JP3415881B2 - 加水分解に安定な３価の燐化合物の製造方法およびこれらの熱可塑性プラスチック用安定剤としての用途 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、熱可塑性プラスチック
の安定剤として用いられる、加水分解に安定な３価の有
機燐化合物の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】公知のように、合成重合体は安定剤また
は安定剤系によって、製造、使用および塗布時の好まし
くない酸化、熱および光化学損傷から保護しなければな
らない。そのような安定剤には、例えばフェノール系酸
化防止剤、およびフェノール系成分の作用を相乗的に高
めることもある１種以上の補助安定剤がある。通例の安
定剤には、例えばオルト−アルキル化アリールホスファ
イトおよびホスホナイトがある。

【０００３】工業品質のそのような３価の隣化合物は場
合によっては加水分解に安定ではなく、時間が経過する
うちにそれらの安定化特性が失われてしまう。それらは
また大気中の水分による加水分解で分離することもあ
り、これは貯蔵安定性が低下することを意味する。加水
分解安定性の問題は工業的に大きな問題であるが、その
理由は十分に研究されていない（参照：Ｍ．Ｇｏｇｈｏ
ｖａ、Ｃｈｅｍ．Ｐａｐｅｒｓ ４３（１９８９）、４
２１−４３２）。従って、また加水分解安定性を改良す
る公知の方法もほとんどない。

【０００４】ホスファイトの加水分解安定性は、窒素含
有塩基を添加することによって改良しうることは公知で
ある（参照：ヨーロッパ特許第 １４３ ４６４号）。
添加するアミンの量は５−３０重量％である。しかしな
がら、アミンの添加には様々な欠点があり、特に安定化
した重合体が好ましくない黄色に着色してしまう。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、そのような窒素含有塩基を添加することなく加水分
解安定性を改良する方法を見いだすことである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】特定の無機化合物で処理
すると、この目的が達成されることを見いだした。

【０００７】すなわち、本発明は、式Ｉ Ｐ（ＯＲ¹）₃ （Ｉ）、 式II

【化３】 （II） または式III Ｒ³−［Ｐ（ＯＲ²）₂］_n （III） （式中、ｎは１または２であり、Ｒ¹は１つ以上の線状
もしくは分枝鎖状Ｃ₁−Ｃ₈アルキル基でまたはＣ₅−Ｃ₈
シクロアルキル、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリールもしくはＣ₇−Ｃ₁₀
アラルキル基で置換されていてもよいフェニル基であ
り、Ｒ²は線状もしくは分枝鎖状Ｃ₈−Ｃ₂₀アルキル基、
あるいは１つ以上の線状もしくは分枝鎖状Ｃ₁−Ｃ₈アル
キル基でまたはＣ₅−Ｃ₈シクロアルキル、 Ｃ₆−Ｃ₁₀
アリールもしくはＣ₇−Ｃ₁₀アラルキル基で置換されて
いてもよいフェニル基であり、Ｒ³は、ｎ＝１ならば、
１−３個の置換基を有していてもよいフェニルもしくは
ベンジル基、α−メチルベンジル、α，α−ジメチルベ
ンジルまたはナフチル基、または置換基が同じものかま
たは異なるものであり、線状もしくは分枝鎖状Ｃ₁−Ｃ₈
アルキル基、Ｃ₁−Ｃ₈アルコキシ基、Ｃ₁−Ｃ₁₂アルキ
ルチオ基、Ｃ₁−Ｃ₈ジアルキルアミノ基、Ｃ₆−Ｃ₁₀ア
リール基、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリールオキシ基もしくは原子番
号９−３５のハロゲンである１−５個の置換基を有する
ナフチル基であり、そしてＲ³は、ｎ＝２ならば、非置
換であるかまたは１−４個の線状もしくは分枝鎖状Ｃ₁
−Ｃ₈アルキル基を有する、フェニレン基、ビフェニレ
ン基、ナフチレン基またはジフェニレンオキシド基であ
る）の加水分解に安定な３価の燐化合物の製造方法であ
って、式Ｉ、IIまたはIIIの化合物を、元素周期律表１
ａ、２ａ、２ｂおよび７ｂ族の金属の酸化物、水酸化
物、炭酸塩、炭酸水素塩またはカルボン酸塩０．００５
−５重量％で処理することを含む、上記の製造方法に関
する。

【０００８】本発明はさらに、これらの化合物の熱可塑
性プラスチック用安定剤としての用途、およびこれらの
化合物を含有する成形組成物に関する。

【０００９】工業品質の３価の有機燐化合物を、本発明
の方法によって処理する。これらの燐化合物は式Ｉ Ｐ（ＯＲ¹）₃ （Ｉ）、 式II

【００１０】

【化4】 （II） または式III Ｒ³−［Ｐ（ＯＲ²）₂］_n （III） の化合物である。

【００１１】上記式中、ｎは１または２であり、Ｒ¹は
１つ以上の線状もしくは分枝鎖状Ｃ₁−Ｃ₈アルキル基で
またはＣ₅−Ｃ₈シクロアルキル、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリールも
しくはＣ₇−Ｃ₁₀アラルキル基で置換されていてもよい
フェニル基、好ましくは２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル基であり、 Ｒ²は線状もしくは分枝鎖状Ｃ₈−Ｃ₂₀ア
ルキル基、あるいは１つ以上の線状もしくは分枝鎖状Ｃ
₁−Ｃ₈アルキル基でまたはＣ₅−Ｃ₈シクロアルキル、
Ｃ₆−Ｃ₁₀アリールもしくはＣ₇−Ｃ₁₀アラルキル基で置
換されていてもよいフェニル基、好ましくはＣ₁₈−アル
キル基または２，４−ジｔ−ブチルフェニル基であり、
Ｒ³は、ｎ＝１ならば、１−３個の置換基を有してい
てもよいフェニルもしくはベンジル基、α−メチルベン
ジル、α，α−ジメチルベンジルまたはナフチル基、ま
たは置換基が同じものかまたは異なるものであり、線状
もしくは分枝鎖状Ｃ₁−Ｃ₈アルキル基、Ｃ₁−Ｃ₈アルコ
キシ基、Ｃ₁−Ｃ₁₂アルキルチオ基、Ｃ₁−Ｃ₈ジアルキ
ルアミノ基、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリール基、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリール
オキシ基もしくは原子番号９−３５のハロゲンである１
−５個の置換基を有するナフチル基、好ましくはナフチ
ルまたはビフェニル基であり、そしてＲ³は、ｎ＝２な
らば、非置換であるかまたは１−４個の線状もしくは分
枝鎖状Ｃ₁−Ｃ₈アルキル基を有する、フェニレン基、ビ
フェニレン基、ナフチレン基またはジフェニレンオキシ
ド基、好ましくはビフェニレンまたはナフチレン基であ
る。

