部材32は、シート状、ブレード状の形状
で使用できる。そして多孔性高分子のみでの使用も可能
であるし、適当な支持体33上に多孔性高分子膜として
設けてもよい。多孔性高分子素材としては耐摩耗性に優
れる発泡性ポリウレタンが特に適している。容易に入手
できる製品例としては、フジボウ愛媛(株)製パルパ
ス、ベルテック(株)製のSMT等がある。
【0012】クリーニング効果を高めるためには、回転
ロール31またはクリーニング部材32の異物補捉性能
が問題となる。この補捉性能は、非磁性支持体1から確
実に異物を取る性能と、取った異物を回転ロール31ま
たはクリーニング部材32中に保持し続ける性能からな
る。
ロール31またはクリーニング部材32の異物補捉性能
が問題となる。この補捉性能は、非磁性支持体1から確
実に異物を取る性能と、取った異物を回転ロール31ま
たはクリーニング部材32中に保持し続ける性能からな
る。
【0013】非磁性支持体1から確実に異物を取る性能
を高めるためには、非磁性支持体1と回転ロール31ま
たはクリーニング部材32との密着性を高めることが必
要となる。密着性を確実なものとするためには回転ロー
ル31またはクリーニング部材32を非磁性支持体1に
適当な圧力で押つける方法が一般的にとられるが、回転
ロール31またはクリーニング部材32が固い場合は、
押付けても充分な接触が得られなかったり、非磁性支持
体1に傷をつけてしまう等の問題が発生する。回転ロー
ル31またはクリーニング部材32が適度な弾性を有し
ていれば、非磁性支持体1の表面形状に沿って良好な接
触状態を得ることができる。ショアー硬度は、回転ロー
ル31の場合は20°〜40°の範囲、クリーニング部
材32の場合は40°〜65°である。回転ロール31
を用いた場合において、ショアー硬度が小さいときは
(20°未満)、密着力が強過ぎるために、フィルム状
の非磁性支持体1自体を保持しようとする働きが強過ぎ
て、非磁性支持体1の走行安定性に支障をきたす。ショ
アー硬度が大きい場合(40°より大きい)は、密着性
が不足して異物の補捉性能が充分でなくなる。
を高めるためには、非磁性支持体1と回転ロール31ま
たはクリーニング部材32との密着性を高めることが必
要となる。密着性を確実なものとするためには回転ロー
ル31またはクリーニング部材32を非磁性支持体1に
適当な圧力で押つける方法が一般的にとられるが、回転
ロール31またはクリーニング部材32が固い場合は、
押付けても充分な接触が得られなかったり、非磁性支持
体1に傷をつけてしまう等の問題が発生する。回転ロー
ル31またはクリーニング部材32が適度な弾性を有し
ていれば、非磁性支持体1の表面形状に沿って良好な接
触状態を得ることができる。ショアー硬度は、回転ロー
ル31の場合は20°〜40°の範囲、クリーニング部
材32の場合は40°〜65°である。回転ロール31
を用いた場合において、ショアー硬度が小さいときは
(20°未満)、密着力が強過ぎるために、フィルム状
の非磁性支持体1自体を保持しようとする働きが強過ぎ
て、非磁性支持体1の走行安定性に支障をきたす。ショ
アー硬度が大きい場合(40°より大きい)は、密着性
が不足して異物の補捉性能が充分でなくなる。
【0014】粘着性ロールを使用したクリーニングの先
行技術として、特開昭62ー17176(富士写真フィ
ルム株式会社)があるが、この先行技術は真空中で蒸着
等を行なう際の、回転キャンをクリーニングすることが
目的であり、安定な走行性を要求される薄い非磁性支持
体から、効果的に異物を除去するための技術とは本質的
に異なるものである。
行技術として、特開昭62ー17176(富士写真フィ
ルム株式会社)があるが、この先行技術は真空中で蒸着
等を行なう際の、回転キャンをクリーニングすることが
目的であり、安定な走行性を要求される薄い非磁性支持
体から、効果的に異物を除去するための技術とは本質的
に異なるものである。
【0015】多孔性高分子で構成されたクリーニング部
材32は、硬度が40〜65°の範囲が非磁性支持体1
への密着性が非常に良く、高い異物補足作用が得られ
る。硬度が65°よりも大きくなると、媒体に傷をつ
け、40°よりも小さくなると、クリーニング部材32
が容易に変形してしまう(ヘタリ)ため、異物補足作用
が発揮されなくなる。多孔性高分子としては発泡性ポリ
ウレタンが適している。発泡性ポリウレタンは復元力が
優れ(圧縮弾性率90%以上)ており、密着性が非常に
優れたものとなる。また開孔率は自由に設定できる。開
孔率とクリーニング効果との相関はあまり見られない
が、一般的には、開孔密度としては12000個/cm2
前後のものが用いられる。
材32は、硬度が40〜65°の範囲が非磁性支持体1
への密着性が非常に良く、高い異物補足作用が得られ
る。硬度が65°よりも大きくなると、媒体に傷をつ
け、40°よりも小さくなると、クリーニング部材32
が容易に変形してしまう(ヘタリ)ため、異物補足作用
が発揮されなくなる。多孔性高分子としては発泡性ポリ
ウレタンが適している。発泡性ポリウレタンは復元力が
優れ(圧縮弾性率90%以上)ており、密着性が非常に
優れたものとなる。また開孔率は自由に設定できる。開
孔率とクリーニング効果との相関はあまり見られない
が、一般的には、開孔密度としては12000個/cm2
前後のものが用いられる。
【0016】以上に記載の回転ロール31と多孔性高分
子でなるクリーニング部材32はそれぞれ単独でも充分
効果がでるが、両者を組合わせて使用することも可能で
あり、それによって更に高いクリーニング効果を得るこ
とができる。
子でなるクリーニング部材32はそれぞれ単独でも充分
効果がでるが、両者を組合わせて使用することも可能で
あり、それによって更に高いクリーニング効果を得るこ
とができる。
【0017】
【実施例】実施例1〜9及び比較例1〜3、5、6で
は、75μmのポリエステル(PET)フィルムでなる
非磁性支持体上に、固形分濃度28%の塗料を、ダイノ
ズルを用いて乾燥後厚み1μmになるように塗布を行う
に当たり、塗布を行う前の段階でインラインで非磁性支
持体の表面をクリーニングした。比較例7では同様の塗
布を行うに当たり、クリーニングを行わなかった。塗布
方式、クリーニング条件及び発生した塗布スジの本数の
詳細を表1に示す。
は、75μmのポリエステル(PET)フィルムでなる
非磁性支持体上に、固形分濃度28%の塗料を、ダイノ