【００１２】式Ｉの好ましい化合物はトリス（ノニルフ
ェニル）ホスファイトおよびトリス（２，４−ジ−ｔ−
ブチルフェニル）ホスファイトである。

【００１３】式IIの好ましい化合物はペンタエリトリチ
ルスピロ−ビス−（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）
ホスファイトおよびペンタエリトリチルスピロ−ビス
（ステアリル）ホスファイトである。

【００１４】用いるのに好ましい式IIIの化合物は１−
ナフチル−亜ホスホン酸ビス−（２，４−ジ−ｔ−ブチ
ルフェニル）ホスホナイト、テトラキス−（２，４−ジ
−ｔ−ブチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホ
スホナイト、２，４，６−トリメチルフェニル−亜ホス
ホン酸ビス−（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−ホ
スホナイトおよびテトラキス−（２，４−ジ−ｔ−ブチ
ルフェニル）−４，４′−ジフェニレンオキシドジホス
ファイトである。

【００１５】テトラキス−（２，４−ジ−ｔ−ブチルフ
ェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイトは用
いるのが特に好ましい。この化合物はこれまで公知の方
法では、これの位置異性体である化合物、位置異性体で
あるビフェニルモノホスホナイトおよび他の３価の亜燐
酸化合物との混合物としてのみ得ることができる。これ
らの生成物混合物の加水分解不安定度は様々であり、工
業的用途に用いるには取り扱いが容易ではない。

【００１６】式Ｉ、IIまたはIIIの化合物は、元素周期
律表１ａ、２ａ、２ｂおよび７ｂ族の金属の酸化物、水
酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩またはカルボン酸塩、好ま
しくはＣ₁−Ｃ₈カルボン酸塩で処理する。好ましい金属
はリチウム、カルシウム、バリウム、マグネシウム、亜
鉛およびマンガンであり、特に好ましいのはマグネシウ
ムである。適した酸化物は酸化マグネシウム、酸化カル
シウム、酸化バリウムおよび酸化亜鉛であり、適した炭
酸塩は炭酸リチウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウ
ムおよび炭酸亜鉛であり、そして適したカルボン酸塩は
酢酸マグネシウムおよび酢酸亜鉛である。溶液または懸
濁液中での処理には酸化マグネシウム、酸化亜鉛、炭酸
亜鉛および炭酸マグネシウムが好ましく、溶融液中での
処理には酸化マグネシウム、水酸化リチウム、炭酸リチ
ウムおよび炭酸マグネシウムが好ましい。金属化合物
は、燐化合物に基づいて、０．００５−５、好ましくは
０．０５−２．０重量％の量で用いる。

【００１７】溶液または懸濁液中の金属化合物での燐化
合物の処理は、これらの化合物を乾燥状態でまたは溶媒
もしくは懸濁剤中で混合することによって行う。可能な
溶媒または懸濁剤は、例えばテトラヒドロフラン、メチ
ルシクロヘキサン、トルエン、クロロベンゼン、メタノ
ール、エタノール、イソプロパノールまたは水である。
溶媒または懸濁剤を用いるならば、燐化合物および金属
化合物を溶解または懸濁し、溶液または懸濁液をしばら
く撹拌または熟成させる。この場合、金属化合物を分離
することができる。

【００１８】特に好ましい処理方法は、燐化合物および
金属化合物を水に懸濁させ、撹拌し、固体を除き、残留
物を溶媒に取り、そして不溶性成分を除くものである。
溶液は蒸発させ、固体生成物を微粉砕する。

【００１９】処理は１０−１００℃、好ましくは１５−
５０℃で行い、一般に１分−２４時間、好ましくは２分
−１時間続ける。

【００２０】燐化合物の溶融液中での金属化合物の処理
は、金属化合物と溶融燐化合物とを混合することによっ
て行う。処理を行ったら、溶融液を冷却し、固体生成物
を微粉砕する。金属化合物で処理した後、燐化合物を溶
媒に溶解して、不溶性残留物を除き、そして溶媒を留去
することによって生成物を単離すると都合がよい。予想
される適した溶媒は、例えばテトラヒドロフラン、メチ
ルシクロヘキサン、トルエン、クロロベンゼン、ジクロ
ロベンゼンまたはイソプロパノールである。

【００２１】処理は２０−２５０℃、好ましくは７０−
２００℃、特に１００−１５０℃で行い、一般に１分−
２４時間、好ましくは２分−５時間続ける。

【００２２】このように処理した燐化合物は、極限条件
下でも、著しい加水分解安定性および貯蔵安定性を有す
る特徴を示す。

【００２３】本発明に従って処理した燐化合物は、適当
ならば、フェノール系酸化防止剤と組み合わせて、熱可
塑性プラスチックの安定剤として用いられる。

【００２４】本発明のプラスチック成形組成物は熱可塑
性有機重合体、例えば以下に挙げた重合体のうちの１つ
を含む： １． モノ−またはジ−オレフィンの重合体、例えば
高、中もしくは低密度ポリエチレン（任意に架橋されて
いてもよい）、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポ
リブト−１−エン、ポリメチルペント−１−エン、ポリ
イソプレンまたはポリブタジエン、およびシクロペンテ
ンまたはノルボルネンのようなシクロオレフィンの重合
体。

【００２５】２． １）に挙げた重合体の混合物、例え
ばポリプロピレンと、ポリエチレンまたはポリイソブチ
レンとの混合物。

【００２６】３． モノ−およびジ−オレフィン相互の
または他のビニル単量体との共重合体、例えばエチレン
／プロピレン共重合体、プロピレン／ブト−１−エン共
重合体、プロピレン／イソブチレン共重合体、エチレン
／ブト−１−エン共重合体、プロピレン／ブタジエン共
重合体、イソブチレン／イソプレン共重合体、エチレン
／アルキルアクリレート共重合体、エチレン／アルキル
メタクリレート共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合
体またはエチレン／アクリル酸共重合体およびこれらの
塩（イオノマー）、並びにエチレンとプロピレンおよび
ジエン、例えばヘキサジエン、シクロペンタジエンまた
はエチリデンノルボルネンの三元共重合体。４． ポリ
スチレンおよびポリ（ｐ−メチルスチレン）。