ズルを用いて乾燥後厚み1μmになるように塗布を行う
に当たり、塗布を行う前の段階でインラインで非磁性支
持体の表面をクリーニングした。比較例7では同様の塗
布を行うに当たり、クリーニングを行わなかった。塗布
方式、クリーニング条件及び発生した塗布スジの本数の
詳細を表1に示す。
【0018】上記表1において、スジ本数は幅550m
m、長さ2000m、両面塗布時の平均値である。硬度
はショアー硬度計(A)を用いて測定した。密度はJI
SK6505に準じた。粘着ロールは明和ゴム工業
(株)製のベタロンを用いた。発泡ウレタンはフジボウ
愛媛(株)製のパルパスを用いた。
m、長さ2000m、両面塗布時の平均値である。硬度
はショアー硬度計(A)を用いて測定した。密度はJI
SK6505に準じた。粘着ロールは明和ゴム工業
(株)製のベタロンを用いた。発泡ウレタンはフジボウ
愛媛(株)製のパルパスを用いた。
【0019】上記表1から明らかなように、回転ロール
の場合、ショアー硬度20〜40°の範囲にある弾性体
からなる回転ロールが、異物の捕捉効果が非常に高い。
回転ロールと非磁性支持体との密着性が良く、かつ、適
度な粘着性を有するためと推測される。
の場合、ショアー硬度20〜40°の範囲にある弾性体
からなる回転ロールが、異物の捕捉効果が非常に高い。
回転ロールと非磁性支持体との密着性が良く、かつ、適
度な粘着性を有するためと推測される。
【0020】多孔性高分子でなるクリーニング部材の場
合は、硬度40〜65°の範囲の多孔性高分子が非常に
高い異物捕捉効果を示す。この硬度範囲では、非磁性支
持体への密着性が非常に良いためと推測される。硬度が
上記値よりも大きくなると非磁性支持体に傷をつけ、小
さくなるとクリーニング部材32が容易に変形してしま
う(ヘタリ)ため、異物補足作用が発揮されなくなる。
多孔性高分子を用いてクリーニングする技術は、例えば
フロッピディスクの内面に多孔性高分子シートを装着し
てクリーニング部材として用いる等、フロッピディスク
等にも適用できる。
合は、硬度40〜65°の範囲の多孔性高分子が非常に
高い異物捕捉効果を示す。この硬度範囲では、非磁性支
持体への密着性が非常に良いためと推測される。硬度が
上記値よりも大きくなると非磁性支持体に傷をつけ、小
さくなるとクリーニング部材32が容易に変形してしま
う(ヘタリ)ため、異物補足作用が発揮されなくなる。
多孔性高分子を用いてクリーニングする技術は、例えば
フロッピディスクの内面に多孔性高分子シートを装着し
てクリーニング部材として用いる等、フロッピディスク
等にも適用できる。
【0021】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、塗
布スジの原因となる異物を効率よく確実に除去し、塗布
欠陥の少ない磁気記録媒体を製造し得る製造方法を提供
することができる。
布スジの原因となる異物を効率よく確実に除去し、塗布
欠陥の少ない磁気記録媒体を製造し得る製造方法を提供
することができる。
【図1】本発明に係る磁気記録媒体の製造方法を示す図
である。
である。
【図2】本発明に係る磁気記録媒体の製造方法を示す図
である。
である。
1 非磁性支持体
2 磁性膜
31 回転ロール
32 クリーニング部材
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 大澤 義比佐
東京都中央区日本橋1丁目13番1号 テ
ィーディーケイ株式会社内
(72)発明者 細萱 隆二
東京都中央区日本橋1丁目13番1号 テ
ィーディーケイ株式会社内
(56)参考文献 特開 昭62−60749(JP,A)
特開 平3−295027(JP,A)
特開 平3−295026(JP,A)
特開 昭58−142375(JP,A)
特開 昭64−53(JP,A)
特開 昭62−116446(JP,A)
実開 昭63−137999(JP,U)
Claims (4)
- 【請求項1】 間隔を隔てて配置されたローラ間に、非
磁性支持体を張設し、 前記非磁性支持体を、その裏面を前記ローラに接触させ
て、一方向に走行させ、 前記ローラ間において、前記非磁性支持体の表面に、少
なくとも接触面が粘着性物質で構成された回転クリーニ
ングロールを接触させ、前記非磁性支持体の前記走行方
向と同一の方向に回転させることによってクリーニング
し、前記粘着性物質のショアー硬度は20°〜40°の
範囲にあり、 その後、前記ローラ間において、前記非磁性支持体の表
面に、ノズル塗布により、磁性膜を塗布する工程を含む
磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項2】 前記粘着性物質は、塩化ビニル樹脂に高
分子量可塑剤を添加したものであることを特徴とする請
求項1に記載の磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項3】 間隔を隔てて配置されたローラ間に、非
磁性支持体を張設し、 前記非磁性支持体を、その裏面を前記ローラに接触させ
て、一方向に走行させ、 前記ローラ間において、前記非磁性支持体の表面に、少
なくとも接触面が多孔性高分子で構成されたクリーニン
グ部材を、静止状態で接触させることによってクリーニ
ングし、前記多孔性高分子のショアー硬度は40°〜6
5°の範囲にあり、 その後、前記ローラ間において、前記非磁性支持体の前
記表面に、ノズル塗布により、磁性膜を塗布する工程を
含む磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項4】 前記多孔性高分子は、発泡性ポリウレタ
ンである請求項3に記載の磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22835093A JP3431222B2 (ja) | 1993-08-20 | 1993-08-20 | 磁気記録媒体の製造方法 |
US08/293,211 US5415889A (en) | 1993-08-20 | 1994-08-19 | Manufacturing method for a magnetic recording medium |
KR1019940020505A KR950006719A (ko) | 1993-08-20 | 1994-08-19 | 자기(磁氣)기록매체의 제조방법 |