【００２７】５． スチレンまたはα−メチルスチレン
とジエンまたはアクリル酸誘導体との共重合体、例えば
スチレン／ブタジエン、スチレン／無水マレイン酸、ス
チレン／アクリロニトリル、スチレン／アクリル酸エチ
ル、スチレン／ブタジエン／アクリル酸エチルおよびス
チレン／アクリロニトリル／メタクル酸エステルの共重
合体；スチレン共重合体および他の重合体、例えばポリ
アクリレート、ジエン重合体またはエチレン／プロピレ
ン／ジエン三元共重合体の高衝撃強度混合物；並びにス
チレンのブロック共重合体、例えばスチレン／ブタジエ
ン／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチ
レン／エチレン−ブチレン／スチレンまたはスチレン／
エチレン−プロピレン／スチレンのブロック共重合体。

【００２８】６． スチレンのグラフト共重合体、例え
ばスチレンのポリブタジエン上への、スチレンおよびア
クリロニトリルのポリブタジエン上への、スチレンおよ
び無水マレイン酸のポリブタジエン上への、スチレンお
よびアルキルアクリレートまたはアルキルメタクリレー
トのポリブタジエン上への、スチレンおよびアクリロニ
トリルのエチレン／プロピレン／ジエン三元共重合体上
への、スチレンおよびアクリロニトリルのポリアルキル
アクリレートまたはポリアルキルメタクリレート上へ
の、スチレンおよびアクリロニトリルのアクリレート／
ブタジエン共重合体上へのグラフト共重合体、並びにこ
れらと５）に記載の共重合体との混合物であり、これら
は例えばいわゆるＡＢＳ、ＭＢＳ，ＡＳＡまたはＡＥＳ
重合体として公知である。

【００２９】７． ポリ塩化ビニル。

【００３０】８． 公知の方法（例えば、懸濁、バルク
または乳化重合）によって製造しうる塩化ビニルの共重
合体。

【００３１】９． 塩化ビニルと、３０重量％以下のコ
モノマー、例えば酢酸ビニル、塩化ビニリデン、ビニル
エーテル、アクリロニトリル、アクリル酸エステル、マ
レイン酸モノ−またはジ−エステルまたはオレフィンと
の共重合体、および塩化ビニルのグラフト重合体。

【００３２】１０． ハロゲン含有重合体、例えばポリ
クロロプレン、塩化ゴム、塩化またはクロロスルホン化
ポリエチレン、エピクロロヒドリン単独および共重合
体、特にハロゲン含有ビニル化合物の重合体、例えばポ
リ塩化ビニリデン、ポリ弗化ビニルおよびポリ弗化ビニ
リデン；並びにこれらの共重合体、例えば塩化ビニル／
塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニルまたは塩化ビ
ニリデン／酢酸ビニルの共重合体。

【００３３】１１． α，β−不飽和酸およびこれらの
誘導体から誘導された重合体、例えばポリアクリレート
およびポリメタクリレート、ポリアクリルアミン及びポ
リアクリロニトリル。

【００３４】１２． １１）に記載の単量体相互のまた
はこれらと他の不飽和単量体との共重合体、例えばアク
リロニトリル／ブタジエン共重合体、アクリロニトリル
／アルキルアクリレート共重合体、アクリロニトリル／
アルコキシアクリレート共重合体、アクリロニトリル／
ハロゲン化ビニル共重合体またはアクリロニトリル／ア
ルキルメタクリレート／ブタジエン共重合体。

【００３５】１３． 不飽和アルコールおよびアミンま
たはこれらのアシル誘導体もしくはアセタールから誘導
される重合体、例えばポリビニルアルコール、ポリビニ
ルアセテート、ステアレート、ベンゾエートまたはマレ
エート、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレー
ト、ポリアリルフタレートおよびポリアリルメラミン。

【００３６】１４． 環状エーテルの単独および共重合
体、例えばポリエチレングリコール、ポリエチレンオキ
シド、ポリプロピレンオキシド、またはこれらとビスグ
リシジルエーテルとの共重合体。

【００３７】１５． ポリアセタール、例えばポリオキ
シメチレン、およびエチレンオキシドのようなコモノマ
ーを含有するこれらのポリオキシメチレン。

【００３８】１６． ポリフェニレンオキシドおよびス
ルフィド並びにこれらとスチレン重合体との混合物。

【００３９】１７． 一方に末端ヒドロキシル基そして
他方に脂肪族または芳香族ポリイソシアネートを有する
ポリエーテル、ポリエステルおよびポリブタジエンから
誘導されたポリウレタン、およびこれらの先駆体（ポリ
イソシアネート−ポリオールプレポリマー）。

【００４０】１８． ジアミンおよびジカルボン酸から
および／またはアミノカルボン酸または相当するラクタ
ムから誘導されたポリアミドおよびコポリアミド、例え
ばポリアミド４、ポリアミド６、ポリアミド６，６、ポ
リアミド６，１０、ポリアミド１１、ポリアミド１２、
ポリ−２，４，４−トリメチルヘキサメチレンテレフタ
ルアミドおよびポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミ
ド、並びにポリエチレングリコール、ポリプロピレング
リコールまたはポリテトラメチレングリコールのような
ポリエーテルとのこれらの共重合体。

【００４１】１９． ポリ尿素、ポリイミドおよびポリ
アミド−イミド。

【００４２】２０． ジカルボン酸およびジオールから
および／またはヒドロキシカルボン酸または相当するラ
クトンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレ
ンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ
−１，４−ジメチロールシクロヘキサンテレフタレー
ト、ポリ−（２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン）テレフタレートおよびポリヒドロキシベ
ンゾエート、並びにヒドロキシル末端基を有するポリエ
チレン、ジアルコールおよびジカルボン酸から誘導され
たブロックポリエーテル−エステル。

【００４３】２１． ポリカーボネートおよびポリエス
テル−カーボネート。

【００４４】２２． ポリスルホン、ポリエーテル−ス
ルホンおよびポリエーテル−ケトン。 ２３． 一方はアルデヒドそして他方はフェノール、尿
素またはメラミンから誘導された架橋重合体、例えばフ
ェノール／ホルムアルデヒド、尿素／ホルムアルデヒド
およびメラミン／ホルムアルデヒド樹脂。

【００４５】２４． 乾燥および非乾燥アルキド樹脂。

【００４６】２５． 飽和および不飽和ジカルボン酸と
多価アルコールおよび架橋剤としてのビニル化合物およ
びまたこれらのハロゲン含有難燃性変性剤のコポリエス
テルから誘導された不飽和ポリエステル樹脂、。

【００４７】２６． 置換アクリル酸エステル、例えば
エポキシアクリレート、ウレタン−アクリレートまたは
ポリエステル−アクリレートから誘導された架橋性アク
リル樹脂。

【００４８】２７． メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイ
ソシアネートまたはエポキシ樹脂で架橋されたアルキド
樹脂、ポリエステル樹脂およびアクリレート樹脂。