DE4429472A DE4429472A1 (de) | 1993-08-20 | 1994-08-19 | Herstellungsverfahren für ein magnetisches Aufzeichnungsmedium |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22835093A JP3431222B2 (ja) | 1993-08-20 | 1993-08-20 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002034643A Division JP2002334429A (ja) | 2002-02-12 | 2002-02-12 | クリーニング方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0765362A JPH0765362A (ja) | 1995-03-10 |
JP3431222B2 true JP3431222B2 (ja) | 2003-07-28 |
Family
ID=16875090
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22835093A Expired - Fee Related JP3431222B2 (ja) | 1993-08-20 | 1993-08-20 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5415889A (ja) |
JP (1) | JP3431222B2 (ja) |
KR (1) | KR950006719A (ja) |
DE (1) | DE4429472A1 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3244024B2 (ja) * | 1997-06-20 | 2002-01-07 | 日本電気株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
US20060105164A1 (en) * | 2000-06-06 | 2006-05-18 | Nitto Denko Corporation | Cleaning sheet, conveying member using the same, and substrate processing equipment cleaning method using them |
US7793668B2 (en) | 2000-06-06 | 2010-09-14 | Nitto Denko Corporation | Cleaning sheet, conveying member using the same, and substrate processing equipment cleaning method using them |
EP2266717A2 (en) * | 2000-06-06 | 2010-12-29 | Nitto Denko Corporation | Cleaning member |
US20050118414A1 (en) | 2002-06-19 | 2005-06-02 | Nitto Denko Corporation | Cleaning sheets, transfer member having cleaning function, and method of cleaning substrate-processing apparatus with these |
EP1596825A2 (en) * | 2003-02-03 | 2005-11-23 | Neopharm, Inc. | Stable sterile filterable liposomal encapsulated taxane and other antineoplastic drugs |
US7718255B2 (en) | 2003-08-19 | 2010-05-18 | Nitto Denko Corporation | Cleaning sheets and method of cleaning with the same |
DE102021207398A1 (de) * | 2021-07-13 | 2023-01-19 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung eingetragener Verein | Vorrichtung und Verfahren zur Beschichtung eines Substrates |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6217176A (ja) * | 1985-07-17 | 1987-01-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 薄膜形成装置 |
-
1993
- 1993-08-20 JP JP22835093A patent/JP3431222B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-08-19 KR KR1019940020505A patent/KR950006719A/ko active Search and Examination
- 1994-08-19 US US08/293,211 patent/US5415889A/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-08-19 DE DE4429472A patent/DE4429472A1/de not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5415889A (en) | 1995-05-16 |
DE4429472A1 (de) | 1995-02-23 |
JPH0765362A (ja) | 1995-03-10 |
KR950006719A (ko) | 1995-03-21 |
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