【００４９】２８． ポリエポキシド、例えばビス−グ
リシジルエーテルからまたは環状脂肪族ジエポキシドか
ら誘導された架橋性エポキシ樹脂。

【００５０】２９． 天然の重合体、例えばセルロー
ス、天然ゴム、ゼラチンおよび同族重合体で化学的に変
成されたその誘導体、例えば酢酸、プロピオン酸および
酪酸セルロース、またはセルロースエーテル、例えばメ
チルセルロース。

【００５１】３０． 上記重合体の混合物、例えばＰＰ
／ＥＰＤＭ、ポリアミド６／ＥＰＤＭまたはＡＢＳ、Ｐ
ＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＣ
／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、ＰＣ／Ｐ
ＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＤ／アクリレート、ＰＯＭ
／熱可塑性プラスチックＰＵＲ、ＰＯＭ／アクリレー
ト、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＥ／ＨＩＰＳ、ＰＰＥ／ポリ
アミド６，６および共重合体、ＰＡ／ＨＤＰＥ、ＰＡ／
ＰＰおよびＰＡ／ＰＰＥ。

【００５２】３０． 上記重合体の配合物、例えばＰＰ
／ＥＰＤＭ、ポリアミド６／ＥＰＤＭまたはＡＢＳ、Ｐ
ＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／ＭＢＳ、ＰＣ
／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ
／ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＤ／ア
クリレート、ＰＯＭ／熱可塑性プラスチックＰＵＲ、Ｐ
ＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＥ／ＨＩＰ
Ｓ、ＰＰＥ／ポリアミド６，６および共重合体、ＰＡ／
ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰおよびＰＡ／ＰＰＥ。

【００５３】３１． 純粋な単量体もしくは単量体の混
合物である天然および合成有機物質、例えば鉱油、動物
性および植物性脂肪、油およびワックスまたは合成エス
テルをべースにした油、脂肪およびワックス、またはこ
れらの物質の混合物。

【００５４】３２． 天然または合成ゴムの水性分散
液。

【００５５】添加剤は一般的な通例の方法で有機重合体
に混合する。混合は、例えば化合物および必要ならばさ
らに添加剤を混合することによって、またはこれらを重
合直後に重合体にまたは成形前もしくは成形中に溶融物
に施すことによって行うことができる。混合はまた、溶
解または分散した化合物を重合体に直接施すか、または
重合体の溶液、懸濁液またはエマルジョンに混合し、必
要ならばその後溶媒を蒸発させることによっても行うこ
とができる。化合物をその後、別の製造工程ですでに粒
状化された重合体に混合しても、化合物はやはり活性で
ある。

【００５６】本発明に従って用いる化合物はまた、安定
化させる重合体に対してこれらの化合物を例えば１−７
５、好ましくは２．５−３０重量％の濃度で含むマスタ
ーバッチの形で加えることもできる。

【００５７】安定化させる有機重合体にはさらに以下の
酸化防止剤を含有させることもできる。例えば： １． アルキル化モノフェノール、例えば２．６−ジ−
ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２−ｔ−ブチル−
４，６−ジメチルフェノール、２．６−ジ−ｔ−ブチル
−４−エチルフェノール、２．６−ジ−ｔ−ブチル−４
−ｉ−ブチルフェノール、２．６−ジ−シクロペンチル
−４−メチルフェノール、２−（α−メチルシクロヘキ
シル）−４，６−ジメチルフェノール、２．６−ジ−オ
クタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリ
−シクロヘキシルフェノールおよび２．６−ジ−ｔ−ブ
チル−４−メトキシメチルフェノール。

【００５８】２． アルキル化ヒドロキノン、例えば
２．６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルオキシフェノー
ル、２．５−ジ−ｔ−ブチル−ヒドロキノン、２．５−
ジ−ｔ−アミル−ヒドロキノンおよび２．６−ジフェニ
ル−４−オクタデシルオキシフェノール。

【００５９】３． ヒドロキシル化チオジフェニルエー
テル、例えば２，２′−チオ−ビス−（６−ｔ−ブチル
−４−メチルフェノール）、２，２′−チオ−ビス−
（４−オクチルフェノール）、４，４′−チオ−ビス−
（６−ｔ−ブチル−３−メチルフェノール）および４，
４′−チオ−ビス−（６−ｔ−ブチル−２−メチルフェ
ノール）。

【００６０】４． アルキリデン−ビスフェノール、例
えば２，２′−メチレン−ビス−（６−ｔ−ブチル−４
−メチルフェノール）、２，２′−メチレン−ビス−
（６−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール）、２，２′
−メチレン−ビス−［４−メチル−６−（α−メチルシ
クロヘキシル）−フェノール］、２，２′−メチレン−
ビス−（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノー
ル）、２，２′−メチレン−ビス−（６−ノニル−４−
メチルフェノール）、２，２′−メチレン−ビス−
（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、２，２′−エ
チリデン−ビス−（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェノー
ル）、２，２′−エチリデン−ビス−（６−ｔ−ブチル
−４−イソブチルフェノール）、２，２′−メチレン−
ビス−［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェ
ノール］、２，２′−メチレン−ビス−［６−（α、α
−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，
４′−メチレン−ビス−（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェ
ノール）、４，４′−メチレン−ビス−（６−ｔ−ブチ
ル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス−（５−ｔ
−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−ブ
タン、２，６−ジ−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２
−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，
１，３−トリス−（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−
２−メチルフェニル）−ブタン、１，１−ビス−（５−
ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−
３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、ジ−（３−ｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−ジシク
ロ−ペンタジエン、ジ−［２−（３′−ｔ−ブチル−
２′−ヒドロキ−５′−メチル−ベンジル）−６−ｔ−
ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレートおよびエ
チレングリコールビス−［３，３−ビス−（３′−ｔ−
ブチル−４′−ヒドロキシ−フェニル）−ブチレート。

【００６１】５． ベンジル化合物、例えば１，３，５
−トリ−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキベン
ジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、ジ−（３，
５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフ
ィド、イソオクチル ３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジルメルカプトアセテート、ビス−（４−
ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジ
ル）−ジチオールテレフタレート、１，３，５−トリス
−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス−（４−ｔ
−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジ
ル）イソシアヌレート、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−
ヒドロキシベンジル−燐酸ジオクタデシルエステルおよ
び３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル−
燐酸モノエチルエステルのカルシウム塩。

【００６２】６． アシルアミノフェノール、例えば４
−ヒドロキシ−ラウリン酸アニリド、４−ヒドロキシ−
ステアリン酸アニリド、２，４−ビス−オクチルメルカ
プト−６−（３．５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
−アニリノ）−ｓ−トリアジンおよびオクチル Ｎ−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
−カルバメート。

【００６３】７． β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４
−ヒドロキシフェニル）−燐酸と、一価または多価アル
コール、例えばメタノール、ジエチレングリコール、オ
クタデカノール、トリエチレングリコール、１，６−ヘ
キサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチル
グリコール、トリス−ヒドロキシエチルイソシアヌレー
ト、チオジエチレングリコールまたはジ−ヒドロキシエ
チル−シュウ酸ジアミドとのエステル。

【００６４】８． β−（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシ−３−メチルフェニル）−プロピオン酸と一価また
は多価アルコール、例えばメタノール、ジエチレングリ
コール、オクタデカノール、トリエチレングリコール、
１，６−ヘキサンジオール、ペンタエリトリトール、ネ
オペンチルグリコール、トリス−ヒドロキシエチルイソ
シアヌレート、チオジエチレングリコールまたはジ−ヒ
ドロキシエチル−シュウ酸ジアミドとのエステル。

【００６５】９． β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４
−ヒドロキシフェニル）−プロピオン酸のアミド、例え
ばＮ，Ｎ′−ジ−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒド
ロキシフェニルプロピオニル）−ヘキサメチレンジアミ
ン、Ｎ，Ｎ′−ジ−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニルプロピオニル）−トリメチレンジアミ
ンおよびＮ，Ｎ′−ジ−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４
−ヒドロキシフェニルプロピオニル）−ヒドラジン。

【００６６】さらに、安定化される重合体はまた以下の
ような他の添加剤を含有していてもよい： １． ＵＶ吸収剤および光安定剤。

【００６７】１．１ ２−（２′−ヒドロキシフェニ
ル）−ベンゾトリアゾール、例えばその５′−メチル、
３′，５′−ジ−ｔ−ブチル、５′−ｔ−ブチル、５′
−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）、５−クロ
ロ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチル、５−クロロ−３′−
ｔ−ブチル−５′−メチル、３′−ｓｅｃ−ブチル−
５′−ｔ−ブチル、４′−オクトキシ、３′，５′−ジ
−ｔ−アミルおよび３′，５′−ビス（α，α−ジメチ
ルベンジル）誘導体。

【００６８】１．２ ２−ヒドロキシベンゾフェノン、
例えばその４−ヒドロキシ、４−メトキシ、４−オクト
キシ、４−デシルオキシ、４−ドデシルオキシ、４−ベ
ンジルオキシ、４，２′，４′−トリヒドロキシおよび
２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ誘導体。

【００６９】１．３ 任意に置換された安息香酸のエス
テル、例えば４−ｔ−ブチル−フェニルサリチル酸、フ
ェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、
ジベンゾイルレゾルシノール、ビス−（４−ｔ−ブチル
ベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾレシノー
ル、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル ３．５−ジ−ｔ
−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエートおよびヘキサデ
シル ３．５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾ
エート。

【００７０】１．４ アクリレート、例えばエチルおよ
びイソオクチルα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリ
レート、メチル αーカルボメトキシシンナメート、メ
チルまたはブチル α−シアノ−β−メチル−ｐ−メト
キシシンナメート、メチル α−カルボメトキシ−ｐ−
メトキシシンナメートおよびＮ−（β−カルボメトキシ
−９−シアノ−ビニル）−２−メチル−インドリン。

【００７１】１．５ ニッケル化合物、例えば２，２′
−チオ−ビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチル
−ブチル）−フェノール］のニッケル錯塩、例えば、
１：１または１：２の錯塩、適しているならば、ｎ−ブ
チルアミン、トリエタノールアミンまたはＮ−シクロヘ
キシル−ジエタノールアミンのような配位子をさらに有
するもの、ニッケル アルキル−ジチオカルバメート、
４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチル−ベンジル燐
酸モノアルキルエステルの、例えばメチルまたはエチル
エステルのニッケル塩、ケトキシムの、例えば２−ヒド
ロキシ−４−メチル−フェニル ウンデシルケトキシム
のニッケル錯塩、１−フェニル−４−ラウロイル−５−
ヒドロキシ−ピラゾールのニッケル錯塩、適しているな
らばさらに配位子を有するもの、および２−ヒドロキシ
−４−アルコキシベンゾフェノンのニッケル塩。

【００７２】１．６ 立体障害アミン、例えば１．６．
１ ビス−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
ル）セバケート、ビス−（１，２，２，６，６−ペンタ
メチルピペリジル）セバケート、 ビス−（２，２，
６，６−テトラメチルピペリジル）グルタレート、ビス
−（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）グ
ルタレート、ビス−（２，２，６，６−テトラメチルピ
ペリジル）スクシネート、ビス−（１，２，２，６，６
−ペンタメチルピペリジル）スクシネート、４−ステア
リルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジ
ン、４−ステアリルオキシ−１，２，２，６，６−ペン
タメチルピペリジン、４−ステアロイルオキシ−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアロイ
ルオキシ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジ
ン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジルベヘネー
ト、１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジルベヘ
ネート、２，２，４，４−テトラメチル−７−オキサ−
３，２０−ジアザジスピロ−［５．１．１１．２］−ヘ
ンエイコサン−２１−オン、２，２，３，４，４−ペン
タメチル−７−オキサ−３，２０−ジアザジスピロ−
［５．１．１１．２］−ヘンエイコサン−２１−オン、
２，２，４，４−テトラメチル−３−アセチル−７−オ
キシ−３，２０−ジアザ−ジスピロ−［５．１．１１．
２］−ヘンエイコサン−２１−オン、２，２，４，４−
テトラメチル−７−オキサ−３，２０−ジアザ−２０−
（β−ラウリル−オキシカルボニルエチル）−２１−オ
キソ−ジスピロ−［５．１．１１．２］−ヘンエイコサ
ン、２，２，３，４，４−ペンタメチル−７−オキサ−
３，２０−ジアザ−２０−（β−ラウリルオキシ−カル
ボニルエチル）−２１−オキソ−ジスピロ−［５．１．
１１．２］−ヘンエイコサン、２，２，４，４−テトラ
メチル−３−アセチル−７−オキサ−３，２０−ジアゾ
−２０−（β−ラウリルオキシカルボニル−エチル）−
２１−オキソ−ジスピロ−［５．１．１１．２］−ヘン
エイコサン、１，１′，３，３′，５，５′−ヘキサヒ
ドロ−２，２′，４，４′，６，６′−ヘキサアザ−
２，２′，６，６′−ビスメタノ−７，８−ジオキソ−
４，４′−ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−
４−ピペリジル）ビフェニル、Ｎ，Ｎ′，Ｎ″，Ｎ″′
−テトラキス−［２，４−ビス−［Ｎ−（２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ブチルアミノ］
−１，３，５−トリアジン−６−イル］−４，７−ジア
ザデカン−１，１０−ジアミン、 Ｎ，Ｎ′，Ｎ″，
Ｎ″′−テトラキス−［２，４−ビス−［Ｎ−（１，
２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ブ
チルアミノ］−１，３，５−トリアジン−６−イル］−
４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミン、Ｎ，
Ｎ′，Ｎ″，Ｎ″′−テトラキス−［２，４−ビス−
［Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）−メトキシプロピルアミノ］−１，３，５−トリア
ジン−６−イル］−４，７−ジアザデカン−１，１０−
ジアミン、Ｎ，Ｎ′，Ｎ″，Ｎ″′−テトラキス−
［２，４−ビス−［Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタ
メチル−４−ピペリジル）−メトキシプロピルアミノ］
−１，３，５−トリアジン−６−イル］−４，７−ジア
ザデカン−１，１０−ジアミン、ビス−（１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ブチル
−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジル
マロネート、トリス−（２，２，６，６−テトラメチ
ル−４−ピペリジル）−ニトリロトリアセテート、テト
ラキス−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリ
ジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸およ
び１，１′−（１，２−エタンジイル）−ビス−（３，
３，５，５−テトラメチルピペラジノン）。

【００７３】１．６．２ ポリ−Ｎ，Ｎ′−ビス−
（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−
１，８−ジアザデシレン、１−（２−ヒドロキシエチ
ル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシ
−ピペリジンとコハク酸との縮合生成物、Ｎ，Ｎ′−ビ
ス−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ル）−ヘキサメチレンジアミンと４−ｔ−オクチルアミ
ノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮
合生成物、およびＮ，Ｎ′−ビス−（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）−ヘキサメチレンジア
ミンと４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５
−トリアジンとの縮合生成物。

【００７４】１．７ シュウ酸ジアミド、例えば４，
４′−ジ−オクチルオキシ−オキサニリド、２，２′−
ジ−オクチルオキシ−５，５′−ジ−ｔ−ブチル−オキ
サニリド、２，２′−ジドデシルオキシ−５，５′−ジ
−ｔ−ブチル−オキサニリド、２−エトシキ−２′−エ
チル−オキサニリド、Ｎ，Ｎ′−ビス−（３−ジメチル
アミノプロピル）−オキサニリド、２−エトキシ−５−
ｔ−ブチル−２′−エチルオキサニリドおよびこれと２
−エトキシ−２′−エチル−５，４−ジ−ｔ−ブチル−
オキサニリドとの混合物、並びにｏ−およびｐ−メトキ
シのおよびｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニリ
ドの混合物。

【００７５】２． 金属奪活剤、例えばＮ，Ｎ′−ジフ
ェニルシュウ酸ジアミド、Ｎ−サリチリル−Ｎ′−サリ
チルオキシ−ヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス−サリチリル
オキシ−ヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス−（３，５−ジ−
ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）−
ヒドラジン、３−サリチルオキシアミノ−１，２，３−
トリアゾールおよびビス−ベンジリデン−シュウ酸ジヒ
ドラジド。

【００７６】３． ホスファイトおよびホスホナイト、
例えばトリフェニルホスファイト、ジフェニルアルキル
ホスファイト、フェニルジアルキルホスファイト、トリ
スノニル−フェニルホスファイト、トリラウリルホファ
イト、トリオクタデシルホスファイト、ジステアリルペ
ンタエリトリチルジホスファイト、トリス−（２，４−
ジ−ｔ−ブチルフェニル）−ホスファイト、ジイソデシ
ルペンタエリトリチルジホスファイト、ビス−（２，４
−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−ペンタエリトリチルジホ
スファイト、トリステアリルソルビチルトリホスファイ
ト、テトラキス−（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）
−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、３．９−ビ
ス−（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェノキシ）−２，４，
８，１０−テトラオキサ−３，９−ジホスファスピロー
［５，５］−ウンデカン、トリス−（２−ｔ−ブチル−
４−チオ−（２′−メテニル−４′−ヒドロキシ−５′
−ｔ−ブチル）−フェニル−５−メテニル）−フェニル
ホスファイト。

【００７７】４． 過酸化物−分解化合物、例えばβ−
チオ−ジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ス
テアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メル
カプトベンゾイミダゾール、２−メルカプトベンゾイミ
ダゾールの亜鉛塩、アルキル−ジチオカルバミン酸亜
鉛、ジオクタデシルスルフィド、ジオクタデシルジスル
フィドおよびペンタエリトリトールテトラキス−（β−
ドデシルメルカプト）−プロピオネート。

【００７８】５． 塩基性補助安定剤、例えばメラミ
ン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリア
リルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、ア
ミン、ポリアミン、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカ
リ金属およびアルカリ土類金属塩またはフェノラート、
例えばステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ス
テアリン酸マグネシウム、リシノール酸ナトリウム、パ
ルミチン酸カリウム、アンチモンピロカテコレートまた
は錫ピロカテコレート、並びにアルカリ土類金属のまた
はアルミニウムの水酸化物および酸化物、例えばＣａ
Ｏ、ＭｇＯおよびＺｎＯ。

【００７９】６． 成核剤、例えば４−ｔ−ブチル安息
香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸およびジベンジリデ
ンソルビトール。

【００８０】７． 充填剤および強化剤、例えば炭酸カ
ルシウム、シリケート、ガラス繊維、アスベスト、タル
ク、カオリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物および
水酸化物、カーボンブラックおよびグラファイト。

【００８１】８． 他の添加剤、例えば可塑剤、潤滑
財、乳化剤、顔料、蛍光増白剤、防炎加工剤、静電防止
剤および流動剤。

【００８２】上記の１−６の各種添加剤を安定化させる
重合体に、成形組成物の全重量に基づいて、０．０１−
１０、好ましくは０．０１−５重量％の量で加える。上
記７および８のグループの添加剤の量は、全成形組成物
に基づいて、１−８０、好ましくは１０−５０重量％で
ある。

【００８３】本発明によって安定化される有機重合体
は、様々な形で、例えばフィルム、繊維、テープもしく
は形材として、塗料組成物として、またはペイント用の
結合剤、接着剤もしくはパテとして用いることができ
る。

【００８４】次の実施例は本発明をさらに説明するもの
である。

【００８５】

【実施例】

比較実施例Ａ テトラキス−（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−
４，４′−ビフェニレンジホスホナイトの製造 ２００mmol（＝６２．４ｇ）の４，４′−ジブロモビフ
ェニルを、超音波（４０ＫＨｚ）の作用の下で、４００
mmol（＝１４．６ｇ）のマグネシウム充填剤を含む６０
０ｃｍ³のテトラヒドロフランを用いて、グリニヤール
化合物に変えた。４００mmol（＝１９０．８ｇ）の燐酸
ビス−（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニルエステル）ク
ロリドを４００ｃｍ³のテトラヒドロフラン／ｎ−ヘプ
タンに１：２の割合で含む溶液を、得られた懸濁液に−
２０ないし−１０℃で滴加した。このバッチを０℃でさ
らに１時間、そして室温で２時間撹拌した。その後、マ
グネシウム塩を濾去し、テトラヒドロフラン／ｎ−ヘプ
タンが１：４の２５０ｃｍ³で洗浄した。濾液を真空中
で濃縮し、残留物を粉砕した後、上記化合物の含有率が
７６％（³¹Ｐ−ＮＭＲ）の淡黄色粉末２２０ｇを得た。

【００８６】実施例１ それぞれにおいて、３mmolの金属酸化物または炭酸塩を
１００ｃｍ³の水に導入し、そして、強く撹拌しなが
ら、比較例Ａで製造した２５mmol（＝２５ｇ）の燐化合
物を加え、このバッチを１０分間撹拌し、固体を濾過
し、真空中で乾燥した。それぞれにおいて、２５ｇの淡
黄色粉末を得た。このテトラキス−（２，４−ジ−ｔ−
ブチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナ
イトの含有率は、³¹Ｐ−ＮＭＲによると、処理によって
変化しなかった。生成物の改良された加水分解安定性は
表１から分かる。次の金属化合物を用いた： １ａ） １２５ｍｇのＭｇＯ １ｂ） ２５０ｍｇのＭｇＣＯ₃ １ｃ） １７５ｍｇのＣａＯ １ｄ） ２００ｍｇのＺｎＯ １ｅ） ４８０ｍｇのＢａＯ 加水分解安定性を測定するために、それぞれ５ｇの粉末
を、０．１ｇの非イオン性乳化剤を添加した９５ｃｍ³
の水に懸濁し、この懸濁液を４０℃で６時間撹拌し、そ
して液体のｐＨを測定した。

【００８７】実施例２ それぞれにおいて、実施例１ａないし１ｅの実施例にし
たがって得た５ｇの黄色がかった粉末を、５０ｃｍ³の
メチルシクロヘキサンと混合し、不溶性成分を濾去し、
そして溶媒を真空中で留去したところ、残留物を粉砕し
た後に、５ｇの淡黄色粉末が得られた。その組成は³¹Ｐ
−ＮＭＲによると、処理によって変化しなかった。得ら
れた生成物の加水分解安定性を、実施例１のように測定
し、同様に表１に示す。

【００８８】表１ 実施例 ｐＨ 比較例Ａ ３．０ １ａ ９．０ １ｂ ８．８ １ｃ ６．８ １ｄ ６．５ １ｅ ５．４ ２ａ ７．５ ２ｂ ９．０ ２ｅ ６．２ 実施例３ 加水分解に安定なテトラキス−（２，４−ジ−ｔ−ブチ
ルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト
の製造（ＤＥ ２１ ５２ ４８１の生成物から；含有
率４１．９％） ２５０ｍｇの酸化マグネシウムを、５０ｇのテトラキス
−（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４′−ビ
フェニレンジホスホナイトと、ミキサー／ホモジナイザ
ー中で１５分間混合し、そしてこのようにして得られた
粉末を２５０ｃｍ³のトルエンに溶解した。溶液を２４
時間撹拌し、濾過助剤（商標、コロライト（Ｃｏｒｏｌ
ｉｔｅ）２を加え、混合物を濾過した。真空中で濾液か
らトルエンを除いた（最終浴温度３５℃）。上記化合物
の含有率が４１．４％（³¹Ｐ−ＮＭＲ）の４７ｇの淡黄
色粉末が得られた。

【００８９】加水分解安定性を測定するために、それぞ
れ、５ｇの粉末を、０．１ｇの非イオン性乳化剤を加え
た９５ｃｍ³の水に懸濁し、混合物を４０℃で４時間撹
拌し、液体のｐＨを測定した。

【００９０】未処理のもの： ３．２４ 処理したもの： ７．８５ 熱安定性を測定するために、このように製造した粉末お
よび未処理のテトラキス−（２，４−ジ−ｔ−ブチルフ
ェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイトを空
気中で、１２０℃にて６時間加熱し、そしてジホスホナ
イトの含有率を³¹Ｐ−ＮＭＲで測定した。

【００９１】未処理のもの： ２０．６％ 処理したもの： ３６．２％ 実施例４ 加水分解に安定なジ−（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル）−ペンタエリトリトールジホスファイトの製造（Ｅ
Ｐ １４３ ４６４による生成物から） ４５０ｍｇの酸化マグネシウムを３５０ｇの水に導入
し、そして強く撹拌しながら、９０ｇのジ−（２，４−
ジ−ｔ−ブチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホ
スファトを加え、懸濁液を４０分間撹拌し、固体物質を
濾去しそして乾燥した。生成物を３５０ｃｍ³のトルエ
ンに溶解し、溶液を塩基性酸化アルミニウムと共に撹拌
して残りの水を除き、次いで、濾過助剤を用いて実施例
３のように濾過した。真空中で濾液からトルエンを除い
た（最終浴温度４０℃）。８５ｇのジ−（２，４−ジ−
ｔ−ブチルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスフ
ァイトが得られた。

【００９２】加水分解安定性を測定するために、それぞ
れ、５ｇの粉末を、０．１ｇの非イオン性乳化剤を加え
た９５ｃｍ³の水に懸濁し、懸濁液を４０℃で１時間撹
拌し、そして液体のｐＨを測定した。

【００９３】未処理のもの： １．９５ 処理したもの： ５．７６ 実施例５ 加水分解に安定なテトラキス−（２，４−ジ−ｔ−ブチ
ルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト
の製造 ５０ｇのテトラキス−（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト（ＤＥ
２１ ５２ ４８１によって製造した；含有率４１．９
％）を窒素雰囲気下、１３０℃に加熱した。撹拌しなが
ら、８２ｍｇの酸化マグネシウムをこの溶融液に加え、
混合物を暫時１５０℃に加熱した。次に、撹拌しなが
ら、溶融液を１３０℃で１時間保ち、その後、冷却し
た。生成物は粉砕した。

【００９４】加水分解安定性を測定するために、５ｇの
粉末を、０．１ｇの非イオン性乳化剤を加えた９５ｃｍ
³の水に懸濁し、懸濁液を９０℃で４時間撹拌し、そし
て液体のｐＨを測定した。

【００９５】未処理のｐＨ： ３．３１ 処理したｐＨ： ７．９８ 実施例６ １００ｇのテトラキス−（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェ
ニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト（ＤＥ
２１ ５２ ４８１による生成物；含有率３９％）を
窒素雰囲気下、１３０℃に加熱した。撹拌しながら、１
２３ｍｇの酸化マグネシウムを溶融液に加え、撹拌しな
がら混合物を１３０℃で１時間保ち、その後、冷却し
た。生成物は粉砕した。

【００９６】加水分解安定性について実施例５のように
測定した。

【００９７】未処理のｐＨ： ３．２９ 処理したｐＨ： ６．９９ 実施例７ ５０ｇのテトラキス−（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト（ＤＥ
２１ ５２ ４８１による生成物；含有率３９％）を窒
素雰囲気下、１３０℃に加熱した。撹拌しながら、８２
ｍｇの酸化マグネシウムを溶融液に加え、混合物を暫時
１５０℃に加熱した。１０分後、バッチを冷却した。生
成物は粉砕した。

【００９８】加水分解安定性について実施例５のように
測定した。

【００９９】未処理のｐＨ： ３．３０ 処理したｐＨ： ８．１３ 熱安定性を測定するために、このように処理した粉末お
よび未処理の出発物質を空気中で２４時間、１２０℃で
加熱し、次いで、ジホスホナイトの含有量を、³¹Ｐ−Ｎ
ＭＲで測定した。

【０１００】未処理のもの： １１．１％ 処理したもの： ２４．４％ 実施例８ ５０ｇのテトラキス−（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト（ＤＥ
２１ ５２ ４８１による生成物；含有率３９％）を窒
素雰囲気下、１３０℃に加熱した。撹拌しながら、７６
ｍｇの炭酸リチウムを溶融液に加え、混合物を撹拌しな
がら１２５−１３０℃で１時間保ち、次に冷却した。生
成物は粉砕した。

【０１０１】加水分解安定性について実施例５のように
測定した。

【０１０２】未処理のｐＨ： ３．２８ 処理したｐＨ： ６．０６ 次の生成物を使用例に用いた： 生成物Ｉ： テトラキス−（２，４−ジ−ｔ−ブチルフ
ェニル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイト、市
販の生成物。

【０１０３】生成物II： テトラキス−（２，４−ジ−
ｔ−ブチルフェニル）−４，４′−ビフェニレンジホス
ホナイト、水の不在下で本発明に従って後処理したもの
（実施例３）。

【０１０４】生成物III： テトラキス−（２，４−ジ
−ｔ−ブチルフェニル）−４，４′−ビ フ
ェニレンジホスホナイト、水の存在下で本発明に従って
後処理し たもの（実施例２ａ）。

【０１０５】生成物IV： ジ−（２，４−ジ−ｔ−ブチ
ルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスファイト、
市販の生成物。

【０１０６】生成物Ｖ： ジ−（２，４−ジ−ｔ−ブチ
ルフェニル）−ペンタエリトリトールジホスファイト、
本発明に従って後処理したもの（実施例４）。

【０１０７】実施例９ 貯蔵安定性を測定するため、飽和ＫＣｌ溶液をデシケー
ターに入れ、６０℃で保持した。２日後、８０℃の相対
大気湿度をＫＣｌ溶液上で確かめた。次に、試験物質を
これらの条件下（６０℃、相対大気湿度８０％）で貯蔵
した。０、４、８、２４、４８、７２および１４４時間
後、試料を取り出し、活性物質の減少を³¹Ｐ−ＮＭＲ分
光分析によって測定し、初めの物質の半分の量のみが検
出しうる時間を記録した： 生成物Ｉ（比較）： ２０時間 生成物II： １３８時間 生成物III： ６４時間

【０１０８】

【０１０９】

【０１１０】

【０１１１】

【０１１２】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ゲルハルト・パーラー ドイツ連邦共和国デー−8900 アウグス ブルグ，カルルスバーダー・シュトラー セ 27 (56)参考文献 特開 平６−41159（ＪＰ，Ａ) 特表 平３−504393（ＪＰ，Ａ) 米国特許3240751（ＵＳ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C08L 1/00 - 101/16 C08K 5/00 - 13/08

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】式I Ｒ³−［Ｐ（ＯＲ²）₂］_n （I） （式中、ｎは１または２であり、 Ｒ²は線状もしくは分枝鎖状Ｃ₈−Ｃ₂₀アルキル基、ある
   いは１つ以上の線状もしくは分枝鎖状Ｃ₁−Ｃ₈アルキル
   基でまたはＣ₅−Ｃ₈シクロアルキル、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリー
   ルもしくはＣ₇−Ｃ₁₀アラルキル基で置換されていても
   よいフェニル基であり、 Ｒ³は、ｎ＝１の場合、１−３個の置換基を有していて
   もよいフェニルもしくはベンジル基、α−メチルベンジ
   ル、α，α−ジメチルベンジルまたはナフチル基、また
   は置換基が同じものかまたは異なるものであり、線状も
   しくは分枝鎖状Ｃ₁−Ｃ₈アルキル基、Ｃ₁−Ｃ₈アルコキ
   シ基、Ｃ₁−Ｃ₁₂アルキルチオ基、Ｃ₁−Ｃ₈ジアルキル
   アミノ基、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリール基、Ｃ₆−Ｃ₁₀アリールオ
   キシ基もしくは原子番号９−３５のハロゲンである１−
   ５個の置換基を有するナフチル基であり、そして Ｒ³は、ｎ＝２の場合、非置換であるかまたは１−４個
   の線状もしくは分枝鎖状Ｃ₁−Ｃ₈アルキル基を有する、
   フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基またはジ
   フェニレンオキシド基である）の化合物を、０．００５
   −５重量％の、リチウム、カルシウム、バリウム、マグ
   ネシウム、亜鉛および／またはマンガン金属の酸化物、
   水酸化物または炭酸塩で処理することを含む、加水分解
   に安定な式Ｉの３価の燐化合物の製造方法。
2. 【請求項２】 処理を懸濁剤中で行う、請求項１の方
   法。
3. 【請求項３】 処理を溶媒中で行う、請求項１の方法。
4. 【請求項４】 処理を水中で行う、請求項１の方法。
5. 【請求項５】 処理を溶融液中で行う、請求項１の方
   法。
6. 【請求項６】 金属の化合物で処理した後、燐化合物を
   溶媒に溶解し、不溶性残留物を除き、そして溶液から単
   離する、請求項１の方法。